【課題】測定値からノイズの影響を除去する。
【解決手段】測定対象物上に複数の測定点Ｐ₁〜Ｐ_Nを設定し、測定点Ｐ₁〜Ｐ_Nの並ぶ方向に沿って振動させながら測定ビームを照射する。測定ビームの振幅Ｗの範囲にＭ個の測定点Ｐ₄〜Ｐ₈が含まれているとすると、Ｍ個の測定点Ｐ₄〜Ｐ₈から得られる２Ｍ個の測定値ｆ₁〜ｆ_2Mから、下記(７ａ）（７ｂ)式、


に従って、フーリエ係数ｂ₁(振幅が測定ビーム径の１／２の場合)、又はｂ₂(振幅が測定ビーム径と等しい場合)を求め各測定点のフーリエ係数ｂ₁又はｂ₂の推移を求め、微小領域の分析を行なう。 （もっと読む）

【課題】ボイドの誤検出を抑制することができる画像を提供すること。
【解決手段】画像処理プログラムは、コンピュータ（画像処理装置）１を、画像作成手段２、除去手段３として機能させる。画像作成手段２は、例えば半田バンプ等の検査対象物を含む複数の部材が重なった状態で撮像されたＸ線透過画像４の、検査対象物以外の部材の構造情報に基づいて、検査対象物以外の部材の形状それぞれにおける（Ｘ線）透過濃度を有する画像を作成する。除去手段３は、画像作成手段２により作成された画像を用いて、Ｘ線透過画像４の複数の部材が重なった部位の検査対象物以外の部材の占める透過濃度の影響を除去する。 （もっと読む）

【課題】大口径の配管を現地で非破壊検査ができる配管の断層撮影装置およびその制御方法を提供する。
【解決手段】配管検査装置本体１００は、放射線源１と２次元放射線検出器２を対向配置する支持装置３と、軸方向駆動機構１９と、支持装置３を介して、放射線源１と２次元放射線検出器２を、配管横方向に並進移動させる横方向駆動機構１７，１８を備えている。制御コンソール２３において、軸方向駆動機構１９による並進走査の距離を設定するとともに、横方向駆動機構１７，１８の並進移動の横方向最大移動距離を設定する。また、横方向駆動機構１７，１８による配管横方向の並進移動の間隔を、２次元放射線検出器２の配管横方向の幅と、放射線源１と２次元放射線検出器２間の距離と、放射線源１と配管１５の放射線源１側表面までの所定距離とにもとづいて決定する。 （もっと読む）

【課題】 屈折コントラスト法の問題点を解決することのできるＸ線撮像装置およびＸ線撮像方法を提供する。
【解決手段】 Ｘ線発生手段から発生したＸ線を空間的に分割する分割素子を有する。また、分割されたＸ線が入射する第１の蛍光体が複数配列された蛍光体アレイを有する。この第１の蛍光体は、Ｘ線の入射位置に応じてＸ線による蛍光の発光量が変化するように構成されている。また、蛍光体アレイから発光した蛍光の強度を検出するための検出手段を有する。 （もっと読む）

【課題】分析パラメータを少しずつ変更しながら分析を繰り返して適切な分析条件を見い出す作業を行う際の、分析者の負担を軽減し作業効率を改善する。
【解決手段】分析パラメータを情報として含む分析条件ファイルに、ＩＤとその下位のバージョン情報とを属性情報として付与する。分析者が目的とするファイルを読み出してパラメータを適宜編集し（Ｓ１〜Ｓ３）、そのファイルを用いた分析実行指示やファイル保存の指示を行うと（Ｓ４、Ｓ５でＹｅｓ）、データベース管理部はバージョン情報を自動的に更新し（Ｓ７）、ＩＤは元のままで更新されたバージョン情報を属性として、編集後のパラメータを含む分析条件ファイルをデータベースに新規保存する（Ｓ８）。これにより、編集後のパラメータを含む分析条件ファイルが編集前のパラメータを含む分析条件ファイルとは別に確実に保存される。 （もっと読む）

【課題】欠陥観察装置、欠陥観察方法、及び半導体装置の製造方法において、欠陥観察装置と基板との位置合わせ精度を向上させること。
【解決手段】基板Wの表面の欠陥D_iのそれぞれの欠陥座標を取得するステップＳ１と、欠陥D_iのそれぞれに所定領域Rを設定し、その中に含まれる欠陥の総個数N_iを計数するステップと、ステージ座標を一番目の欠陥D₁の欠陥座標に合わせることにより、顕微鏡の視野２２ｆ内に第１の欠陥D₁を導入するステップと、視野中心２２ｃと第１の欠陥D₁とのズレ量を取得するステップと、上記ズレ量に基づいて、第１の欠陥D₁よりも上記総個数が多い第２の欠陥D₂の欠陥座標を補正するステップと、補正後の第２の欠陥D₂の欠陥座標にステージ座標を合わせることにより、顕微鏡の視野２２ｆ内に第２の欠陥D₂を導入するステップとを有する欠陥観察方法による。 （もっと読む）

【課題】本発明は、観察対象である試料の伸縮の変化を抑えることにより、観察対象の位置ずれを解消し、大幅なスループット向上を図った荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】本発明は、試料を保持する試料保持手段と、前記試料の温度の調整が可能な温度調節手段と、各種条件に基づき前記温度調節手段の制御が可能な温度調整手段制御手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】肉厚と比較して小さな欠陥を検出しようとした場合、検査対象としての金属材の材料の粗密に起因して変化する透過放射線量（ノイズ）と、欠陥に起因して変化する透過放射線量との比が小さくなってしまい、ノイズを欠陥として過剰検出してしまっていた。
【解決手段】放射線を検査対象に照射し、検査対象と放射線の照射範囲との相対位置関係を変更してそれぞれ異なる位置で放射線透過画像を取得し、これら複数の放射線透過画像が取得された各位置および該複数の放射線透過画像に基づいて欠陥検出画像を生成し、欠陥検出画像に基づいて検査対象に欠陥が含まれるか否かを判定すると共に良否を判定する。 （もっと読む）

【課題】小型・高密度化するパワーモジュールのような機器内部の絶縁欠陥発生箇所の詳細な位置検出および欠陥状態の判別をすることで欠陥発生要因の特定を行うことのできる被測定物の欠陥検出装置と方法を提供する。
【解決手段】被測定物に対して試験電圧を印加し、ビーム状のＸ線を照射して部分放電を測定して欠陥位置を検出する際に、照射範囲の透過画像を観測できるようにし、全体透過画像と対応させてＸ線照射位置を確認することで、照射位置を正確に制御することができ、欠陥検出時に欠陥を可視化することで、欠陥の正確な位置を特定することができる。さらに、部分放電波形の測定による欠陥状態の判別結果と合わせて、欠陥発生要因を特定する。 （もっと読む）

【課題】可搬型とし、エックス線分析装置を用いて鉄道レールに関する各種の情報をより高精度に現場で取得することのできるエックス線分析装置用取付治具を提供すること。
【解決手段】本発明のエックス線分析装置用取付治具１は、エックス線分析ヘッド２を取り付ける取付板３と、鉄道レールＲを跨いで取付板３を保持する脚部４，４と、エックス線分析ヘッド２を取付板３上において所定の角度に固定するヘッド固定手段１５ａ〜１５ｆと、を備え、ヘッド固定手段１５ａ〜１５ｆは、鉄道レールＲに対するエックス線分析ヘッド２の角度を変更可能としたものである。 （もっと読む）

【課題】検出画像を取得した被検査領域毎に閾値を最適化する手法はあるが、１枚の検出画像については１つ閾値だけを適用する。このため、１つの画像内に有意でない欠陥が含まれる場合でも、有意の欠陥と同じ感度レベルで検出される。
【解決手段】１つの検査領域内に複数の感度領域を設定して、１つの検査領域のうちＤＯＩ（Defect of interesting）が存在する領域の欠陥だけを他と区別して検出できる仕組みを提案する。具体的には、検査領域内の画像の特徴に基づいて、検査領域内に複数の感度領域を設定し、検出画像、差画像又は欠陥判定部の判定用閾値に、各感度領域の設定感度を適用する。 （もっと読む）

【課題】検査対象物の端部付近に小さな異物が混入している場合においても、該異物を検出可能なＸ線検査装置を得る。
【解決手段】搬送コンベア１０によってＹ軸方向へ搬送されている検査対象物１に対してＸ線を照射するＸ線源１１、１２と、Ｘ線源１１、１２のそれぞれに対応し、Ｘ線源１１、１２から検査対象物１に照射され透過したＸ線を検出するＸ線検出器１３、１４とを備えている。Ｘ線源１１は、図１のＺ軸方向であって検査対象物１の上方から、検査対象物１の幅方向の一端部を中心として扇状にＸ線を照射できるように配設されている。Ｘ線源１２は、図１のＺ軸方向であって検査対象物１の上方から、検査対象物１の幅方向の他端部を中心として扇状にＸ線を照射できるように配設されている。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生を抑制することができる放射源及びリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】極端紫外線放射源は、放射源材料を所定の軌道に沿ってプラズマ開始サイトへ送るように構成された放射源材料デリバリシステムを含む。放射源は、極端紫外線を放出するプラズマを生成するためにレーザビームをプラズマ開始サイトにおける放射源材料に向けるように構成されたレーザシステム、および放射源材料ターゲットデリバリシステムにより送られる放射源材料を捕捉するように構成されたキャッチも含む。 （もっと読む）

【課題】放射線源と検出器を平行移動することで検査対象の様々な角度からの透過データを取得し、このデータを再構成することで検査対象の断層像を得る検査装置では、放射線源と検出器の各検出素子とを結ぶ線分の幾何配置をあらかじめ正確に認識しなければ画像再構成ができない。さらに、検査中の装置で振動が生じた場合、画像再構成の情報がデータ取得ごとに異なり、誤差が生じる。
【解決手段】放射線源と検出器を有する検査装置において、前記放射線源と検出器間に校正用ファントムを設置し、被検体の透過データを取得するのと同期して該校正用ファントム内に有する細線の透過像を得る。この細線の透過像を用いて、データ取得時の放射線源の位置と、放射線源と検出器間の距離を導出する。この幾何配置から透過経路の補正データを算出し、これを用いて画像再構成を実施することを特徴とする撮像データ補正方法、および検査装置。 （もっと読む）

【課題】蛋白単分子等の微小標的粒子にＸ線ビームを照射するＸ線分析装置において、コンテナレス法やコンテナ法では解決が難しかった種々の技術的課題を一挙に解決する。
【解決手段】保持基板１に保持されている標的粒子Ｐの位置形状測定を行うプローブ式測定手段２と、前記プローブ式測定手段２のプローブ２ａを、標的粒子Ｐの測定が可能な位置である測定位置と、前記Ｘ線照射機構による標的粒子へのＸ線ビームの照射に干渉しない位置である退避位置との間で移動可能に保持する移動機構３と、前記保持基板１及びＸ線照射機構の相対位置を調整する位置調整機構５とを設け、前記プローブ式測定手段２で位置が特定された標的粒子Ｐに対し、前記保持基板１及びＸ線照射機構の相対位置を調整してＸ線ビームを照射できるように構成した。 （もっと読む）

【課題】冊子状の被検査物の内部に綴じ部材が隠れている場合であっても綴じ状態の良否を判別することができるＸ線検査装置を提供すること。
【解決手段】被検査物Ｗの綴じ部材Ｓの正常状態を含む綴じ部材情報を予め設定する設定入力手段１５と、Ｘ線検出器１０から出力される濃度データから、被検査物Ｗの外形を抽出する外形抽出手段１７と、Ｘ線検出器１０から出力される濃度データから、被検査物Ｗの綴じ部材Ｓを抽出する綴じ部材抽出手段１８と、外形抽出手段１７が抽出した被検査物Ｗの外形の中に綴じ部材抽出手段１８が抽出した綴じ部材Ｓを重ね合わせ、綴じ部材抽出手段１８が抽出した綴じ部材Ｓの状態と、綴じ部材情報に含まれる綴じ部材Ｓの正常状態とを比較して、被検査物Ｗの綴じ状態の良否を判別する判別手段２０とを備えた。 （もっと読む）

【課題】 従来の有機物顕在化方法では、被検査物表面の異物を識別するためには、薄膜を堆積させる時間を多く必要とし、異物を識別させるための作業等が煩雑であった。また、被検査物表面の異物を識別する際には、被検査物を不活性ガスが封入された特別な環境下に置く必要があるため、異物の存在を容易に確認することができなかった。
【解決手段】 基板１の表面に金属薄膜１９を成膜し、金属薄膜１９が成膜された基板１表面に光を照射して、光の干渉により生じる、有機物１４が存在している部分と存在していない部分とのコントラスト差を識別する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線透過量に基づいて生成する透過画像から仕切り部材の位置を正確に検知するとともに、検査性能の低下を防止する。
【解決手段】被検査物Ｗを搬送方向Ｙに搬送するベルトコンベア５と、ベルトコンベア５の搬送面５ａに近接して設けられ、搬送面５ａを搬送方向Ｙと直交する方向Ｚに分割して複数の検査レーン１４を形成する仕切り部材１１と、検査レーン１４に搬送されている被検査物ＷにＸ線を照射するＸ線発生器２１と、被検査物Ｗを透過してくるＸ線を検出するＸ線検出器２２とを備え、Ｘ線透過量に基づいて透過画像を生成し、この透過画像から被検査物Ｗの品質を検査するＸ線検査装置１において、仕切り部材１１を、搬送手段５の搬送方向Ｙに延在する略板状のＸ線易透過部１２と、Ｘ線易透過部１２の搬送手段５の搬送面５ａに近接する底部に設けられているＸ線難透過部１３とから構成した。 （もっと読む）

【課題】検査装置で検出された半導体装置の欠陥に関する検査データに基づいて、欠陥の分類精度の向上が可能な観察条件決定支援装置を提供する。
【解決手段】検査装置４で検出された半導体装置の欠陥に関する検査データに基づいて、詳細観察装置５において予め設定した複数の観察条件で同一の欠陥を撮影した複数の欠陥画像を取得する詳細観察条件の詳細観察結果ＤＢ２６と、それぞれの欠陥画像に基づいて、複数の同一の欠陥の分類を行い、分類の結果として観察条件毎に同一の欠陥の属する第１カテゴリを決定する欠陥分類手段１２と、詳細観察装置５のユーザが同一の欠陥の分類を行い決定した第２カテゴリに、第１カテゴリが一致する比率に基づいて、複数の観察条件の中から半導体装置の製造時に使用する詳細観察条件決定・登録手段１５とを有する。 （もっと読む）

【課題】データ処理アプリケーション等の他のアプリケーションを用いることなく分析条件を決定すること。
【解決手段】分析対象元素が指定される分析対象元素指定手段１８と、分析対象元素が指定されることにより、予めデータベース１６に記憶されている当該元素のピーク位置とバックグラウンド測定位置を検索する検索手段１５と、スペクトル収集が指示されると、前記検索された当該元素のピーク位置とバックグラウンド測定位置情報に基づいて実際の試料を用いた時の所定の波長範囲のスペクトルを測定してディスプレイに表示する表示手段１５と、表示されたスペクトル上でピーク位置とバックグラウンド測定位置を指定して、指定されたピーク位置とバックグラウンド測定位置におけるＸ線強度を測定するための、ピーク位置とバックグラウンド測定位置を設定するピーク位置とバックグラウンド測定位置設定手段１５と、を有して構成される。 （もっと読む）