【課題】非破壊で微細構造パターンの側壁形状を測定することにより、所望する寸法パターンの転写結果が得られるかを判定することができるマスク検査方法を提供する。
【解決手段】ＳＥＭ写真撮影時の電子ビームの電流値と、ＳＥＭ画像のホワイトバンド幅から微細構造パターンの傾斜角度を算出し、ＳＥＭ画像の微分プロファイルから微細構造パターンのボトム部の裾引き度合いを算出する。そして、ＣＤ−ＳＥＭを用いることにより、非破壊でパターンの傾斜角度と裾引き度合いを測定でき、転写シミュレータを利用することで、所望する寸法パターンの転写結果が得られるかを精度良く判定することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、試料表面の粒子の蛍光Ｘ線スペクトルに基づいて粒子径を測定する粒子径測定装置、粒子径測定方法及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】Ｘ線源１３からウェハ３表面にＸ線ビームが照射され、ウェハ３表面が走査されてウェハ３表面の各粒子の蛍光Ｘ線スペクトルが測定される。測定された蛍光Ｘ線スペクトル及び標準スペクトルデータベース２８１に格納されている標準スペクトルデータに基づいて粒子に含まれる元素が同定される。測定された蛍光Ｘ線スペクトルから、同定元素の蛍光Ｘ線スペクトルが抽出され、面積分強度が算出される。検量線データベース２８２から同定元素に対応する検量線を読み出して面積分強度と対応する粒子径が特定される。 （もっと読む）

【目的】故障箇所も特定可能な描画エラーの検証方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画エラーの検出方法は、複数のショットパターンが間に入らない間隔で、かかるショットパターンに成形された荷電粒子ビームを連続してショットする描画工程（Ｓ１０２）と、複数のショットパターンが間に入る間隔で、ショットパターンに成形された荷電粒子ビームをショットする描画工程（Ｓ１１４）と、両描画工程で同位置にショットされたはずのショットパターン同士の位置を比較し、結果を出力する工程（Ｓ２０２）と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面を２層以上の薄膜で被覆された微小体の種類を、電子線検査における反射電子の量を計測することにより識別する。
【解決手段】微小体表面を様々な素材の薄膜で２層以上被覆する。その際、共通の素材を用いた生体分子の固定に利用する基準層と、異なる素材を用いた識別に利用する可変層により薄膜を構成する。薄膜を構成する際には抵抗加熱式蒸着装置などを用いて膜厚を厳密に制御しながら作製する。作製した微小体に電子線を照射する。入射電子が可変層に到達するよう適切な入射電子加速電圧を選択する。電子線照射により微小体から得られる反射電子像の輝度の差から、微小体可変層の素材の種類を識別する。 （もっと読む）

【課題】ビームラインが短く、分解能が高く、且つ短時間で２次元領域の測定が可能な分析装置、特にＸＡＦＳ分析装置又は小角散乱Ｘ線分析装置を提供すること。
【解決手段】荷電粒子発生手段によって生成された荷電粒子を内部に周回させる荷電粒子周回手段（１）と、
周回する荷電粒子の周回軌道（１３）上に配置された横長ターゲット（１４）に、周回する荷電粒子を衝突させて発生したＸ線を分光して単色Ｘ線を発生させる分光手段（２）と、
分光手段（２）から出力される単色Ｘ線を測定対象の試料（４）に照射し、試料（４）から出力されるＸ線を測定する測定手段（３）とを備える。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線センサのＸ線入射面に付着している又は付着し得る、水滴や塵等の環境を、生産ラインを長時間停止させることなく除去することが可能な、Ｘ線検査装置を得る。
【解決手段】Ｘ線検査装置１は、検査対象である物品５０にＸ線を照射し、物品を透過したＸ線を検出することにより、物品５０に対する検査を実行するＸ線検査装置であって、Ｘ線照射部４と、ラインセンサ６を有するＸ線検出部５と、ラインセンサ６に近接して配置され、ラインセンサ６のＸ線入射面６Ａに付着している又は付着し得る環境を、ラインセンサ６の長手方向に関して同時に除去するスクレパー１０とを備える。 （もっと読む）

【課題】マイクロリトグラフィーのための物体の検査を可能にし、短い全長を有する反射型顕微鏡を提供する。
【解決手段】物体平面内での物体を検査する反射型Ｘ線顕微鏡であって、物体は、波長＜１００ｎｍ、特に、＜３０ｎｍの光線で照明され、像平面に拡大して結像され、第１鏡と第２鏡とを含み、物体平面から像平面までの光路内に配置される第１副系とを備える。反射型Ｘ線顕微鏡が光路内で第１副系に後置されて少なくとも第３鏡を有する第２副系を含むことにより特徴付けられる。 （もっと読む）

【課題】介在物を介して結晶粒が時間の経過と共にどのように変化するのかを、従来よりも容易に且つ正確に解析できるようにする。
【解決手段】有効範囲設定部１２２から取得した有効範囲８０１に基づく３次元の領域内において、インヒビターｋに拘束されている固定点ｉｋが属する粒界ｕの粒界エネルギーＥｉと、平衡位置ｗにあるときに解放された固定点ｉｋが属する粒界の粒界エネルギーＥｉ'と、インヒビターｋから解放されたときの固定点ｉｋが属する粒界ｕの粒界エネルギーＥｉ''とを算出する。そして、粒界エネルギーＥｉ'が粒界エネルギーＥｉよりも小さく、且つ粒界エネルギーＥｉ''と粒界エネルギーＥｉとの差が障壁エネルギーＥ０よりも小さい場合に、固定点ｉｋを解放する。 （もっと読む）

【課題】ハードウエアの追加を伴わない簡単な構成で、Ｘ線照射の絞りを変更するためのＸ線遮蔽板の位置ずれを検知する。
【解決手段】設定されているものと異なる絞り孔４ａ〜４ｄの選択が指示されると、制御部１０は現在の絞り孔に応じた数のパルス信号をパルスモータに送ってＸ線遮蔽板４をホームポジションＰ２に戻し、その後、センサ１３により原点位置Ｐ１に来たことが検出されるまでパルス信号を計数しつつパルスモータを駆動する。その計数値と規定数との差が許容値以下であるか否かを判定し、許容値を超えている場合、ホームポジションが適切でなく元のＸ線遮蔽板４の位置が異常であると判断して表示部１２にエラー表示を行う。また、絞り孔の変更がない場合でも規定回数毎に同様の異常検知を実行することで、絞り孔の位置がずれた状態で取得された可能性のある信頼性のないデータの棄却を可能とする。 （もっと読む）

【課題】極微量の元素検出を可能とし、被射体内部の特定元素分布をＣＴで得られるのと同様に断層像として、高空間分解能を有する機能画像の作成を行う蛍光エックス線分析装置を提供すること。
【解決手段】単色エックス線をシートビーム状に照射する光源部と、分析試料を支持する試料支持部と、分析試料に含まれる被検元素から発生する蛍光エックス線を検出する検出部と、データ処理用コンピューターを備え、検出部がエックス線照射方向と直交するシートビーム面に配設され、検出素子からエックス線照射方向へおろした垂線上に存在する被検元素から発生する蛍光エックス線を検出し、且つ、試料支持部がシートビーム面を垂直に貫通する線を中心軸としてシートビーム面を光源部及びエックス線検出部に対して相対的に回転し、分析試料を単色エックス線で回転走査して分析試料内部の画像を得ることができる蛍光エックス線検出装置として構成する。 （もっと読む）

本発明は、細胞壁を透過する検体の移送を測定する方法および装置を含む。
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１つ又は複数のサンプルからの電子を検出するシステム及び方法を開示する。いくつかの実施形態では、本システム及び方法は、サンプル表面からの二次電子を偏向させるための１つ又は複数の磁場源を含む。
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【課題】微小領域の歪みを簡単に測定できるようにする。
【解決手段】立方晶の金属組織に１５ｎｍ〜１００μｍ間隔で電子線を照射して、後方散乱電子回折像法より測定点毎に結晶方位を決定し、決定した結晶方位分布および隣接する前記測定点間の方位角度差より、格子歪を決定し、前記格子歪に基づいて金属組織上における残留応力分布を求める。また、求めた残留応力分布および測定対象の金属材料の降伏応力に基づいて塑性域と判定された領域において、前記方位角度差と前記金属材料の弾性限とに基づいて、塑性変形により生じた角度差を算出し、前記算出した角度差に基づいて、幾何学的に必要な転位の転位密度を予測する。 （もっと読む）

【課題】 空間可干渉性を向上させることが可能となるＸ線位相イメージングに用いられるＸ線用線源格子等を提供する。
【解決手段】 Ｘ線源と被検体との間に配置され、Ｘ線位相イメージングに用いられるＸ線用線源格子である。Ｘ線用線源格子は、Ｘ線を遮蔽する厚さを有する突起部が一定の間隔で周期的に配列されてなる複数の部分格子を備えている。前記複数の部分格子はずらして積層されている。 （もっと読む）

【課題】高精細な画像が得られるとともに、検査時間も短縮できる放射線検査システム及び放射線検査の撮像方法を提供することにある。
【解決手段】検出器103は、放射線源102に対して検査対象物104を挟んで配置される。移動装置108，109は、放射線源と検出器とを検査対象物の長手方向であって、かつ同一方向に平行移動する。回転装置105は、放射線源が平行移動する軸方向に対して照射方向を回転する。中央制御装置205は、放射線源から照射される照射方向が第１の方向であるときに、移動装置を制御して、放射線源と検出器を同一方向に移動して撮像データを得、さらに、放射線源から照射される照射方向が第２の方向であるときに、移動装置を制御して、放射線源から照射される放射線を検出できる位置に検出器を移動した後、さらに、放射線源と検出器を同一方向に移動して撮像データを得る。 （もっと読む）

少なくとも即発ガンマ線および中性子を発生させる入射ハドロンビーム（１０）による上記標的（２０）の衝突における、上記標的（２０）の領域（２５）が受ける局所線量をリアルタイム測定する方法であって、上記標的（２０）から放出される粒子は、上記標的（２０）の上記領域（２５）をコリメートすることによって、かつ上記標的（２０）における測定される上記領域（２５）から距離Ｌの位置に検出器（４５）を配置することによって、測定される方法。上記検出器（４５）は、粒子エネルギーおよび粒子飛行時間を測定する上記手段を有しており、上記検出器（４５）が受けた即発ガンマ線の数は、記録された事象を選択することにより決定され、即発ガンマ線についての空間情報を提供するために、上記標的（２０）よりも前の入射ハドロンビーム（１０）中に配置されている、二方向性荷電粒子検出システムが、入射ハドロン（１０）の横断位置を取得するように用いられる。
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【課題】恐れのある物を特定するために、再構成されていないスキャンデータの解析を行うＣＴスキャンシステム及びＣＴスキャン方法を提供すること。
【解決手段】手荷物のＣＴスキャンの恐れのある物の判断方法は、バッグの完全な再構成の必要性をなくす。スキャン中にＣＴスキャンデータが解析され、考えられる恐れのある位置を特定する。この解析は、バッグ中の対象物を表現する線図に基づいて解析される。対象物の質量、大きさ、位置、及び原子番号は、この線図データに基づいて決定される。何らかの考えられる恐れは、データを変更し再構成して、恐れの表示を向上させる。２つのエネルギーのスキャンを使用して、考えられる恐れの解像度の密度の決定にも使用できる。 （もっと読む）

【課題】平面視における被検査物の搬送方向長さが一定ではない場合でも、簡易な構成のままで被検査物の検査を効率よく実施することが可能なＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線検査装置１０では、コンベア１２によって搬送される商品Ｇに対して、Ｘ線照射器１３からＸ線を照射し、Ｘ線ラインセンサ１４において検出されたＸ線量に基づいてＸ線画像を作成して異物混入の検査を行う装置であって、制御コンピュータ２０が、ユーザによって選択可能な第１モードと第２モードとを有している。第１モードでは、商品Ｇ１がＸ線ラインセンサ１４上を通過している間、Ｘ線ラインセンサ１４において検出されるＸ線透過量に基づいてＸ線画像を作成する。第２モードでは、商品Ｇ１の先頭を検知してから所定の距離ｄの分だけＸ線透過量に基づいてＸ線画像を作成する。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴアレイの検査時間を長くすることなく、ＴＦＴアレイの電位をチャージ保持することで検出される欠陥を検出する。
【解決手段】荷電粒子ビームをＴＦＴ基板上で二次元的に走査して走査画像を形成し、この走査画像によりＴＦＴアレイを検査するＴＦＴアレイ検査装置であり、試料を支持するとともに二次元方向に移動するステージと、このステージを駆動制御するステージ制御部と、荷電粒子ビームの走査を制御するとビーム走査制御部と、ＴＦＴ基板への検査信号の印加を制御する検査信号制御部と、走査画像を取得してアレイ検査を行う信号処理部とを備える。ステージ制御部およびビーム走査制御部は、荷電粒子ビームのＸ方向のビーム走査と、ステージのＸ方向と直交するＹ方向のステージ送りとによる二次元走査を一パスとして、ＴＦＴ基板をビーム走査方向に複数のパスで分割して二次元走査し、各パスにおいて、同一のパスを往路と復路とで往復して走査する。 （もっと読む）

【課題】薄膜包材内に物品を内包する商品であっても、薄膜包材内を漏れなく検査領域として設定し、高精度な検査を実施することが可能なＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線検査装置１０は、コンベア１２によって搬送される商品Ｇに対して、Ｘ線照射器１３からＸ線を照射し、Ｘ線ラインセンサ１４において検出されたＸ線量に基づいてＸ線画像を作成して異物混入の検査を行う装置であって、Ｘ線ラインセンサ１４において商品Ｇの袋Ｂ内のパンＧ１を検出すると、制御コンピュータ２０が、パンＧ１の上流側および下流側に隣接する領域を、検査領域Ａ１，Ａ２として加える。 （もっと読む）