【課題】蛋白単分子等の微小標的粒子にＸ線ビームを照射するＸ線分析装置において、コンテナレス法やコンテナ法では解決が難しかった種々の技術的課題を一挙に解決する。
【解決手段】保持基板１に保持されている標的粒子Ｐの位置形状測定を行うプローブ式測定手段２と、前記プローブ式測定手段２のプローブ２ａを、標的粒子Ｐの測定が可能な位置である測定位置と、前記Ｘ線照射機構による標的粒子へのＸ線ビームの照射に干渉しない位置である退避位置との間で移動可能に保持する移動機構３と、前記保持基板１及びＸ線照射機構の相対位置を調整する位置調整機構５とを設け、前記プローブ式測定手段２で位置が特定された標的粒子Ｐに対し、前記保持基板１及びＸ線照射機構の相対位置を調整してＸ線ビームを照射できるように構成した。 （もっと読む）

【課題】撮影倍率を変更しても都度較正を行なうことなく寸法精度のよい断面像を得る。
【解決手段】撮影距離ＦＣＤと検出距離ＦＤＤを設定するシフト機構（撮影距離設定手段、検出距離設定手段）７と、第一の撮影距離ＦＣＤを設定してスキャンして得た既知の大きさの第一の基準体の第一の断面像上の大きさと、第二の撮影距離ＦＣＤを設定してスキャンして得た第一の基準体の断面像上の大きさとから、ＦＣＤ及びＦＤＤの誤差を求め較正する較正計算手段を有する。 （もっと読む）

【課題】基板の検査に際し、被検査部位の種類等に応じた検査ができ、かつ、検査時間を短縮できる、検査方法、検査装置および検査用プログラムを提供する。
【解決手段】Ｘ線源２からＸ線が出力され、検査対象である基板を透過したＸ線が、ＦＰＤ（フラットパネルディテクタ）において、Ｘ線透視画像として撮影される。Ｘ線ＣＴによる再構成データの生成のための撮影は、トモシンセシスによる再構成データ生成のための撮影と同様に、Ｘ線源２の光軸Ｌを軸とした仮想円３００上の位置３０１〜３０８で行なわれる。そして、Ｘ線ＣＴによる再構成データの生成の際には、位置３０２〜３０８のそれぞれで得られたＸ線透視画像が、位置３０２Ａ〜３０８Ａで撮影されたかのように、仮想円３００上の回転位置に応じて、各Ｘ線透視画像の中心を軸とし、アフィン変換を用いて、各画像が回転するようデータを変換された後、フィルタ処理を施される。 （もっと読む）

【課題】自動的に対象物の検査に適した面を抽出できるＸ線検査装置、Ｘ線検査方法およびＸ線検査プログラムを提供する。
【解決手段】Ｘ線検査装置１００は、検査対象１にＸ線を照射するＸ線源１０と、検査対象１を透過したＸ線を検出するＸ線検出器２３と、Ｘ線検出器２３を移動するＸ線検出器駆動部２２と、検査対象１を移動する検査対象駆動機構１１０と、演算部７０とを備える。演算部７０は、Ｘ線源１０、Ｘ線検出器２３などを制御し、検査対象１を複数の方向から撮像し、撮像結果に基づいて、検査対象１の複数の断層画像を生成する。演算部７０は、断層画像のうち、高輝度領域の割合が高い断層画像を特定し、特定された断層画像から、検査対象１の形状特性に応じた所定の距離だけ離れた断層画像を用いて、検査対象１を検査する。 （もっと読む）

【課題】透過型電子顕微鏡のプロジェクション・システムの歪曲を特定しこれらの収差を修正する。
【解決手段】収差はサンプルの多数のイメージを集めることによって特定される。そして、各々の取得されたイメージのサンプル同士の位置がわずかにずれている。イメージにおいて、サンプルの同一の部分を示すサブフィールドが比較される。これらのサブフィールドはわずかな違いを示し、これは、収差の差に対応する。多数の場所の収差に係る差が特定される。その後、各々の場所における前記収差は、積分することによって特定することができる。表示されるべきイメージの検出された各々のピクセルの位置を修正することによって、収差は非常に減少したものとなる。効果としては、サンプルの極めて正確なステップも、あらかじめサンプルの形状を知る必要もない。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線検出器を移動する機構を簡素化し、Ｘ線検査を高速化する。
【解決手段】一実施の形態に従うＸ線検査装置は、Ｘ線を用いて撮像するためのＸ線検出器２３．１と、Ｘ線検出器を移動するためのＸ線検出器駆動部２２と、検査対象領域を透過したＸ線が、Ｘ線検出器に入射するようにＸ線を出力するＸ線源１０と、Ｘ線検査装置の動作を制御する演算部７０と、Ｘ線検出器２３．１による複数の撮像のための各位置が同一平面に存在し、かつ、各位置におけるＸ線検出器の向きが一定となるように、Ｘ線検出器駆動部２２を制御するセンサ駆動制御部とを含む。 （もっと読む）

【課題】ウェハの評価の良い部分の領域や悪い部分の領域が分かる半導体検査装置のデータ処理方法とデータ表示方法と半導体検査装置を提供する。
【解決手段】電子ビームを用いた吸収電流測定方法を用いて、ウェハ２３のコンタクトホール界面状況を評価する半導体検査装置において、電子銃１０によって所定の電子ビームサイズでコンタクトホールを照射し、その際に測定される吸収電流値をコンタクトホールサイズで正規化した値をグラフ化し、そのグラフから任意の領域を指定して、表示装置１５０に表示されるウェハ上のマップにその測定点を表示する。 （もっと読む）

【課題】
半導体装置製造プロセスで形成されるパターンの検査前に実行されるプリチャージの最適な条件を簡易に設定できるようにし、プリチャージの良否を自動判定し、その後の動作にフィードバックするようにして、検査結果の信頼性の低下を防ぎ、常に安定した検査ができるようにする。
【解決手段】
電子ビームを照射する前に、電子ビームを発生させる電子源とは別の第二の電子源から電子を発生させて基板の表面に帯電を形成させる帯電形成手段と、該帯電形成手段により基板の表面に帯電が形成された状態で、基板に流れる電流の値を計測する電流計測手段と、該電流計測手段により計測された電流の値が予め定められた目標値になるように帯電形成手段により形成される帯電を調整する調整手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】層数が多くかつ層間のピッチが狭い多層基板であっても、その精細な三次元再構成画像を生成可能な放射線透過画像撮像装置および放射線透過画像撮像方法ならびにそれに用いる基板固定用治具を提供する。
【解決手段】本装置１は、放射線を基板Ｐに照射する放射線発生器１０と、基板を透過した放射線を検出する放射線検出器２０と、回転軸Ａを中心として放射線の光軸Ｒと基板Ｐとを相対回転させる回転機構（ターンテーブル４０）と、基板を回転軸と直交する平面上を移動させるステージ（Ｘ−Ｙステージ３０）と、基板の撮像部位の倍率を調整する拡大倍率可変機構（昇降機構５０）と、基板を保持しかつステージに対して固定するための基板固定用治具６０と、を備え、光軸が回転軸に対して９０度未満の角度で交差するように設定されており、基板固定用治具が、回転軸と平行になるように（または９０度未満の角度で交差するように）基板をステージに固定する。 （もっと読む）

【課題】パッケージ材料で封止した部品中の単結晶基板の反りを、部品を破壊することなくパッケージ材料越しに回折Ｘ線を用いて測定する。
【解決手段】Ｘ線検出器１を固定したまま、入射Ｘ線４の波数ベクトル８の方向から測定した試料ステージ６の回転角ωを変化させると、ブラッグ条件が満たされるとき、すなわち試料３０内のＳｉチップの照射領域の表面と入射Ｘ線４の波数ベクトル８とのなす角αがある特定の値をとるとき、Ｘ線の結晶回折が生じＸ線検出器１で回折Ｘ線９が検出される。ここで、試料３０は、プリント基板上にＳｉチップが搭載され、それらがモールドにより封止した構造である。Ｘ線検出器１は、モールド越しに回折Ｘ線９を検出し、ロッキング曲線を取得することができる。このロッキング曲線に基づいて、Ｓｉチップの反り測定ができる。 （もっと読む）

【課題】 過去の測定結果情報との比較により、容易な変化点管理を行うことが可能な蛍光Ｘ線分析装置を提供すること。
【解決手段】 被測定物２０５を特定する特定情報を入力する入力部２０１と、被測定物の測定部位画像を取得する撮像部２１０と、蛍光Ｘ線の測定後においては、少なくとも、被測定物の分析結果を表示する表示部２０８と、特定情報に対応づけられた過去の測定情報を蓄積したデータベース２０９と、を備え、測定情報は、被測定物の測定部位画像と分析結果とを含み、表示部は、蛍光Ｘ線の測定条件設定時においては、少なくとも、撮像部で得られる被測定物の測定部位画像と、データベースに蓄積されている測定情報のうち入力部で入力された特定情報に対応する測定情報に含まれる被測定物の過去の測定時の測定部位画像と、を同時に表示可能である、蛍光Ｘ線分析装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は、試料表面の粒子の蛍光Ｘ線スペクトルに基づいて粒子径を測定する粒子径測定装置、粒子径測定方法及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】Ｘ線源１３からウェハ３表面にＸ線ビームが照射され、ウェハ３表面が走査されてウェハ３表面の各粒子の蛍光Ｘ線スペクトルが測定される。測定された蛍光Ｘ線スペクトル及び標準スペクトルデータベース２８１に格納されている標準スペクトルデータに基づいて粒子に含まれる元素が同定される。測定された蛍光Ｘ線スペクトルから、同定元素の蛍光Ｘ線スペクトルが抽出され、面積分強度が算出される。検量線データベース２８２から同定元素に対応する検量線を読み出して面積分強度と対応する粒子径が特定される。 （もっと読む）

【課題】試料分析装置において、観察しようとする試料に形成されたデバイスに含まれるプラグや配線構造をはじめとする試料特定箇所に、単一または多数系統の外部電圧を印加し、デバイスをオン・オフさせたときの構造、組成、電子状態の変化を分析できるものにおいて、試料を自由に回転・傾斜させることを可能にする。
【解決手段】試料傾斜機構を備えた試料ホルダ本体を有する試料分析装置において、サンプルキャリアは、第一の固定部材と、第二の固定部材と、前記第一の固定部材と前記第二の固定部材とを接続する変型可能な接続部と、当該接続部上に形成され前記第一の固定部材と第二の固定部材とを導通させる単一または多数の配線構造と、を備える。前記試料傾斜機構を操作して傾斜角を調整し、試料ホルダ本体先端に設けた回転ピボットを中心に試料ホルダ本体を回して回転角を調整する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、セル検査を用いて、基板表面に存在する欠陥を容易かつ高精度に検出することができる基板表面の検査方法及び検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 表面に複数の材料を含む基板１０上の欠陥３２を検査する基板表面の検査方法であって、
前記複数の材料のうち少なくとも２種類の材料のコントラストが所定範囲内となるようにランディングエネルギーが設定された電子ビームを、前記基板の表面に照射する電子ビーム照射工程と、
前記基板から発生した電子を検出し、前記２種類の材料からなるパターンが消去された又は薄くなった状態で前記基板の表面画像を取得する工程と、
取得された該表面画像において、背景画像と区別できるコントラストを有する対象物の像を、前記欠陥３２として検出する工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ビームラインが短く、分解能が高く、且つ短時間で２次元領域の測定が可能な分析装置、特にＸＡＦＳ分析装置又は小角散乱Ｘ線分析装置を提供すること。
【解決手段】荷電粒子発生手段によって生成された荷電粒子を内部に周回させる荷電粒子周回手段（１）と、
周回する荷電粒子の周回軌道（１３）上に配置された横長ターゲット（１４）に、周回する荷電粒子を衝突させて発生したＸ線を分光して単色Ｘ線を発生させる分光手段（２）と、
分光手段（２）から出力される単色Ｘ線を測定対象の試料（４）に照射し、試料（４）から出力されるＸ線を測定する測定手段（３）とを備える。 （もっと読む）

【課題】オペレータの操作により作り出したある時点における状態に戻したり、衝突危険領域から離脱させることを、手間を要することなく確実に実現することのできるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】ステージ３および／またはＸ線検出器２を移動させるべくオペレータが操作部２０を操作したとき、その操作履歴を記憶する記憶手段１０ａを備えるとともに、指令の付与により、記憶手段１０ａに記憶されている操作履歴を逆順で再生して移動指令としてステージ移動機構６や検出器傾動機構４等に供給することで、例えば衝突危険領域で透視している状態で指令を与えることにより、その衝突危険領域に至る前の状態に自動的にステージ３等が戻ることを可能とする。 （もっと読む）

【課題】同一の生体組織試料について、電子像観察だけでなく、蛍光像観察、そして透視像観察等を行うことも可能な、複数の観察用光源を備えた多光源顕微鏡を提供する。
【解決手段】電子顕微鏡の光源である電子銃とそれ以外の少なくとも１種の光源を有し、試料を同一位置で観察可能な多光源顕微鏡であって、蛍光を観察するための光学顕微鏡２０と走査型電子顕微鏡２とからなり、該走査型電子顕微鏡の電子ビームの光軸と同軸となるように該光学顕微鏡のカセグレン鏡１２が該走査型顕微鏡の鏡筒内に配置されてなり、反射面が非球面型であるカセグレン鏡を用いる。 （もっと読む）

【課題】
タンパク質等の高分子構造におけるカイラリティ分布や、磁区構造の解析を高分解能で行うことが可能な走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】
レーザー201と半導体202を備えたスピン偏極電子源等を搭載した走査電子顕微鏡を用いて、スピン偏極電子線203を照射した試料208からの反射電子209の強度やスピン偏極度を反射電子検出器210などを用いて測定することにより、試料208内部の高分子のカイラリティ構造や磁化ベクトルを可視化することができる。 （もっと読む）

【課題】余分な時間をかけずに、観察像取得手段の視野に関係なく、マッピングの観察範囲と同じ視野の光学的観察像が、位置ズレも伴わずに得られるマッピング分析装置を提供する。
【解決手段】試料１１の表面に複数配列されたマッピング単位領域から、放出されるマップ像用信号を検出するマップ像用検出手段（Ｘ線検出器）２８と、試料１１の表面の光学的観察像を撮像する撮像手段２２と、撮像手段２２の出力信号から光学的信号ではない部分を除去する信号補間抽出回路２３ａと、マップ像用信号検出手段２８及び信号補間抽出回路２３ａの出力信号を格納する画像メモリ２５と、試料１１を移動させ、マッピング単位領域を逐次走査するＸ−Ｙステージ１２と、Ｘ−Ｙステージ１２の動きに同期してマップ像用信号検出手段２８及び信号補間抽出回路２３ａの出力信号を画像メモリ２５に取り込ませる同期制御回路２７とを備える。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の面取斜面の異物を発見することができる検査方法及び検査装置及びガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ステージ上に搭載したガラス基板の表面の欠陥に電子線を照射して検査する検査方法において、ガラス基板の面取斜面を検査する際の面取斜面と電子線との照射角度が、ガラス基板の磁性層形成面を検査する際の磁性層形成面と電子線との照射角度と同じとなるように、ステージを傾けることを特徴とする。 （もっと読む）