【課題】大表面半透明物体（１）の透過特性及び／又は反射特性を判定するための光学測定方法を提供する。
【解決手段】方法は、特に表面を被覆された基板（１）の製造時のプロセス監視及び品質検査に用い得る。本発明は更に本方法を適用する光学測定装置に関する。本発明によれば、透過特性及び反射特性は、連続して、物体（１）の第１の大表面（３）が第１の照明装置（９）により照明され、光検出器（１４）が全透過率を測定し、第１の大表面の反対側に第１の大表面と平行に位置する物体（１）の第２の大表面（２）が第２の照明装置（７）により照明され、光検出器（４）が拡散透過率を測定し、任意選択で、物体（１）の第１の大表面（３）が第１の照明装置（９）により照明され、光検出器（４）が反射率を測定し、及び／又は物体（１）の第２の大表面（２）が第２の照明装置（７）により照明され、光検出器（１４）が反射率を測定するという方法で測定される。 （もっと読む）

【課題】表面を検査する方法および装置を提供すること。
【解決手段】表面の特性を検査する方法であって、第１の所定の放出角（α_１）で、検査される表面（９）上に放射を放出するステップと、第１の受信角（β_１）で、第１の放出角（α_１）で放出されて、検査される表面（９）から反射された、放射の少なくとも一部分を受信し、受信された放射の特徴である複数の第１の測定値を出力するステップと、第２の所定の放出角（α_２）で、検査される表面（９）上に放射を放出するステップと、第２の受信角（β_２）で、第２の放出角（α_２）で放出されて、検査される表面（９）から反射された、放射の少なくとも一部分を受信し、受信された放射の特徴である複数の第２の測定値を出力するステップと、第１の測定値と第２の測定値との間の比較を実行するステップと、を包含する、方法。 （もっと読む）

【課題】同じ測定箇所で位相差値と厚みデータとを測定することで、複屈折や厚み方向位相差値Ｒｔｈをより精度よく得ることができる光学測定装置を提供する。
【解決手段】光学測定装置Ｍは、光学フィルムＳに光Ｌ１を入射する投光器３０と、投光器３０から光学フィルムＳに入射された入射光Ｌ１を受光する受光器３４と、受光器３４によって受光された透過光Ｌ１から光学フィルムＳの面内位相差値Ｒ０を算出する位相差Ｒ０算出部１１と、位相差Ｒ０算出部１１で面内位相差値Ｒ０を算出するのに用いた入射光Ｌ１と同じ入射光Ｌ１を用いて光学フィルムＳの厚みデータｄを算出する厚み算出部１２とを備えている。受光器３４は、２つのファイバ部８ａ，８ｂに分岐される光ファイバ８を含んでおり、一方のファイバ部８ａが位相差Ｒ０算出部１１に接続され、他方のファイバ部８ｂが厚み算出部１２に接続されている。 （もっと読む）

【課題】エネルギーロスの少ない光ファイバセンサシステム、及び屈折率の検出方法を提供する。
【解決手段】入射されたレーザ光を回折させることにより生じさせた回折光を全反射させながら導く導波体を、被検体内に配設して、全反射にともなって回折光に生じる位相変化に基づいて屈折率を検出する。光ファイバセンサシステムは、レーザ光を出射する投光器と、投光器に一端を接続してレーザ光を導く第１の光ファイバと、第１の光ファイバの他端を接続した長手状の導波体と、第１の光ファイバと対向させて導波体に一端を接続した第２の光ファイバと、第２の光ファイバの他端を接続した受光器と、受光器から出力された信号を解析する解析器で構成する。 （もっと読む）

【課題】紫外光源由来のオゾンガスによる部品の浸食を防止することができると共にランニングコストを低減することのできる光度計を用いた試料測定方法を提供する。
【解決手段】紫外光源２１と光検出器５２を有し、光源２１から光検出器５２に至る光路全体を密閉するカバー１１と、カバー１１の内部を窒素ガスで置換する手段とを備えた分光光度計１０において、光源２１を格納する光源室２０と後段の分光器３０の間の隔壁２２に対して容易に着脱することができ、なお且つ、測定光を通過させつつ光源室２０と分光器３０との間の気体の流通を遮断することのできる窓板ユニット８０を設ける。深紫外域以外の波長域で測定を行う場合には、窓板ユニット８０を隔壁２２に取り付けることによって、光源２１付近で発生したオゾンが分光器３０へ流入するのを防止でき、窒素ガスによる置換を行うことなく部品の浸食を防止する。 （もっと読む）

【課題】検出感度の維持及び歩留まりの向上を図った紫外線検出装置を提供する。
【解決手段】少なくとも紫外線を含む光線を測定試料１５に向け照射する光源１０と、測定試料１５を透過した光線から紫外線を分光する分光手段１９と、分光手段１９により分光された紫外線を検出する光検出手段２０とを有する紫外線検出装置であって、記測定試料１５を透過した光線の光検出手段２０に至るまでの経路途中に、光線の強度レベルを光検出手段２０の検出可能な強度レベルに変換するフィルタＧＦを設ける。 （もっと読む）

【課題】高価な分光器を必要とせずに、特徴量を高精度に推定可能とする。
【解決手段】被検体の特定成分に関する特徴量を推定する特徴量推定装置は、波長帯域の相違する複数のバンド画像を分光スペクトルに変換するための分光推定パラメーターを保存する分光推定パラメーター保存部３６と、分光スペクトルを前記特徴量に変換するための検量処理パラメーターを保存する検量処理パラメーター保存部３８とを備える。さらに、特定成分に応じた所定の波長帯域を含む複数の波長帯域で前記被検体を撮影して得られるマルチバンド画像を取得するマルチバンド画像取得部と、前記分光推定パラメーターを用いて、マルチバンド画像から分光スペクトルを演算する分光推定部１６と、検量処理パラメーターを用いて、前記分光スペクトルから前記特徴量を演算する検量処理部１８とを備える。 （もっと読む）

【課題】非破壊試験により、層構造を有する試料を試験する。
【解決手段】電磁波測定装置は、二つ以上の層１ａ、１ｂを有する被測定物１に向けて、0.01[THz]以上100[THz]以下の周波数の電磁波を出力する電磁波出力器２と、二つ以上の層１ａ、１ｂの各々によって反射された電磁波である反射電磁波を検出する電磁波検出器４と、反射電磁波の各々の電場の極値I₁、I₂および反射電磁波の各々の電場が極値をとるタイミングt₀、t₁の時間差Δt₁のいずれか一方または双方に基づき、被測定物１を測定する層解析装置１０とを備える。 （もっと読む）

【課題】ロールツーロール法を用いて長尺状の基材に透明導電膜が形成されてなる被処理体の特性評価を効率よく行うことが可能な被処理体の検査装置を提供する。
【解決手段】本発明の被処理体の検査装置は、ロールツーロール法を用いて、長尺状の基材に透明導電膜が前もって形成されてなる被処理体の検査装置であって、前記透明導電膜のシート抵抗を求める第一手段と、前記透明導電膜のヘイズおよび透過率を求める第二手段と、を少なくとも備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】新規な粘着剤の複屈折性評価方法、その評価方法を用いた粘着剤の設計方法及び製造方法、この製造方法により得られた粘着剤、得られた粘着剤を用いる偏光板及び液晶表示装置、並びにこれらの製造方法の提供。
【解決手段】固有複屈折が絶対値で１×１０^−３以下、光弾性定数が絶対値で１×１０^−１２Ｐａ^−１以下であるポリマーフィルムを支持体として、支持体に粘着剤を付与した積層フィルムを準備する工程と、積層フィルムを熱延伸する工程と、熱延伸した後の積層フィルムのリタデーションと、粘着剤の層の厚さを測定する工程と、を有する粘着剤の複屈折性評価方法。 （もっと読む）

【課題】セルと電極部を一体型にし、電極部もセルとともに使い捨て可能とし、試料溶液の注入時に気泡が残りにくい電気泳動移動度測定用セルを提供する。
【解決手段】試料溶液を導入するための直方体状の内部空間１１を有する容器と、容器と一体化して容器の内部に形成され内部空間１１に電場をかけるための少なくとも２つの電極１４と、内部空間１１に連通した管状の試料注入部１７と、内部空間１１に連通した管状の試料注出部１８と、試料注入部１７に蓋をして内部空間１１を密閉するための第一のキャップ２１、試料注出部１８に蓋をして内部空間１１を密閉するための第二のキャップ２２とを有し、第一のキャップ２１は、キャップの装着時に管状の試料注入部１７の内側面１７ａに接触する第一側面２１ｂを有し、内側面１７ａは、内部空間１１から離れるに従って管の断面積が広がるように形成され、第一側面２１ｂは、その断面の面積が第一のキャップ２１の挿入方向に沿って徐々に狭くなっている。 （もっと読む）

【課題】工場、サービスステーションおよび生コン工場等での現場での品質管理の精度向上を課題とした。特に、セメントの色調を測定して、セメントの種類の特定、異物混入の判定、混合物の濃度管理を簡便にできるセメント用色彩色差計およびその使用方法を実現することを課題とした。
【解決手段】そこで、波長域が４００〜７５０ｎｍを含む光源、波長域４００〜７５０ｎｍの光を検知できる検知部と、透光性の試料カバー部、を含み、試料カバーを通して試料に照射する光源からの光の照射方向と、試料からの反射光を検知する検知管の取付け方向のなす角度が３０度から６０度に設定されて配置されることを特徴とするセメント用色彩色差計、を提供する。 （もっと読む）

【課題】任意の形状を有する散乱体からの散乱波を高速かつ高精度に導出可能な散乱波の導出方法を提供する。
【解決手段】散乱波の導出方法は、所定の電磁波を散乱体に入射させて、所定の位置における散乱体からの第１の散乱波を算出する工程と、散乱体と同じ形状および大きさを有する領域の内部に複数の球形微粒子を含む球形微粒子群を配置した状態で、所定の電磁波を球形微粒子群に入射させた場合の、前記所定の位置における球形微粒子群からの第２の散乱波をＴ−ｍａｔｒｉｘ法を用いて算出する工程と、第１の散乱波と第２の散乱波とが等しくなるような複数の球形微粒子の条件を決定する工程と、決定した球形微粒子の条件に基づいて、任意の電磁波を前記散乱体に入射させた際の、任意の位置における散乱体からの散乱波を得る工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】入射光を試料に対して垂直に照射させることにより装置全体の小型化を図ると同時に、きわめて短時間で光学軸の向き及び異方性の大きさを測定できるようにする。
【解決手段】レーザ６から試料３に対し垂直方向に入射光を照射し、垂直方向に反射された反射光をハーフミラー７を介して受光素子９に導く測定光学系４が形成され、レーザ６とハーフミラー７の間に偏光子Ｐが配されると共に、ハーフミラー７と受光素子９との間に検光子Ａが配され、ハーフミラー７と試料３との間には、偏光子Ｐにより生成される直線偏光を回転させる１／２波長板１２と、遅相軸の向きを１／２波長板１２の遅相軸に対して±δ（δ≠ｎπ／４，ｎは整数）ずらした初期位置から１／２波長板１２に対して回転角度が２倍となるように同期的に回転駆動される１／４波長板１３を配した。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、試料面上の光沢ムラ特性を評価できる反射光ムラの測定方法および装置を提供することである。本発明により、反射光ムラの簡易で精度良い測定方法および装置を提供する。
【解決手段】平行光を試料に入射する入射工程と、その試料の表面をテレセントリック光学系により測定する受光工程と、その入射工程の光軸かつ／またはその受光工程の光軸をその試料上の１点を中心として回転させその試料の法線に対して任意の角度に設定する工程と、その試料の反射光分布を測定する工程と、を含むことを特徴とする反射光ムラ測定方法である。 （もっと読む）

【課題】非常に優れた検出感度を有するＳＰＲセンサセルおよびＳＰＲセンサを提供すること。
【解決手段】本発明のＳＰＲセンサセルは、検知部と、該検知部に隣接するサンプル配置部とを備える。検知部は、アンダークラッド層と、少なくとも一部が該アンダークラッド層に隣接するように設けられたコア層と、コア層を被覆する金属層とを有する。コア層の屈折率は１．４３以下であり、かつ、吸収係数は９．５×１０^−２（ｍｍ^−１）以下である。 （もっと読む）

【課題】鏡面に近い面の表面性状を、それぞれの製品あるいは業界に特有の感性に近い指標に基いて定量的且つ総合的に評価できるようにする。
【解決手段】コンピュータ制御にてディスプレイ１１に表示したチェックパターンを被測定面２１に投影して、反射像を撮影装置１２により撮影し、その画像データを収得してコンピュータ３でデータ処理するよう構成した鏡面計１を使用し、コンピュータ３に、鏡面度、鏡面度バラツキ、光沢度、シャープネス、うねり又は形状誤差、コントラストおよび白濁度といった複数の測定項目の算出ロジックを含むコンピュータソフト５を組み込んで、それら複数の測定項目を順次自動的に測定し、鏡面度を含む複数の測定項目を指標として表面性状を評価できるようにする。 （もっと読む）

【課題】印刷物に対してブロンジングの程度を定量的に示す指標値を算出するブロンジング指標値算出方法を提供する。
【解決手段】印刷物に対して拡散反射での測色値の色相角と正反射での測色値の色相角の差分を算出する差分算出工程と、観察光源での基準彩度と前記観察光源下における正反射での前記印刷物の測色値の彩度との差分を算出する彩度差算出工程と、前記算出された色相角の差分と前記彩度の差分とを乗算した値をもとにブロンジング指標値を算出する指標値算出工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】従来の装置に比べて、炭化水素油中に異種の炭化水素油が混入しているか否かを、迅速かつ高精度に検知でき、さらに、炭化水素油の性状を常時監視することで、異種の炭化水素油の混入を迅速に検知することを目的とする。
【解決手段】炭化水素油中に浸した電極に交流電圧を印加し、前記炭化水素油の電気抵抗を測定するインピーダンス測定部１０と、屈折率測定部３０を備え、測定した電気抵抗値、あるいは、屈折率に対する電気抵抗値が設定した閾値以下であるか否かにより、異種の炭化水素油の混入を検知するデータ処理部２０とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光励起によりテラヘルツ波を発生、検出する素子において低温成長半導体の歪みや欠陥がテラヘルツ波発生効率などを制限していた点を解決した光伝導素子等を提供する。
【解決手段】光伝導素子は、半導体低温成長層１４を有し、半導体低温成長層１４と半導体基板１０との間に位置し且つ半導体低温成長層１４よりも薄い半導体層１１、１２、１３を有する。半導体低温成長層１４は、半導体層１１、１２、１３と格子整合し半導体基板１０と格子整合しない半導体を含む。 （もっと読む）