【課題】多結晶シリコンを収納した容器を洗浄槽との間で円滑かつ確実に搬送することができ、作業効率を向上させて安定した品質を維持できる多結晶シリコン洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】多結晶シリコンＳを容器３に収納した状態で洗浄槽２１〜２７に浸漬して洗浄する多結晶シリコンの洗浄装置１であって、洗浄槽２１〜２７の内底部に容器３を載置状態に保持するガイド枠５を有しており、ガイド枠５には上方から容器３の導入を案内する複数のガイド板５２が上方に向かうにしたがってガイド枠５の保持中心から離間する方向に傾斜して設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】処理槽内の処理液に含まれるごく微細な異物を低コストで効率良く除去できる処理槽における異物除去システムを提供する。
【解決手段】異物除去システムは、比重の小さい異物を含む処理液を回収する上中層用回収部と、上中層用回収部からの処理液を濾過液と異物とに分離する第２サイクロン装置２３と、第２サイクロン装置２３からの濾過液をさらに濾過して処理槽に還流する処理液濾過装置５０と、を備える。処理液濾過装置５０は、直線管からなる供給配管５４を介して第２サイクロン装置２３の濾過液排出口２３ｂに連通するハウジング５２と、ハウジング５２の上面に取り付けられる蓋部材６４と、蓋部材６４に供給配管５４と同軸に着脱自在に取り付けられるブラシ６６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】めっきや化成処理などの被洗浄物品１となる表面処理部品に付着した薬液を除去する物品のすすぎ洗浄において、大量の洗浄液を使用せず、簡易な機構で洗浄と乾燥を同じ工程で行える洗浄乾燥方法及び洗浄乾燥装置を得る。
【解決手段】被洗浄物品１をなす表面処理部品に付着した汚れまたは薬液を除去する表面処理部品の洗浄において、洗浄液を大気圧下では沸点以上の状態となる加圧過加熱液の状態として、被洗浄物品１に噴射する。被洗浄物品１の表面に保液層８ｓが形成される隙間Ｇ１を介して保液部材７を配置している。噴射された洗浄液の蒸気が凝縮した凝縮液８を被洗浄物品１と保液部材７との間の隙間Ｇ１に保持しながら、噴射を継続する。隙間Ｇ１内の保液層８ｓでの凝縮熱により、洗浄液の噴射終了後に、凝縮液８を被洗浄物品１の表面において乾燥させることができる。 （もっと読む）

【課題】省スペース化を図ることができ、以って作業者単独によるワーク搬入出作業を軽減することの可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄槽と、洗浄前のワークを収容するワーク搬送治具を略垂直姿勢で滞留させる入口バッファと、洗浄後のワークを収容するワーク搬送治具を略垂直姿勢で滞留させる出口バッファと、前記ワーク搬送治具を略垂直姿勢で入口バッファから洗浄槽へ搬送し、洗浄後に洗浄槽から出口バッファへ搬送する搬送装置とを具備する洗浄装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】水分を十分に除去しながら、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）あるいはこれに代わる水切り乾燥液の使用量が少ない水切り工程を含む洗浄方法・装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置１（洗浄方法）は、被洗浄物に洗浄溶剤を適用する第１洗浄処理槽２及び第２洗浄処理槽３（薬剤洗浄工程）と、洗浄処理後の被洗浄物を水ですすぐ第１すすぎ槽４及び第２すすぎ槽５（すすぎ工程）と、被洗浄物に付着した水分を除去するための水切り乾燥槽群６（水切り乾燥工程）を備える。水切り乾燥槽群６は、前記被洗浄物を浸漬した後で引き上げる温純水引き上げ槽１１（水引き上げ工程）と、水を取り込む乾燥用溶剤の蒸気を当てる溶剤乾燥槽１３（溶剤乾燥工程）を含む。 （もっと読む）

【課題】洗浄液噴射手段を電極板と電極板の間に入れる必要がなく、メンテナンス性が良好であり、洗浄力の高い洗浄装置および洗浄方法を提供すること。
【解決手段】電解精錬に用いられる電極板の洗浄装置であって、所定の間隔をおいて吊り下げられた複数の電極板を、搬送ラインの一方側から他方側に向かって搬送する搬送手段と、前記搬送手段で搬送される複数の電極板を、搬送方向に対して傾倒させる傾倒手段と、前記傾倒手段によって傾倒した電極板の上面側および／または下面側より、前記電極板の表面に洗浄液を噴射する洗浄液噴射手段と、を備えるように構成した。 （もっと読む）

【課題】ドライ洗浄とウエット洗浄とを組み合わせてマスク部材をクリーニングする際に、その洗浄プロセスを円滑に運転させることができ、マスク部材を効率的にクリーニング処理を行えるようにする。
【解決手段】ロードステージ１０と、レーザ光を用いたドライ洗浄ステージ１１と、洗浄液にマスク部材４を浸漬させて行う第１のウエット洗浄ステージ１２と、マスク部材４に対してシャワー洗浄を行う第２のウエット洗浄ステージ１３と、マスク部材４に熱風を供給して行う乾燥ステージ１４と、アンロードステージ１５とから構成されるクリーニング装置において、ロードステージ１０からドライ洗浄ステージ１１にマスク部材４を搬送・移載する同期式マスク搬送手段２０Ｃと、ステージ１１〜１５間にマスク部材４を搬送・移載する非同期式マスク搬送手段２０Ａとが設けられている。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、液体を貯留した槽の底部に沿って流れる噴射流の直進性に優れ、槽の底部に堆積した異物が巻き上がらないように噴射流を形成することができるノズル及びそのノズルを提供することにある。
【解決手段】本発明のノズル１は、液体を貯留した槽９内で噴射流を形成するノズル１であって、前記槽９の底部に対して斜めに噴き付ける第１の噴射流Ｆａを形成する第１の噴射孔５ａと、前記第１の噴射流Ｆａよりも、前記槽９の底部に対して浅い角度となる方向に第２の噴射流Ｆｂ，Ｆｃを形成する第２の噴射孔５ｂ，５ｃと、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】メタルマスク版の表面にはみ出した半田等の付着物の拭き取りに使用した拭き取りシートから付着物を除去して、拭き取りシートを何度も再利用できるようにした付着物除去装置を提供する。
【解決手段】超音波振動子４６の振動を拭き取りシートＳに染み込んだ液媒体を介して拭き取りシートＳ及び付着物Ｐに対して伝搬させ、拭き取りシートＳを伝搬する振動と付着物Ｐを伝搬する振動との伝搬速度差による振幅変動によって、付着物Ｐを拭き取りシートＳから剥離させる。 （もっと読む）

【課題】処理液を効率よく循環利用できると共に、異物除去手段のメンテナンス性に優れ、かつ、簡素な設備で安価に構成可能な処理液循環利用システムを提供する。
【解決手段】この処理液循環利用システム１は、塗装工程の前に行われる処理工程で車体２に供給された脱脂液Ｌ２を回収すると共に、回収した脱脂液Ｌ２に含まれる異物を除去し、然る後、異物を除去した脱脂液を回収先の処理工程で再利用するためのシステムである。このシステム１は、異物を除去するために少なくとも２段階の異物除去工程を有し、第１除去工程には、平滑なろ過面１１を水平方向に対して傾斜させて配置したろ過分離装置５が設けられる。第１除去工程では、異物のうち相対的に大きな異物１３ａを分離除去し、第２除去工程では、第１除去工程で除去されずに残った相対的に小さな異物を分離除去するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】ワーク浸漬時のワークおよびワーク処理槽の環境を一定にし、ムラ無く適切に表面処理を行うことができる浸漬処理装置のワーク浸漬装置および浸漬処理装置を提供する。
【解決手段】ワークＷに表面処理を行うワーク処理槽５の処理溶液に、ワークＷを浸漬するための浸漬処理装置１の浸漬移動機構１７であって、ワークＷを吊り下げる吊下げ機構５１と、吊下げ機構５１を昇降自在に支持すると共に、吊下げ機構５１を介してワークＷをワーク処理槽５に浸漬する昇降機構５２と、を備え、吊下げ機構５１を支持する昇降機構５２の出力端であるリードねじ７９が、吊下げ機構５１およびこれに吊り下げられたワークＷの重心位置に配設されている。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、簡単な構造で長手農作物を洗浄しながら整列させることのできる長手農作物の洗浄装置を提供することである。
【解決手段】 長手農作物の洗浄装置は、液体収容部と、第１搬送手段と、第２搬送手段とを含み、第１搬送手段に備えられる複数のローラは、液体収容部に収容された液体の液面に沿って、軸線が互いに平行で、かつ長手農作物の外径よりも大きな予め定める間隔をあけて設けられ、各ローラの少なくとも一部を液体に浸漬させた状態で長手農作物の搬送方向に移動する。 （もっと読む）

【課題】 処理槽内の異物を確実に除去することができる処理槽内の異物除去装置を提供する。
【解決手段】 ワークＷを処理槽２の処理液１に浸漬することでワークＷから取り除かれる異物を処理槽２内から除去する処理槽内の異物除去装置であって、処理槽２の少なくとも底面６にワーク搬送方向に沿って形成した複数の凹凸形状を有する溝部７と、処理槽２に設けたホッパ４と、このホッパ４を通って循環する処理液１を処理槽２に供給する処理液供給管１２と、この処理液供給管１２から分岐して溝部７の山部１０ｂ上に配設した複数の枝管１３と、これらの枝管１３の溝部７の底部１０ａに対向する部位にホッパ４に向けて設けた処理液吐出ノズル１４を備えた。 （もっと読む）

【課題】量産部品例えば自動車用ピストン等の自動洗浄乾燥装置に関し、特に洗浄後の乾燥に圧縮空気を用い、乾燥を極短時間で可能とする自動洗浄乾燥装置を提供する。
【解決手段】脱脂洗浄槽１１、水洗浄槽１２、純水洗浄槽１３、乾燥槽１４を直列に配置し、各処理槽に同時に部品１０を搬入搬出する５組のチャック１を横行ビーム２に設け、横行ビームを昇降ビーム３で上下動させる事により、槽間に処理ピストンを順次次工程に運搬供給する事を特徴とする自動洗浄乾燥装置。 （もっと読む）

【解決手段】 洗浄システム１は、クランクケース２を支持したパレット３を洗浄位置Ｂまで搬送する搬送手段６と、クランクケース２を洗浄する洗浄手段７とを備えている。
パレット３には固定通路１２を設けてあり、その一端にフレキシブルチューブ１３の一端１３Ａが接続されている。フレキシブルチューブ１３の他端１３Ｂは、クランクケース２の油穴４の開口に接続されている。上記パレット３が搬送手段６により洗浄位置Ｂの液槽２２内に浸漬されると、固定通路１２と吐出通路２４とが重合して相互に連通する。その後、ポンプ２３から吐出される洗浄液が吐出通路２４、固定通路１２およびフレキシブルチューブ１３を介してクランクケース２の油穴４に直接給送される。
【効果】 クランクケース２の油穴４を効率的かつ確実に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板エッチング方法及びその装置を開示する。
【解決手段】 ガラス基板エッチング方法が開示される。まず、エッチング領域と洗浄領域を含むベースに収容されたエッチング液にガラス基板を沈積して、前記ガラス基板をエッチングする。前記ガラス基板を前記ベースの洗浄領域へ移送し、前記エッチング領域と前記洗浄領域を分離する。前記洗浄領域のエッチング液を排出する。前記ガラス基板に洗浄液を加える。従って、ガラス基板エッチング工程の効率を改善し、ガラス基板の品質低下を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】１つの水洗ブース２内で１つのワークＷに対して少なくとも３回の水洗工程を実施する水洗設備を提供する。
【解決手段】それぞれ給水可能な洗浄水貯蔵タンク３６〜３８が水洗工程ごとに分けて配設され、各水洗工程において対応する１つの洗浄水貯蔵タンク内の洗浄水を水洗ブース２内に送出する洗浄水送出手段が併設され、水洗ブース２の底部からの排水回収配管系には、最終水洗工程を除く各水洗工程での回収排水を実施中の水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３６，３７へ戻すと共に、最終水洗工程での回収排水をその直前水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３７へ戻す切換弁５５ａ，５５ｂが設けられ、最終水洗工程を除く水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３７から直前水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３６へ貯蔵水を流動させる溢水配管５６が設けられ、開始水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３６には溢水配管５７が設けられる。 （もっと読む）

【課題】銅、ニッケルなどの電解精製における洗浄工程において、カソードの吊手と金属板との接合部の内側に形成されるポケット状部位に残存する電解液を効率的に除去する。
【解決手段】 電解精製した金属板（１）の搬送過程で、洗浄位置に配置した多数の洗浄ノズル（３、９）から金属板（１）に向けて洗浄液を噴霧することにより、金属板（１）の洗浄を行う洗浄装置において、吊手（５）に対応する該洗浄ノズル（９）を該吊手（５）の内側に向けて該吊手（５）の通過する空間に近接して配置するとともに、該洗浄ノズル（９）を主配管（７）に対して可動式として取り付け、可動式の洗浄ノズル（９）から噴霧される洗浄液を該吊手（５）の側方から該吊手（５）の内側へ直接到達させ、かつ該洗浄ノズル（９）と移動中のビーム（１３）との接触によって該洗浄ノズル（９）の該吊手（５）に対する相対位置を変え、該洗浄ノズル（９）を自動的に退避位置に移動させる。 （もっと読む）

【課題】薬液処理時に発生する薬液蒸気が処理槽を有するシンク外へ飛散するのを効果的に抑えて高品質の基板処理を可能にした基板処理装置を提供すること。
【解決手段】上方が開口した有底の容器からなる処理槽２Ａ〜２Ｄと、ウェーハＷを把持する把持機構１１と、把持機構が連結されてウェーハの処理槽内に貯留された処理液への浸漬及び処理槽内からの引き上げを行う昇降装置１０と、昇降装置が連結されてウェーハを処理槽へ搬送する搬送装置７と、を備える基板処理装置１において、処理槽から蒸気が平常時よりも多量に発生上昇するときに処理槽の開口部を覆うことができる搬送装置に連結された飛散防止カバー８を備える。 （もっと読む）

【課題】処理液の消費量を低減する。複数の処理工程における処理時間の差異への対応を容易にする。処理液槽間の基板搬送時間を短縮する。
【解決手段】この基板処理装置は、薬液槽２１と、リンス液槽２２と、複数の基板保持部１０とを備えている。薬液槽２１の槽本体３１には、その上面の開口３０から表面張力で盛り上がった状態で薬液４５が貯留されている。リンス液槽２２の槽本体５１には、その上面の開口５０から表面張力で盛り上がった状態でリンス液６１が貯留されている。薬液４５の液面４５ａおよびリンス液６１の液面６１ａは同一高さの水平面内にある。基板保持部１０は、基板Ｗの一主面である処理面を下方に向け、その処理面を液面４５ａ，６１に接液する状態で基板Ｗを保持する。基板保持部１０は、その接液状態を保持しつつ液面４５ａ，６１ａに沿って移動されるようになっている。 （もっと読む）