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Fターム[3B201BB02]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 流体的清浄手段 (13,243) | 浸漬 (1,811) | 洗浄槽 (907)

Fターム[3B201BB02]に分類される特許

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【課題】 被洗浄物の出し入れの困難性を解消するとともに、減圧した洗浄槽内へ気体を導入することによって上昇した洗浄液が減圧手段に吸い込まれないようにして、洗浄剤やエネルギーのロスを防ぐことができる洗浄装置を得る。
【解決手段】 上部に蓋体14を有する洗浄槽3と、洗浄槽3内を減圧する減圧手段4と、洗浄槽3内に気体を導入する給気手段5を備え、減圧下の洗浄槽3内の洗浄液1中に気体を導入し洗浄液1を上昇,下降させて被洗浄物2の洗浄を行う洗浄装置において、蓋体14に、洗浄槽3内に開口する減圧手段4における排気路16の開口部18と対峙するようにじゃま板32を蓋体14から垂下するようにして設け、上昇した洗浄液1が排気路16の開口部18側へ移動するのをじゃま板32により防ぎ、洗浄液1が排気路16の開口部18から洗浄槽3外へ持ち出されることを抑えるようにした。 (もっと読む)


【課題】より安全性を高めることのできるプラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器の提供。
【解決手段】プラズマ発生装置1は、水を含む液体を収容する液体収容部4と、気体を収容する気体収容部5と、気体収容部5中の気体を液体収容部4へ導く気体通路3aが形成され、液体収容部4と気体収容部5とを隔てる隔壁部3と、気体収容部5に配設された第1電極12と、少なくとも第1電極12と対になる側の部分が液体収容部4中の液体と接触するように配設した第2電極13と、を備えている。そして、第2電極13を接地した状態で第1電極12と第2電極13との間に所定の電圧を印加するようにした。 (もっと読む)


【課題】ガスタービンエンジンは高温度にて作動するため、高温のガスに曝される構成部材の壁に対し保護熱バリア被覆を施す。保護熱バリア被覆は、構成部材の壁に冷却通路が穿孔された後、被覆されるが、その際、被覆材が冷却通路を覆い、冷却通路を通る冷却空気の流れを制限し、構成部材の冷却を不十分にすることがあるため、冷却通路から不要被覆材を除去する方法を提供する。
【解決手段】冷却通路16を液体中に浸漬させるステップと、浸漬液体内の供給源から付着物の少なくとも一部を除去するのに十分な速度にて液体ジェット38を冷却通路16に向けるステップとを備え、冷却通路16から不要な被覆付着物30を除去する。 (もっと読む)


【課題】被洗浄物の表面に付着した塵埃などの汚染物質を効率良く除去すると共に、洗浄後に汚染物質が被洗浄物の表面に再付着することを防止した湿式洗浄装置及び湿式洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板Wの洗浄を湿式で行うための洗浄槽2と、洗浄槽2の下方側から槽内へと洗浄液Lを供給する供給口9aと、洗浄槽2の上方側から槽外へと洗浄液Lを排出する排出口13a,13b,13cと、基板Wを洗浄槽2内で搬送させる搬送機構14とを備え、洗浄槽2内の下方から上方へと向かう洗浄液Lの流れと共に、基板Wの搬送方向Xとは逆向きの洗浄液Lの流れを発生させるように、供給口9aと排出口13a,13b,13cとの何れかによって供給及び/又は排出される洗浄液Lの流れを調整する。 (もっと読む)


【課題】より安定してラジカルを生成することのできるプラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器を得る。
【解決手段】プラズマ発生装置1は、水を含む液体を収容する液体収容部4と、気体を収容する気体収容部5と、気体収容部5中の気体を液体収容部4へ導く気体通路3aが形成され、液体収容部4と気体収容部5とを隔てる隔壁部3と、気体収容部5に配設された第1電極12と、少なくとも第1電極12と対になる側の部分が液体収容部4中の液体17と接触するように配設した第2電極13と、を備えている。そして、気体通路3aに微細化手段を設け、気泡を微細化するようにした。 (もっと読む)


【課題】往復揺動による表面処理において、処理効率が高く、かつ処理時間の短い、耐久性に優れた表面処理方法を提供する。
【解決手段】揺動槽1内に処理材12及び被処理物13を収容し、揺動槽1を略等速で往復揺動させて被処理物13の表面を処理する表面処理方法であって、往復揺動において、少なくとの2以上の速度の異なる揺動区間を有し、揺動区間のうち、揺動端を含む揺動区間における速度が最も小さい。 (もっと読む)


【課題】化石燃料の使用量の削減を図ることができ、ランニングコストおよびCO排出量を抑制することができ、且つ作業者の作業環境の改善を図ることが可能な洗浄システムを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる洗浄システムの構成は、湯を用いて被処理体(番重102)を洗浄する洗浄システム100であって、被処理体を移動させる被処理体移動経路104と、被処理体移動経路の下方に配置され、湯を貯留する貯湯槽110aおよび110bと、貯湯槽に接続され、貯留された湯を被処理体に散水する散水手段120aおよび120bと、空気を熱源として貯湯槽に供給する湯を生成するヒートポンプ130と、ヒートポンプで冷却された空気を被処理体移動経路が設置される室内の所定位置に噴出する冷気噴出器108a〜108cと、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ノズル本体のノズル孔の内周面に付着した付着物を確実に除去できるようにする。
【解決手段】ノズル保持部30により、ノズル本体50の先端部を貯留槽20内の液媒体に浸漬させ、ノズル本体50の先端部が貯留槽20の底面と所定の間隙を存して対向するようにノズル本体50を保持する。そして、超音波振動子21によってノズル本体50を振動させている間に、吸引部40によってノズル本体50のノズル孔50aを介して液媒体を吸引する。 (もっと読む)


【課題】洗浄液の減圧沸騰および突沸の有無を切り替えることのできる洗浄装置を提供する。
【解決手段】減圧手段5により洗浄槽3内を減圧後、液相給気弁18を開いて、洗浄槽3の内外の差圧により被洗浄物2よりも下方から洗浄槽3内の水溶液中に外気を導入する。減圧手段5による洗浄槽3内の減圧は、洗浄槽3内の水溶液が所定温度未満の場合には、水溶液を沸騰させるが、洗浄槽3内の水溶液が所定温度以上の場合には、水溶液を沸騰させない範囲の減圧に止める。水溶液を沸騰させた場合、その後の水溶液中への外気導入により、その気泡を核として、水溶液を突沸させる。 (もっと読む)


【課題】 定在波の抑制を確実に行うことで、被洗浄物の表面に発生する縞模様を無くして洗浄品質を向上させる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄層内の溶液に振動を与える超音波振動子と、洗浄層内の音圧を測定する音圧測定部と、AM変調波電力を発振して超音波振動子に供給する超音波発振部と、音圧測定部で測定した音圧に基いて超音波発振部が発振するAM変調波電力の周波数および電力を制御する制御部をもつ超音波洗浄装置。 (もっと読む)


【課題】本発明は、より洗浄性の高いハードディスク用ガラス基板用のアルカリ洗浄剤組成物、及びそれを用いて行うハードディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ剤(成分A)と、キレート剤(成分B)と、アンモニウム基及びアミノ基のうちの少なくとも1つを含む構成単位(c1)と、陰イオン性基を含む構成単位(c2)とを含む両性高分子化合物(成分C)と、水(成分D)と、を含有し、成分D以外の成分の含有量の合計を100重量%としたとき、成分Aの含有量が10〜55重量%であり、成分Bの含有量が5〜60重量%であり、成分Cの含有量が5〜60重量%であり、且つ、成分Aと成分Bと成分Cの合計含有量が30〜100重量%であるハードディスク用ガラス基板用のアルカリ洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】イオン系コンタミが少なく、かつ乾燥不良が起きず、その結果ヘッド浮上量が微少なハードディスクに搭載してもヘッドクラッシュを起こさない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】電気抵抗値が10MΩ・cm以下である水溶液を用いてガラス基板10をリンスする処理と、水よりも沸点の低い水溶性溶剤の蒸気を、前記リンス処理したガラス基板に接触させる乾燥処理とを含む磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記乾燥処理において、前記蒸気中の水分量が0.5質量%以下である蒸気を用いる。前記水よりも沸点の低い水溶性溶剤が、イソプロピルアルコール、エタノール、アセトンから選ばれる一種又は二種以上であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】振動面の振動モードを均一化させて洗浄力を向上させる超音波振動子ユニットを提供する。
【解決手段】本発明の超音波振動子ユニットは、振動面1aと、互いに隣り合い且つ振動面1aに超音波振動を加える第1乃至第3の振動子5aとを具備し、板状振動体10の他方面は、第1乃至第3の第1領域3と、第1領域3それぞれを覆う第2領域4とを有し、第1乃至第3の振動子それぞれは第1領域3に配置され、第1乃至第3の振動子によって他方面内に作られる三角形の内側に位置し且つ第2領域4に位置する板状振動体10の厚さは、第1乃至第3の第1領域3に位置する板状振動体の厚さより厚く形成され、第1乃至第3の振動子の相互の間隔はλ/2以上であり、第1領域3それぞれの外周は第1乃至第3の振動子それぞれからλ/4以上離れている。λは板状振動体の横波の波長である。 (もっと読む)


【課題】酸液による酸洗工程の後の水洗工程において、酸液の除去の完了を簡単に、かつ、精度良く判断することが可能な多結晶シリコンの洗浄装置を提供する。
【解決手段】酸液に対して耐食性を有する合成樹脂で構成され、塊状の多結晶シリコンを収容するバスケットと、酸液による酸洗工程後の多結晶シリコンを前記バスケットに収容したままの状態で純水中に浸漬させるための水洗槽と、純水を前記水洗槽から排出する純水排出手段と、前記水洗槽に新たな純水を供給する純水供給手段と、前記水洗槽内に貯留された純水の電気伝導度を測定する電気伝導度測定手段と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】充填する除菌液の量を減らしてコスト削減を図るとともに、設置スペースに合わせて向きを自在に変えて設置することができるまな板除菌用袋を提供する。
【解決手段】パルプを材料に用いて作られてまな板2を包む不織布製シート3と、このシート3で包まれた状態でまな板2を収納すべく合成樹脂材料からなる袋本体4とからなり、袋本体4の出し入れ用開口部13を閉じて袋本体4の密封状態を保持するジッパー14を備え、前記シート3で包まれたまな板2を袋本体4の中で除菌液に浸した状態を保持するようにした。 (もっと読む)


【課題】被洗浄物から剥離して洗浄水の液面に浮遊した油分を効果的に除去することができる洗浄装置及び洗浄方法を得る。
【解決手段】ガラスリング18の内周面18Aと接触する洗浄水Wの液面の縁部Eが、液面の一般部Gに比べて鉛直方向で高くなっている。このため、洗浄槽12に供給された洗浄水Wによって溢れ出た洗浄水W及び洗浄水Wの液面に浮遊した油分Aは、回収筒34に流れ込む。このように、液面に浮遊する油分Aが効果的に、回収筒34に流れ込んで回収される。 (もっと読む)


【課題】不良デバイスの発生を抑制できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、第1供給部からの帯状の基板を第1回収部へ送る第1送り機構と、第1供給部から送られた基板の裏面の少なくとも一部にカバー部材を着ける第1装置と、裏面にカバー部材が着けられた状態で第1装置から送られた基板の表面の処理を行う表面処理装置と、表面処理装置と第1回収部との間に配置され、表面処理装置から送られた基板からカバー部材を離す第2装置と、を備える。 (もっと読む)


【課題】高価なHFE溶剤液を用いて蒸気洗浄を行いながら、廉価な蒸気洗浄作業を可能にする。即ち、高価なHFE溶剤液を用いて蒸気洗浄を行いながら、HFE溶剤液の消耗を小さなものとし、HFE溶剤液を繰り返し使用し、結果的にはHFE溶剤液を用いた廉価な蒸気洗浄作業を可能とするものである。本発明は環境性能とともに洗浄性能に優れた高価なHFE溶剤液を用いながら廉価な蒸気洗浄を可能にする事が出来るものである。
【解決手段】HFE溶剤液2の上面を、HFE溶剤液2よりも比重が小さいとともに沸点が高い液体にて形成した表面被覆液4により被覆し、この表面被覆液4の上面にHFE溶剤液2を加熱して発生した洗浄蒸気を供給し、この洗浄蒸気を被洗浄物5に凝縮液化して被洗浄物5の蒸気洗浄を行う。 (もっと読む)


【課題】 基板面内や基板間の処理のバラツキを低減することができるとともに、製品性能や製造歩留を向上させる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 処理基板1が収容される槽TKと、処理槽TK内に液体、気体、又は液体と気体との両方を送り出す送出機構TB、Aと、処理基板1に対して、液体、気体、又は気体と液体との両方が槽TK内へ送り出される位置と対向する位置から槽TK内の液体、気体、又は気体と液体との両方を排出する排出手段10、20、30、40と、を備えた基板処理装置。 (もっと読む)


【課題】従来よりコンパクト化することが可能な浸漬装置の提供を目的とする。
【解決手段】本発明の電着処理装置10は、ワークWに電着被膜を形成するための表面の電着塗料を貯留した円形の電着処理槽11と、電着処理槽11内の電着塗料を一方向に旋回させる起流ポンプ15と、ワークWを吊り下げて、電着塗料に浸した状態に保持するワーク治具20と、電着塗料中の異物を取り除くためのフィルタ16とを備えている。電着処理槽11を円形にしたことで電着処理装置10が従来よりもコンパクト化され、設置の自由度が向上する。 (もっと読む)


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