【課題】箸供給部から箸をスムーズに搬送手段に投入することができる箸洗浄装置を提供する。
【解決手段】箸供給部３は、箸搬送部１０ｂ，１１，１２に向けて開口し箸搬送部１０ｂ，１１，１２に向けて箸Ｃを１本ずつ供給する供給口と、上方より供給口に向けて複数の箸Ｃがスライド移動可能なスロープ３ａと、スロープ３ａを振動させる揺動手段４と、を備え、スロープ３ａの下方の供給口に向けて殺到し供給口手前で停滞する複数の箸Ｃを、揺動手段４によりスロープ３ａを振動させることで停滞を解消し、供給口から箸搬送部１０ｂ，１１，１２に向けてスムーズに箸Ｃを１本ずつ順次供給する。 （もっと読む）

【課題】大口径高重量シリコン単結晶ブロックを自動で洗浄する装置及び方法を提供することを目的とする。
【解決手段】単結晶インゴットをブロック状に切断した単結晶ブロックの表面を洗浄する洗浄装置であって、少なくとも、
前記単結晶ブロックを洗浄するための洗浄槽部と、
前記単結晶ブロックを洗浄前工程部から洗浄工程部、更には洗浄後工程部へと搬送する搬送手段と、
前記単結晶ブロックの端面を把持して、前記搬送手段から前記洗浄槽部内へロードし、前記洗浄槽部内の洗浄槽に浸漬して前記単結晶ブロックを洗浄し、洗浄工程終了後に前記洗浄槽部から前記搬送手段へアンロードする把持ロボットと、
洗浄後の前記単結晶ブロックの表面を乾燥させる乾燥手段と
を具備するものであることを特徴とする単結晶ブロックの洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】薄板部材を破損させることなく効率良く薄板部材を洗浄することを可能とする薄板部材洗浄装置を提供する。
【解決手段】メッシュ部材保持部５３０が支持された回転腕部材５２７を回転ハンドル５２４を用いて回転させることで、水道水がメッシュ部材１６０の表面を流れ、メッシュ部材１６０に付着している薬液カスが除去される。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽内の液体を入れ替える際、被洗浄物内の液体も確実に入れ替える。また、乾燥前に液切りしておくことで、被洗浄物の乾燥を確実に行う。
【解決手段】洗浄槽３内の液体に被洗浄物２を浸漬して洗浄または濯ぎを図った後、洗浄槽３内から液体を排出し、その後、洗浄槽３内を減圧することで被洗浄物２からの液切りを図る。この液切り後、洗浄槽３内に再び液体を貯留して、被洗浄物２の洗浄または濯ぎを図るか、被洗浄物２の乾燥を図る。 （もっと読む）

【課題】積層状態となっていても、印刷物からＶＯＣ（揮発性有機化合物）や臭気などの揮発成分を効率良く除去することが出来る。
【解決手段】繊維質からなるシート状物体の表面に印刷が施されてなる印刷物を、液相のフッ素溶媒からなる洗浄液５に浸漬して上記印刷物から揮発成分を除去する。このとき、上記印刷物を複数枚積層した積層物の状態で上記洗浄液５に浸漬して洗浄する。その積層物を上記洗浄液５に浸漬する際に、当該積層物に対して積層方向に圧縮し洗浄液５中で該圧縮の開放を行う第１の洗浄促進工程と、上記洗浄液５に浸漬した積層物を取り出す際に、当該積層物に対して積層方向に圧縮を施して液切りを行う第２の洗浄促進工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象部分の周辺に対し、使用済みの洗浄液が飛散して付着することを効果的に抑制し、洗浄対象部分を効率的に洗浄することができるばかりか、洗浄液の使用量を抑制し、かつ、洗浄後の乾燥時間を短縮できる部分洗浄装置及びそれを用いた部分洗浄方法を提供する。
【解決手段】部分洗浄装置及び部分洗浄方法であって、内部に洗浄液吐出ノズル及びエアー吹き付けノズルを有し、上方または側方の壁面に第１の開口部を有するハウジングと、第２の開口部を有し、ハウジングに対して取り外し可能に密着する弾性マスキング部材と、を備え、ハウジングの上方または側方において、弾性マスキング部材を介して載置された被洗浄物に対し、第１及び第２の開口部を通して、洗浄液吐出ノズルにて洗浄液を吐出した後、エアーを吹き付けノズルにてエアーを吹き付け、被洗浄物に付着した洗浄液を強制的に除去する。 （もっと読む）

【課題】ノズル形成部のクリーニング時に、ノズル形成部の表面に引っ掻き傷が付いてノズル形成部の撥水性が損なわれることを防止し、及び、ノズルから噴射される液滴の着弾位置がクリーニングの前後において位置ずれすることを防止する。
【解決手段】液滴噴射ヘッドのクリーニング装置において、液滴噴射ヘッド３における複数のノズル１１が形成されたノズル形成部１０を洗浄液に浸して洗浄するディップユニットと、洗浄されたノズル形成部１０に非接触で対向するとともに吸引力を作用させてノズル形成部１０の表面に付着した洗浄液を除去する除去ユニット２５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】搬送用送風機のみで洗浄脱水処理を達成する事が可能な洗浄脱水同時処理方法を提供する。
【解決手段】洗浄液注入バルブ２を取り付けた入口側搬送管３と下部に洗浄液排出パイプ６，７，８を取付けたスパイラル形状の出口側搬送管５より構成され、洗浄物搬送コンベアー１により運ばれた洗浄物は、洗浄液注入バルブより注入された洗浄液と混合されて搬送用送風機４に吸引され、攪拌洗浄される。洗浄物は搬送圧により脱水され洗浄物回収サイクロン９から回収され、洗浄液は洗浄液排出パイプから強制排出される。 （もっと読む）

【課題】より効率的にノズル洗浄でき得るノズル洗浄ユニットを提供する。
【解決手段】分注装置に搭載されたノズル洗浄ユニット２０は、洗浄槽２２と、当該洗浄槽２２内において洗浄液を噴射する洗浄液噴射器４４と、ノズルに付着した洗浄液を洗浄槽２２内に吹き飛ばすべくエアを噴射する乾燥用噴射器５０と、ノズル１２を昇降させる移動機構と、これらを制御する制御部と、を備えている。制御部は、ノズル１２を下降させつつ洗浄液を噴射させる洗浄工程と、洗浄工程の後でノズル１２を上昇させつつエアを噴射させる乾燥工程と、をセットにしたセット動作を２回以上繰り返させる。 （もっと読む）

【課題】ドライ洗浄とウエット洗浄とを組み合わせてマスク部材をクリーニングする際に、その洗浄プロセスを円滑に運転させることができ、マスク部材を効率的にクリーニング処理を行えるようにする。
【解決手段】ロードステージ１０と、レーザ光を用いたドライ洗浄ステージ１１と、洗浄液にマスク部材４を浸漬させて行う第１のウエット洗浄ステージ１２と、マスク部材４に対してシャワー洗浄を行う第２のウエット洗浄ステージ１３と、マスク部材４に熱風を供給して行う乾燥ステージ１４と、アンロードステージ１５とから構成されるクリーニング装置において、ロードステージ１０からドライ洗浄ステージ１１にマスク部材４を搬送・移載する同期式マスク搬送手段２０Ｃと、ステージ１１〜１５間にマスク部材４を搬送・移載する非同期式マスク搬送手段２０Ａとが設けられている。 （もっと読む）

【課題】 基板上にエッチング液を液膜状に供給した後に、この基板をリンス処理する場合においても、エッチング液とリンス液とを個別に回収することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 基板処理装置は、ガラス基板１００をその主面が水平方向となる状態で支持するとともに、このガラス基板１００を水平方向に搬送する複数の搬送ローラ９と、ガラス基板１００にエッチング液を供給する処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃと、ガラス基板１００にリンス液を供給する処理・洗浄ユニット１ｄと、各処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ毎に配設された回収トレー７１と、処理・洗浄ユニット１ｃと処理・洗浄ユニット１ｄとの間に配設されたエアナイフ７とを備える。 （もっと読む）

【課題】フィルム表面に付着した微小な異物、特に加熱や加圧等によって扁平化した異物の除去するためのフィルム洗浄技術を提供すること。
【解決手段】フィルムを搬送しながら、表面処理部でゼータ電位制御物質を含む液による表面処理を行った後、洗浄部でブラシ洗浄を行い、乾燥部で乾燥を行う。表面処理部では、ゼータ電位の絶対値を大きくする物質により、静電的反発力を強めて、異物をフィルムから剥離しやすくする。洗浄部では、純水を用いてブラシ洗浄をすることで、ブラシと異物の摩擦力が増し、異物がフィルムから除去される。 （もっと読む）

【課題】乾燥ガスが光透過部材から被処理基板上に滴下することを防止することにより、製品歩留まりの低下を防止することが可能な乾燥室、洗浄・乾燥処理装置、被処理基板を乾燥する乾燥処理方法、および記録媒体を提供する。
【解決手段】乾燥室１０は、被処理基板Ｗを収容する乾燥室本体１１と、乾燥室本体１１の内壁１１ａに設けられた光透過部材１２と、乾燥室本体１１の内壁１１ａと光透過部材１２との間に設けられた加熱用光源１３とを備えている。光透過部材１２の下方には、光透過部材１２側に向けて乾燥ガスを供給するガス供給部１４が設けられている。光透過部材１２の内面１２ａは、乾燥ガスがこの光透過部材１２の内面１２ａに液膜として付着するように表面処理が施されている。 （もっと読む）

【課題】簡略且つ小型の構成で洗い残しや洗浄ムラの発生を防止する。
【解決手段】底部フレーム１上に洗浄室６を有する洗浄用ケース１００の底面２に回転軸１１が貫通して下部を駆動装置により駆動し、上端に回転軸の直径方向に延びる回転板１２を固定した回転駆動機構９を設け、下面に備えた自在車輪１６で走行可能な台フレーム１７上に介護用機器を収容可能な篭体１８を備えたケージ台車２００の下部に突出され、ケージ台車が洗浄室に進入する際に回転板の長手方向両側面に係合するガイド板と、ケージ台車の中心が回転軸の軸線上に到達すると回転板の前後端に係合してケージ台車の移動を拘束する係止部材と、係止部材の係合を解除する係合解除フレームとを有する係脱機構を設け、洗浄室内に備えて回転軸の軸線Ｓに向かい且つ洗浄室内の上下をカバーするようカーテン状に洗浄液を噴射する噴射ノズル３４を設ける。 （もっと読む）

【課題】金属製ノズルを、より簡易に強力洗浄でき得るノズル洗浄装置を提供する。
【解決手段】ノズル洗浄装置は、液体検体を検査または分析する検査分析装置に設けられた金属製ノズル２０を洗浄するべく、当該検査分析装置に搭載される。ノズル洗浄装置は、液体の吸引吐出に用いられる金属製ノズル２０を備えたノズルユニット１２と、洗浄実行時に過酸化水素水溶液が貯留される処理槽１６と、洗浄実行時に、金属製ノズル２０を処理槽１６内に進入させて過酸化水素水溶液に浸すべく、金属製ノズル２０を前記処理槽に対して相対移動させる移動機構と、処理槽１６内に進入した金属製ノズル２０の内部に位置する線状電極４０と、線状電極４０を介して過酸化水素水溶液に正電圧を、金属製ノズル２０に負電圧を印加する定電圧電源７０と、を備える。そして、電圧印加時に生じる水酸化ラジカルにより金属製ノズル２０を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】プラスチック予備成形物を容器へと成形する装置を提供する。
【解決手段】所定の搬送経路Ｐに沿って容器１０を搬送する搬送装置２を備えており、該搬送装置２が、容器１０を保持するための複数の保持部材４を有しており、該保持部材４が前記所定の搬送経路Ｐに沿って搬送される。本発明によれば、前記装置が、前記保持部材４を少なくとも一部分において殺菌するための清掃装置８を備えている。 （もっと読む）

【課題】アルミナ等の研磨材に由来する微粒子汚れに対する洗浄性に優れるハードディスク基板用洗浄剤組成物、およびハードディスク基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：アルカリ金属の水酸化物を０．０１〜５．００質量％、（Ｂ）成分：１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸および／またはその塩を０．１０〜２０．００質量％、（Ｃ）成分：下記一般式（１）で表されるポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩を０．０５〜１０．００質量％含有し、界面活性剤の含有量が１．００質量％未満であることを特徴するハードディスク基板用洗浄剤組成物。
Ｃ_ｍＨ_２ｍ＋１Ｏ（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎＳＯ_３Ｍ ・・・（１） （もっと読む）

【課題】 洗浄対象物に洗浄液混合の圧縮気を噴射可能であると共に、周囲にミストが飛散しなよう吸引回収可能であり、洗浄液を切り替えて汚れや塵埃などを除去し、最終的に圧縮空気のみを噴射して、洗浄の全工程を一挙に完了可能とする新たな洗浄技術を提供する。
【解決手段】 グリップ２の先端に一体化してなる吸引筒７の先端中央に、同吸引筒７に対して同心状配置で、その先端がわ方向に向けた洗浄ノズル８を設け、該グリップ２の基端から該洗浄ノズル８に達する主圧縮気回路３の適所に噴射スイッチ６を配し、該主圧縮気回路３適所から分岐した負圧誘導回路３３の末端を、当該吸引筒７内壁適所において、同吸引筒７末端がわに向けて開口し、当該グリップ２内の一液回路４１および別液回路４２の各内端に液路切換器５を接続し、且つ、同液路切換器５の吐出路５１を、当該主圧縮気回路３の適所に配した気液混合器３５に接続してなる洗浄ガン１である。 （もっと読む）

【課題】 被洗浄物上から付着物を効果的に除去可能な被洗浄物の洗浄方法を提供することである。
【解決手段】 スピンナテーブルに保持された被洗浄物に洗浄液を供給しながら洗浄する被洗浄物の洗浄方法であって、被洗浄物を該スピンナテーブルで保持する保持ステップと、該スピンナテーブルで保持された該被洗浄物上に少なくとも凝集剤を含む洗浄液を供給して、該被洗浄物上に付着している付着物を凝集させて付着物凝集塊を形成する洗浄ステップと、該洗浄ステップを実施した後、該被洗浄物を保持した該スピンナテーブルを所定の回転速度で回転させつつ該被洗浄物上に純水を噴出して、該被洗浄物上の該付着物凝集塊を該被洗浄物上から除去する除去ステップと、該除去ステップを実施した後、該被洗浄物を保持した該スピンナテーブルを所定の回転速度で回転させて該被洗浄物を乾燥させる乾燥ステップと、を具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】雌型結合部材と雄型結合部材の互いに接触する部分を、塗料残りなく洗浄できる流体流路の接続装置を提供すること。
【解決手段】絶縁分離バルブ３２の分離機構１００は、雌型結合部材３２Ｕを所定の推力で駆動し、第１接続部５４と第２接続部６４とを接近させる主シリンダ１１１と、雌型結合部材３２Ｕを所定の推力で駆動し、第１接続部５４と第２接続部６４とを離隔させる洗浄位置用シリンダ１１３と、を備える。制御装置は、第１接続部５４および第２接続部６４を洗浄用流体で洗浄する際には、主シリンダ１１１で発生させる推力を、洗浄用流体の供給時に主シリンダ１１１で発生する推力に抗して第１接続部５４と第２接続部６４とを離隔させる方向に作用する力より大きく、かつ、洗浄位置用シリンダ１１３で発生する推力以下に制御し、シール部材６６が凹部５２に密接する範囲内で第１接続部５４と第２接続部６４とを離隔させる。 （もっと読む）