【課題】被処理体の処理に用いられる液の温度変動を抑制することができる液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理装置１０は、液供給機構１５と、液供給装置に接続され温度調節された液を吐出する吐出開口３０ａを有した供給ライン３０と、供給ラインの吐出開口を支持しする処理ユニット５０と、供給ラインに供給された液を液供給機構へ戻す戻しライン３５と、処理ユニットでの被処理体の処理に用いられる液の供給および供給停止を切り替える液供給切り替え弁３８ａと、を有する。液供給切り替え弁３８ａは、供給ライン３０上に設けられ、供給ライン３０から戻しライン３５を介して液供給機構１５へ戻る液の経路上に、位置している。 （もっと読む）

【課題】プリント基板に付着したイオン性汚損物中のイオン成分の種類と量を分析できる汚損物の分析方法及び、プリント基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】イオン性汚損物で汚損されたプリント基板から、該イオン性汚損物質中のイオン成分を純水中に抽出させ、得られた抽出液中のイオン成分をイオンクロマトグラフィー法で測定し、検出されたイオン成分の種類と量を分析する。該方法で、プリント基板に付着したイオン成分の種類と量を分析することにより、プリント基板に付着した各イオン成分の濃度を所定値以下とするのに必要な洗浄条件を求め、この洗浄条件に従って、同様な使用条件下で汚染されたプリント基板の洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物に付着した油等の汚れを確実に除去することができる洗浄ノズル及びこの洗浄ノズルを備えた安価な洗浄装置を提供する。
【解決手段】下端側開口であるエアー噴射口５７は斜め下方（図では上方）を向くように曲げられている。従って、エアー噴射口５７から噴射されたエアーによって、洗浄ノズル５の回転ヘッド１１５が時計回りまたは反時計回りの方向に回転し、その下側に渦状の気流を発生させる。水噴射口９５から噴射された水はその渦状の気流に巻き込まれ、渦状の水流となって落下しコンテナＣに衝突する。従って、コンテナＣが洗浄ノズル５の下側を通るときには、コンテナＣの内側の底面や側面のようなところにも水が衝突してしっかり洗浄される。 （もっと読む）

【課題】物品への汚れの再付着を低減できる物品洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄すべき物品を内部に密閉可能に収容する洗浄槽３と、洗浄槽３に形成される液体供給口５ａ及び上部に形成される液体排出口８に接続され、浄化されて循環する洗浄液７を貯留する洗浄液タンク手段６と、洗浄槽３に形成される液体供給口５ａ及び上部に形成される液体排出口８に接続され、浄化されて循環するすすぎ液１６を貯留するすすぎ液タンク手段１５と、一端が液体排出口８に接続され、他端が洗浄液タンク手段６又はすすぎ液タンク手段１５に切り替え可能に接続されると共に、循環により通過する洗浄液７又すすぎ液１６を浄化させるフィルタ手段９ｃと、フィルタ手段９ｃに接続され、液体排出口８とフィルタ手段９ｃとの間に滞留する洗浄液７又はすすぎ液１６を排出可能なバルブ手段２０ｇを有する。 （もっと読む）

【課題】 従来、洗浄室内のテーブルにワークをセットし、ワークの全周面を、上下・左右側面・下面の四方向に設けた洗浄、乾燥ノズルを、公転と自転を介して、一気に洗浄、乾燥する構成であり、洗浄等のエリアーが広く、効率的な洗浄等が図れる。しかし、構造上で、小型のワーク、小ブロックの洗浄等は構造上で適する。しかし、大型ワークの洗浄、乾燥と、オーバーホールに関しては、必ずしも、十分とは考えられない。

【解決手段】 本発明は、ワークの全周面を、上下・左右側面・下面の四方向に設けた洗浄、乾燥ノズルを、公転と自転を介して、一気に洗浄、乾燥する構成であるが、この公転を、フレームに設けた回転枠体でする構造として、その洗浄、乾燥エリアーの拡大を図り、大型ワークの洗浄、乾燥と、オーバーホールに有効な、全面洗浄装置を帝位供する。 （もっと読む）

【課題】適切にマスクを清浄する方法を提供する。
【解決手段】マスクを清浄するための方法および装置が、説明される。一実施形態において、本発明は、マスクを清浄する方法である。その方法は、マスクを清浄溶液の中に配置することを含む。また、この方法は、予め定められた攪拌レベルで予め定められた時間だけ清浄溶液を攪拌することを含む。 （もっと読む）

【課題】搬送装置の搬送部に汚れが固着することを防ぎながら、洗浄工程で搬送部に付着した洗浄水が、乾燥工程を搬送中の物品に接触しないようにする。
【解決手段】洗浄工程を通過し、洗浄水が付着した搬送部２と鶏卵Ｅを離間手段３と離間板９によって離間させ、走行路ｂを進む搬送部２に付着している洗浄水を、水分除去手段４で除去する。洗浄水が除去された搬送部２を合流手段５によって搬送路ａ上の鶏卵Ｅに合流させて、搬送部２で再び鶏卵ＥをＡ方向へ搬送する。 （もっと読む）

【課題】フィルムの表面に付着した数μｍという非常に微細な埃、フィルム片、汚れまでも連続的に除去することができ、フィルムの洗浄ノズル装置からフィルムが通り抜けた際に洗浄水がフィルムに付着している量を減少させることができるフィルムの洗浄ノズル装置を提供する。
【解決手段】フィルム１２の表裏面の一方の面に洗浄液を吹き付ける洗浄液吐出口５２と、洗浄液吐出口５２の上流側及び下流側において、洗浄液がフィルムの一方の面上を流れるようにフィルムに対して平行に形成された、上流側平面部５３Ａと下流側平面部５３Ｂと、からなるフィルムの洗浄ノズル装置５１に対して、上流側平面部５３Ａと下流側平面部５３Ｂは、フィルム１２表面と等距離となるように配置し、下流側平面部５３Ｂは上流側平面部５３Ａよりも長く形成する。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の医療器具を洗浄装置から加熱滅菌装置に移す際に個別に移す必要がなく、かつ短時間で容易に移すことができるようにした洗浄装置を提供する。
【解決手段】表面にブラシ状の耐熱性弾力体を有し、洗浄対象物を載置する網状の耐熱性載置板と、少なくとも蓋内面にブラシ状の弾力体を有し、洗浄対象物を載せた耐熱性載置板を収納後、蓋をして施錠可能な籠状のトレイ２０と、耐熱性載置板を収納したトレイを回転させる回転手段１３と、耐熱性載置板を収納したトレイを回転手段で回転中に、水を噴霧して洗浄する水噴霧手段３１、３３、３４と、水噴霧手段で耐熱性載置板を収納したトレイに噴霧の後、トレイに空気を吹き付ける送風手段３５と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】連続して被洗浄物を洗浄する場合であっても、被洗浄物の洗浄度が低下することを容易に抑制することができる洗浄装置を得る。
【解決手段】中間部が狭窄な貫通孔５ａと、この貫通孔５ａの狭窄部５ｂに連通し、貫通孔５ａに入った洗浄水１が狭窄部５ｂを流れることで空気が狭窄部５ｂへ吸引されるガス吸引孔５ｃとが形成され、洗浄水１とともに金属屑２が貫通孔５ａを通過することで、洗浄水１に微細気泡４を生成し、微細気泡４と金属屑２とを混ぜ合わせながら、洗浄水１および金属屑２を外へ出す気泡生成器５を備えている。 （もっと読む）

【課題】半導体基板のリンス処理時に、希土類酸化物およびアルカリ土類酸化物のうちの少なくとも一種を含む酸化膜の膜減りを抑制する。
【解決手段】半導体基板(Ｗ)上には、希土類酸化物およびアルカリ土類酸化物のうちの少なくとも一種を含む酸化膜が形成されている。半導体基板（Ｗ）に対するリンス処理において、アルカリ性薬液または有機溶剤からなるリンス液が用いられる。 （もっと読む）

【課題】フィルター洗浄能力を上げ、この洗浄期間の短縮を図ることによって、従来並の洗浄期間でフィルム破断を起こさない、充分に清浄な再生フィルターとするためのフィルター洗浄方法を提供する。
【解決手段】フィルターの樹脂濾過方向とは逆方向に加温したアルカリ洗浄液を流しながら、フィルターを洗浄浴槽中で洗浄液に浸漬して超音波洗浄とアルカリ洗浄とを同時に行うフィルターの洗浄装置と洗浄方法とする。 （もっと読む）

【課題】コンパクトな構成ながら、洗浄ムラや乾燥ムラを有効に抑制できる洗浄装置、乾燥装置及び洗浄システムを提供する。
【解決手段】シャッター１３により開口１１，１２を遮蔽した後、バルブＶ１を開放すると、チャック２０に固定された部品Ｗ（ここでは洗浄物）に対して、細孔３１ｅ、３１ｆと細孔３１ｇ、３１ｈを介して、液体供給源ＷＰから供給された温水が連続的に噴射される。又、バルブＶ２を周期的に開閉することで、細孔３１ｉ、３１ｊと細孔３１ｋ、３１ｍを介して、空気圧源ＡＰから供給された空気が間欠的に噴射される。これにより、空気と温水とが混じり合った状態で、部品Ｗの表面が洗浄されるので高い洗浄効果を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】微細化した水粒子の粒径が大きくなることを防止して、被洗浄面に水膜が形成されることを防止し、被洗浄ノズルを効率的に洗浄可能なノズル洗浄装置を提供する。
【解決手段】複数の被洗浄ノズル１を着脱自在に保持するノズルホルダ１１と、微細化した水粒子と圧縮空気とを混合してなる二流体を生成する二流体生成装置１２と、二流体生成装置１２に接近配置され、ノズルホルダ１１に保持した被洗浄ノズル１へ向けて二流体を噴き付ける二流体噴射ノズル１３と、二流体噴射ノズル１３が被洗浄ノズル１に順次対面するように、二流体生成装置１２及び二流体噴射ノズル１３をノズルホルダ１１に対して相対移動させる移動手段１４とを備えた。 （もっと読む）

【課題】基板のベベル部および基板裏面を短時間で、しかも良好に洗浄することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】遮断部材５が基板Ｗの表面Ｗｆに近接して対向配置された状態で基板Ｗの上面ベベル部に第１処理液が供給されてベベル洗浄が実行される。このベベル洗浄中に裏面処理ノズル２から第２処理液が基板裏面Ｗｂに供給されて裏面洗浄が実行される。また、遮断部材５の下面周縁部に段差部ＳＴが形成されており、環状部５０ｂに付着した処理液などが基板対向面側に移動しようとしても、当該移動は段差部ＳＴにより阻止される。その結果、基板対向面５０ａと平面領域ＦＰの間に液密層が形成されるのを確実に防止する。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物を搬送する搬送手段を備えることなく、被洗浄物を洗浄液に浸漬し、洗浄液を振動させて被洗浄物を洗浄することができる洗浄装置を得る。
【解決手段】コイン１が自重によって降下する洗浄路２が形成された洗浄部３と、洗浄部３の上側に設けられ、洗浄路２に水を供給して、水が洗浄路２を流下する給水管４と、洗浄部３の底板１０に取り付けられ、洗浄路２の振動面１３を振動させる振動子５とを備え、洗浄路２を降下するコイン１が浸漬されるように給水管４から洗浄路２に水が供給され、振動子５が洗浄路２の振動面１３を振動させることでコイン１を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】安全かつ効果的に、シール剤吐出部品を洗浄する方法を提供すること。
【解決手段】下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）及び（ｅ）を含む洗浄剤を用いてシール剤吐出部品を洗浄する工程を含む、シール剤吐出部品の洗浄方法。
（ａ）アジピン酸ジアルキル １〜６０質量％
（ｂ）グルタル酸ジアルキル １０〜８０質量％
（ｃ）コハク酸ジアルキル ５〜４０質量％
（ｄ）グリコールエーテル ５〜６０質量％
（ｅ）水 １〜２０質量％ （もっと読む）

【課題】ディスク駆動装置の構成部品の清浄度を向上し、磁気ヘッドの浮上隙間を小さくした場合でもＴＡ障害発生の確率を低く保つことのできるディスク駆動装置の生産方法を提供する。
【解決手段】ディスク駆動装置の生産方法は、所定レベル以上のクリーンルーム内で洗浄工程１００と組立工程２００が連続して実施される。洗浄、組立対象であるディスク駆動装置のベース部材１２は、洗浄工程１００は、アルカリ洗浄工程１０４、第１純水洗浄工程１０６、第２純水洗浄工程１０８、スプレー洗浄工程１１０、水切工程１１２、乾燥工程１１４を含む。第１純水洗浄工程１０６は、第１純水洗浄槽１２６に満たされた純水１２８中で、４０ｋＨｚ、６８ｋＨｚ、１３２ｋＨｚの周波数による純水超音波洗浄を順に施す。洗浄されたベース部材１２は、洗浄工程１００と連続した組立工程２００で清浄度が所定値以上ｎ他の構成部品と共に組み立てられる。 （もっと読む）

【課題】フラックス入り溶接ワイヤの製造工程において、洗浄された帯鋼が成型工程へと走行する途中で、表面に付着した洗浄液を連続的に液切りするエア消費量の低減可能な帯鋼の液切り方法を提供する。
【解決手段】フラックス入り溶接ワイヤの製造工程において、洗浄された帯鋼Ｒが成型工程へと走行する途中で、この帯鋼Ｒ表面に付着した洗浄液を連続的に液切りする方法であって、多数の細孔が並列された吐出孔を有するエアノズル１を用い、このエアノズル１によるエア吹付け方向を、前記帯鋼Ｒの走行方向に対して対向する上下両面の傾斜する方向からとする帯鋼Ｒの液切り方法。 （もっと読む）

【課題】 機械部品、電気部品などの被処理物を良好にバリ取り洗浄し、リンス洗浄と乾燥を効率よく良好に行なうことができるバリ取り洗浄乾燥装置を提供する。
【解決手段】バリ取り洗浄槽１の下部に洗浄液を収容し超音波振動子２９を配置してなる浸漬洗浄室２を設けられ、上部に被洗浄物を出し入れする出入室３が設けられる。被洗浄物を浸漬洗浄室２と出入室３との間で昇降させる昇降装置７がバリ取り洗浄槽１内に配設される。バリ取り洗浄槽１の出入室３の反対側にリンス洗浄乾燥室２１が連通して配置される。バリ取り洗浄槽１上部の出入室３とリンス洗浄乾燥室２１との間で被洗浄物を水平移動させる水平移動機構２２が設けられる。洗浄液の溶存酸素量は脱気装置３０により所定値以下に脱気され、洗浄液の温度は冷却装置３９により所定温度以下に下げられる。 （もっと読む）