【課題】この発明は立位状態で搬送される基板を処理液によって均一に処理することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を処理液によって処理する処理装置において、
基板を立位状態で所定方向に搬送する搬送手段と、この搬送手段によって立位状態で搬送される基板に処理液を噴射するエッチング処理部１８とを有し、
エッチング処理部は、基板の板面に処理液を噴射する複数のノズル２１ａ〜２１ｄを有し、これら複数のノズルは基板の高さ方向に所定間隔で、かつ高さ方向上方に位置するノズルが下方に位置するノズルよりも基板の搬送方向後方に位置するよう配置されている。 （もっと読む）

実質的に鉛直平面で設置された実質的に平面のガラスシート（３０）を処理する装置（１０）である。一態様において、このガラスシートはＬＣＤディスプレイ用のものである。ガラス処理装置は、洗浄区域（２００）、すすぎ区域（３００）、乾燥区域（４００）、およびガラスシートを搬送路（１００）に沿ってその中で移動させるための下部ローラ（５１０）を含む。洗浄区域は、ガラスシートを損傷させずに支持および駆動するよう構成された駆動ローラ（５３０、５４０）を含む。すすぎ区域は、ガラスシートを過剰に振動させずにすすぐよう配置されたノズル（３１０、３２０）および液体軸受（３３０、３４０）を含む。さらに、乾燥区域は、ガラスシートを過剰に振動させずに乾燥するよう配置されたエアナイフ（４１０、４２０）および流体軸受（４４０、４５０）を含む。
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【課題】基板の一方主面に形成されたパターンへのダメージを抑制しながら基板の他方主面を良好に洗浄処理する。
【解決手段】基板Ｗの表面Ｗｆに形成された液膜１１ｆを凍結させることによって、パターンＰＴの間隙内部に入り込んだＤＩＷが基板表面Ｗｆに付着するＤＩＷと一緒に凝固して凍結膜１３ｆの一部となり、凍結膜１３ｆによってパターンＰＴが構造的に補強される。そして、基板裏面Ｗｂに対して低温処理液を供給しながら基板裏面Ｗｂに形成される低温処理液の液膜１１ｂに対して超音波振動が付加されて基板裏面Ｗｂが超音波洗浄される。このように、凍結膜１３ｆによりパターンＰＴが補強された状態のまま基板裏面Ｗｂが超音波洗浄されるため、超音波洗浄によりパターンＰＴがダメージを受けることなく、基板裏面Ｗｂを超音波洗浄によって良好に洗浄処理することができる。 （もっと読む）

【課題】水を主体とする洗浄水と微細気泡によって洗浄し、洗浄後のすすぎ工程を省略することによって、環境負荷を抑制する。重量物となる被洗浄物容器の着脱を容易にし、作業者の肉体的負担を軽減し作業効率を向上させる。
【解決手段】被洗浄物を収納する被洗浄物容器２０と、容器を摺動させて装置内外に搬入出する摺動保持機構部９０と、容器を洗浄水に浸漬する洗浄槽３０と、容器を洗浄槽に浸漬及びその引き揚げを行う昇降機構部４０と、昇降機構部に設けられ、容器を回転させる回転機構部５０と、洗浄槽の洗浄水から油脂分を分離する油水分離部８０と、浸漬洗浄中の被洗浄物容器２０に対して、気泡を含む洗浄水流を噴射する気泡発生部６３及びノズル６４と、洗浄槽から引き揚げられ、回転された洗浄後の容器に対して、水切り用の空気流を噴射する水切り機構部７０とを備える。 （もっと読む）

【課題】従来の洗浄装置は、超音波振動子などによるキャビテーションを用いて洗浄していたが、洗浄効果が得られないと共に、洗浄時間が長いという課題を有していた。
【解決手段】被洗浄物１１を収容するための洗浄室１２と、前記洗浄室内２に衝撃波を発生させるための衝撃波発生手段１３とを設け、被洗浄物１１に衝撃波を負荷することにより被洗浄物１１を洗浄することを特徴とした洗浄装置である。特に衝撃波発生装置として、爆薬を起爆させる、あるいは、電極を解して放電エネルギーを付与して高い圧力範囲の衝撃波を発生させることを利用して洗浄を行うものである。本構成にすることによって、洗浄時間が短時間で行えるとともに、洗剤などの化学薬品などを極力使用しなくてよいので、省エネ及び環境負荷低減を実現することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】処理室内を自動洗浄することによって、洗浄の手間を省き、かつ処理室内の状態を一定に保つことができる恒温槽を得る。
【解決手段】試料が収納される処理室１８が設けられている。シャワー２０は、処理室１８の内壁に洗浄液を噴射して洗浄する。排水口２２は、洗浄に用いられた洗浄液を排出する。水質センサ２４は、排水口２２から排出される洗浄液の水質を測定する。制御部３６は、水質センサ２４の測定結果を入力し、シャワー２０を制御する。制御部３６は、シャワー２０に洗浄を開始させ、洗浄開始から所定時間が経過し、かつ洗浄液の水質が所定の値に達すると、シャワー２０を停止させる。 （もっと読む）

【課題】メタルマスク版の表面にはみ出した半田等の付着物の拭き取りに使用した拭き取りシートから付着物を除去して、拭き取りシートを何度も再利用できるようにした付着物除去装置を提供する。
【解決手段】超音波振動子４６の振動を拭き取りシートＳに染み込んだ液媒体を介して拭き取りシートＳ及び付着物Ｐに対して伝搬させ、拭き取りシートＳを伝搬する振動と付着物Ｐを伝搬する振動との伝搬速度差による振幅変動によって、付着物Ｐを拭き取りシートＳから剥離させる。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、一般的に構成部品に関連する慣らし運転期間の必要性を排除すると共に、その摩耗期の構成部品の耐用年数を延長させるために、プラズマ・エッチング工程と、任意の強化超音波とメガソニックの少なくとも一方の前処理段階とを用いて半導体製造用部品を前処理する方法を提供する。
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【課題】ドライアイス洗浄時に乱気流の発生を抑えつつ異物の除去が可能なフィルム洗浄装置を提供する。
【解決手段】ロール状に巻かれたウェブフィルムＷを巻き出す巻出し装置２と、ウェブフィルムＷを液体で洗浄する第１洗浄部３１、第２洗浄部３３と、洗浄したウェブフィルムＷを乾燥する第１乾燥部３２、第２乾燥部３４と、乾燥したウェブフィルムＷに対して気体とともにパウダー状のドライアイスを吹き付ける吹付けノズル４１を有し、吹付けノズル４１でドライアイスを吹き付けてウェブフィルムＷを洗浄するドライアイス洗浄部４と、ドライアイス洗浄したウェブフィルムＷをロール状に巻き取る巻取り装置６と、を備え、吹付けノズル４１は、ドライアイスの吹付け方向がウェブフィルムの洗浄面に対して斜めに傾けて設置されている。 （もっと読む）

【課題】第１の処理液および第２の処理液を確実に分離して回収するとともに、被処理基板上にウォーターマークやパーティクル等の欠陥が生じることを確実に防止すること。
【解決手段】液処理装置１は、基板保持機構２０と、第１の処理液および第２の処理液を供給する処理液供給機構３０と、回転カップ６１と、回転カップ６１の第１の受け面６１ａで受けた第１の処理液および第２の処理液をそれぞれ排出する外側排出部１５および内側排出部１６と、外側排出部１５を開閉する排出部開閉機構３４とを備えている。回転カップ６１の第１の受け面６１ａの下端６１ｂは、基板保持機構２０によって保持された被処理基板Ｗより下方に延びている。排出部開閉機構３４が上昇した場合、第１の処理液は外側排出部１５へ向けて排出され、排出部開閉機構３４が下降した場合、第２の処理液は内側排出部１６へ向けて排出される。 （もっと読む）

【課題】円筒容器内部の底面および側面に付着したチクソトロピー性残留物を自動的に除去して、これら底面および側面を共に効率良く清掃できるようにする。
【解決手段】開口部Ｄｈが斜め下方に指向した状態で支持され、長手方向軸線Ｌｄを中心にして所定方向に回転させられる円筒容器Ｄに対して、底面用ブレード３０と側面用ブレード４０円筒容器Ｄ内部の所定位置まで前進させ、底面用ブレード３０を円筒容器Ｄの内部底面Ｄｂに押し当てた状態で円筒容器Ｄが所定回数回転した後に、側面用ブレード４０を円筒容器Ｄの内部側面Ｄｓに押し当てた状態と円筒容器Ｄの回転状態とを維持しながら、前記側面用ブレード４０を円筒容器Ｄの内部側面Ｄｓに沿って後退させることにより、円筒容器Ｄ内部の底面Ｄｂおよび側面Ｄｓに付着したチクソトロピー性残留物を自動的に除去する。 （もっと読む）

【課題】低コストで容易に実施可能であり、剥離フィルムのリサイクルに適した剥離フィルムの洗浄方法を提供すること。
【解決手段】基材フィルムと、基材フィルム上に形成された剥離層と、を有する剥離フィルムの洗浄方法であって、剥離層の表面に付着した異物を、有機溶剤を含む洗浄液で洗浄する洗浄工程と、剥離層の表面に付着した洗浄液を除去する溶剤除去工程と、を有する剥離フィルムの洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】工具ホルダのテーパ状の保持部に付着した切粉を確実に除去する。
【解決手段】工具５を装着する工具ホルダ３は、工作機械の主軸に着脱可能な円柱ないしは円錐形状の保持部７を有する。洗浄装置１は、平面上で時計回りと反時計回り方向に交互に反復して回転自在に設けた回転体１１と、前記工具ホルダ３の保持部７の中心軸が回転体１１の回転軸心上にほぼ位置するようにセットした前記保持部７の外側で回転すべく回転体１１に固定した少なくとも２つ以上のブラシ固定部材１９と、このブラシ固定部材１９に、前記保持部７を掃除する方向に植設したブラシ２１と、少なくとも１つのブラシ固定部材１９のブラシ２１の間に、前記保持部７に向けてエアを噴射するように設けたエアノズル２３と、少なくとも１つのブラシ固定部材１９のブラシ２１の間に、前記保持部７に向けてクーラント液を噴射するように設けたクーラントノズル３１と、で構成されている。 （もっと読む）

【課題】洗浄液がローラ外周面に一様に塗布されることによりローラ外周面全体が洗浄され、塗布ユニットの初期化を安定させることができ、さらに製作コストの上昇を抑えることができる予備塗布装置、塗布装置及び予備塗布装置の洗浄方法を提供する。
【解決手段】ローラに塗布液を塗布することにより塗布ユニットを初期化する予備塗布装置であって、ローラ外周面に洗浄液を供給する洗浄液供給器を備えており、この洗浄液供給器は、洗浄液を吐出する洗浄液吐出部と、ローラ外周面の長手方向に亘って洗浄液を貯留する洗浄液溜部と、ローラ外周面と対向しローラ外周面の長手方向に亘って形成される塗布口を有する洗浄液塗布部とを有しており、洗浄液吐出部から吐出された洗浄液が、ローラ外周面の長手方向に亘って一時的に洗浄液溜部で貯留され、前記洗浄液塗布部の塗布口からローラ外周面の長手方向に亘って一様に吐出されるように構成する。 （もっと読む）

【課題】フィルムへの負担を軽減しつつ、異物の十分な除去が可能なフィルム洗浄方法を提供する。
【解決手段】ロール状に巻かれたウェブフィルムＷを巻き出す巻出し工程と、巻出し工程により巻き出されたウェブフィルムＷを超音波で液体洗浄する第１洗浄工程と、第１洗浄工程後のウェブフィルムＷを第１洗浄工程で設定された周波数よりも高い周波数の超音波で液体洗浄する第２洗浄工程と、洗浄したウェブフィルムＷを乾燥する乾燥工程と、乾燥したウェブフィルムＷをロール状に巻き取る巻取り工程と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】収容部材内の薬液ミストを含む雰囲気が処理室内に拡散することを防止できる、基板処理装置を提供すること。
【解決手段】処理チャンバ２内において、ウエハＷを保持するウエハ回転機構３は、カップ８内に収容された状態で設けられている。カップ８の上端部には、カーテン形成ノズル３０が設けられている。また、処理チャンバ２内には、ウエハＷの表面にＳＰＭを供給するための移動ノズル１４が設けられている。少なくともウエハＷの表面へのＳＰＭの供給中は、カップ８の上方に水カーテンＷＣが形成され、水カーテンＷＣによって、カップ８の内側の空間を含む水カーテンＷＣの内側の空間と水カーテンＷＣの外側の空間とが遮断される。 （もっと読む）

【課題】基板にリンス液を供給する工程の終了後に、基板に薬液ミストが付着することを防止できる、基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板に対するレジスト剥離処理においては、処理室内において、基板にＳＰＭが供給される。このとき、基板でのＳＰＭの跳ね返りやＳＰＭ中の水分の蒸発などによるＳＰＭのミストが生じ、ＳＰＭのミストが処理室内の空間に浮遊して拡散する。基板へのＳＰＭの供給の終了後、基板にＳＰＭを洗い流すための純水が供給される。この純水の供給と並行して、処理室内の空間に微細な水滴が噴射される。これにより、処理室内の空間に拡散したＳＰＭのミストに微細な水滴がかかり、ＳＰＭのミストが微細な水滴に吸収され、ＳＰＭのミストが処理室内の雰囲気中から排除される。 （もっと読む）

【課題】基板上の液膜を短時間で凍結させることができる基板処理方法および装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗの表面Ｗｆおよび裏面Ｗｂに液膜１１ｆ、１１ｂを形成するために基板Ｗの表面Ｗｆおよび裏面Ｗｂに供給するＤＩＷを熱交換器６２３Ａにより常温より低い温度に冷却しているため、凍結膜１３ｆ、１３ｂを生成するのに要する時間を短縮することができる。また、液膜形成前において、スローリーク処理を実行することで液膜形成時の流量よりも小さな微小流量で冷却ＤＩＷを配管６２１Ａから流出させて配管６２１Ａ内に冷却ＤＩＷを流通させる。このため、配管６２１Ａ内の冷却ＤＩＷの温度上昇が防止され、液膜形成のためにノズル２７、９７からＤＩＷの吐出を開始すると、短時間で冷却ＤＩＷの液膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】撥水性を有する基板を搬送しながら良好に洗浄、乾燥処理を施す。
【解決手段】基板処理装置は、洗浄室１Ｃ及び乾燥室１Ｄを有し、撥水性を有する基板Ｓをその表面が傾斜した姿勢で搬送しながらその表面に洗浄、乾燥処理を施す。洗浄室１Ｃには、搬送方向に沿って連続する状態で、基板Ｓの上位側端部に対して洗浄水を供給する第１供給手段２０と、その下流側端部に近接され、かつ基板Ｓをその上位側から下位側に亘って横断する方向に沿って設けられ、同方向に沿って連続する状態で洗浄水を基板Ｓに供給する第２供給手段２４とが設けられる。乾燥室１Ｄには、第２供給手段２４に近接し、かつ搬送基板Ｓをその上位側から下位側に亘って横断する方向に設けられ、同方向に沿って連続する状態で搬送基板Ｓに対してエアを吹き付けるエアナイフ３０が設けられる。 （もっと読む）

【課題】基板の切断装置９（切断ユニットＢ）を用いて、成形済基板１を切断して切断済基板１ｃ（個々のパッケージ５）を形成する場合に、個々のパッケージ５の表面（上下面）に切削屑、破材等の異物が残存付着することを効率良く防止する。
【解決手段】成形済基板１を切断して形成された切断済基板１ｃ（個々のパッケージ５）を載置した切断テーブル１７を基板切断位置２５から基板載置位置２４に移動させることにより、その途中に設けた主洗浄部７２において、パッケージ５の上面（ボール面５ａ）を洗浄して乾燥し、次に、基板載置位置２４において、係着着部材９５にて切断済基板１ｃ（個々のパッケージ５）を係着すると共に、副洗浄部９６において、係着着部材９５にて切断済基板１ｃ（個々のパッケージ５）を係着した状態で、パッケージ５の下面（樹脂面５ｂ）を洗浄して乾燥する。 （もっと読む）