【課題】スプレッダに滞留する木片等の異物を適確に排除することができ、而も、単板に塗布した接着剤の接着性能を劣化させる虞のない清掃方法を提供する。
【解決手段】送りロール４の上方に、塗布ロール１とドクターロール２とを備え、前記両ロール１・２の間に貯留した接着剤１３の適量を、単板８の上面へ塗布するスプレッダに於て、ドクターロール２を正逆回転可能に備えると共に、ドクターロール２と同等幅の先端部９ａを有する清掃部材９を、単板８の通過を阻害しない位置であって、而も、先端部９ａが、ドクターロール２の周面の適宜部分に、随時当接及び離隔し得るように備え、所望時に限り、ドクターロール２を逆回転させて、貯留部に残留する接着剤１３と一緒に、異物１４を貯留部から排出し、且つ、清掃部材の先端部９ａを、ドクターロール２の周面に当接させて、貯留部から排出された接着剤１３と異物１４を掻き取るように排除する． （もっと読む）

【課題】ノズルの乾燥を防止した吐出装置を提供する。
【解決手段】 ターゲット３１に液滴９を吐出する複数のノズル１１を備えた吐出ヘッド１０を含むヘッドユニット５０と、ターゲット３１を載せたテーブル３０を移動させるテーブル移動ユニット６０と、ヘッドユニット５０およびテーブル移動ユニット６０を制御する制御ユニット９０とを有する吐出装置１である。制御ユニット９０は、隙間調整ユニット１５により隙間５を広げた後、キャッピングユニット２５によりキャップ２０を隙間５に入れて複数のノズル１１をキャッピングするキャッピング制御機能９２と、吐出位置またはその近傍でキャッピングユニット２５によりキャップ２０を隙間５から出した後、隙間調整ユニット１５により隙間５を狭めてターゲット３１に液滴９を吐出する吐出制御機能９１とを含む。 （もっと読む）

【課題】結晶性に優れ、電気的特性に優れた電気機械変換膜の作製方法を提供する。
【解決手段】基板１上に形成された下部電極をＳＡＭ材料２により所定のパターンに表面改質する工程と、前記下部電極上の表面改質を行わない領域に、インクジェット方式５によりゾルゲル液６を塗布する工程と、前記基板１の両面から赤外線を照射して前記ゾルゲル液６を熱処理する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】スピンコート法により半導体ウェハー表面に塗布した場合において、厚みが均一な塗布膜を形成可能な、ウェハレベルアンダーフィル工法に用いられるプリアプライド用封止樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明のプリアプライド用封止樹脂組成物は、半導体チップと基板との間隙を封止する封止樹脂層を得るために用いられる。当該封止樹脂層は、半田バンプを備えた半導体ウェハーの該半田バンプを備えた表面上にスピンコート法により塗布しＢ−ステージ化し、当該半導体ウェハーを個片化することにより得られる塗布膜付き半導体チップを、半田バンプを介して基板にフリップチップ実装することにより該塗布膜から形成される。当該プリアプライド用封止樹脂組成物は、（Ａ）エポキシ樹脂と、（Ｂ）硬化剤と、（Ｃ）無機充填剤と、（Ｄ）溶剤と、（Ｅ）アミノ基を含有するシランカップリング剤と、を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】複数の不良ノズルが存在する場合でも、容易に制御可能で、かつ、確実に描画可能なインクジェット記録装置およびその描画方法を提供する。
【解決手段】本発明の描画方法は、不良ノズルの検出情報を取得する不良情報取得工程と、副走査における記録媒体のホーム位置からの、相対的な逆移動の移動規制量情報を取得する規制量取得工程と、取得した不良ノズルを外して、描画ラインを短くした短描画ラインを設定する短ライン設定工程と、記録媒体を相対的に逆移動させる逆移動量が、移動規制量以内である否かを判定する判定工程と、移動規制量以内であると判定された場合に、描画ラインを構成する主走査吐出データを、短縮描画ラインに合せて副走査方向に位置ずらしするように各ノズルに割り当てるデータずらし工程と、移動規制量以内であると判定された場合に、副走査改行データを変更するデータ変更工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ロッドコーターやナイフコーターの様に基板に塗布ヘッドを圧着して行う塗布法において基板と塗布ヘッドの間に穴の開いたシートを挿入して塗布し穴の開いた部分のみに限定して塗布する。
【解決手段】必要な部分のみに限定して塗布し、樹脂５の節約を行う。そのために、塗布ヘッド４と基板２との間に穴の開いたシート３を挿入し穴の開いた部分のみに塗布膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】複数の不良ノズルが存在する場合でも、容易に制御可能で、かつ、確実に描画可能なインクジェット記録装置およびその描画方法を提供する。
【解決手段】 本発明によるインクジェット記録装置の描画方法は、不良ノズルの検出情報を取得する不良情報取得工程と、取得した不良ノズルが存在するノズル列の前記主走査吐出データを、他の１の前記ノズル列に割り当てるデータ割当て工程と、取得した不良ノズルが存在するノズル列を不使用ノズル列として、描画ラインのライン長を設定変更するライン長変更工程と、描画ラインのライン長設定変更に基づいて、副走査改行データを変更するデータ変更工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の膜厚制御、特に塗布膜の周縁部の膜厚均一化を容易に行うこと。
【解決手段】この面状塗布ユニット（ＡＣＴ）４０では、ステージ８０の上に基板Ｇを載置して、レジスト液供給機構８６およびノズル移動機構８８を動作させると、長尺ノズル８２の塗布走査により基板Ｇ上に基板の一端から他端に向ってレジスト液の面状塗布膜１００が形成されていく。その際、面状レジスト塗布膜１００が基板Ｇの外側へ向って広がる過程でライン状レジスト塗布膜７６と接触ないし一体化し、ライン状レジスト塗布膜７６によって面状レジスト塗布膜１００の外縁の位置が規定されると同時に膜厚も制御される。 （もっと読む）

【課題】高分子／無機（コア／シェル）粒子により成形した場合であっても、成形条件を狭めることなく、安価に製造することができる絶縁樹脂材料の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁樹脂材料の製造方法では、高分子化合物を含むコア粒子２と、コア粒子２を被覆する無機化合物を含むシェル層１とを備える、コア／シェル粒子３から絶縁樹脂材料４を製造する方法である。具体的には、絶縁樹脂材料４の製造方法は、コア／シェル粒子３と、高分子化合物に対する良溶媒１０とを混合し、シェル層１から前記良溶媒１０を浸透させて、高分子化合物に良溶媒１０を含浸させる工程と、含浸後のコア／シェル粒子３から成形体を成形する工程と、成形後の成形体を加熱して、良溶媒を成形体から除去する工程とを少なくとも含む。 （もっと読む）

【課題】塗布ヘッドの吐出安定性を正確に判定する。
【解決手段】液滴を吐出する吐出口を有する塗布ヘッド４の吐出不良を検出する吐出不良検出装置８は、塗布ヘッド４の吐出口から液滴が吐出される空間を撮像する撮像部８ａと、その撮像部８ａにより撮像された画像を処理し、その画像中に点状の画像があるか否かを判断し、画像中に点状の画像があると判断した場合、塗布ヘッド４の吐出が安定していないと判定する判定部８ｆとを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、有機電子装置において有用な活性表面上に活性材料を塗布する方法を提供する。
【解決手段】本発明の方法は、活性材料および適切な液体媒体を含む液体組成物を選択するステップであって、それによって、液体組成物が所望の活性表面に堆積されるとき、液体媒体が約４０°以下の接触角を有するステップと、所望の活性材料を含む液体組成物の堆積物がそこに堆積される前、その表面張力を増大させるため活性表面を処理するステップと、これらの組合せとを含む。本発明はまた、少なくとも２つの活性層を有する有機電子装置を提供し、少なくとも１つの活性層が、本発明の方法の、少なくとも１回の実施を使用して堆積される活性材料を含む。 （もっと読む）

【課題】高い光輝性を有する複層塗膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】被塗装物上に形成された中塗り塗膜、第１ベース塗膜、第２ベース塗膜及びクリア塗膜を含む複層塗膜の形成方法であって、第１ベース塗膜形成工程、第２ベース塗膜形成工程、プレヒート工程、クリア塗膜形成工程、焼付工程を含み、第１水性ベース塗料が、塗料固形分濃度５０質量％において１０〜２０°の第２水性ベース塗料の接触角、及び１６〜４５質量％の塗料固形分濃度を有し；第２水性ベース塗料が５〜１５質量％の塗料固形分濃度を有し、且つ第２水性ベース塗料の塗料固形分１００質量部に対して１０〜６０質量部の光輝性顔料を含有し；硬化した第２ベース塗膜の膜厚が２〜８μｍであり；硬化した第１ベース塗膜と第２ベース塗膜との膜厚の比率が１．５：１〜６：１である複層塗膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】ガラスとの界面に発生し外観不良の原因となる気泡の発生を抑制し、かつ塗布不良を生じない光学素子用の反射防止膜及びこの反射防止膜を作製するための塗料（反射防止塗料）を提供する。
【解決手段】少なくとも硬化性樹脂と、有機溶媒と、有機溶媒に可溶な着色剤と、を有する光学素子用の反射防止塗料であって、前記有機溶媒が、少なくとも沸点４０℃以上１０８℃以下の第一の有機溶媒と、沸点１１０℃以上１４０℃以下の第二の有機溶媒とからなり、前記第一の有機溶媒の沸点と、前記第二の有機溶媒の沸点との差が３０℃以上１００℃以下であることを特徴とする、光学素子用の反射防止塗料、及びこの光学素子用の反射防止塗料を塗布して形成される光学素子用の反射防止膜。 （もっと読む）

【課題】耐熱安定性、耐湿熱安定性に優れ、高導電性の導電性体、またその簡便な製造方法を提供すること。
【解決手段】カーボンナノチューブ［Ａ］と、カルボキシメチルセルロース［Ｂ］とが、［Ａ］に対する［Ｂ］の質量比（［Ｂ］の含有量／［Ａ］の含有量）が０．５〜９で含まれる、水［Ｃ］を分散媒とした分散液を、基材上に［Ａ］を１〜４０ｍｇ／ｍ^２の範囲となるよう塗布し乾燥した塗布面に、酸触媒［Ｄ］とアルコール［Ｅ］とを、［Ｅ］に対する［Ｄ］の質量比（［Ｄ］の含有量／［Ｅ］の含有量）が０．００５〜０．１である処理液を２５℃〜１００℃、５秒〜２０分の条件で接触させた後、乾燥させることを特徴とする導電体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高粘度の材料を射出して基板上にパターンを形成することができるパターン形成技術を提供する。
【解決手段】透明な基材４１の表面に昇華性材料として樟脳を含む圧力発生部材４２を積層し、その上に高粘度材料である金属ペースト４３を積層して積層体Ｓを形成している。その積層体Ｓと処理対象となる基板Ｗとを相対向させて配置する。そして、レーザー光照射部６０が基板Ｗに対して相対移動しつつ、レーザー光照射をオンオフして圧力発生部材４２の一部を加熱する。レーザー光照射によって加熱された圧力発生部材４２の一部では、樟脳の昇華に起因した急激な体積膨張により圧力波が発生する。こうして発生した圧力により、その直上の金属ペースト４３を基板Ｗに向けて射出し、基板Ｗの表面に金属ペースト４３のパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】表面保護フィルムが剥がされた金属体表面からの糊残りの除去を比較的簡単に又は低コストで達成することができる糊残り除去方法並びに、金属体表面の清浄化方法、塗装前処理方法及び塗装方法に係る技術を提供すること。
【解決手段】紫外線照射処理装置１を用いて、表面保護フィルムを剥離した金属体２の表面を、紫外線が発生している環境に晒すことにより、表面保護フィルムに由来する糊残りを金属体２の表面から除去する。 （もっと読む）

【課題】高粘度の材料を射出して基板上にパターンを形成することができるパターン形成技術を提供する。
【解決手段】透明な基材４１の表面に加熱により圧力を発生する圧力発生部材４２を積層し、その層の上に複数の射出孔４６を設けたノズルプレート４５を接着している。複数の射出孔４６には被射出材たる金属ペースト４３を装填している。そして、レーザー光照射部６０が基板Ｗに対して相対移動しつつ、レーザー光照射をオンオフして複数の射出孔４６のうちの一部に対応する圧力発生部材４２を加熱する。レーザー光照射によって加熱された圧力発生部材４２の一部では、樟脳の昇華に起因した急激な体積膨張により圧力波が発生する。こうして発生した圧力により、射出孔４６に装填された金属ペースト４３を基板Ｗに向けて射出し、基板Ｗの表面に金属ペースト４３のパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】吐出量の変化を高精度に補正し、塗布形状ないしフィレット形状を安定させることができる塗布方法、塗布装置およびプログラムの提供。
【解決手段】毛細管現象を利用して吐出装置から吐出した液体材料を充填する液体材料の塗布方法であって、連続した複数の塗布領域からなる塗布パターン作成工程と、一の吐出パルスに複数の休止パルスを所定の比率で組み合わせたサイクルを複数作成し、各塗布領域に割り当てる工程と、各塗布領域について割り当てられたサイクルで塗布を実施する工程と、予め設定した補正周期で、補正周期の時点における吐出量を計測し、吐出量の補正量を算出する補正量算出工程と、補正量算出工程で算出した補正量に基づき、１以上のサイクルについて、一の吐出パルスに対する休止パルスの比率を調整する工程と、を含み、休止パルスの長さを吐出パルスの長さと比べ充分に短く設定した液体材料の塗布方法並びに装置及びプログラム。 （もっと読む）

【課題】 複数のインクジェットノズルによって光学シートの背面にドットパターン印刷を施す際に、印刷面におけるスジの発生を抑制することにより、光学シートを用いた製品の品質向上を図ることができる光学シートの製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】 隣接するインクジェットヘッド５１，５２は、それぞれ複数のインクジェットノズル５１Ａ〜５１Ｃ，５２Ａ〜５２Ｃが設けられている。ドットパターン印刷を行う際の固定ノズル間距離ｄ１と、不定ノズル間距離ｄ２と、が、下記（１）式を満たす。
０．９４＜ｄ２／ｄ１＜１．０６ ・・・（１） （もっと読む）

【課題】塗布膜の除去精度の向上、塗布膜除去時間の短縮及び溶剤の使用量の削減が図れる塗布膜除去方法及び装置を提供すること。
【解決手段】溶剤吐出部及び不活性ガス吐出部により基板表面の端部から溶剤及び不活性ガスを吐出しながら、塗布膜除去部を基板の辺縁の所定の幅に沿って基板の一端側から他端側まで移動させ（除去工程：Ｓ−１）、濃度測定部により、排出路から排出される溶剤及び溶解物の混合排液中の溶解物の濃度を検出し（濃度検出工程：Ｓ−２）、濃度測定部により検出された混合排液中の溶解物の有無を判別し（濃度判別工程：Ｓ−３）、濃度測定部による溶解物の濃度検出値に基づいて塗布膜の除去条件を変更設定する（除去条件変更工程：Ｓ−６）。溶解物の濃度判別工程において、混合排液中の上記溶解物の無が確認されるまで、塗布膜除去工程を続行し、溶解物の無が確認された後、変更設定された除去条件により、塗布膜の除去を行う。 （もっと読む）