【課題】応力が加わった場合にも粒子とマトリックスの間で剥離が生じたりボイドが発生することがなく、このため耐擦傷性、膜強度、基材との密着性等の向上に好適な透明被膜付基材に関する。
【解決手段】基材と、該基材表面に形成された透明被膜とを有する透明被膜付基材であって、該透明被膜がマイクロリング状無機酸化物粒子と有機無機ハイブリッドマトリックス成分とを含み、かつ透明被膜中のマイクロリング状無機酸化物粒子の含有量が固形分として０．０１〜８０質量％の範囲にあることを特徴とする透明被膜付基材。 （もっと読む）

【課題】基材の表面にバルジを誘導するためのパターンを形成せずに組成物の液滴を付与して線状パターンを形成する場合に比べ、線状パターンに生じるバルジの方向が制御されるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基材の表面に組成物の液滴を線状に付与して線状パターン１２Ａ，１２Ｂを形成する線状パターン形成工程と、線状パターンを形成すると共に又は線状パターンを形成する前に、液滴を付与して、前記線状のパターンの幅方向における片側の縁で接触するバルジ誘導用パターン１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃを形成するバルジ誘導用パターン形成工程と、を含む。バルジ誘導用パターンを形成した後、線状パターンを形成することが望ましく、予めパターン形成領域外に組成物の液滴を付与してバルジ発生位置を確認するためのバルジ確認用パターンを形成する工程をさらに含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】被塗布物に付着せずに浮遊した液滴が被塗布物に落下することで生じる塗布膜の欠陥を抑制する。
【解決手段】ノズル孔２２及びノズル孔延長部３８を通じて被塗布物へ噴出されたが、被塗布物に付着せずに浮遊する霧状の浮遊塗布液は、吸引流路３６から吸引される。これにより、浮遊塗布液がその自重によって被塗布物へ落下することが抑制される。 （もっと読む）

【課題】、基材の表面を冷却したまま溶媒を除去しない場合に比べ、パターンが精度良く形成されるパターン形成装置を提供する。
【解決手段】基材２０を冷却する基材冷却手段２２と、前記基材冷却手段によって冷却された前記基材の表面に、パターン形成材料、及び溶媒を含む組成物１８を付与して該組成物のパターンを描画するパターン描画手段２４と、前記基材の表面に描画された前記組成物のパターンから該基材を冷却したまま前記溶媒を除去する溶媒除去手段２６と、を有するパターン形成装置１０。溶媒除去後、加熱を行って分散剤を除去する加熱手段２８を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】膨れ状欠陥や凹み状欠陥などの外観不良が発生せず、しかも、塗膜密着性および耐食性等の塗膜性能にも優れる塗膜を有する缶蓋用アルミニウム合金塗装板、及び、缶蓋用アルミニウム合金塗装板の製造方法を提供する。
【解決手段】反応型化成処理を施したアルミニウム合金板を、１００〜１５０℃の雰囲気温度で１秒間以上、乾燥を行う加熱乾燥工程と、乾燥後のアルミニウム合金板を、１０秒以上の時間をかけて６０℃以下の温度まで冷却する冷却工程と、冷却後のアルミニウム合金板の表面に水性塗料を塗布し、さらに該水性塗料を前記アルミニウム合金板の表面に焼付けることにより、アルミニウム合金板の表面に塗膜を形成する塗膜形成工程と、を有する缶蓋用アルミニウム合金塗装板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】照射されたレーザー光を吸収し、均一な発熱を生じて安定したレーザー溶着をおこない、接合溶着部分が透明性を保持できるレーザー溶着用光吸収樹脂組成物、および、光吸収樹脂成形体を提供する。
【解決手段】３０℃以上のガラス転移温度を持つ高分子分散剤と、レーザー光吸収微粒子とを含有するレーザー溶着用光吸収樹脂組成物であって、当該レーザー光吸収微粒子が、一般式ＳｒＶＯ_３−Ｘ（但し、０≦Ｘ≦１）で表記されるメタバナジン酸ストロンチウム、一般式Ｓｒ（Ｔｉ，Ｎｂ）Ｏ_３−Ｘ（但し、０≦Ｘ≦１）で表記されるニオブチタン酸ストロンチウム、一般式ＣａＶＯ_３−Ｘ（但し、０≦Ｘ≦１）で表記されるメタバナジン酸カルシウムの群から選択される１種以上の微粒子であることを特徴とするレーザー溶着用光吸収樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 例えば太陽電池用のフィンガー配線パターンなどのパターンを、その開始端も含めて均一に形成することができるパターン形成方法およびパターン形成装置を提供する。
【解決手段】 ペーストに加えるせん断応力の増加に応じたペーストの粘度変化（粘度特性）を測定する（ステップＳ１０）。測定した粘度特性に応じて、ノズルからのペーストの吐出を開始する際における基板の移動速度条件を調整する（ステップＳ２０）。調整された速度条件で基板を移動させるとともにノズルからペーストを線状に吐出して基板上に線状のフィンガー配線パターンを塗布形成する（ステップＳ３０）。 （もっと読む）

【課題】インクジェット法により、バンクやマスクを使用しないで、良好な直線性を有したラインを形成することができる、ライン形成の方法を提供する。
【解決手段】インクジェット法により、インキ組成物の液滴をノズルから２以上吐出して、基板上に直線状のラインを形成するライン形成方法であり、予め、基板と液滴との接触角θ（°）、及び、基板上に着弾した液滴の着弾径Ｄ（μｍ）を求め、基板上での液滴の着弾ピッチｐ（μｍ）を制御して、ｐ／Ｄが、下記式（１）〜（３）の３式で囲まれた領域内に含まれるようにしてラインを形成することを特徴とする、インクジェット法によるライン形成方法である。
式（１）：ｐ／Ｄ＝０．００４５×θ＋０．７３２６
式（２）：ｐ／Ｄ＝０．０２０９×θ＋０．０６７２
式（３）：θ＝０ （もっと読む）

【課題】薄膜で仕上り性に優れた白色パール調複層塗膜の形成が可能である、水性プライマー、水性カラーベース塗料及び水性干渉色ベース塗料を用いた白色パール調複層塗膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】（１）プラスチック基材に、所定の水性白色導電性プライマー（Ａ）を塗装し、未硬化の白色導電性プライマー層を形成する工程、（２）上記白色導電性プライマー層の上に、所定の水性白色非導電性カラーベース塗料（Ｂ）を静電塗装し、未硬化の白色非導電性カラーベース層を形成する工程、（３）上記白色非導電性カラーベース層の上に、所定の水性干渉色ベース塗料（Ｃ）を静電塗装し、未硬化の干渉色ベース層を形成する工程、（４）上記干渉色ベース層の上に、クリヤー塗料（Ｄ）を静電塗装し未硬化のクリヤー層を形成する工程、そして（５）工程（１）〜（４）により形成された４層の塗膜を同時に焼付ける工程を含む白色パール調複層塗膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】スループットを向上させ、半導体装置の製造コストを抑制するパターン形成方法およびパターン形成装置を提供する。
【解決手段】実施の形態のパターン形成方法は、被処理基板上の第１の領域に第１のパターンを形成する工程を行う。次に、実施の形態のパターン形成方法は、第１の領域とは異なる第２の領域に組成比の異なる複数種類のブロック共重合体を塗布する工程を行う。次に、実施の形態のパターン形成方法は、加熱処理により、塗布された複数種類のブロック共重合体に基づく複数種類の構造体からなる第２のパターンを第２の領域に形成する工程を行う。 （もっと読む）

【課題】樹脂膜を形成する際、一定の厚さの樹脂膜が安定的に形成される方法、さらに、この樹脂膜を用いて精度の高いパターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】基板に樹脂膜を形成するとき、まず、無機組成物を主成分とする基板と、前記基板に形成しようとする樹脂膜との間を化学結合させる中間層を前記基板に形成する。この後、基板に対して、前記基板の縁部に形成された前記中間層の縁領域の除去処理を行う。この後、除去処理の行われた基板に樹脂膜をスピンコートし、樹脂膜を基板と化学結合させて硬化させる。最後に、硬化した前記樹脂膜に振動を与えることにより、基板の縁部に形成された樹脂膜を除去する。この樹脂膜を用いて精度の高いパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】汚れ付着抑制効果に優れると共に光照射が不十分な環境下においても防カビ効果に優れるコーティング皮膜を形成することのできる水系コーティング組成物を提供すること。
【解決手段】水性媒体中に無機粒子と疎水性樹脂粒子とが分散されてなる水系コーティング組成物であって、該無機粒子と該疎水性樹脂粒子との合計質量に対して、水溶性有機ヨウ素化合物、水溶性イソチアゾリン化合物及び水溶性アラニン化合物からなる群から選択される少なくとも１種の水溶性防カビ剤１．０質量％以上３０質量％以下と、イミダゾール化合物、トリアゾール化合物、ピリチオン化合物、チアゾール化合物及びチオフェン化合物からなる群から選択される少なくとも１種の水分散性防カビ剤粒子０．８質量％以上２５質量％以下とを含むことを特徴とする水系コーティング組成物である。 （もっと読む）

【課題】塗布液例えばレジスト液の供給量が少ない場合でも、基板の表面に均一に塗布膜を形成することができる技術を提供する。
【解決手段】塗布方法は、基板（Ｗ）の中心にプリウエット液を供給するとともに基板を回転させてプリウエット液を第１の基板の表面全体に拡散させるプリウエット工程と、プリウエット液が供給された基板に塗布液（例えばレジスト液）を供給し、これを乾燥させることにより前記第１の基板の表面に塗布膜を形成する塗布膜形成工程とを備える。プリウエット液として、塗布膜成分（例えばレジスト成分）を溶解しうる溶剤と、この溶剤よりも表面張力が高い高表面張力液体とを混合することにより得た塗布液よりも表面張力が高い混合液体を用いる。溶剤と高表面張力液体とを別個に用意し、プリウエット液を供給する際に溶剤と高表面張力液体とを混合する。 （もっと読む）

【課題】基板に塗布する未硬化樹脂材料の塗布分布の補間をショット単位でより厳密に行うことができ、しかも、生成工程における作業負荷を抑制しつつ効率的にショット毎の未硬化樹脂材料の塗布分布を再補間することができるインプリント方法を提供する。
【解決手段】型パターンを形成した型２０と、基板３０に型２０を接近・離反させる型駆動部１４と、基板３０に未硬化樹脂材料を塗布するディスペンサ１７と、未硬化樹脂材料を樹脂パターンとして硬化させる光源１９と、複数ショットのショット単位で樹脂パターンに対する未硬化樹脂材料の塗布分布を生成してディスペンサ１７を制御するディスペンサ制御部４３と、基板３０に対する複数ショット位置とディスペンサ１７及び光源１９との相対位置を考慮したショットレイアウト情報を変数としてディスペンサ制御部４３による未硬化樹脂材料の塗布分布を補間する主制御部４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】外光に対する優れた反射防止性能を発揮し、且つ、表面抵抗値の増加を抑え、導電性の低下を抑制することが可能な透明導電材を製造する方法を提供すること。
【解決手段】（ａ）透明基材の一面側に銀粒子及びバインダー樹脂を含む導電性パターン層を有する導電部材を準備する工程、及び（ｂ）Ｃ．Ｉ． Ａｃｉｄ Ｂｌａｃｋ ２が溶解された塩酸水溶液に、前記導電部材を接触させて、導電性パターン層表面近傍のバインダー樹脂から露出した銀粒子の表面に暗色層を形成する工程を含む、透明導電材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、深みのある、落ち着きのある輝度感を有し、優れた美観性を有する化粧構造体を提供する。
【解決手段】本発明の化粧構造体は、有色基材上に光輝層が積層されたものであり、該光輝層は、有色基材側に大きさ０．５ｍｍ以上の光輝性鱗片状粒子（ａ−１）を含む大きさ０．５ｍｍ以上の鱗片状粒子（ａ）、表面側に大きさ０．５ｍｍ未満の光輝性鱗片状粒子（ｂ）、が配置されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液晶パネル用ＴＦＴ基板におけるゲート絶縁膜のように、濡れ広がりの制約を満足しつつ、膜厚を上限および下限値がある所定の範囲内に収めることが必要な成膜工程において、制約条件を満足する範囲での膜厚制御性を向上させ、プロセスマージンを向上させる膜形成方法および膜形成装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る絶縁膜形成方法は、絶縁材料および有機マトリクス成分を含有する液体を基板に塗布した後、非加熱下で所定の時間置き、その後で、上記有機マトリクス成分の架橋促進温度を超えない温度で強制乾燥処理を施す。 （もっと読む）

【課題】 油が熱により変質してなる油熱変質物を容易に除去することができると共に、鉛筆硬度９Ｈ以上の硬度を有する防汚性ハードコート膜、及び前記防汚性ハードコート膜を形成することのできる防汚性ハードコート膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】 基材の表面に形成された、ハフニア及び／又はジルコニアとフッ素化合物との複合物の硬化体であり、前記硬化体は前記硬化体の全質量に対して７質量％以上４０質量％以下の前記フッ素化合物を含有する防汚性ハードコート膜、及び、ハフニア及び／又はジルコニア１００質量部に対して、固形分で７質量部以上４０質量部以下のフッ素化合物を含有する複合ゾルを基材の表面に塗布し、硬化処理をすることにより複合物の硬化体を形成する防汚性ハードコート膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】有機色素等の異方性化合物を含む溶液を塗布して得られる異方性膜を不溶化処理液で処理することにより、水に溶解せず、耐久性、品質保持性を十分に有する不溶化異方性膜を提供することを目的とする。また、該不溶化処理液、不溶化異方性膜の製造方法及び光学素子を提供することを目的とする。
【解決手段】水に不溶化された異方性膜であって、リオトロピック液晶性を示す有機色素、カチオン化合物及び脂肪族モノカルボン酸を含有することを特徴とする、不溶化異方性膜。 （もっと読む）

【課題】活性エネルギー線の照射により、塗装板の表面にくっきりと美しく輝くような塗膜を形成して、プレコートメタルに高鮮映性を付与することができる塗料組成物、及びこれを用いてプレコートメタルを得る方法を提供する。
【解決手段】不飽和基含有ウレタン樹脂、３官能以下の(メタ)アクリレートモノマー、及び光重合開始剤を含有することを特徴とするプレコートメタル用活性エネルギー線硬化型塗料組成物であり、また、表面処理された金属板に、上記活性エネルギー線硬化型塗料を塗布し、活性エネルギー線を照射して該塗料を硬化させることを特徴とするプレコートメタルの製造方法である。 （もっと読む）