Fターム[4H050AB84]の内容
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Fターム[4H050AB84]に分類される特許
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薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法
【課題】特にCVD用原料として好適な揮発特性、熱安定性等の性質を有するストロンチウムプレカーサを含有する薄膜形成用原料を提供すること。
【解決手段】ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ストロンチウムに、下記一般式(1)で表される二座配位化合物を付加させて得られるストロンチウム化合物を含有してなる薄膜形成用原料。
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亜鉛−マグネシウムアート錯体を含む求核試薬及びそれを使用する求核付加体の製造方法
【課題】カルボニル炭素又はイミノ炭素へ炭化水素基を付加した求核反応体を温和な条件下であっても高選択的に得られる。
【解決手段】THF中で、塩化亜鉛(0.335mmol)とEtMgCl(4.35mmol)の存在下、ベンゾフェノン(3.35mmol)を加え、0℃にて2時間攪拌した。その後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、室温下3分攪拌した。続いて、酢酸エチルを加え、通常の分液処理を行った。抽出した有機層を洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、ろ過、濃縮した。中性シリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル=5:1)にて生成物を分取し、対応する3級アルコールを収率84%で得た。
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リン含有α−アミノ酸の製造法およびその製造中間体としてのリン含有ニトロ誘導体
【課題】除草剤D,L−2−アミノ−4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−ブタン酸を穏和な反応条件で、塩などの副生物が大量に生成することなく、安価に、良好な収率で、製造する方法を提供する。
【解決手段】次式(3)
[式中、R1はアルキル基、クロロエチル基を表し、R2はアルキル基を表す]の化合物のニトロ基を還元することによってアミノ基に変換した後、さらにリン酸エステルおよびカルボン酸エステルを加水分解して脱保護することを含んでなる、D,L−2−アミノ−4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−ブタン酸の製造方法。
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化学的相成長工程用の有機金属前駆体
有機金属前駆体が提供される。前駆体は構造が式Iに対応する。
Cp(R)nM(CO)2(X) (式I)
式中、MはRu、FeまたはOs、RはC1−C10−アルキル、XはC1−C10−アルキル、nは1、2、3、4または5である。前駆体は化学気相成長法(CVD)または原子層成長法(ALD)のような化学的相成長工程に有用である。
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アルキル亜ホスホン酸、アルキル亜ホスホン酸塩及びアルキル亜ホスホン酸エステル、それらの製造方法及び使用
本発明は、次式(I)のアルキル亜ホスホン酸、アルキル亜ホスホン酸塩及びアルキル亜ホスホン酸エステルに関する。
A−P(=O)(OX)−H (I)
式中、
Aは、C2−C20−アルキル、C2−C20−アルキレン、C8−C20アルカリールを意味し、これらは場合によっては置換されており、そして
Xは、H、アルキル、アリール、アルキルアリール、アルケニル、置換されたアルキル、アリール、アルカリール、アルケニル、アンモニウム、第一、第二、第三、第四アルキル−及び/またはアリール−アンモニウム、アルカリ金属、アルカリ土類金属、第3主族及び第4主族並びに第2亜族、第4亜族、第8亜族の金属、またはランタノイド族の金属を意味する]
更に本発明は、これらの製造方法及びこれらの化合物の使用にも関する。
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シクロヘキシルメチルホスホナート誘導体
【課題】(E)-1,2-ビス(トランス-4-アルキルシクロヘキシル)エチレン誘導体を効率的に製造する方法及び該製造法に有用な中間体を提供すること。
【解決手段】一般式(III)で表されるシクロヘキシルメチルホスホナート誘導体に、一般式(IV)で表されるアルデヒドを強塩基条件下反応させることにより、(E)-1,2-ビス(シクロヘキシル)エチレン誘導体を製造することが出来る。
[式中、R1はアルキル基等を、Aは弗素化されていても良いフェニレン基を、Yは弗素原子等を、n,o,pは整数を表す。]
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ロバスタチン中間体及びその製法
ロスバスタチンの製造のための方法及び中間体を提供する。
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金属配位化合物ならびにこれを用いた発光材料
【課題】高輝度・高効率で赤色発光が可能で耐久性に優れた発光素子材料であり、発光素子、レーザー色素等に使用できる金属配位化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表される部分構造を有する金属配位化合物。
(式中、Mはイリジウム又は白金、Nは窒素原子を表す。R1からR11は、各々独立に水素原子又は置換基を表す。又、隣接する置換基は結合して環構造を形成しても良い。)
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金属−珪素複合アルコキシド、無機粒子及びその製造方法
【課題】凝集物の生成が抑制可能でかつ金属原子に対する配位子の数を制御可能な金属−珪素複合アルコキシドを提供する。
【解決手段】本発明に係る金属−珪素複合アルコキシドは下記一般式(1)で表される。
一般式(1)中、「M」は金属原子を表す。「R」はアルキル基を表し、互いに異なっていても互いに同一のものを含んでいても良い。「R’」は炭素数4以下のアルキル基を表し、互いに異なっていても互いに同一のものを含んでいても良い。「Q」は二価の炭化水素基またはイオウ原子を含有する二価の有機基を表し、互いに異なっていても互いに同一のものを含んでいても良い。「X」は一価の炭化水素基を表し、互いに異なっていても互いに同一のものを含んでいても良い。「a」は0〜3の整数を、「b」は1〜5の整数を、「n」はbを超えない整数を表す。
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イミド錯体、その製造方法、金属含有薄膜及びその製造方法
【課題】良好な蒸気圧を持ち、CVD法又はALD法等によってニオブ又はタンタル含有薄膜を製造するための原料となる新規なニオブあるいはタンタル錯体、その製造方法、それを用いた金属含有薄膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表されるイミド錯体を、例えばM1(NR1)X3(L)r(2)とアルカリ金属アルコキシド(3)との反応等により製造し
(式中、M1はニオブ原子又はタンタル原子を示し、R1は炭素数1から12のアルキル基を示し、R2は炭素数2から13のアルキル基を示し、Xはハロゲン原子を示し、Lが1,2−ジメトキシエタン配位子のとき、rは1であり、Lがピリジン配位子のとき、rは2であり、M2はアルカリ金属を示す。)、そのイミド錯体(1)を原料として用いることにより、ニオブ又はタンタル含有薄膜を製造する。
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tert−ブチル(E)−(6−[2−[4−(4−フルオロフェニル)−6−イソプロピル−2−[メチル(メチルスルホニル)アミノ]ピリミジン−5−イル]ビニル](4R,6S)−2,2−ジメチル[1,3]ジオキサン−4−イル)アセテートの製造法
【課題】高コレステロール血症、高リポ蛋白血症、およびアテローム性動脈硬化症の治療に有用なHMGCoAレダクターゼ阻害剤を製造する上での中間体として有用な、tert-ブチル(E)-(6-[2-[4-(4-フルオロフェニル)-6-イソプロピル-2-[メチル(メチルスルホニル)アミノ]ピリミジン-5-イル]ビニル]-(4R,6S)-2,2-ジメチル[1,3]ジオキサン-4-イル)アセテートの製造法の提供。
【解決手段】ジフェニル[4-(4-フルオロフェニル)-6-イソプロピル-2-[メチル(メチルスルホニル)アミノ]ピリミジン-5-イルメチル]ホスフィンオキシドとtert-ブチル-2-[(4R,6S)-6-ホルミル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4-イル]アセテートとを強塩基の存在下で反応させる。
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リン含有スルホン、スルホキシド誘導体およびそれを中間体としたリン含有α−ケト酸の製造法
【課題】除草剤L−AMPBの製造中間体である4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−2−オキソブタン酸を効率良く製造する方法を提供する。
【解決手段】4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−2−オキソブタン酸の製造方法であって、次式(5)
【化1】
[R1は、アリール基を表し、R2、R3、R4は、C1−4アルキル基を表し、nは、1あるいは2の整数を表す]で表される化合物を用いた方法を提供するものである。
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光学活性なビス(アルキニルホスフィノ)エタンーボラン誘導体及びその製造方法
【課題】触媒的不斉合成反応の不斉触媒として用いた場合に、高い選択性や触媒活性を示す配位子を提供する。
【解決手段】下式の光学活性なビス(アルキニルホスフィノ)エタン−ボラン誘導体。(S)−t−ブチルメチルホスフィン−ボランをブロモ化し、アルキニルリチウムを作用させ、更に脱プロトン化及び酸化的カップリングを行い得られる。脱ボラン化により脱保護することで、光学活性なビス(アルキニルホスフィノ)エタン誘導体が得られる。
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有機シラン化合物及びそれを用いて得られる有機シリカ
【課題】化学的な安定性が高く、メソ構造の有機シリカの合成に有用な化合物の提供。
【解決手段】一般式(1)の有機シラン化合物。
(Arは2価の芳香族有機基を、R1は水素原子等を示し、Xは反応性置換基を示す。)
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有機リン置換ピロール化合物及びその製造方法
【課題】ピロール骨格と有機リン部分とがメチレン基を介して結合した有機リン置換ピロール化合物を提供すること、及び該有機リン置換ピロール化合物を穏和な条件下、簡便に製造する方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、一般式(1)
[式中、R1及びR2は、同一または異なって、アルキル基、アリール基等を表す。R3は、アリールスルホニル基等を表す。]で示される有機リン置換ピロール化合物を提供する。該ピロール化合物は、4−アザ−1,6−ヘプタジインとヒドロリン化合物とを反応させることにより製造される。
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ホスホリルコリン基含有環状ケタール化合物、その製造方法及びホスファチジルコリン基含有ジオール化合物の製造方法
【課題】ポリマー表面や高分子に、生体安全性、保水性、吸水性に優れたホスファチジルコリン基を導入することが可能であり、また、分子内にホスホリルコリン基を有することで、医療分野へも展開可能な新規なホスホリルコリン基含有環状ケタール化合物及びその製造方法、更には該環状ケタール化合物を用いたホスファチジルコリン基含有ジオール化合物の効率の良い製造を可能にした製造方法を提供する。
【解決手段】ホスホリルコリン置換メチル基をその2位に有する1,3−プロパンジオールの環状ケタール化合物に関する。更にこの化合物の加水開環反応にも関する。これらの化合物は医薬原料や有機合成中間体として利用可能である。
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反応性ホスホナート
示される構造式に対応する新規反応性ホスホナート化合物が開示される。この反応性部分は、好ましくはCl、I、Br、HSO4、NO3、ClとIとの混合物、CH3SO3およびp−トルエンスルホン酸からなる群から選択されるが、窒素と反応性部分との炭化水素連結基は、最も好ましくは3〜12個の炭素原子を有する直鎖状炭化水素鎖である。本発明の新規ホスホナートは、洗浄、水処理、石油回収、医薬品中間体および医薬品製品のような多様な確立された適用において使用することができる。この新規化合物は、有益な性能要求を満たすことのできる最適化された構造配置の「テイラー」合成に特に有用である。 (もっと読む)
イミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホランの製造方法
【課題】ホスファゼン化合物やホスファゼニウム化合物の合成中間体として極めて重要かつ有用な化合物であるイミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホランを、より効率的・経済的に製造する方法を提供すること。
【解決手段】溶媒の存在下、三塩化りんとジメチルアミンとを反応させる工程(A)、(A)で副生するジメチルアミン塩酸塩を除去する工程(B)、(B)で得られた溶液中のトリス(ジメチルアミノ)ホスフィンと塩素とを反応させる工程(C)、(C)の反応液中のクロロトリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムクロリドとアンモニアとを反応させる工程(D)、(D)の反応液中のアミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムクロリドをアルカリ金属水酸化物と反応させ、脱水・脱溶媒する工程(E)、(E)で得られた反応液スラリーから、イミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホランを取り出す工程(F)、の各工程を備える。
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ホスホナート化合物
アミノホスホナート部分および選択される反応パートナーを具現化して新規ホスホナート化合物が開示される。これらの化合物は、現存のホスホナートに対する有益な代替物およびさらなる可能性を提供し、適用の見地および適合性の見地から広く望ましい利益を与えることができる。 (もっと読む)
モンテルカストの製造方法およびそれに用いられる中間体
本発明は、モンテルカスト、ロイコトリエンの阻害剤、およびそれに用いられる中間体化合物の製造方法を提供する。本発明の製造方法によれば、高純度のモンテルカストおよびそのナトリウム塩を高収率で製造することができる。 (もっと読む)
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