【課題】 基板の面内方向のキャリア拡散と基板垂直方向のキャリア注入を高効率に行うことのできる、シリコン発光素子用の活性層および該活性層の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】 シリコン発光素子に用いる活性層であり、シリコン化合物からなる第１の層と、該第１の層よりもバンドギャップが大きいシリコン化合物からなる第２の層とが基板上に交互に積層された多層膜構造を有する。また、複数のシリコンナノ粒子が多層膜構造の中に設けられている。第１の層に含まれるシリコン原子の量は、第２の層に含まれるシリコン原子の量よりも多く、複数のシリコンナノ粒子のうちの少なくとも一つは、前記第１の層と前記第２の層との境界面のうち少なくとも一つの面を越えて存在する。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルに用いた際の高温高湿条件下での抵抗値安定性、およびペン入力耐久性に優れる透明導電性フィルム及びその効率的な製造方法を提供すること。
【解決手段】透明プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に透明導電膜が積層された透明導電性フィルムであって、透明導電膜が、透明導電膜成膜時の基板温度を−６０〜５０℃とし、かつ成膜用の反応性ガスとして酸素を用い、酸素分圧を１．０×１０^−３〜４０×１０^−３Ｐａにしてスパッタリング法にて成膜されてなり、酸化インジウムの他、酸化スズを平均で０．１〜５質量％、及び特定の物質群のなかから選択した物質を平均で０．１〜５質量％少なくとも含み、かつ、透明導電膜の比抵抗が４×１０^−４〜２．５×１０^−３Ω・ｃｍである透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】高品質なシリコン系薄膜を高速かつ安全・安価に形成できるスパッタリング装置、スパッタリング方法および該シリコン薄膜を用いて作成した太陽電池や液晶表示装置（ＬＣＤ）等の電子デバイスを提供すること。
【解決手段】シリコンを主成分とするメインターゲット１ｍ上に該ターゲットと同様にシリコンを主成分とし、かつ面積が該メインターゲットより小さいサブターゲット１ｓを複数個配置したスパッタリングカソードをマグネトロン放電させ、かつ基板ホルダ７に載置した基板８に薄膜を形成することで解決できる。 （もっと読む）

【課題】耐久性、光学特性に優れると共に、配線精度の高精度化を容易に図ることができる透明配線層を備えた透明導電フィルム及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明導電フィルム１は、透明な樹脂からなる基材フィルム１１と、基材フィルム１１の表面に形成され、基材フィルム１１よりも光屈折率の高い高屈折コート層１２と、高屈折コート層１２の表面に形成され、高屈折コート層１２よりも光屈折率の低い低屈折コート層１３と、低屈折コート層１３の表面に形成された酸化形素からなる防湿性の下地層１４と、下地層１４の表面においてパターン形成され、下地層１４よりも光屈折率の高い結晶質のＩＴＯからなる透明配線層１５とを有する。透明配線層１５は、ＩＴＯの結晶子サイズが９ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】基板上に中間層の１層としてＣｒ_２Ｏ_３膜を有する超電導線材用基材の製造効率を高めることを目的とする。
【解決手段】基板１０上に中間層２０を形成する中間層形成工程を有し、且つ中間層形成工程として、成膜面に対して斜め方向からイオンビームを照射しながら蒸着源からの蒸着粒子を前記成膜面に堆積させて膜を形成するスパッタリング法にてＣｒ_２Ｏ_３膜２２を形成するＣｒ_２Ｏ_３膜形成工程と、その他の層（例えばベッド層２４、２軸配向層２６、キャップ層２８等）を形成する工程と、を有する超電導線材用基材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高硬度鋼の高速切削加工でＲａが０．５〜１．３μｍの優れた仕上げ面精度を長期にわたって発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】窒化チタン１３〜３０％、アルミニウムおよび／または酸化アルミニウム６．５〜１８％、残部窒化ほう素（以上、いずれも質量％）からなる圧粉体の超高圧焼結材料で構成され、分散相を形成する立方晶窒化ほう素相と連続相を形成する窒化チタン相との界面に超高圧焼結反応生成物が介在した組織を有する切削チップ本体の表面に硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具において、（ａ）硬質被覆層は、１．５〜３μｍの平均層厚を有する下部層と０．３〜３μｍの平均層厚を有する上部層とからなり、（ｂ）下部層は、組成式：［Ｔｉ_１−ＸＡｌ_Ｘ］Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４０〜０．６０）を満足するＴｉとＡｌの複合窒化物層からなり、（ｃ）上部層は、一層平均層厚がそれぞれ０．０５〜０．３μｍの薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、薄層Ａは、組成式：［Ｔｉ_１−ＸＡｌ_Ｘ］Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４０〜０．６０）を満足するＴｉとＡｌの複合窒化物層、薄層Ｂは、Ｔｉ窒化物（ＴｉＮ）層からなる。 （もっと読む）

【課題】弾性体からなるシール部材と硬質部材とが摺接する摺動部品において従来技術よりも高い耐摩耗性（高い耐久性）を備えた摺動部品およびそれを用いた機械装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る摺動部品は、弾性体からなるシール部材と硬質部材とが摺接する摺動部品であって、前記硬質部材の基材の最表面には窒素を含有する非晶質炭素皮膜が形成されており、前記非晶質炭素皮膜は、炭素と窒素との合計を100原子％とした場合に、窒素の含有率が3〜25原子％であり、前記シール部材は、少なくとも摺接面領域にフッ素を含有し、該フッ素の含有率が前記窒素の含有率以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、耐摩耗性に優れた硬質皮膜形成部材および硬質皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】基材１上に硬質皮膜４を備えた硬質皮膜形成部材１０（１０ａ）であって、硬質皮膜４は、組成がＴｉ_ａＣｒ_ｂＡｌ_ｃＳｉ_ｄＹ_ｅ（Ｂ_ｕＣ_ｖＮ_ｗ）（ただし、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｕ、ｖ、ｗは所定量の原子比）を満足するＡ層２と、組成がＴｉ_ｆＣｒ_ｇＡｌ_ｈ（Ｂ_ｘＣ_ｙＮ_ｚ）（ただし、ｆ、ｇ、ｈ、ｘ、ｙ、ｚは所定量の原子比）を満足するＢ層３とを備え、厚さが０．５μｍ以下の中間層５を介してまたは中間層５を介さずにＢ層３の上にＡ層２が積層され、Ａ層２の厚さが０．５〜５．０μｍであり、Ｂ層３の厚さが０．０５〜３．０μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高速・高能率切削が可能な、ＴｉＡｌＳｉＮよりも耐摩耗性に優れた硬質皮膜を提供する。
【解決手段】本発明の硬質皮膜は、（Ｔｉ_{１−ａ−ｂ−ｃ−ｄ}，Ａｌ_ａ，Ｃｒ_ｂ，Ｓｉ_ｃ，Ｂ_ｄ）（Ｃ_１−ｅＮｅ）からなる硬質皮膜であって、Ａｌ，Ｃｒ，Ｓｉ，Ｂのそれぞれの原子比ａ，ｂ，ｃ，ｄが、０．５≦ａ≦０．８、０．０６≦ｂ≦０．３、０＜ｃ≦０．１、０≦ｄ≦０．１、０．０１≦ｃ＋ｄ≦０．１およびａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＜１を満たすようにし、かつＮの原子比ｅが０．５≦ｅ≦１を満たすようにする。 （もっと読む）

【課題】結晶系の異なる圧電材料の厚さ方向の分布にムラが生じるのを抑えて、基板上に圧電体を薄膜化した構成で圧電特性を向上させる。
【解決手段】基板上に形成される圧電薄膜４は、結晶系の異なる圧電材料からなる層が、各層ごとに柱状結晶を並べた状態で交互に積層されて構成される。各圧電材料の組成比は、結晶系が変化する相境界を構成する組成比である。 （もっと読む）

【課題】有機材料の利用効率の向上と装置設置面積の削減とを両立させて、有機ＥＬデバイスの製造コストを低減できる薄膜形成装置及びインライン型の有機ＥＬデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】基板１６の搬入位置２０に配置され、基板１６と蒸着マスク１７とを相対的に移動させて位置合わせする位置合せ機構１５と、基板１６が組み込まれた蒸着マスク１７を搬送する搬送機構１４と、基板１６と蒸着マスク１７が移動しながら、蒸着マスク１７の開口部を通して基板１６上に有機材料を積層する成膜機構１３と、を備え、少なくとも成膜機構１３の前段もしくは後段のいずれか一方において、基板１６の搬入位置２０もしくは搬出位置２１の搬送機構１４ａ、１４ｃと成膜区間の搬送機構１４ｂとが並列配置されている。 （もっと読む）

【課題】本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、耐摩耗性に優れた硬質皮膜形成部材および硬質皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】基材１上に硬質皮膜４を備えた硬質皮膜形成部材１０であって、硬質皮膜４は、組成がＴｉ_ａＣｒ_ｂＡｌ_ｃＳｉ_ｄＹ_ｅ（Ｂ_ｕＣ_ｖＮ_ｗ）（ただし、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｕ、ｖ、ｗは所定量の原子比）を満足するＡ層２と、組成がＴｉ_ｆＣｒ_ｇＡｌ_ｈ（Ｂ_ｘＣ_ｙＮ_ｚ）（ただし、ｆ、ｇ、ｈ、ｘ、ｙ、ｚは所定量の原子比）を満足するＢ層３とを備え、Ａ層２とＢ層３が交互に積層され、前記Ａ層と前記Ｂ層の１組の積層構造を１単位としたときに、この１単位の厚さが、１０〜５０ｎｍであり、かつ硬質皮膜４の膜厚が１〜５μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高硬度鋼の高速切削加工で優れた耐剥離性を発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】立方晶窒化ほう素の含有量が５０〜８５容量％のｃＢＮ基超高圧焼結体の表面に硬質被覆層を形成してなる切削工具において、（ａ）硬質被覆層は、１．５〜３μｍの平均層厚を有する下部層と上部層とからなり、（ｂ）下部層は、組成式：［Ｔｉ_１−ＸＡｌ_Ｘ］Ｎ（Ｘは原子比で０．３０〜０．６０）を満足するＴｉとＡｌの複合窒化物層からなり、（ｃ）上部層は、一層平均層厚がそれぞれ０．０３〜０．３μｍの薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、薄層Ａは、組成式：［Ｔｉ_１−ＸＡｌ_Ｘ］Ｎを満足するＴｉとＡｌの複合窒化物層、薄層Ｂは、Ｔｉ窒化物（ＴｉＮ）層からなり、（ｄ）皮膜表面の表面粗さ、残留応力、ナノインデンテーション硬さを所定の値とする。 （もっと読む）

【課題】 切削工具や冷間および温熱間における鍛造、プレス加工といった金属の塑性加工に使用される工具において耐久性に優れる被覆工具およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材表面に皮膜を被覆した被覆工具であり、該皮膜は、硬度が３０ＧＰａ以上であるＡｌＣｒ系の窒化物または炭窒化物の硬質皮膜と、該硬質皮膜と基材の界面にある中間皮膜からなり、該中間皮膜は膜厚が２〜４０ｎｍ、結晶粒子の平均幅が４０ｎｍ以下のＴｉの金属、またはＴｉの窒化物、炭化物、炭窒化物の何れかからなる被覆工具である。 （もっと読む）

【課題】表面の親水性に優れ、摺動抵抗が小さいダイヤモンド状炭素被膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素を含むダイヤモンド状炭素被膜であって、表面エネルギーが３５ｍＪ／ｍ^２以上であることを特徴としており、ダイヤモンド状炭素被膜中におけるケイ素含有量は、３原子％以上であることが好ましく、スパッタリング法により形成することができる。 （もっと読む）

【課題】ＤＣスパッタ法を用いて、ＭｇＯ膜を有する磁気記録媒体を高い生産性で製造することができ、同時にＭｇＯ膜の酸素欠損を抑制して高い結晶性を有するＭｇＯ下地層を与える方法の提供。
【解決手段】酸素含有ガス中でＭｇおよびＭｇＯを含むターゲットを用いる反応性ＤＣスパッタ法によって、非磁性基体にＭｇＯからなる中間層を形成する工程と、中間層の上に、Ｌ１₀系規則合金を含む磁気記録層を形成する工程とを少なくとも含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】隣接する薄膜間に勾配層が形成された多層膜であって、勾配層における濃度勾配がなだらかな多層膜を形成し得る方法を提供する。
【解決手段】円筒型の第１及び第２のターゲット３１ｂ，３２ｂを、第１のターゲット３１ｂからのスパッタ粒子の飛散領域である第１の飛散領域Ｒ１と、第２のターゲット３２ｂからのスパッタ粒子の飛散領域である第２の飛散領域Ｒ２とが重なるように配列し、第１のターゲット３１ｂ内の第１のカソード３１ａと第２のターゲット３２ｂ内の第２のカソード３２ａとの間に交流電圧を印加した状態で、基体１０を、第１及び第２のターゲット３１ｂ，３２ｂの配列方向において、第１のターゲット３１ｂ側から第２のターゲット３２ｂ側に向けて移動させ、第１及び第２の飛散領域Ｒ１，Ｒ２を通過させることによって基体１０の上に、第１及び第２の薄膜１１，１３と勾配層１２とを形成する。 （もっと読む）

【課題】耐久性に優れた表面被覆部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】表面被覆部材は、鋼系部材もしくは超硬合金部材からなる基部にＰＶＤ法によりＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、ＡｌおよびＣｒの少なくとも１種以上の窒化物、炭化物または炭窒化物からなる第１層と、第１層上に被覆されたＡｌ−Ｃｒ系窒化物の第２層と、または第１層上に被覆された傾斜層であるＡｌ−Ｃｒ系窒化物の第２層を有する。表面被覆部材の製造方法は、鋼系部材もしくは超硬合金部材からなる基部にＰＶＤ法によりＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、ＡｌおよびＣｒの少なくとも１種以上の窒化物、炭化物または炭窒化物からなる第１層を被覆し、第１層上にＡｌ−Ｃｒ系窒化物の第２層を被覆し、または第１層上に傾斜層であるＡｌ−Ｃｒ系窒化物の第２層を被覆することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高速加工ですぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆歯切工具を提供する。
【解決手段】 高速度鋼からなる歯切工具基体の表面に、すくい面摩耗性に優れた第一の被覆層と、逃げ面摩耗性に優れた第二の被覆層とを被覆形成した表面被覆歯切工具において、切れ刃エッジから１ｍｍの位置における上記第一の被覆層のすくい面側の膜厚をＴ１、逃げ面側の膜厚をｔ１、また、上記第二の被覆層の逃げ面側の膜厚をＴ２、すくい面側の膜厚をｔ２とした場合に、逃げ面側の膜厚が、Ｔ２／ｔ１＞１、かつ、すくい面側の膜厚が、ｔ２／Ｔ１＜１を満足し、さらに、切れ刃エッジ部において、第一の被覆層と第二の被覆層の界面が連続して繋がっている層構造を有する。 （もっと読む）

【課題】 切刃における被覆層のチッピングや剥離を抑制できるとともに耐溶着性を向上した切削工具を提供する。
【解決手段】 棒状で、外周に切刃２と、切刃２よりも内側に凹んだ位置に形成される切屑排出溝３とを備えた基体４の表面に１層以上の被覆層５を被覆してなり、切刃２の表面には基体４の全周にわたって被覆される第１被膜層５ａに加えて基体４側に別途第２被覆層４ｂが形成されているツイストドリル１等の回転工具である。 （もっと読む）