【課題】プラズマＣＶＤ成膜法において膜質を膜の成長に応じて制御する。
【解決手段】薄膜の形成の際に、成膜室３の内部において互いに対向するように位置する第１電極１と第２電極２に挟まれる空間に基板４を配置する。第１電極および第２電極の少なくともいずれかに接続される高周波電源６によりプラズマを励起している間に、第１電極または第２電極に接続される可変電圧のバイアス電源７により、直流成分または高周波電力より低い周波数の交流成分を有するバイアス電圧を出力して第１電極と第２電極との間に印加する。その際、バイアス電源のバイアス電圧が少なくとも二つの電圧値の間で変動するように制御される。 （もっと読む）

【課題】炭素共析型電気Ｃｒめっき膜をアンダーコートとしてその上に積層される高品質ＤＬＣ膜の密着性を向上させること、とくに膨れ現象を発生させることのないＤＬＣ膜被覆部材とそれの製造方法を提供する。
【解決手段】金属製基材と、その表面に被覆形成された、被熱処理炭素共析型電気クロムめっき膜と、その被熱処理炭素共析型電気クロムめっき膜表面に被覆形成されたＤＬＣ膜とからなるＤＬＣ膜被覆部材およびその部材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】軸受内部に水が侵入するために生じる潤滑不良によって発生する微小焼付きを防止するため、内輪および外輪軌道面と転動体で潤滑性能に優れた自動調心ころ軸受を提供する。
【解決手段】自動調心ころ軸受を構成する内輪１、外輪２及び転動体３のうち少なくとも１つは、鋼製であり、内輪軌道面１ｃ、外輪軌道面２ｃおよび転動体３の表面のうち少なくとも１つに潤滑被膜Lが被覆され、前記潤滑被膜Lが表面側のダイヤモンドライクカーボン層と、前記ダイヤモンドライクカーボン層と前記鋼材表面との間に形成された中間層Mで構成され、前記潤滑被膜の等価弾性定数が１００ＧＰａ以上２８０ＧＰａ以下である。 （もっと読む）

【課題】実際の燃料電池の使用環境に即した条件下においても優れた導電性および耐食性を示す燃料電池用セパレータおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】燃料電池用セパレータ４０は、ステンレス鋼からなる基材４１と、基材の少なくとも電極に対向する表面に形成され、Ｃを主成分とし、Ｎを３〜２０原子％、Ｈを０原子％を超え２０原子％以下含み、かつ、Ｃの全体量を１００原子％としたときにｓｐ^２混成軌道をもつ炭素（Ｃｓｐ^２）が７０原子％以上１００原子％未満であって、グラファイトの（００２）面が厚さ方向に沿って配向する配向性非晶質炭素膜４２と、基材と配向性非晶質炭素膜との界面に生成され両者の構成原子をそれぞれ一種以上含む混合層４３と、混合層から配向性非晶質炭素膜内に突出し、平均長さが１０〜１５０ｎｍである複数の突起４４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】新規の構造を有し、高い導電性を示す配向性の非晶質炭素膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】配向性非晶質炭素膜は、Ｃを主成分とし、Ｎを３〜２０原子％、Ｈを０原子％を超え２０原子％以下含み、かつ、Ｃの全体量を１００原子％としたときにｓｐ^２混成軌道をもつ炭素（Ｃｓｐ^２）が７０原子％以上１００原子％未満であって、グラファイトの（００２）面が厚さ方向に沿って配向する。この膜は、Ｃｓｐ^２を含む炭素環式化合物ガスならびにＣｓｐ^２と窒素および／または珪素とを含む含窒素複素環式化合物ガスから選ばれる一種以上の化合物ガスと窒素ガスとを含む反応ガスを１５００Ｖ以上で放電させる直流プラズマＣＶＤ法により形成できる。 （もっと読む）

【課題】シャワー電極におけるシャワープレートが本体部から分離可能な場合に、プラズマを均一に効率よく生成できるプラズマＣＶＤ装置を得ること。
【解決手段】プラズマＣＶＤ装置は、被成膜基板に向けて成膜ガスを供給するとともにステージ部との間に高周波電界を形成して前記成膜ガスにプラズマを発生させるシャワー電極とを備え、前記シャワー電極は、内部空間と、前記内部空間へ前記成膜ガスを供給する本体部と、表面における前記成膜室に面した第１の領域に複数の孔を有しており、前記内部空間から前記複数の孔を介して前記成膜室に前記成膜ガスを供給するように前記第１の領域が前記ステージ部と対向しているシャワープレートとを有し、前記シャワープレートは、前記本体部から分離可能であり、前記シャワープレートの前記表面は、前記第１の領域の外側に配された第２の領域に給電点を有する。 （もっと読む）

【課題】紫外線遮蔽機能をもち、酸性雨に対する耐性の高いハードコート構造を備えた透明体を提供する。
【解決手段】透明基材１と、基材１上に順に配置された、紫外線吸収層２とハードコート層３とを有する透明体であって、紫外線吸収層２として、アモルファスなＴｉＯ_２膜を用いる。紫外線吸収層２とハードコート層３との間には、アモルファスなＴｉＯ_２と、ハードコート層を構成する材料との混合物からなる混合層４が配置されている。ＴｉＯ_２膜は、耐酸性が高い性質を有し、しかも、アモルファスなＴｉＯ_２膜は光触媒性能を備えないため、基材との密着性が高い。混合層４は、紫外線吸収層２とハードコート層３との密着性を高め、冷熱サイクルを受けた場合の膜剥がれを防止する。 （もっと読む）

【課題】大面積の基板上に低コストで微結晶性の半導体膜を形成することが可能な半導体膜の製造方法および薄膜トランジスタの製造方法を提供する。
【解決手段】一次微結晶半導体膜１１に対して成膜成分を有しないプラズマ処理を行うことにより、一次微結晶半導体膜１１の一部をエッチングして薄膜化微結晶半導体膜１２を形成し、この薄膜化微結晶半導体膜１２から二次微結晶半導体膜１３を形成する。一次微結晶半導体膜１１のエッチングにより結晶性を乱す要因となっている部分が選択的に除去され、結晶性の良い薄膜化微結晶半導体膜１２となる。二次微結晶半導体膜１３は、薄膜化微結晶半導体膜１２の良好な結晶性を引き継いで成長し、基材１０との界面においてもアモルファス相が少なくなる。二次微結晶半導体膜１３を形成する前に、薄膜化微結晶半導体膜１２を、固相成長を起こす温度でアニール処理し、更に結晶性を高めてもよい。 （もっと読む）

【課題】基板を一定温度に保つことができ、バッチ処理の回数が増えても基板に形成される膜の品質を安定させることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜室内に基板Ｗを配し、基板Ｗの被成膜面にＣＶＤ法により所望の膜を形成する成膜装置１０において、電圧が印加される平板状のシャワープレート７５と、シャワープレート７５に離間して対向配置されるアノード６７とを有する電極ユニット３１を成膜室に対して着脱自在に設け、アノード６７に、基板Ｗを加熱するためのヒータＨを内蔵すると共に、アノード６７のシャワープレート７５とは反対側の面に、アノード６７を冷却するための冷却板９１を設け、冷却板９１に、冷却用水を循環させるための冷水配管を設けた。 （もっと読む）

前面、前面上の硬質コーティング、反射層、および硬質コーティングと反射層の間の中間帯を有するプラスチック基材を包含するプラスチックミラーであって、該中間帯が、金属および半金属、金属および半金属の酸化物および窒化物、ならびに炭素からなる群より選択される材料から形成される少なくとも１つの層を包含する、前記プラスチックミラー。 （もっと読む）

等しい荷重下で、等しい寸法のポリエチレンテレフタレートフィルムの少なくとも２倍の引張伸びを有する高分子フィルムと、平坦化層と、ケイ素、炭素、及び水素を含むプラズマ蒸着非晶質ガラス層と、を含み、平坦化層が高分子フィルム上に配置され、非晶質ガラス層が平坦化層上に蒸着され、２％〜２０％の範囲内の引張伸びを受けた後、十分な適合性を有し、伸ばされる前と比較して本質的に不変の水蒸気透過度を有する、適合性バリアシートと、適合性バリアシートの作製方法と、適合性バリアシートを含む経皮用品と、該用品を使用して哺乳動物に薬物を送達する方法と、適合性バリアシートを使用して物品を保護する方法と、を提供する。
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【課題】容器の膨張を抑制してガスバリア被膜が容器の膨張により損傷を受けることを防止することができる安価な炭酸飲料用ポリエステル樹脂製容器を提供する。
【解決手段】炭酸飲料用ポリエステル樹脂製容器１は、少なくとも胴部５を含む容器外面側の領域を被覆する熱収縮ラベル９を備える。熱収縮ラベル９は、３７℃の温度下、引張速度１ｍｍ／分で測定した、０〜２％の伸張範囲における横方向引張弾性率Ｅ（ＭＰａ）とラベルの膜厚ｄ（ｍｍ）との積Ｅ×ｄで表される復元定数Ｆ（Ｎ／ｍｍ）が、Ｆ＞１１５０−４０００ｔ（ｔは容器の胴部平均肉厚）の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】耐熱性及び耐摩耗性に優れた金型を実現できるようにする。
【解決手段】金型は、金型本体と、金型本体を覆い且つ硅素を含むダイヤモンド様薄膜とを備えている。耐熱性のダイヤモンド様薄膜は、基材の表面に形成され、硅素を含み、基材との界面における硅素濃度が、表面における硅素濃度よりも高く、基材との界面と表面との間における硅素濃度の変化が連続的である。 （もっと読む）

【課題】長期の使用に亘ってすぐれた耐欠損性と耐摩耗性を発揮するダイヤモンド被覆工具を提供する。
【解決手段】ＷＣ基超硬合金またはＴｉＣＮ基サーメットで構成された工具基体表面に、粗粒結晶層と非晶質層の交互積層からなる膜厚１．５〜３０μｍの下部ダイヤモンド皮膜と、細粒結晶層と非晶質層の交互積層からなる膜厚１．５〜１０μｍの上部ダイヤモンド皮膜が被覆されたダイヤモンド被覆工具であって、下部ダイヤモンド皮膜上方側の粗粒結晶層の膜厚は、下部ダイヤモンド皮膜下方側の粗粒結晶層の膜厚より薄膜として形成され、また、上部ダイヤモンド皮膜表面側の細粒結晶層の膜厚は、上部ダイヤモンド皮膜下方側の細粒結晶層の膜厚より薄膜として形成されてなるダイヤモンド被覆工具。 （もっと読む）

【課題】低摩擦摺動材料用の潤滑油として用いた際に極めて低い摩擦係数を示す潤滑油組成物を提供すること、及び該潤滑油組成物を用いて、特定の低摩擦摺動材料の皮膜を摺動面に有する摺動部材とを組み合わせることにより、低摩擦性に優れた摺動機構を提供すること。
【解決手段】特定のリン−亜鉛含有化合物、および特定の硫黄含有化合物から選ばれる添加剤を配合してなる低摩擦摺動材料に用いられる潤滑油組成物、及び相互に摺動する２つの摺動部材の摺動面に、前記潤滑油組成物を介在させた摺動機構であって、２つの摺動部材のうち少なくとも一方の摺動面が、水素を５〜５０ａｔｏｍ％含有するＤＬＣ皮膜が形成されている摺動機構である。 （もっと読む）

【課題】ピンホールによる流体の浸入が少ない耐久性に優れたダイヤモンド被覆電極を提供する。
【解決手段】１層のダイヤモンド層２４ａ・・の膜厚Ｔｃが３０〜４０ｎｍの超微結晶であるため、ピンホールそのものが小さくなるとともに表面の撥水効果が高くなって電解液等の流体の浸入が抑制される。また、核付け処理を繰り返して超微結晶ダイヤモンド多層コーティング処理を実施し、所定膜厚Ｔｄのダイヤモンド多層膜２２ａ・・を所定の積層数Ｎ（≧３）だけ形成するため、ダイヤモンド多層膜２２ａ・・の密着性が向上し、単に種結晶生成処理および結晶成長処理を繰り返すだけで目的とする総膜厚Ｔｔとする場合に比較して被膜強度が高くなり、ピンホールによる流体の浸入が抑制されることと相まって剥離に対して優れた耐久性が得られるようになる。ダイヤモンド多層膜２２ａ・・の間にグラファイト層を設けることも、剥離に対する耐久性向上に有効である。 （もっと読む）

本発明は、シリコン含有ダイヤモンド状炭素薄膜、その製造方法、及びその用途に関し、シリコン含有ダイヤモンド状炭素薄膜は、内部及び表面にシリコンを含有するダイヤモンド状炭素薄膜の表面に、その薄膜の表面に存在する炭素及びシリコン原子とその薄膜の表面に親水性を付与する原子（Ａ）間の化学結合を有することを特徴とする。
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構成要素間の接着が良好な抵抗変化型メモリデバイスを形成するための方法および装置が提示される。第１の導電層が基板上に形成され、この第１の導電層の表面が処理されて、表面に接着促進材料が添加される。接着促進材料は、表面の上に層を形成してもよく、表面中に組み入れられてもよく、または第１の導電層の表面を単に安定化処理してもよい。可変抵抗層が処理済表面の上に形成され、第２の導電層が可変抵抗層の上に形成される。さらに、接着促進材料は、可変抵抗層と第２の導電層との間の界面に含まれてもよい。
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【課題】可撓性基板に対する処理の品質に面内分布が生じることを抑制でき、かつ基板のたわみを十分に抑制できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】カソード電極１３０及びアノード電極１２０は、処理容器１１０内に互いに対抗して配置される。アノード電極１２０は、帯状の可撓性基板５０を加熱する。またアノード電極１２０の側面のうち、平面視において可撓性基板５０が搬送時に通る部分には、湾曲部１２２，１２４が設けられている。湾曲部１２２，１２４は、可撓性基板５０の搬送方向と同方向に傾斜を有し、平面視において縁が外側に凸となる方向に湾曲している。 （もっと読む）

【課題】熱膨張差により同軸管外部導体と防着板との相対位置が変位しても安定した電気的な接続を維持することができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】長手方向に熱伸び可能とされた放電電極３に電力を供給する芯線１４ａの周囲を覆うとともに接地された同軸シールド１２Ｓと、放電電極３に対向して基板８を支持する基板テーブル２と、基板テーブル２の面に沿う方向であって、放電電極３の長手方向と交差する方向に熱伸び可能とされ、基板テーブル２とともに放電電極３および基板８の周囲を覆う防着板４と、少なくとも同軸シールド１２Ｓに取り付けられ、防着板４に対して放電電極３の熱伸び方向、および、防着板４の熱伸び方向に相対移動可能とされるとともに、同軸シールド１２Ｓと防着板４とを電気的に接続する同軸シールド側接続部と、が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）