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Fターム[5E339BD11]の内容

プリント配線の製造 (8,867) | 導体層の形成、パターン化 (920) | 全面導体層のパターン化 (350)

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【課題】高感度で且つホールドタイムによる感度低下(すなわち感度変化)が少ない、すなわち保存安定性が良好な感光性樹脂積層体を提供する。また、該感光性樹脂積層体を用いて、基板上に感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層を露光及び現像することを含むレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】支持体フィルムと、感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層と、保護フィルムとを少なくとも含む積層体であり、該保護フィルムが、OH基の両隣にそれぞれ独立に水素又は炭素数1〜6のアルキル基を有する4−フェノール構造を含む酸化防止剤を含有し、該酸化防止剤のフェノール当量が3.1×10-3以下であり、該保護フィルム中の該酸化防止剤の含有量が、1ppmより多く3000ppm以下である、感光性樹脂積層体。 (もっと読む)


【課題】 微細な導体バターン及びビアホールを少ない工程数で短時間且つ高精度に形成することができる電子部品製造方法を提供する。
【解決手段】 導体パターン形成工程S1の塗布過程S11で塗布した基板上の感光性導体ペーストを露光過程S12で露光する。パターン状の凸部と凹部を有する第1のモールドマスクを用い、UV光を照射して、凹部内の感光性銀ペーストを硬化する。現像過程S13,焼成過程S14を経て、導体パターンを形成する。ビアホール形成工程S2の塗布過程S11で導体パターン上に塗布した感光性ガラスペーストを露光過程S22で露光する。突起状の凸部を有する第2のモールドマスクを用い、UV光を照射してビアホールに対応する部分以外を硬化させた後、現像焼成過程S23でビアホールを形成し、上層塗布過程S24で上層の感光性銀ペーストをビアホールを介して導体パターンに接続する。 (もっと読む)


【課題】曲面に導電性を有する層が形成された立体形状を有する導電性成形品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】導電性成形品60は、立体形状を有する成形樹脂部62と、成形樹脂部62上に形成され、導電性ナノファイバー3を含み、その導電性ナノファイバー3を介して導通可能である導電パターン層6と、成形樹脂部62上の導電パターン層6が形成されていない部分に形成され、導電性ナノファイバー3を含み、導電パターン層6から絶縁された絶縁パターン層5とを備えている。 (もっと読む)


【課題】新規光重合性樹脂積層体の提供。
【解決手段】光重合性樹脂組成物からなる層に支持フィルムが積層されてなる光重合性樹脂積層体であって、該光重合性樹脂組成物が、以下の:
(a)重量平均分子量が2,500〜50,000であり、かつ、酸当量が100〜1,500であるバインダー用樹脂10〜90質量%、
(b)光重合可能な反応基を有する化合物5〜50質量%、
(c)光ラジカル重合開始剤0.1〜20質量%、
(d)色材1〜20質量%、及び
(g)ラジカル重合禁止剤0.1〜20質量%、
を含有し、ここで、該(g)成分の含有量は、該(c)成分の含有量の1.0〜5.0倍であり、該支持フィルムの厚みは、5〜100μmであり、かつ、該光重合性樹脂組成物からなる層の光学濃度は、0.5〜2.0であることを特徴とする前記光重合性樹脂積層体。 (もっと読む)


【課題】銅張り積層板の銅箔エッチングにより回路形成を行うに際し、エッチングのダレを防止し、エッチング側面の傾斜角度が80〜95度の範囲にある回路幅の均一な回路形成する。
【解決手段】エッチングにより回路形成を行うに当たり、エッチング面側に銅よりエッチングレートの遅いコバルト、ニッケルなどの金属、又は合金層7を形成した電子回路用銅箔1の表面にエッチング用レジスト層3を形成し、塩化第二銅水溶液を用いてエッチングする。 (もっと読む)


【課題】パターン形成のタクトタイムの短縮を可能とし、またパターン層と誘電体層の一括焼成を可能にし、パターン形成のトータル的低コスト化が可能なパターニング方法を提供することを目的とする。
【解決手段】無機粉末と、ガラスフリットと、溶剤からなる混合物を基板上に塗布する塗布工程と、塗布された前記混合物を乾燥する乾燥工程と、レーザー照射により前記乾燥工程を経た塗膜にパターンを描画するレーザー照射工程と、前記パターンを現像する現像工程とを含むパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】フレキシブル基板上にカラーフィルタやTFTをパターン形成する際の寸法安定性を向上させることができるパターン形成方法の提供。
【解決手段】フレキシブル基板3を寸法安定なハード基板1に仮留剤で仮留めする仮留工程Aと、前記仮留剤のガラス転移温度以上、前記フレキシブル基板3を構成するポリマーのガラス転移温度以下の温度で前記フレキシブル基板3をアニール処理するアニール処理工程Bと、前記フレキシブル基板3上にフォトリソグラフィーによりパターンを形成するパターン形成工程Cと、パターン形成したフレキシブル基板3をハード基板1から剥離する剥離工程Dとを含むパターン形成方法である。 (もっと読む)


【課題】プラスチック部材への回路形成工程を短縮することができ、稼働率の上昇および低コスト化を実現できるプラスチック部材への回路形成方法を提供する。
【解決手段】1回成形法によるプラスチック部材への回路形成方法において、(イ)メッキのつき易い特殊成分を含む樹脂材料を用いて射出成形体を形成す工程と、(ロ)射出成形体上に無電解による電極メッキを施す工程と、(ハ)電極メッキ上にレジスト膜を形成する工程と、(ニ)回路パターンとなる部分を覆う回路部レジスト膜を除いて、レジスト膜にレーザ光を照射してレジスト膜を除去する工程と、(ホ)回路パターンとなる回路電極メッキを除いて、電極メッキをエッチングにより除去する工程と、(ヘ)回路部レジスト膜を洗浄除去する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】ウェットライン法を用いることなく、フレキシブル基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】樹脂シート3上にパターンが開口されたマスキングテープ2を貼り付ける工程と、マスキングテープ2が貼り付けられた樹脂シート3上に、紫外線硬化型塗料を塗付して、密着層5を形成する工程と、密着層5上に金属導電膜を蒸着させて金属導電層8を形成する工程とを含むフレキシブル基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】レーザーを用いた配線導体の形成方法において、配線導体となるべき金属の、レーザー光の照射による飛散を防止する。
【解決手段】基材1上に金属膜3を形成し、金属膜3の上方からレーザー光5を照射することによって、基材1に溝6を形成するとともに、金属膜3を構成していた金属を溶融させながら、溶融した金属を溝6に充填し、次いで、金属を冷却・固化することによって、基材1に埋設された配線導体2を得るにあたって、レーザー光透過性を有する飛散防止層4を金属膜3上に形成し、飛散防止層4によって、金属膜3を構成する金属の、レーザー光5の照射による飛散を防止する。 (もっと読む)


【課題】優れた導電性を有する基板を容易に製造できる製造方法を提供すること。
【解決手段】金属線14を有する基板10の製造方法であって、基板層12に金属層14aを積層する工程と、金属層14aの表面の少なくとも一部を樹脂層16で被覆する工程と、樹脂層16により被覆されていない金属層14aの部分をエッチングにより除去することで、基板層12上に金属線14を形成する工程と、を含む、基板10の製造方法とすること。 (もっと読む)


【課題】 スルーホールやパターン穴など、サンドブラスト加工面に基板材料の性能を劣化させることなく密着力の強い電極膜を形成する立体配線構造体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 単結晶材料にサンドブラスト加工によりに複数のスルーホール乃至パターン穴を形成し、その単結晶材料の摂氏温度基準で融点の80〜95%の温度で熱処理をし、その後、単結晶材料の少なくとも一主面及びスルーホール乃至パターン加工面に電極膜13を形成するよう構成する。 (もっと読む)


【課題】作成時間がより短く安価に基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、銅箔に絶縁層を積層する絶縁層積層工程と、絶縁層上に金属製の基板を貼り合わせる基板工程と、前記金属製の基板を二枚貼り合わせる貼合工程と、銅箔をエッチングして回路を形成する回路形成工程と、エッチング工程後に二枚の基板を分離する分離工程からなる基板の製造方法であり、貼合工程で基板の間に熱可塑性樹脂製又は熱硬化性樹脂製のいずれか一方のシートを介在させることを特徴し、貼合は、70℃以上300℃以下の温度により加熱、かつ0.3kgf/cm以上50kgf/cm以下の圧力下で行うことを特徴する基板の製造方法に関する。 (もっと読む)


【課題】製造工程を増加させることなく、積層基板の切断面に付着した破片や粉末を飛散させないようにして異物の発生を防ぐことができ、異物に起因する配線欠陥などの不良の発生を低減でき、良品率を向上できる配線基板の製造方法及び配線基板を提供する。
【解決手段】電気的絶縁性を有し高分子樹脂を含む基材1の少なくとも片面に導電性金属層3を形成した積層基板7の導電性金属層3をドライフィルムレジスト8を用いたフォトリソグラフィにより配線形成加工して、基材1上に導電性金属からなる配線層を形成する配線基板の製造方法であって、積層基板7として長尺のロール材を用いると共に、ドライフィルムレジスト8として積層基板7よりも広幅のドライフィルムレジスト8を用い、前記ロール材から引き出された積層基板7の導電性金属層3上にドライフィルムレジスト8を貼り合わせる際において、積層基板7の端面をドライフィルムレジスト8の広幅の端部を利用して被覆する。 (もっと読む)


【課題】レジスト膜を剥離した後、回路パターンの変色を除去することで、回路パターンにおけるワイヤボンディング不良を抑制する。
【解決手段】ドデシルベンゼンスルホン酸を含む剥離液により、パターン形成工程後の回路基板に対し、レジスト膜を溶解するレジスト剥離工程、上記レジスト剥離工程後の回路基板をアルコール脱脂した後、青化ソーダにより基板表面を活性化する表面活性化工程、上記表面活性化工程により表面の活性化された回路基板を洗浄する洗浄工程、により回路パターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】1又は積層された2以上のプリント配線板に形成された配線を確実かつ容易に接続できるとともに、接続部分の検査を容易に行うことのできるプリント配線板の接続方法及びプリント配線板の接続構造を提供する。
【解決手段】1又は積層された2以上のプリント配線板2の異なる配線層に形成された配線同士3,4を接続するプリント配線板1の接続方法であって、上記プリント配線板に貫通穴5を設ける貫通穴形成工程と、上記プリント配線板と、導電性材料から形成された導電性シート6とを積層するシート積層工程と、上記導電性シートを、上記プリント配線板との間で挟圧しあるいは上記貫通穴を介して吸引することにより、上記導電性材料を上記貫通穴に充填して、上記配線同士を接続する導通部形成工程とを含んで構成される。 (もっと読む)


【課題】本発明は、FPCの電気的な接続信頼性を向上させた回路構成体及び回路構成体の製造方法を提供する。
【解決手段】回路構成体12であって、FPC14と、FPC14に貼付された複数の導電路15と、導電路15のうちFPC14に貼付された面と反対側の面に積層されたプリプレグ16とを、を備え、導電路15は、表面及び裏面を有する金属板材22の表面及び裏面の一方にFPC14又はプリプレグ16を貼付した状態で、金属板材22をエッチングすることにより形成されている。 (もっと読む)


【課題】現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、良好なエッジフューズ性と追従性、高いめっき耐性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】(a)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜550であり、かつ、重量平均分子量が5000〜500000であるアルカリ可溶性高分子:20〜90質量%、(b)エチレン性付加重合モノマー:3〜70質量%、(c)特定の2,4,5−トリアリ−ルイミダゾ−ル二量体:0.1〜20質量%、及び(d)下記一般式(III)で表されるリン酸アリル化合物:1.0〜15質量%を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
(もっと読む)


【課題】光重合性インクジェット材料の硬化膜を十分に除去すると共に、当該硬化膜により皮膜される基板や金属配線などを腐食しない、優れた剥離特性を有する剥離液の提供。
【解決手段】テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド(A)を0.05重量%以上2重量%以下、有機アミン(B)を1重量%以上10重量%以下、水溶性有機溶媒(C)を60重量%以上95重量%以下、及び水(D)を0.5重量%以上20重量%以下含有する、剥離液。 (もっと読む)


【課題】液経時安定性が良好であり、且つ現像性、耐エッチング性等の回路形成能が良好なポジ型感光性アニオン電着塗料用組成物を提供すること。
【解決手段】(A) 以下の(a)〜(c)成分を用いて共重合することにより得られる、主鎖末端にカルボキシル基を有する水溶性又は水分散性ビニル系共重合体 60〜95重量部、
(a)置換基としてカルボキシル基を有する共重合性ビニル系単量体 2〜15重量部
(b)(a)以外の共重合性ビニル系単量体 85〜98重量部
(c)カルボキシル基を有する連鎖移動剤 共重合性ビニル系単量体(a)と(b)の合計100重量部に対し、0.05〜10重量部
(B) 1分子につき、平均1から2個の感光性基を有する低分子感光剤 5〜40重量部
(C) 中和剤としての3級アミン (A)成分のカルボキシル基1モルに対し、0.2〜0.9モルを含有することを特徴とするポジ型感光性アニオン電着塗料用組成物。 (もっと読む)


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