【課題】リードタイムを短縮しスループットを高める。
【解決手段】基板処理装置は、複数枚の基板を収納し開閉自在なキャップを有する基板収納容器に対して基板を出し入れする、垂直方向に複数設置された基板ローディングポートと、複数の基板ローディングポートに載置された基板収納容器のキャップを保持するクロージャ４０がそれぞれ設けられ、基板ローディングポートに載置された基板収納容器のキャップを開閉する際にクロージャによりキャップを保持しつつ、キャップを水平方向に個別に移動させる、基板ローディングポートそれぞれに設けられた開閉装置２０と、が構成されている。 （もっと読む）

【課題】基板上に塗布される液状体の状態を改善することが可能な塗布装置を提供すること。
【解決手段】所定の塗布位置において基板を立てた状態で回転させつつ前記基板の表面及び裏面にそれぞれ液状体を吐出するノズルを有する塗布機構と、前記基板を基板搬入位置、前記塗布位置及び基板搬出位置の間で搬送する搬送機構と、前記基板搬入位置、前記塗布位置及び前記基板搬出位置とは異なる位置であって前記搬送装置が接続可能な保持位置でダミー基板を保持するダミー基板保持機構とを備える。 （もっと読む）

【課題】ロードポート装置を構成する蓋体着脱装置とマッピング装置の干渉を回避して、各装置の作動時間を可能な限りオーバーラップさせて、総作動時間の短縮を図る。
【解決手段】ロードポート装置Ｐを構成する蓋体着脱装置Ａ及びマッピング装置Ｍには、蓋体吸着板５がマッピングセンサを取付けた主アームよりも設定値を超える値だけ低い位置に配置されたことを検出して、前記蓋体吸着板５と干渉することなく前記主アームの回動を可能とする干渉回避センサ装置Ｂを備え、前記干渉回避センサ装置Ｂにより前記設定値が検出された直後に、前記主アームをマッピング位置まで回動させて、マッピングを開始させる。 （もっと読む）

【課題】大型化し、薄型化した平板状の基板の自重による大きな撓みを発生させない基板保持方法を提案すること。また、前記提案する基板保持方法を用いることにより、多段積み上げ式の基板処理装置を効率の良い形態で、処理の均一性も良好にできる装置として提案すること。
【解決手段】平板状の基板の保持方法であって、該基板を上に凸に湾曲させて湾曲方向と垂直に交わる対向する２辺で湾曲状態を固定する。また、基板処理装置は、前記湾曲状態に固定した複数の基板を順送りに処理室内に格納する機構と、前記基板を複数段積み上げて処理する機構と、処理の終了した基板を処理室内から払い出しする機構と、を有する。 （もっと読む）

【課題】クランプ時に基板に無理な力が生じることにより発生する課題を解決する装置の提供。
【解決手段】大型ガラス基板等の基板０をその保持高さを精密に維持しつつ面内方向に自由に移動できるように案内する基板案内手段と、当該基板案内手段に保持された前記基板を面内の特定の方向に移動させるための基板駆動手段とを具備してなり、基板駆動手段が、大型ガラス基板等の基板を把持するための複数のクランプ部と、これらのクランプ部を同期させて駆動することにより、基板を基板案内手段に保持させつつ、特定方向に移動させ位置決めを行う基板駆動部とを具備してなる基板移送装置４において、クランプ部２１により基板０をクランプした際に、その基板０に無理な力が作用しないように、クランプ部２１を基板０の面外方向に逃がすための逃がし機構５９をさらに備える。 （もっと読む）

【課題】 レチクルのような板部材を強固に保持すると共に、板部材の上面、下面又は板部材を保持する部材に異物が付着していても板部材を歪ませることのないステージ装置を提供する。
【解決手段】 ステージ装置は、ステージと、前記ステージに設けられていて、前記板部材の下面に当接して前記板部材の面に垂直な方向における前記板部材を位置決めする第１位置決め部材と、前記ステージに設けられていて、前記板部材の上面に当接して前記第１位置決め部材と共に前記板部材の面に垂直な方向における前記板部材を位置決めする第２位置決め部材と、前記第１位置決め部材の周囲に第１密閉空間を形成する弾性を有する第１密閉部材と、前記第２位置決め部材の周囲に第２密閉空間を形成する弾性を有する第２密閉部材と、前記第１密閉空間と前記第２密閉空間とに前記板部材を真空吸着させるように、前記第１密閉空間及び前記第２密閉空間から空気をそれぞれ吸引する第１吸引機構及び第２吸引機構と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ウェーハの跳ね現象を抑え、ウェーハ上に均一に成膜を行うとともに、歩留り、生産性の低下を抑え、半導体装置の信頼性の向上を図ることが可能な半導体製造方法および半導体製造装置を提供する。
【解決手段】本発明の半導体製造方法は、反応炉内にウェーハを搬入し、上昇させた突き上げシャフト上にウェーハを載置し、ウェーハの中心部と外周部が所定範囲の温度差となるように、ウェーハを加熱するためのインヒータと、ウェーハの外周部を加熱するためのアウトヒータを、第１の位置に配置して、突き上げシャフト上のウェーハを、インヒータおよびアウトヒータにより昇温し、突き上げシャフトを下降させて、保持部材上にウェーハを保持し、ウェーハの中心部と外周部の温度が実質均一となるように、インヒータおよびアウトヒータを第２の位置に配置して、保持部材上の前記ウェーハを所定の温度で加熱し、ウェーハを回転させ、ウェーハ上にプロセスガスを供給することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体基板の搬送・搬入が容易なパッド搬送機構の提供。
【解決手段】吸着パッド下面に基板密着層３ａを設けた基板搬送パッドを備えるパッド搬送機構３であって、前記基板密着層３ａがこの基板密着層に貼着される基板表面と基板密着層との剥離力（ＪＩＳ Ｋ−６８５４に準拠）が１０ｍＮ／１２．７ｍｍ幅以下で、前記基板密着層表面から基板を平行にずらす剪断力が１．０Ｎ／ｃｍ^２以上であるポリオルガノシロキサン系シリコーン樹脂層で形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フィルム基板を小さい吸着力で確実に吸着して移載できる装置を提供する。
【解決手段】載置面（１４）に平置されたフィルム基板（１１）を吸着して持ち上げる移載装置（１）であって、同一仮想平面上に配列された複数の吸着パッド（２）と、それらを支持する共通の昇降枠（３）と、該昇降枠を昇降させる昇降手段を備えるものにおいて、前記昇降手段が、前記載置面の拡がり方向に離れた２つの連結部（４ａ，４ｂ）にて、前記載置面に平行でありかつ相互に平行な軸線回りの回動を許容した状態で、前記昇降枠にそれぞれ連結された２つの昇降部材（５ａ，５ｂ）と、それらを相対的な速度差および／または時間差をもって上昇させる制御手段および駆動手段（６ａ，６ｂ）を含む。 （もっと読む）

【課題】基板保持搬送装置を用いた基板検査装置において、エアーシリンダの寿命や圧力変動により２つのエアーシリンダの同期が崩れた場合にエアーシリンダ内部のかじりを吸収して、エアーシリンダにかかる負荷を少なくし、エアーシリンダの寿命低下や動作不良を低減する搬送装置を備えた基板検査装置を提供する。
【解決手段】、基板の搬送方向に対して直交する方向の基板の左右の両端部を基板保持部で保持して基板を搬送する搬送装置であって、基板保持部の昇降を１対からなる２組の昇降機構で駆動させ、１対の昇降機構の内、一方の昇降機構上部には基板保持部が搬送方向と平行な方向に回転可能な機能を有する回転機構部と、他の昇降機構上部には基板保持部が搬送方向と平行な方向に回転可能で且つ可動可能な機能を有する回転機構部と、を備えたことを特徴とする基板搬送装置。 （もっと読む）

【課題】所望の中間搬送位置に被搬送物を搬送可能な、簡易で且つ安価な構成の搬送機構を提供する。
【解決手段】圧縮エアにより第一の搬送位置Ａと第二の搬送位置Ｂ間を選択的に往復動するピストン部材５４とを含むエアアクチュエータ５０と、ピストン部材５４に連結され被搬送物を保持する保持手段と、を具備する。第一の搬送位置Ａと第二の搬送位置Ｂとの間の所望の位置に少なくとも１個の中間搬送位置Ｍを有し、中間搬送位置に対応して停止手段５２が配設されている。当接部材６６が作用位置に位置づけられると、エアアクチュエータ５０によって移動される保持手段が当接部材６６に当接することによって保持手段の移動が停止され、当接部材６６が非作用位置に位置づけられると、保持手段が当接部材６６に当接することなく移動することができる。 （もっと読む）

【課題】板ガラス生産ライン工程におけるダイバータの直前に設けられ、一時的に板ガラスを留置するためのゲートコンベアにおいて、板ガラスのサイズにかかわらず、その偏りを防止する。
【解決手段】所定方向に配列された軸を回転中心として回転自在に軸支され、マトリックス状に配列された複数の従動ローラ７ａと、所定間隔を隔てて隣接する２列の従動ローラの間に設けられ、所定方向に平行な軸を回転中心として回転自在に軸支され、マトリックス状に配列された複数の補助ローラ１３と、補助ローラ１３を第１搬送方向に所定距離だけ往復移動させる補助ローラ移動部２０を備え、板ガラス３がメインフレーム５上に搬送された後、補助ローラを所定距離だけ移動させ、それによって、ダイバータのフォーク部９の進入を可能にする空間を確保する。 （もっと読む）

【課題】基板の割損やずれを発生させずに，静電吸着力が残留しているか否かの判定を容易にする。
【解決手段】載置台２００の表面に設けられ，直流電圧を印加して発生した静電吸着力で載置台の表面に載置された基板を保持する静電チャック２１２と，載置台の表面から突没自在に設けられ，載置台の表面から基板を持ち上げて脱離させるリフトピン２３２と，リフトピンを昇降させるリフタ２３０と，リフトピンを上昇させる前に，リフトピンで基板を持ち上げるときのリフト推力を基板重量と同等の力に設定し，静電吸着用の直流電圧を止めて基板の電荷を除去する除電処理を実行し，リフタを駆動させて設定したリフト推力でリフトピンを上昇させる制御部３００とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板保持具の姿勢を検知することで、該基板保持具の傾きを起因とした該基板保持具と基板の破損を未然に防ぐ基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を処理する処理室と、該処理室で基板を保持する基板保持具１４と、該基板保持具を載置する載置部と、該載置部に対して相対回転可能に設けられ相対回転により前記基板保持具を係合解除可能なロック部材と、該ロック部材と前記載置部とを相対回転させる回転部と、該回転部の回転動作を検出する検出部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】ウェハのエッジを把持し、センタリングとノッチ等の角度合わせを行うアライナー装置において、回転する部分にケーブルやチューブをなくすことで回転範囲に制限されない無限回転が可能な機構を構成し、タクトタイムの短縮、装置の小型化を実現することを目的とする。
【解決手段】ウェハ（１）を把持する把持機構を開閉動作させるリンク機構が、リンク機構を駆動するリンク機構駆動部に対して、ベアリング（１４）を介して支持されるよう構成し、把持機構とリンク機構のみが回転できる構造とした。 （もっと読む）

【課題】クリーンルームのコンパクト化、かつ、高清浄度化を達成可能な自動倉庫システム及びその容器移載方法を提供するものである。
【解決手段】本発明に係る自動倉庫システムは、クリーンルーム１１内に配置されるものであり、容器１４を格納する棚１３を垂直方向に複数段設け、容器１４をその棚１３と搬入出ポート１２との間で移載する移載手段１６を棚１３と平行に設けると共に、その移載手段１６に棚１６の側に向かって伸長自在なベース部材２４を設けてなり、そのベース部材２４は、固定系のベース本体７１と、ベース本体７１の長手方向に伸長自在なスライド部材７２と、スライド部材７２の上面に設けられ、スライド部材７２の長手方向にスライド自在で、かつ、昇降自在な爪部材７３とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】
精度の高い位置決めを効率よく行う駆動装置を提供する。
【解決手段】
非圧縮性液体を充鎮させた膜構造のダイヤフラム構造体（１２０）と、前記ダイヤフラム構造体（１２０）に前記非圧縮性液体を送り込むピストン機構（１２１，１２２）と、を備え、物体を駆動する駆動装置において、前記ピストン機構（１２１，１２２）は異なる断面積を有する複数のピストンを有する、ことを特徴とする駆動装置。 （もっと読む）

【課題】矩形の基板がステージ上で傾いて載置されても、当該基板を位置決めし直すことのできる矩形基板の載置位置矯正方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗの左辺Ｌに二点で接触可能な一対の第一部材１１及び第二部材１２を前後方向基準線Ｘ０に平行な直線Ｘ１上に位置させ、基板Ｗの前辺Ｆに一点で接触可能な第三部材１３、及び、基板Ｗの後辺Ｂに一点で接触可能な第七部材１７を、基板Ｗの前後方向寸法ｂよりも広い間隔でかつ左右方向基準線を中心として位置させる。左側の前記二点及び右側の第五部材１５と第六部材１６とで基板Ｗを左右方向に挟むと共に、この左右方向に挟む動作の間に、基板Ｗを第四部材１４及び第八部材１８で、左右方向基準線Ｙ０を中心として前後方向に挟む。 （もっと読む）

【課題】パレット保持の信頼性及び動作の信頼性を確保し、生産性を向上する。
【解決手段】基板支持装置が、基板１２を搭載するパレット８と、パレットを鉛直姿勢した状態で、パレットの径方向両端部を保持するパレット両端保持機構１５と、パレットの中心部を回転可能に保持するパレット中央保持機構１３と、装置本体を移動する移動機構１１と、を備え、パレット両端保持機構は、パレットの径方向両端部を板厚方向の両側から把持する機構で、移動中はパレット両端保持機構がパレットを保持し、パレット両端保持機構からパレット中央保持機構への受け渡し時は、双方の保持機構によってパレットが保持され、基板処理時はパレット中央保持機構によってパレットの中心部を回転可能に保持し、パレット両端保持機構による保持は解除される。 （もっと読む）

【課題】基板搬送空間の雰囲気が基板収容器に進入することを防止または抑制すること。
【解決手段】インデクサ空間と外部空間とは、隔壁７によって形成されている。隔壁７には、収容器載置台６に載置される基板収容器Ｃの基板出入口１０が対向する通過口８が形成されている。通過口８に対する収容器載置台６の反対側には、通過口８の全域を覆う略箱状のカバー２０が設けられている。カバー２０の対向壁２１には、基板収容器Ｃからの基板Ｗを出し入れの際にハンド１５が通過する横長の開口２８が形成されている。開口２８の高さ方向の幅は、基板収容器Ｃにおける基板Ｗの積層間隔Ｎの２倍程度の大きさに設定されている。カバー２０を支持する支持部材には、カバー２０を昇降させるためのカバー昇降駆動機構が結合されている。 （もっと読む）