ディスクの洗浄方法、ディスク浸漬・取出機構およびディスク洗浄装置
【課題】
浮き抑え部材でディスクを抑えることにより洗浄槽内でのディスクの浮きあるいはディスク倒れを防止し、浮き抑え部材からディスクへの液垂れによる洗浄不良を防止することができるディスク浸漬・取出機構を提供することにある。
【解決手段】
この発明は、上側の抑えバーとこの抑えバーに平行な一対の歯板を有する下側のディスク支持フレームとを持つディスクホルダによりディスクを洗浄槽に浸漬して、洗浄されたディスクを洗浄槽から取出すものであり、取出すときに上側の抑えバーを液面より先に上に上げてかつディスク支持フレームに支持されたディスクに液垂れがしないようにディスクの上部から待避させるので、上側の抑えバーが待避した状態でディスク支持フレームのディスクが後から液面に出ることになる。
浮き抑え部材でディスクを抑えることにより洗浄槽内でのディスクの浮きあるいはディスク倒れを防止し、浮き抑え部材からディスクへの液垂れによる洗浄不良を防止することができるディスク浸漬・取出機構を提供することにある。
【解決手段】
この発明は、上側の抑えバーとこの抑えバーに平行な一対の歯板を有する下側のディスク支持フレームとを持つディスクホルダによりディスクを洗浄槽に浸漬して、洗浄されたディスクを洗浄槽から取出すものであり、取出すときに上側の抑えバーを液面より先に上に上げてかつディスク支持フレームに支持されたディスクに液垂れがしないようにディスクの上部から待避させるので、上側の抑えバーが待避した状態でディスク支持フレームのディスクが後から液面に出ることになる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ディスクの洗浄方法、ディスク浸漬・取出機構およびディスク洗浄装置に関し、詳しくは、磁気ディスク，そのディスクサブストレート、光ディスク、ウエハのようなディスク（円板）の汚れをリンス溶剤などを使用して超音波洗浄等を行う薬液循環型の薬液洗浄装置において、浮き抑え部材でディスクを抑えることにより洗浄槽内でのディスクの浮きあるいはディスク倒れを防止するとともに、浮き抑え部材からのディスクへの液垂れによるディスクの洗浄不良を防止することができるようなディスクの洗浄方法およびディスク浸漬・取出機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ハードディスクのサブストレートなどでは、研削、研磨、スパッタリング、メッキ等の工程の後にディスクの薬液洗浄が行われている。このようなハードディスクや、ウエハのようなディスクの薬液洗浄には、複数の洗浄工程と洗浄後の乾燥工程とがある。
洗浄工程では、通常、垂直に複数枚のディスクを配列したカセット、キャリア（あるいはトレイ）を洗浄液に浸けて超音波等により洗浄する洗浄槽（あるいは洗浄装置）が知られている。この場合には、洗浄後のディスクの乾燥は、カセット、キャリア（あるいはトレイ）を乾燥室に搬送してそこで行われる。
このようなディスクホルダ洗浄に換えて、シャワー洗浄槽、薬液洗浄槽、超音波洗浄槽、純水洗浄槽それぞれにコンベアを設けて、ディスクを各槽においてコンベア搬送して順次各槽を移動させて洗浄をするスクラブ洗浄装置が公知である（特許文献１）。
超音波洗浄槽でのディスク等のディスクの洗浄は、リンス等の溶剤が薬液として使用される。薬液は、通常、薬液タンクと超音波洗浄槽とを並置してオーバフローした薬液を薬液タンクに還流させて循環させる形態を採る。この種の循環型のディスクの洗浄方法および洗浄装置が公知である（特許文献２）。
【特許文献１】特開２００１−９６２４５号公報
【特許文献２】特開２００２−１５７２４０号公報
【０００３】
ハードディスクは、現在では自動車製品や家電製品、音響製品の分野にまで浸透し、２．５インチから１．８インチに、さらには０．８５インチというように１．０インチ以下のハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）が使用されてきており、ＨＤＤ自体が小さくなってきている。しかも、ガラスディスクでは、その厚さは０．５ｍｍ程度と薄くなり、ウエハや従来のディスクよりもディスクの重量が数ｇと非常に軽い。そのため、洗浄中や洗浄液にディスクを浸漬する過程であるいは洗浄液からディスクを取出す過程でディスクが浮きあるいはディスクが倒れが発生し易い。また、特に、薬液循環型の洗浄装置においては洗浄液の流れに応じてディスクが浮きあるいはディスクが倒れが発生し易く、それにより隣接するディスクやディスク受け部材と接触して欠けたり、洗浄不良の原因になる。
そのためディスクあるいはウエハなどの浮きを防止する抑えロッドや抑えバーなどでディスクあるいはウエハなどを抑えての洗浄が行われている（特許文献３，４，５）。
【特許文献３】特開平８−１０７３５号公報
【特許文献４】実開平６−５２１４４号公報
【特許文献５】特開平１１−３５４４０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ディスクをロッドやバーなどで抑えると、洗浄装置へのディスクの搬入あるいは搬出の際にディスクチャックなどによるディスクハンドリング処理の邪魔になる。そこで、特許文献３〜５に示されるようにディスク抑え部材を洗浄槽の内部あるいはディスクの上部に設けてディスクの搬入・搬出のハンドリング処理のときには待避させる必要がある。
一方、ディスクが２．５インチから１．８インチに、さらには１．０インチ以下になると、１列洗浄ではなく、多列洗浄になるので、特許文献４，５のようなディスクあるいはウエハの上側にディスク抑え部材（あるいはウエハ抑え部材）を設けて各列のディスクを上部から抑える方式を採ることが難しい。その上、ディスクの上部に位置する抑え部材の液垂れによるディスクの洗浄不良が問題となる。
特許文献３のように洗浄槽の内部にディスク抑えを設けると、ハンドリングロボットの一部を洗浄槽の内部に浸漬する必要があるので、洗浄液やディスクが汚染され易い。しかも、内部に抑え機構を設けると洗浄槽の占有面積が大きくならざるを得ない。
この発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決するものであって、浮き抑え部材でディスクを抑えることにより洗浄槽内でのディスクの浮きあるいはディスク倒れを防止し、浮き抑え部材からディスクへの液垂れによる洗浄不良を防止することができるディスク浸漬・取出機構を提供することにある。
この発明の他の目的は、ディスクの洗浄不良を低減して洗浄槽へのディスクの搬入，搬出が容易で洗浄のスループットを向上させることができるディスクの洗浄方法および洗浄装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
このような目的を達成するためのこの発明のディスクの洗浄方法、ディスク浸漬・取出機構および洗浄装置の特徴は、上側に鋸歯状に山歯が形成された一対の基板保持板を持つディスク支持フレームとこれの所定間隔を置いた上部に平行に設けられた抑えバーとを有するディスクホルダーの一対の基板保持板の谷部分と抑えバーとによりディスクの外周を係合してディスクを保持し、保持されたディスクを液体に浸漬し、ディスクを洗浄した後にディスク支持フレームよりも抑えバーを液面より上に先に上げてかつディスク支持フレームに支持されたディスクに液垂れした滴がかからない方向に抑えバーを待避させながらあるいは待避させた後にディスク支持フレームを液面より上げるものである。
【発明の効果】
【０００６】
このように、この発明は、上側の抑えバーとこの抑えバーに平行な一対の基板保持板を有する下側のディスク支持フレームとを持つディスクホルダによりディスクを保持して洗浄槽に浸漬し、洗浄されたディスクをディスクホルダを介して洗浄槽から取出すものである。
取出すときに上側の抑えバーを液面より先に上に上げてかつディスク支持フレームに支持されたディスクに液垂れがしないようにディスクの上部から待避させるようにしているので、上側の抑えバーが待避した状態でディスク支持フレームのディスクが後から液面に出ることになる。そこで、上側の抑えバーから液垂れが発生してもそれがディスクに影響を与えることはない。
また、抑えバーがディスクの上部から待避しているので、ディスク支持フレームの上部に空間が確保され、ディスク支持フレームに対するディスクの搬入・搬出のハンドリング処理において上側の抑えバーがハンドリングロボットのディスクチャックなどの邪魔になることもない。そこで、ディスク支持フレームからのディスクの排出あるいはに次に洗浄するディスクを装填することが容易になる。
その結果、この発明のディスク浸漬・取出機構は、洗浄槽内でのディスクの浮きあるいはディスク倒れが防止しでき、浮き抑え部材からディスクへの液垂れを防止できるのでディスクの洗浄不良が発生し難い。
このようなディスク浸漬・取出機構を設けることでディスクハンドリンス処理が容易なディスクの洗浄方法および洗浄装置を実現でき、ディスクの洗浄不良を低減して洗浄処理のスループットを向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
図１は、この発明のディスクの洗浄方法を適用した一実施例のディスク浸漬・取出機構の説明図であり、図２は、ディスクホルダの上側の抑えバーの説明図、図３は、ディスクホルダの下側のディスク支持フレームの説明図、図４は、そのディスク浸漬・取出し動作についての説明図である。
図１において、１０は、ディスク浸漬・取出機構であって、１はそのディスクホルダ、２はホルダ昇降機構、３はカム機構、４は洗浄されるディスク、５は超音波洗浄槽、６は支柱フレームである。
なお、超音波洗浄槽５における超音波発生装置、薬液排出還流路、薬液供給循環路などは省略してある。
ディスクホルダ１は、上側の抑えフレーム１１と、下側のディスク支持フレーム１２とからなり、これらの間に点線で示すようにディスク４が所定間隔おきに多数起立姿勢で保持される。
【０００８】
抑えフレーム１１は、図２の平面図にも示すようにその枠も含めて格子状に４列の基板保持板としての歯板１１ａが設けられたフレームであって、各歯板１１ａの下側片側に鋸歯状に山歯１１ｂが設けられいる。ここで言う山歯とは三角形状をした突部を言うものであり、頂部の先端側は平らであってもよい。
抑えフレーム１１は、片側端部がホルダ昇降機構２の横スライド昇降ブラケット１３に片支持固定され、超音波洗浄槽５の液面Ｓに対して上下方向に昇降するとともに矢印とともに記号で示すように超音波洗浄槽５の洗浄液の液面Ｓに沿った図面に垂直な横方向にスライドする。
歯板１１ａは、図２の平面図に示す外側の枠も歯板であり、それぞれに山歯１１ｂが形成されている。歯板１１ａの配列間隔はＤであり、配列間隔Ｄがディスク４の直径ｄ（横方向の外形幅）よりも大きい。
ディスク支持フレーム１２は、図３の正面図に示すように、保持するディスク４の中心に向かって１２０゜で対向するように傾斜配置された一対の、基板保持板としての歯板１２ａが４列ベースフレーム１２ｃに設けられ、一対の歯板１２ａは、歯板１１ａに対応構造のものであり、抑えフレーム１１の歯板１１ａのそれぞれに対応するように一対、対応で配列されて各一対の歯板１２ａは、正面からみて歯板１１ａから１２０゜の角度の間隔で両側に位置してディスク４の外周に山歯１２ｂ（図１参照）が係合するように設けられている。
なお、山歯１２ｂの間の谷の大きさは、所定間隔おきに多数起立姿勢でディスク４を保持できるものである。また、配列方向のディスク４を保持する配列間隔、すなわち、一対の歯板１２ａと次の一対の歯板１２ａとの間隔もＤである。
山歯１２ｂは、各歯板１２ａの上側片側に鋸歯状に設けられている。このディスク支持フレーム１２は、図１に示すように、抑えフレーム１１と同じように片側端部がホルダ昇降機構２の昇降ブラケット１４に片支持固定され、超音波洗浄槽の液面Ｓに対して上下方向に昇降する。
結果として各歯板１１ａの山歯１１ｂと各歯板１２ａの山歯１２ｂとはそれぞれディスク４の外周に沿って１２０゜間隔で配置されている。これにより、これら山歯と山歯との間の谷部分に多数のディスク４が山歯の間隔で３点チャックされる。
【０００９】
ホルダ昇降機構２は、横スライド昇降ブラケット１３と昇降ブラケット１４、そして昇降機構１５とからなる。昇降機構１５は、Ｚ軸移動機構１５ａとその駆動機構１５ｂ、そしてＺ軸移動機構１５ａに設けられたガイド溝１５ｃからなる。
横スライド昇降ブラケット１３は、足側に抑えフレーム１１の端部が固定され、頭部が９０゜折れたクランク形状をしていて、折れた頭部の先端側にカム機構３を構成するカムフォロアー３ａが設けられた逆Ｌ字型のブロックである。
板カム３ｂは、図４（ａ）〜（ｄ）の各図に示されるように垂直方向に対して１５゜程度傾斜する斜面３ｃを有し、上端部が垂直面３ｄとなっているカムである。
図１に戻り、昇降ブラケット１４は、足側にディスク支持フレーム１２の端部が固定され、頭部が横スライド昇降ブラケット１３の折れた頭部の下側に位置する柱状ブロックである。
【００１０】
昇降機構１５は、支柱フレーム６の沿って設けられ、横スライド昇降ブラケット１３と昇降ブラケット１４とを昇降させる。また、横スライド昇降ブラケット１３は、Ｚ軸移動機構１５ａの内部に設けられたばねによりカムフォロアー３ａと板カム３ｂとの摺動係合を保証する付勢が与えられている。
カムフォロアー３ａが係合する板カム３ｂは、超音波洗浄槽５の壁面５ａの外側でこれよりも上に延びたに支柱フレーム６において壁面５ａに対向するように壁面５ａより上の位置に設けられている。
１６は、昇降機構１５の横スライド昇降アームであり、横スライド昇降ブラケット１３に結合され、ロッド１６ａを介してＺ軸移動機構１５ａに結合されている。ロッド１６ａは、図面に対して垂直な方向に移動可能であり、これにより抑えフレーム１１を超音波洗浄槽５の液面Ｓに対して上下方向に昇降するととも超音波洗浄槽５の洗浄液の液面Ｓに沿った図面に垂直な横方向にスライドさせる。
１７は、昇降アーム１６の下側に設けられた昇降機構１５の昇降アームであり、昇降ブラケット１４に結合され、ロッド１７ａを介してＺ軸移動機構１５ａに結合されている。
昇降機構１５は、これら横スライド昇降アーム１６，昇降アーム１７を同時に昇降する駆動と、昇降アーム１６のみ単独で昇降する駆動とを行う。
横スライド昇降ブラケット１３と昇降ブラケット１４とのそれぞれは、横スライド昇降ブラケット１６と昇降ブラケット１７とを昇降することで昇降し、これにより抑えフレーム１１とディスク支持フレーム１２が昇降する。
なお、横スライド昇降アーム１６と昇降アーム１７とは図面裏面側にも設けられていてもよい。この場合には、横スライド昇降ブラケット１３と昇降ブラケット１４は図面の前後両側で支持されることになる。
【００１１】
昇降機構１５とカム機構３とによる超音波洗浄装置５へのディスク浸漬・取出し動作について図４（ａ）〜（ｄ）を参照して以下説明する。
図４（ａ）は、ディスクチャック２０を有するディスクハンドリングロボット（図示せず）からディスクチャック２０を介してディスク４をディスクホルダ１のディスク支持フレーム１２に起立姿勢で受けた状態を示している。ディスク４は、一対の歯板１２ａの山歯１２ｂの谷部分で支持され起立している。
このときには、カム機構３のカムフォロアー３ａは、板カム３ｂの上端部の垂直面３ｄの上部に係合している。
横スライド昇降ブラケット１３は、横方向にスライドし、超音波洗浄装置５の薬液の液面Ｓに沿った方向に抑えフレーム１１をディスク４の頂点から所定距離Ｄ／２だけ移動（オフセット）させている。そこで、抑えフレーム１１の歯板１１ａとは、ディスク支持フレーム１２に保持されたディスク４の外形幅（直径ｄ＜Ｄ）から外れた位置にある。
【００１２】
ディスク支持フレーム１２へのディスク４の装填は、抑えフレーム１１の歯板１１ａと歯板１１ａの間の空間を通して行われる。このとき、ディスクチャック２０がディスク支持フレーム１２に１枚ずつディスクをセットしてもよいし、ディスクチャック２０をパラレルにディスクハンドリングロボットに多数設けて、多数同時に多数ディスク支持フレーム１２にセットするようにしてもよい。さらに、起立姿勢で多数ディスクを整列して保持するアームを持つロボットハンドで同時にディスク４がディスク支持フレーム１２にセットされてもよい。
ディスクチャック２０の幅は、図２（ｂ）の平面図に示す抑えフレーム１１の歯板１１ａの配列間隔Ｄよりも狭い。起立姿勢で多数ディスクを整列して保持するアームを使用するときにはその横幅の同様である。そこで、ディスクチャック２０のディスク支持フレーム１２へのディスク４の装填に対して抑えフレーム１１の歯板１１ａが邪魔をすることはない。
なお、図示するディスクチャック２０は、ディスク４の外径をチャックする構造となっているが、これは内径チャックであってもよい。ディスクチャック２０が外径チャックのときには距離Ｄは、ｄ＋α＜Ｄとなる。ｄ＋αは、ディスクチャック２０がディスクをチャックしたときの外形幅である。
【００１３】
昇降機構１５は、図４（ａ）の状態から横スライド昇降アーム１６，昇降アーム１７を同時に降下させる。この降下においてはディスクホルダ１は、ディスクをディスク支持フレーム１２に支持するだけで保持はしない。すなわち、抑えフレーム１１の歯板１１ａの下先端は、ディスク支持フレーム１２に支持されてディスク４の外周のトップ位置よりも少し高い位置にある。言い換えれば、ディスクを保持する状態からディスク支持フレーム１２に対して抑えフレーム１１を少し浮かせた状態である。
支持されてディスク４の外周のトップと抑えフレーム１１の山歯１１ｂの先端との間には間隙βがある。間隙βは、数ｍｍである。
【００１４】
この間隙βを保持したままで昇降機構１５が横スライド昇降アーム１６，昇降アーム１７を同時に降下させると、図４（ａ）の状態からカム機構３のカムフォロアー３ａが板カム３ｂの傾斜面３ｃに入り、抑えフレーム１１が図面右から左へと移動する。これに応じて抑えフレーム１１が図面左へと移動して最初のオフセット量Ｄ／２が減少していく。そして、カムフォロアー３ａが傾斜面３ｃの下まで下がると、オフセットがゼロとなり、抑えフレーム１１の歯板１１ａが図面左へと移動してディスク４の外形のトップ上にくる。これが図４（ｂ）に示す状態である。
このときには、カム機構３のカムフォロアー３ａが傾斜面３ｃの先端側に位置していて、抑えフレーム１１の歯板１１ａが実質的にディスク４の外周トップに位置付けられている。ディスク支持フレーム１２に装填されたディスク４は、その外周トップが抑えフレーム１１より先に超音波洗浄装置５の液面Ｓより下に没する。
その結果、ディスク支持フレーム１２に対して浮かせた抑えフレーム１１は、抑えフレーム１１は、間隙βを挟んで液面Ｓの上部に位置する。超音波洗浄装置５の液面Ｓはこれらの間にある。
【００１５】
昇降機構１５が図４（ｂ）の状態からさらに横スライド昇降アーム１６を間隙βがなくなる分だけ降下させると、抑えフレーム１１とディスク支持フレーム１２とが図１に示すような状態でディスク４を保持する。カム機構３のカムフォロアー３ａは、板カム３ｂの傾斜面３ｃから離れて降下する。これが図４（ｃ）に示すディスク保持状態である。
その後、横スライド昇降アーム１６と昇降アーム１７を同時に降下させると、抑えフレーム１１の歯板１１ａも液面Ｓに没していき、カム機構３のカムフォロアー３ａは、板カム３ｂの傾斜面３ｃからさらに離れて降下していく。
昇降機構１５は、横スライド昇降アーム１６，昇降アーム１７をさらに同時に降下させて、ディスクホルダ１を液面Ｓ下よりさらに下に降下させて洗浄位置に設定する。これが図４（ｄ）に示す状態であり、ディスクホルダ１が超音波洗浄装置５の洗浄位置に配置される。
【００１６】
超音波洗浄が終了すると、ディスクホルダ１の抑えフレーム１１とディスク支持フレーム１２とは、前記とは逆に図４（ｄ）の状態から図４（ｃ）、そして図４（ｂ）の状態を経て図４（ａ）の状態に戻される。
このとき、逆に図４（ｃ）の状態から図４（ｂ）の状態へ移行する。
このときには、ディスク支持フレーム１２に装填されたディスク４は、超音波洗浄装置５の液面Ｓより下にあって、抑えフレーム１１は液面Ｓの上部に位置する。前記したように、抑えフレーム１１の歯板１１ａの下側の先端は、ディスク支持フレーム１２に支持されてディスク４の外形のトップより少し高い位置（間隔β）にあるからである。
そのため、図４（ｃ）の状態から図４（ｂ）の状態の移行過程では、抑えフレーム１１の歯板１１ａは、先に液面Ｓから出ることになる。
その後にディスク４が液面Ｓから顔を出すが、このときには、抑えフレーム１１は、オフセット量Ｄ／２の方向に向かって待避する移動を始めている。
【００１７】
さらに、図４（ｂ）の状態から図４（ａ）の状態へ移行するときには、ディスク支持フレーム１２に支持されてディスク４が液面Ｓから完全に出る。そのときには、抑えフレーム１１は、オフセット量Ｄ／２の位置にある。それは、一対の歯板１２ａの中間点である。液垂れは、主として抑えフレーム１１の歯板１１ａを液面Ｓから上げた直後と、少し後からの２系統に分けられるので、直後の液垂れの問題は図４（ｂ）の状態で解消され、少し後からの液垂れの問題は図４（ａ）の状態で解消される。
その結果、液垂れがあってもここではディスク４にかかることはなく、洗浄不良の問題が生じない。
しかも、抑えフレーム１１の歯板１１ａは山形の歯となっているので、下向き山形の歯の液垂れは比較的速く完了する。しかも、垂れた滴は、ディスク４と次のディスク４の間に落ちる。
【００１８】
ところで、実施例では、ディスク支持フレーム１２は、図３の正面図に示すように、保持するディスク４の中心に向かって傾斜配置された一対の歯板１２ａを基板保持板として設けている。しかし、抑えフレーム１１の山歯１１ｂの先端が支持されてディスク４の外周のトップとの間に間隙βがあるときには、ディスク支持フレーム１２は、抑えフレーム１１はディスク支持の助けにならず、ディスク支持フレーム１２だけで整列した多数のディスク４を支持しなければならない。歯板１２ａの厚さが厚く、かつ、山歯１２の谷が深いときには、１２０゜程度の一対の歯板１２ａで多数のディスク４を支持することが可能であるが、歯板１２ａの厚さが薄くあるいは山歯１２ａの谷が浅いときには、ディスク４をディスク支持フレーム１２だけで支持しきれず、ディスク４が倒れる場合がある。
それは、ディスクの重心が山歯１２ａの支持点の上部にあるからである。そこで、このような場合には、一対の歯板１２ａの角度を１８０゜以下で１２０゜以上の範囲で選択するか、あるいは一対の歯板１２ａの間にさらに歯板１２ａをもう１つか、それ以上設ければよい。一番簡単なものは、ディスク４の最下点に対応して一対の歯板１２ａの間に歯板１２ａを１個追加し、一対の歯板１２ａとこれとの３点でディスク４を支持とするとよい。
【産業上の利用可能性】
【００１９】
以上説明してきたが、実施例では、抑えフレーム１１の横方向のスライドをカム機構３により行っているが、この発明は、カム機構に限定されるものではなく、スライド機構一般を用いることができる。
また、実施例では、抑えフレーム１１は、フレームとしているが、単なるバーであってもよく、抑えフレーム１１に必ずしも山歯のある基板保持板（歯板）を設ける必要はない。また、基板保持板の山歯は、山側の頂部は平坦であってもよい。
なお、ここでの基板保持板には、単なる板だけでなく、円柱バー状のものの側面に凹部を所定間隔で形成して山歯とするような部材も含むものとする。
さらに、実施例では、超音波洗浄装置を例としているが、この発明は、超音波洗浄装置に限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１は、この発明のディスクの洗浄方法を適用した一実施例のディスク浸漬・取出機構の説明図である。
【図２】図２は、ディスクホルダの上側の抑えバーの説明図である。
【図３】図３は、ディスクホルダの下側のディスク支持フレームの説明図である。
【図４】図４は、そのディスク浸漬・取出し動作についての説明図である。
【符号の説明】
【００２１】
１…ディスクホルダ、２…ホルダ昇降機構、３…カム機構、
４…ディスク、５…超音波洗浄槽、６…支柱フレーム、
７…超音波発生装置、８…薬液排出還流路、９…薬液供給循環路、
１０…ディスク浸漬・取出機構、１１…抑えフレーム、
１２…ディスク支持フレーム、１１ａ，１２ａ…歯板（基板保持板）、
１３…横スライド昇降ブラケット、１４…昇降ブラケット、
１５…昇降機構、１６…横スライド昇降アーム。
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ディスクの洗浄方法、ディスク浸漬・取出機構およびディスク洗浄装置に関し、詳しくは、磁気ディスク，そのディスクサブストレート、光ディスク、ウエハのようなディスク（円板）の汚れをリンス溶剤などを使用して超音波洗浄等を行う薬液循環型の薬液洗浄装置において、浮き抑え部材でディスクを抑えることにより洗浄槽内でのディスクの浮きあるいはディスク倒れを防止するとともに、浮き抑え部材からのディスクへの液垂れによるディスクの洗浄不良を防止することができるようなディスクの洗浄方法およびディスク浸漬・取出機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ハードディスクのサブストレートなどでは、研削、研磨、スパッタリング、メッキ等の工程の後にディスクの薬液洗浄が行われている。このようなハードディスクや、ウエハのようなディスクの薬液洗浄には、複数の洗浄工程と洗浄後の乾燥工程とがある。
洗浄工程では、通常、垂直に複数枚のディスクを配列したカセット、キャリア（あるいはトレイ）を洗浄液に浸けて超音波等により洗浄する洗浄槽（あるいは洗浄装置）が知られている。この場合には、洗浄後のディスクの乾燥は、カセット、キャリア（あるいはトレイ）を乾燥室に搬送してそこで行われる。
このようなディスクホルダ洗浄に換えて、シャワー洗浄槽、薬液洗浄槽、超音波洗浄槽、純水洗浄槽それぞれにコンベアを設けて、ディスクを各槽においてコンベア搬送して順次各槽を移動させて洗浄をするスクラブ洗浄装置が公知である（特許文献１）。
超音波洗浄槽でのディスク等のディスクの洗浄は、リンス等の溶剤が薬液として使用される。薬液は、通常、薬液タンクと超音波洗浄槽とを並置してオーバフローした薬液を薬液タンクに還流させて循環させる形態を採る。この種の循環型のディスクの洗浄方法および洗浄装置が公知である（特許文献２）。
【特許文献１】特開２００１−９６２４５号公報
【特許文献２】特開２００２−１５７２４０号公報
【０００３】
ハードディスクは、現在では自動車製品や家電製品、音響製品の分野にまで浸透し、２．５インチから１．８インチに、さらには０．８５インチというように１．０インチ以下のハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）が使用されてきており、ＨＤＤ自体が小さくなってきている。しかも、ガラスディスクでは、その厚さは０．５ｍｍ程度と薄くなり、ウエハや従来のディスクよりもディスクの重量が数ｇと非常に軽い。そのため、洗浄中や洗浄液にディスクを浸漬する過程であるいは洗浄液からディスクを取出す過程でディスクが浮きあるいはディスクが倒れが発生し易い。また、特に、薬液循環型の洗浄装置においては洗浄液の流れに応じてディスクが浮きあるいはディスクが倒れが発生し易く、それにより隣接するディスクやディスク受け部材と接触して欠けたり、洗浄不良の原因になる。
そのためディスクあるいはウエハなどの浮きを防止する抑えロッドや抑えバーなどでディスクあるいはウエハなどを抑えての洗浄が行われている（特許文献３，４，５）。
【特許文献３】特開平８−１０７３５号公報
【特許文献４】実開平６−５２１４４号公報
【特許文献５】特開平１１−３５４４０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ディスクをロッドやバーなどで抑えると、洗浄装置へのディスクの搬入あるいは搬出の際にディスクチャックなどによるディスクハンドリング処理の邪魔になる。そこで、特許文献３〜５に示されるようにディスク抑え部材を洗浄槽の内部あるいはディスクの上部に設けてディスクの搬入・搬出のハンドリング処理のときには待避させる必要がある。
一方、ディスクが２．５インチから１．８インチに、さらには１．０インチ以下になると、１列洗浄ではなく、多列洗浄になるので、特許文献４，５のようなディスクあるいはウエハの上側にディスク抑え部材（あるいはウエハ抑え部材）を設けて各列のディスクを上部から抑える方式を採ることが難しい。その上、ディスクの上部に位置する抑え部材の液垂れによるディスクの洗浄不良が問題となる。
特許文献３のように洗浄槽の内部にディスク抑えを設けると、ハンドリングロボットの一部を洗浄槽の内部に浸漬する必要があるので、洗浄液やディスクが汚染され易い。しかも、内部に抑え機構を設けると洗浄槽の占有面積が大きくならざるを得ない。
この発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決するものであって、浮き抑え部材でディスクを抑えることにより洗浄槽内でのディスクの浮きあるいはディスク倒れを防止し、浮き抑え部材からディスクへの液垂れによる洗浄不良を防止することができるディスク浸漬・取出機構を提供することにある。
この発明の他の目的は、ディスクの洗浄不良を低減して洗浄槽へのディスクの搬入，搬出が容易で洗浄のスループットを向上させることができるディスクの洗浄方法および洗浄装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
このような目的を達成するためのこの発明のディスクの洗浄方法、ディスク浸漬・取出機構および洗浄装置の特徴は、上側に鋸歯状に山歯が形成された一対の基板保持板を持つディスク支持フレームとこれの所定間隔を置いた上部に平行に設けられた抑えバーとを有するディスクホルダーの一対の基板保持板の谷部分と抑えバーとによりディスクの外周を係合してディスクを保持し、保持されたディスクを液体に浸漬し、ディスクを洗浄した後にディスク支持フレームよりも抑えバーを液面より上に先に上げてかつディスク支持フレームに支持されたディスクに液垂れした滴がかからない方向に抑えバーを待避させながらあるいは待避させた後にディスク支持フレームを液面より上げるものである。
【発明の効果】
【０００６】
このように、この発明は、上側の抑えバーとこの抑えバーに平行な一対の基板保持板を有する下側のディスク支持フレームとを持つディスクホルダによりディスクを保持して洗浄槽に浸漬し、洗浄されたディスクをディスクホルダを介して洗浄槽から取出すものである。
取出すときに上側の抑えバーを液面より先に上に上げてかつディスク支持フレームに支持されたディスクに液垂れがしないようにディスクの上部から待避させるようにしているので、上側の抑えバーが待避した状態でディスク支持フレームのディスクが後から液面に出ることになる。そこで、上側の抑えバーから液垂れが発生してもそれがディスクに影響を与えることはない。
また、抑えバーがディスクの上部から待避しているので、ディスク支持フレームの上部に空間が確保され、ディスク支持フレームに対するディスクの搬入・搬出のハンドリング処理において上側の抑えバーがハンドリングロボットのディスクチャックなどの邪魔になることもない。そこで、ディスク支持フレームからのディスクの排出あるいはに次に洗浄するディスクを装填することが容易になる。
その結果、この発明のディスク浸漬・取出機構は、洗浄槽内でのディスクの浮きあるいはディスク倒れが防止しでき、浮き抑え部材からディスクへの液垂れを防止できるのでディスクの洗浄不良が発生し難い。
このようなディスク浸漬・取出機構を設けることでディスクハンドリンス処理が容易なディスクの洗浄方法および洗浄装置を実現でき、ディスクの洗浄不良を低減して洗浄処理のスループットを向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
図１は、この発明のディスクの洗浄方法を適用した一実施例のディスク浸漬・取出機構の説明図であり、図２は、ディスクホルダの上側の抑えバーの説明図、図３は、ディスクホルダの下側のディスク支持フレームの説明図、図４は、そのディスク浸漬・取出し動作についての説明図である。
図１において、１０は、ディスク浸漬・取出機構であって、１はそのディスクホルダ、２はホルダ昇降機構、３はカム機構、４は洗浄されるディスク、５は超音波洗浄槽、６は支柱フレームである。
なお、超音波洗浄槽５における超音波発生装置、薬液排出還流路、薬液供給循環路などは省略してある。
ディスクホルダ１は、上側の抑えフレーム１１と、下側のディスク支持フレーム１２とからなり、これらの間に点線で示すようにディスク４が所定間隔おきに多数起立姿勢で保持される。
【０００８】
抑えフレーム１１は、図２の平面図にも示すようにその枠も含めて格子状に４列の基板保持板としての歯板１１ａが設けられたフレームであって、各歯板１１ａの下側片側に鋸歯状に山歯１１ｂが設けられいる。ここで言う山歯とは三角形状をした突部を言うものであり、頂部の先端側は平らであってもよい。
抑えフレーム１１は、片側端部がホルダ昇降機構２の横スライド昇降ブラケット１３に片支持固定され、超音波洗浄槽５の液面Ｓに対して上下方向に昇降するとともに矢印とともに記号で示すように超音波洗浄槽５の洗浄液の液面Ｓに沿った図面に垂直な横方向にスライドする。
歯板１１ａは、図２の平面図に示す外側の枠も歯板であり、それぞれに山歯１１ｂが形成されている。歯板１１ａの配列間隔はＤであり、配列間隔Ｄがディスク４の直径ｄ（横方向の外形幅）よりも大きい。
ディスク支持フレーム１２は、図３の正面図に示すように、保持するディスク４の中心に向かって１２０゜で対向するように傾斜配置された一対の、基板保持板としての歯板１２ａが４列ベースフレーム１２ｃに設けられ、一対の歯板１２ａは、歯板１１ａに対応構造のものであり、抑えフレーム１１の歯板１１ａのそれぞれに対応するように一対、対応で配列されて各一対の歯板１２ａは、正面からみて歯板１１ａから１２０゜の角度の間隔で両側に位置してディスク４の外周に山歯１２ｂ（図１参照）が係合するように設けられている。
なお、山歯１２ｂの間の谷の大きさは、所定間隔おきに多数起立姿勢でディスク４を保持できるものである。また、配列方向のディスク４を保持する配列間隔、すなわち、一対の歯板１２ａと次の一対の歯板１２ａとの間隔もＤである。
山歯１２ｂは、各歯板１２ａの上側片側に鋸歯状に設けられている。このディスク支持フレーム１２は、図１に示すように、抑えフレーム１１と同じように片側端部がホルダ昇降機構２の昇降ブラケット１４に片支持固定され、超音波洗浄槽の液面Ｓに対して上下方向に昇降する。
結果として各歯板１１ａの山歯１１ｂと各歯板１２ａの山歯１２ｂとはそれぞれディスク４の外周に沿って１２０゜間隔で配置されている。これにより、これら山歯と山歯との間の谷部分に多数のディスク４が山歯の間隔で３点チャックされる。
【０００９】
ホルダ昇降機構２は、横スライド昇降ブラケット１３と昇降ブラケット１４、そして昇降機構１５とからなる。昇降機構１５は、Ｚ軸移動機構１５ａとその駆動機構１５ｂ、そしてＺ軸移動機構１５ａに設けられたガイド溝１５ｃからなる。
横スライド昇降ブラケット１３は、足側に抑えフレーム１１の端部が固定され、頭部が９０゜折れたクランク形状をしていて、折れた頭部の先端側にカム機構３を構成するカムフォロアー３ａが設けられた逆Ｌ字型のブロックである。
板カム３ｂは、図４（ａ）〜（ｄ）の各図に示されるように垂直方向に対して１５゜程度傾斜する斜面３ｃを有し、上端部が垂直面３ｄとなっているカムである。
図１に戻り、昇降ブラケット１４は、足側にディスク支持フレーム１２の端部が固定され、頭部が横スライド昇降ブラケット１３の折れた頭部の下側に位置する柱状ブロックである。
【００１０】
昇降機構１５は、支柱フレーム６の沿って設けられ、横スライド昇降ブラケット１３と昇降ブラケット１４とを昇降させる。また、横スライド昇降ブラケット１３は、Ｚ軸移動機構１５ａの内部に設けられたばねによりカムフォロアー３ａと板カム３ｂとの摺動係合を保証する付勢が与えられている。
カムフォロアー３ａが係合する板カム３ｂは、超音波洗浄槽５の壁面５ａの外側でこれよりも上に延びたに支柱フレーム６において壁面５ａに対向するように壁面５ａより上の位置に設けられている。
１６は、昇降機構１５の横スライド昇降アームであり、横スライド昇降ブラケット１３に結合され、ロッド１６ａを介してＺ軸移動機構１５ａに結合されている。ロッド１６ａは、図面に対して垂直な方向に移動可能であり、これにより抑えフレーム１１を超音波洗浄槽５の液面Ｓに対して上下方向に昇降するととも超音波洗浄槽５の洗浄液の液面Ｓに沿った図面に垂直な横方向にスライドさせる。
１７は、昇降アーム１６の下側に設けられた昇降機構１５の昇降アームであり、昇降ブラケット１４に結合され、ロッド１７ａを介してＺ軸移動機構１５ａに結合されている。
昇降機構１５は、これら横スライド昇降アーム１６，昇降アーム１７を同時に昇降する駆動と、昇降アーム１６のみ単独で昇降する駆動とを行う。
横スライド昇降ブラケット１３と昇降ブラケット１４とのそれぞれは、横スライド昇降ブラケット１６と昇降ブラケット１７とを昇降することで昇降し、これにより抑えフレーム１１とディスク支持フレーム１２が昇降する。
なお、横スライド昇降アーム１６と昇降アーム１７とは図面裏面側にも設けられていてもよい。この場合には、横スライド昇降ブラケット１３と昇降ブラケット１４は図面の前後両側で支持されることになる。
【００１１】
昇降機構１５とカム機構３とによる超音波洗浄装置５へのディスク浸漬・取出し動作について図４（ａ）〜（ｄ）を参照して以下説明する。
図４（ａ）は、ディスクチャック２０を有するディスクハンドリングロボット（図示せず）からディスクチャック２０を介してディスク４をディスクホルダ１のディスク支持フレーム１２に起立姿勢で受けた状態を示している。ディスク４は、一対の歯板１２ａの山歯１２ｂの谷部分で支持され起立している。
このときには、カム機構３のカムフォロアー３ａは、板カム３ｂの上端部の垂直面３ｄの上部に係合している。
横スライド昇降ブラケット１３は、横方向にスライドし、超音波洗浄装置５の薬液の液面Ｓに沿った方向に抑えフレーム１１をディスク４の頂点から所定距離Ｄ／２だけ移動（オフセット）させている。そこで、抑えフレーム１１の歯板１１ａとは、ディスク支持フレーム１２に保持されたディスク４の外形幅（直径ｄ＜Ｄ）から外れた位置にある。
【００１２】
ディスク支持フレーム１２へのディスク４の装填は、抑えフレーム１１の歯板１１ａと歯板１１ａの間の空間を通して行われる。このとき、ディスクチャック２０がディスク支持フレーム１２に１枚ずつディスクをセットしてもよいし、ディスクチャック２０をパラレルにディスクハンドリングロボットに多数設けて、多数同時に多数ディスク支持フレーム１２にセットするようにしてもよい。さらに、起立姿勢で多数ディスクを整列して保持するアームを持つロボットハンドで同時にディスク４がディスク支持フレーム１２にセットされてもよい。
ディスクチャック２０の幅は、図２（ｂ）の平面図に示す抑えフレーム１１の歯板１１ａの配列間隔Ｄよりも狭い。起立姿勢で多数ディスクを整列して保持するアームを使用するときにはその横幅の同様である。そこで、ディスクチャック２０のディスク支持フレーム１２へのディスク４の装填に対して抑えフレーム１１の歯板１１ａが邪魔をすることはない。
なお、図示するディスクチャック２０は、ディスク４の外径をチャックする構造となっているが、これは内径チャックであってもよい。ディスクチャック２０が外径チャックのときには距離Ｄは、ｄ＋α＜Ｄとなる。ｄ＋αは、ディスクチャック２０がディスクをチャックしたときの外形幅である。
【００１３】
昇降機構１５は、図４（ａ）の状態から横スライド昇降アーム１６，昇降アーム１７を同時に降下させる。この降下においてはディスクホルダ１は、ディスクをディスク支持フレーム１２に支持するだけで保持はしない。すなわち、抑えフレーム１１の歯板１１ａの下先端は、ディスク支持フレーム１２に支持されてディスク４の外周のトップ位置よりも少し高い位置にある。言い換えれば、ディスクを保持する状態からディスク支持フレーム１２に対して抑えフレーム１１を少し浮かせた状態である。
支持されてディスク４の外周のトップと抑えフレーム１１の山歯１１ｂの先端との間には間隙βがある。間隙βは、数ｍｍである。
【００１４】
この間隙βを保持したままで昇降機構１５が横スライド昇降アーム１６，昇降アーム１７を同時に降下させると、図４（ａ）の状態からカム機構３のカムフォロアー３ａが板カム３ｂの傾斜面３ｃに入り、抑えフレーム１１が図面右から左へと移動する。これに応じて抑えフレーム１１が図面左へと移動して最初のオフセット量Ｄ／２が減少していく。そして、カムフォロアー３ａが傾斜面３ｃの下まで下がると、オフセットがゼロとなり、抑えフレーム１１の歯板１１ａが図面左へと移動してディスク４の外形のトップ上にくる。これが図４（ｂ）に示す状態である。
このときには、カム機構３のカムフォロアー３ａが傾斜面３ｃの先端側に位置していて、抑えフレーム１１の歯板１１ａが実質的にディスク４の外周トップに位置付けられている。ディスク支持フレーム１２に装填されたディスク４は、その外周トップが抑えフレーム１１より先に超音波洗浄装置５の液面Ｓより下に没する。
その結果、ディスク支持フレーム１２に対して浮かせた抑えフレーム１１は、抑えフレーム１１は、間隙βを挟んで液面Ｓの上部に位置する。超音波洗浄装置５の液面Ｓはこれらの間にある。
【００１５】
昇降機構１５が図４（ｂ）の状態からさらに横スライド昇降アーム１６を間隙βがなくなる分だけ降下させると、抑えフレーム１１とディスク支持フレーム１２とが図１に示すような状態でディスク４を保持する。カム機構３のカムフォロアー３ａは、板カム３ｂの傾斜面３ｃから離れて降下する。これが図４（ｃ）に示すディスク保持状態である。
その後、横スライド昇降アーム１６と昇降アーム１７を同時に降下させると、抑えフレーム１１の歯板１１ａも液面Ｓに没していき、カム機構３のカムフォロアー３ａは、板カム３ｂの傾斜面３ｃからさらに離れて降下していく。
昇降機構１５は、横スライド昇降アーム１６，昇降アーム１７をさらに同時に降下させて、ディスクホルダ１を液面Ｓ下よりさらに下に降下させて洗浄位置に設定する。これが図４（ｄ）に示す状態であり、ディスクホルダ１が超音波洗浄装置５の洗浄位置に配置される。
【００１６】
超音波洗浄が終了すると、ディスクホルダ１の抑えフレーム１１とディスク支持フレーム１２とは、前記とは逆に図４（ｄ）の状態から図４（ｃ）、そして図４（ｂ）の状態を経て図４（ａ）の状態に戻される。
このとき、逆に図４（ｃ）の状態から図４（ｂ）の状態へ移行する。
このときには、ディスク支持フレーム１２に装填されたディスク４は、超音波洗浄装置５の液面Ｓより下にあって、抑えフレーム１１は液面Ｓの上部に位置する。前記したように、抑えフレーム１１の歯板１１ａの下側の先端は、ディスク支持フレーム１２に支持されてディスク４の外形のトップより少し高い位置（間隔β）にあるからである。
そのため、図４（ｃ）の状態から図４（ｂ）の状態の移行過程では、抑えフレーム１１の歯板１１ａは、先に液面Ｓから出ることになる。
その後にディスク４が液面Ｓから顔を出すが、このときには、抑えフレーム１１は、オフセット量Ｄ／２の方向に向かって待避する移動を始めている。
【００１７】
さらに、図４（ｂ）の状態から図４（ａ）の状態へ移行するときには、ディスク支持フレーム１２に支持されてディスク４が液面Ｓから完全に出る。そのときには、抑えフレーム１１は、オフセット量Ｄ／２の位置にある。それは、一対の歯板１２ａの中間点である。液垂れは、主として抑えフレーム１１の歯板１１ａを液面Ｓから上げた直後と、少し後からの２系統に分けられるので、直後の液垂れの問題は図４（ｂ）の状態で解消され、少し後からの液垂れの問題は図４（ａ）の状態で解消される。
その結果、液垂れがあってもここではディスク４にかかることはなく、洗浄不良の問題が生じない。
しかも、抑えフレーム１１の歯板１１ａは山形の歯となっているので、下向き山形の歯の液垂れは比較的速く完了する。しかも、垂れた滴は、ディスク４と次のディスク４の間に落ちる。
【００１８】
ところで、実施例では、ディスク支持フレーム１２は、図３の正面図に示すように、保持するディスク４の中心に向かって傾斜配置された一対の歯板１２ａを基板保持板として設けている。しかし、抑えフレーム１１の山歯１１ｂの先端が支持されてディスク４の外周のトップとの間に間隙βがあるときには、ディスク支持フレーム１２は、抑えフレーム１１はディスク支持の助けにならず、ディスク支持フレーム１２だけで整列した多数のディスク４を支持しなければならない。歯板１２ａの厚さが厚く、かつ、山歯１２の谷が深いときには、１２０゜程度の一対の歯板１２ａで多数のディスク４を支持することが可能であるが、歯板１２ａの厚さが薄くあるいは山歯１２ａの谷が浅いときには、ディスク４をディスク支持フレーム１２だけで支持しきれず、ディスク４が倒れる場合がある。
それは、ディスクの重心が山歯１２ａの支持点の上部にあるからである。そこで、このような場合には、一対の歯板１２ａの角度を１８０゜以下で１２０゜以上の範囲で選択するか、あるいは一対の歯板１２ａの間にさらに歯板１２ａをもう１つか、それ以上設ければよい。一番簡単なものは、ディスク４の最下点に対応して一対の歯板１２ａの間に歯板１２ａを１個追加し、一対の歯板１２ａとこれとの３点でディスク４を支持とするとよい。
【産業上の利用可能性】
【００１９】
以上説明してきたが、実施例では、抑えフレーム１１の横方向のスライドをカム機構３により行っているが、この発明は、カム機構に限定されるものではなく、スライド機構一般を用いることができる。
また、実施例では、抑えフレーム１１は、フレームとしているが、単なるバーであってもよく、抑えフレーム１１に必ずしも山歯のある基板保持板（歯板）を設ける必要はない。また、基板保持板の山歯は、山側の頂部は平坦であってもよい。
なお、ここでの基板保持板には、単なる板だけでなく、円柱バー状のものの側面に凹部を所定間隔で形成して山歯とするような部材も含むものとする。
さらに、実施例では、超音波洗浄装置を例としているが、この発明は、超音波洗浄装置に限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１は、この発明のディスクの洗浄方法を適用した一実施例のディスク浸漬・取出機構の説明図である。
【図２】図２は、ディスクホルダの上側の抑えバーの説明図である。
【図３】図３は、ディスクホルダの下側のディスク支持フレームの説明図である。
【図４】図４は、そのディスク浸漬・取出し動作についての説明図である。
【符号の説明】
【００２１】
１…ディスクホルダ、２…ホルダ昇降機構、３…カム機構、
４…ディスク、５…超音波洗浄槽、６…支柱フレーム、
７…超音波発生装置、８…薬液排出還流路、９…薬液供給循環路、
１０…ディスク浸漬・取出機構、１１…抑えフレーム、
１２…ディスク支持フレーム、１１ａ，１２ａ…歯板（基板保持板）、
１３…横スライド昇降ブラケット、１４…昇降ブラケット、
１５…昇降機構、１６…横スライド昇降アーム。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄槽の液体に浸漬してディスクを洗浄するディスクの洗浄方法において、
上側に鋸歯状に山歯が形成された一対の基板保持板を持つディスク支持フレームとこれの所定間隔を置いた上部に平行に設けられた抑えバーとを有するディスクホルダーの前記一対の基板保持板の谷部分と前記抑えバーとにより前記ディスクの外周を係合して前記ディスクを保持し、保持された前記ディスクを前記液体に浸漬し、前記ディスクを洗浄した後に前記ディスク支持フレームよりも前記抑えバーを液面より上に先に上げてかつ前記ディスク支持フレームに支持された前記ディスクに液垂れした滴がかからない方向に前記抑えバーを待避させながらあるいは待避させた後に前記ディスク支持フレームを前記液面より上げるディスクの洗浄方法。
【請求項２】
前記抑えバーは、下側に鋸歯状に山歯が形成された基板保持板であり、前記抑えバーが待避された状態で前記液面より上げられた前記ディスク支持フレームに支持された前記ディスクが排出され後に洗浄するディスクが前記ディスク支持フレームの前記一対の基板保持板の前記山歯の谷部分に係合されて支持され、前記抑えバーが待避位置より前記ディスク支持フレームの上部に移動して前記抑えバーの前記山歯の谷部分が前記ディスクの外周に係合して前記ディスクが保持される請求項１記載のディスクの洗浄方法。
【請求項３】
前記抑えバーは複数本設けられ、前記ディスク支持フレームの前記一対の基板保持板は、複数本の前記抑えバーの配列方向に沿って複数個平行に設けられ、ある前記一対の基板保持板と次の前記一対の基板保持板との間隔が前記ディスクの直径よりも大きく、前記抑えバーの待避位置は、前記間隔の中央である請求項１または２記載のディスクの洗浄方法。
【請求項４】
前記抑えバーは前記山歯が垂直に配置され、前記一対の基板保持板は、前記山歯が所定の角度傾斜して配置されている請求項３記載のディスクの洗浄方法。
【請求項５】
洗浄槽の液体に浸漬してディスクを洗浄するディスクの洗浄装置のディスク浸漬・取出機構において、
上側に鋸歯状に山歯が形成された一対の基板保持板を持つディスク支持フレームとこれの所定間隔を置いた上部に平行に設けられた抑えバーとを有しこれらが前記ディスクの外周に係合して前記ディスクを保持するディスクホルダと、
前記ディスク支持フレームに支持されあるいは前記ディスクホルダに保持された前記ディスクを前記洗浄槽の液面の上から液面下に移動させ、逆に前記液面下から前記液面から上に上げるために前記ディスクホルダを昇降する昇降機構と、
前記抑えバーを前記液面に沿った方向にスライドさせるスライド機構とを備え、
前記ディスクは、前記抑えバーと前記一対の前記山歯の谷部分で保持され、
前記昇降機構は、前記ディスク支持フレームよりも前記抑えバーを先に液面より上に上げてかつ前記ディスク支持フレームに支持された前記ディスクに液垂れがしないようにするために前記スライド機構により前記抑えバーをスライドさせて前記ディスクの上部から待避させながらあるいは待避させて前記ディスク支持フレームを前記液面より上げるディスク浸漬・取出機構。
【請求項６】
前記抑えバーは、下側に鋸歯状に山歯が形成された基板保持板であり、前記抑えバーが待避された状態で前記液面より上げられた前記ディスク支持フレームに支持された前記ディスクが排出され後に洗浄するディスクが前記ディスク支持フレームの前記一対の基板保持板の前記山歯の谷部分に係合されて支持され、前記抑えバーが待避位置より前記ディスク支持フレームの上部に移動して前記抑えバーの前記山歯の谷部分が前記ディスクの外周に係合して前記ディスクが保持される請求項５記載のディスク浸漬・取出機構。
【請求項７】
請求項５又は６記載のディスク浸漬・取出機構と前記洗浄槽とを有するディスク洗浄装置。
【請求項８】
さらに前記洗浄槽に超音波発生装置を備える請求項７記載のディスク洗浄装置。
【請求項１】
洗浄槽の液体に浸漬してディスクを洗浄するディスクの洗浄方法において、
上側に鋸歯状に山歯が形成された一対の基板保持板を持つディスク支持フレームとこれの所定間隔を置いた上部に平行に設けられた抑えバーとを有するディスクホルダーの前記一対の基板保持板の谷部分と前記抑えバーとにより前記ディスクの外周を係合して前記ディスクを保持し、保持された前記ディスクを前記液体に浸漬し、前記ディスクを洗浄した後に前記ディスク支持フレームよりも前記抑えバーを液面より上に先に上げてかつ前記ディスク支持フレームに支持された前記ディスクに液垂れした滴がかからない方向に前記抑えバーを待避させながらあるいは待避させた後に前記ディスク支持フレームを前記液面より上げるディスクの洗浄方法。
【請求項２】
前記抑えバーは、下側に鋸歯状に山歯が形成された基板保持板であり、前記抑えバーが待避された状態で前記液面より上げられた前記ディスク支持フレームに支持された前記ディスクが排出され後に洗浄するディスクが前記ディスク支持フレームの前記一対の基板保持板の前記山歯の谷部分に係合されて支持され、前記抑えバーが待避位置より前記ディスク支持フレームの上部に移動して前記抑えバーの前記山歯の谷部分が前記ディスクの外周に係合して前記ディスクが保持される請求項１記載のディスクの洗浄方法。
【請求項３】
前記抑えバーは複数本設けられ、前記ディスク支持フレームの前記一対の基板保持板は、複数本の前記抑えバーの配列方向に沿って複数個平行に設けられ、ある前記一対の基板保持板と次の前記一対の基板保持板との間隔が前記ディスクの直径よりも大きく、前記抑えバーの待避位置は、前記間隔の中央である請求項１または２記載のディスクの洗浄方法。
【請求項４】
前記抑えバーは前記山歯が垂直に配置され、前記一対の基板保持板は、前記山歯が所定の角度傾斜して配置されている請求項３記載のディスクの洗浄方法。
【請求項５】
洗浄槽の液体に浸漬してディスクを洗浄するディスクの洗浄装置のディスク浸漬・取出機構において、
上側に鋸歯状に山歯が形成された一対の基板保持板を持つディスク支持フレームとこれの所定間隔を置いた上部に平行に設けられた抑えバーとを有しこれらが前記ディスクの外周に係合して前記ディスクを保持するディスクホルダと、
前記ディスク支持フレームに支持されあるいは前記ディスクホルダに保持された前記ディスクを前記洗浄槽の液面の上から液面下に移動させ、逆に前記液面下から前記液面から上に上げるために前記ディスクホルダを昇降する昇降機構と、
前記抑えバーを前記液面に沿った方向にスライドさせるスライド機構とを備え、
前記ディスクは、前記抑えバーと前記一対の前記山歯の谷部分で保持され、
前記昇降機構は、前記ディスク支持フレームよりも前記抑えバーを先に液面より上に上げてかつ前記ディスク支持フレームに支持された前記ディスクに液垂れがしないようにするために前記スライド機構により前記抑えバーをスライドさせて前記ディスクの上部から待避させながらあるいは待避させて前記ディスク支持フレームを前記液面より上げるディスク浸漬・取出機構。
【請求項６】
前記抑えバーは、下側に鋸歯状に山歯が形成された基板保持板であり、前記抑えバーが待避された状態で前記液面より上げられた前記ディスク支持フレームに支持された前記ディスクが排出され後に洗浄するディスクが前記ディスク支持フレームの前記一対の基板保持板の前記山歯の谷部分に係合されて支持され、前記抑えバーが待避位置より前記ディスク支持フレームの上部に移動して前記抑えバーの前記山歯の谷部分が前記ディスクの外周に係合して前記ディスクが保持される請求項５記載のディスク浸漬・取出機構。
【請求項７】
請求項５又は６記載のディスク浸漬・取出機構と前記洗浄槽とを有するディスク洗浄装置。
【請求項８】
さらに前記洗浄槽に超音波発生装置を備える請求項７記載のディスク洗浄装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００７−２０３２４３（Ｐ２００７−２０３２４３Ａ）
【公開日】平成１９年８月１６日（２００７．８．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２７０２５（Ｐ２００６−２７０２５）
【出願日】平成１８年２月３日（２００６．２．３）
【出願人】（５０１３８７８３９）株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年８月１６日（２００７．８．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年２月３日（２００６．２．３）
【出願人】（５０１３８７８３９）株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)
【Ｆターム（参考）】
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