パターン密度検証方法及びプログラム
【課題】チップ全体の密度検証においてマクロセル部分での設計規則違反の判定を出さないようにすること。
【解決手段】検証エリアの内側と外側に内側補助区画と外側補助区画とをそれぞれ設定し（ステップＳ１９）、内側補助区画のパターン占有面積に外側補助区画のパターン占有面積を加味した検証エリアのパターン密度Ｄ２が密度基準を満たすか否かを判定する（ステップＳ２０）。
【解決手段】検証エリアの内側と外側に内側補助区画と外側補助区画とをそれぞれ設定し（ステップＳ１９）、内側補助区画のパターン占有面積に外側補助区画のパターン占有面積を加味した検証エリアのパターン密度Ｄ２が密度基準を満たすか否かを判定する（ステップＳ２０）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
半導体装置のパターン密度検証方法及びプログラムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体装置のレイアウト設計では、セルを配置し、配線パターンを生成する。そして、設計した各配線層のパターンの密度が半導体装置の設計規則を満たすか否かの検証（密度検証）を行っている。この密度検証において、設計規則に基づく所定サイズの検証エリアの配置位置を、検証ステップ値で順次変更し、それぞれの位置での検証エリアのパターン密度が設計規則を満たしているか否かを判定する。そして、設計規則を満たしていない箇所が存在すれば、その設計規則を満たすべくパターンを編集し、再度パターン密度検証を行う。
【０００３】
レイアウト設計において、セルはマクロセルを含む。マクロセルは、半導体装置内の特定機能をひとかたまりとした機能ブロックである。このため、マクロセルを配置した後に密度検証を行う方法では、マクロセル内の密度違反を検出した場合に、マクロセルの設計変更を行わなければならない。このため、マクロセルの設計の段階でも該マクロセル部分だけの密度検証を行う手法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−６７４４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、マクロセルを配置するときに、マクロセルの基準位置（例えば設計上の原点）と、半導体装置の設計基準となる格子の交点とが異なる場合がある。この場合、マクロセルを密度検証した検証エリアの位置と、半導体装置の検証エリアの位置がずれる。すると、配線パターンの位置によって、エラーとなる場合がある。この場合には、上記と同様にマクロセルのレイアウトを再度行わなければならず、開発期間が増加してしまう。
【０００６】
このパターン密度検証方法で、チップ全体の密度検証においてマクロセル部分での設計規則違反の判定を出さないようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一観点によれば、中央処理装置は、検証エリアの内側と外側に内側補助区画と外側補助区画とをそれぞれ設定し、前記内側補助区画内のパターン占有面積と前記外側補助区画内のパターン占有面積とに基づき算出された前記検証エリアのパターン密度が所定の密度基準を満たすか否かを検証する。
【発明の効果】
【０００８】
開示されたパターン密度検証方法によれば、チップ全体の密度検証においてマクロセル部分での設計規則違反の判定を出さないようにすることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】配線設計装置の概略構成図である。
【図２】密度検証処理の説明図である。
【図３】第一実施形態の密度検証処理のフロー図である。
【図４】第一実施形態の密度検証処理のフロー図である。
【図５】パターン密度の最大変化量の説明図である。
【図６】第一実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図７】第一実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図８】第一実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図９】（ａ）〜（ｆ）は第一実施形態の内側補助区画と外側補助区画の組み合わせの説明図である。
【図１０】密度検証処理の説明図である。
【図１１】第二実施形態の密度検証処理のフロー図である。
【図１２】第二実施形態の密度検証処理のフロー図である。
【図１３】第二実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図１４】（ａ）〜（ｆ）は第二実施形態の内側補助区画と外側補助区画の組み合わせの説明図である。
【図１５】（ａ）〜（ｃ）は、第二実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図１６】第二実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図１７】（ａ）〜（ｃ）は、第二実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図１８】第二実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図１９】第二実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図２０】第二実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図２１】第三実施形態の密度検証処理のフロー図である。
【図２２】第三実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図２３】（ａ）〜（ｃ）は、第三実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図２４】（ａ）〜（ｃ）は、第三実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図２５】第三実施形態の密度検証処理の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
（第一実施形態）
以下、第一実施形態を図１〜図１０に従って説明する。
図１に示すように、半導体装置のレイアウトデータを生成するための設計装置（コンピュータ）１１は一般的なＣＡＤ（Computer Aided Design ）装置からなり、中央処理装置（以下、ＣＰＵという）１２、メモリ１３、記憶装置１４、表示装置１５、入力装置１６、及び、ドライブ装置１７により構成され、それらはバス１８を介して相互に接続されている。
【００１１】
ＣＰＵ１２は、メモリ１３を利用してプログラムを実行し、半導体装置のレイアウト設計等の必要な処理を実現する。プログラムは、ＣＰＵ１２を半導体装置のレイアウトデータを生成する設計装置としての各種手段として機能させるためのものである。メモリ１３には、各種処理を提供するために必要なプログラムとデータが格納され、メモリ１３としては、通常、キャッシュ・メモリ、システム・メモリおよびディスプレイ・メモリを含む。
【００１２】
表示装置１５は、レイアウト表示、パラメータ入力画面等の表示に用いられ、これにはＣＲＴ，ＬＣＤ，ＰＤＰ等が用いられる。入力装置１６は、ユーザからの要求や指示，パターン，パラメータの入力に用いられ、これにはキーボードおよびマウス装置（図示せず）等が用いられる。
【００１３】
コンピュータ１１は、レイアウトデータに基づき半導体装置に形成するパターン（図形）を表示装置１５に表示させる。そして、コンピュータ１１は、ユーザが操作する入力装置１６からの信号に従って、表示装置１５上のパターンの追加，削除を行うとともに、レイアウトデータに対してパターンデータの追加，削除を行う。
【００１４】
記憶装置１４は、通常、磁気ディスク装置、光ディスク装置、光磁気ディスク装置を含む。この記憶装置１４には、半導体装置（半導体集積回路装置）のレイアウトデータを生成するためのプログラムデータとファイルが格納され、ＣＰＵ１２は、入力装置１６による指示に応答しているプログラム，データをメモリ１３へ転送し、それを実行する。
【００１５】
ＣＰＵ１２が実行するプログラムデータは、記録媒体１９にて提供される。ドライブ装置１７は、記録媒体１９を駆動し、その記憶内容にアクセスする。ＣＰＵ１２は、ドライブ装置１７を介して記録媒体１９からプログラムデータを読み出し、それを記憶装置１４にインストールする。
【００１６】
記録媒体１９としては、磁気テープ（MT）、メモリカード、フレキシブルディスク、光ディスク（CD-ROM,DVD-ROM,… ）、光磁気ディスク（MO,MD,…）等、任意のコンピュータ読み取り可能な記録媒体を使用することができる。この記録媒体１９に、上述のプログラム，データを格納しておき、必要に応じて、メモリ１３にロードして使用することもできる。
【００１７】
尚、記録媒体１９には、通信媒体を介してアップロード又はダウンロードされたプログラムデータを記録した媒体、ディスク装置を含む。更に、コンピュータによって直接実行可能なプログラムを記録した記録媒体だけでなく、いったん他の記録媒体（ハードディスク等）にインストールすることによって実行可能となるようなプログラムを記録した記録媒体や、暗号化されたり、圧縮されたりしたプログラムを記録した記録媒体も含む。
【００１８】
次に、パターン密度を考慮したレイアウト設計手法の概要を説明する。
まず、ＣＰＵ１２は、図２に示すマクロセル２１（半導体装置内の特定機能をひとかたまりとした機能ブロック）のパターンデータを作成し、その後、マクロセル２１のパターン密度検証を各レイヤ（層）で行う。このパターン密度検証で、マクロセル２１のパターン密度が半導体装置の設計規則を満たしていない場合には、その設計規則を満たすようにマクロセル２１のパターンの編集を行う。パターン密度は、検証エリアの面積に対する、検証エリア内のパターンの面積の合計値の比率である。
【００１９】
次に、ＣＰＵ１２は、チップ２２全体のパターンの形状の作成を行い、その後、チップ２２全体（検証するレイヤ全体）のパターン密度検証を各レイヤで行う。このパターン密度検証で、チップ２２全体のパターン密度が半導体装置の設計規則を満たしていない場合には、その設計規則を満たすべくパターンの編集を行う。そして、各レイヤでチップ２２全体のパターン密度が設計規則を満たせば、レイアウトが確定する。
【００２０】
次に、上記のマクロセル２１のパターン密度検証方法の詳細を図３〜図１０に従って説明する。
ＣＰＵ１２は、予め設定されている検証条件Ｐ１（検証するレイヤ、半導体装置の設計規則に基づく第１密度基準値Ｒ１、検証エリアＡ１のサイズ及び検証ステップ値Ｖ１）及びマクロセル２１のレイアウトデータＬに基づいて下記の処理を行う。例えば、１つの配線層において、第１密度基準値Ｒ１を７５％とし、検証エリアＡ１を１辺が３２μｍの正方形とし、検証ステップ値Ｖ１は８μｍとする。
【００２１】
まず、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１をＸ軸方向及びＹ軸方向に検証ステップ値Ｖ１だけそれぞれずらしたときに見込まれるパターン密度の最大変化量に基づく第２密度基準値Ｒ２を算出する（図３中、ステップＳ１１）。
【００２２】
このパターン密度の最大変化量は、図５に示すように、検証エリアＡ１をＸ軸方向及びＹ軸方向に検証ステップ値Ｖ１だけそれぞれずらしたときに、ずらす前の検証エリアＡ１（便宜上、第１検証エリアＡ１１とする）のパターン密度と、ずらした後の検証エリアＡ１（便宜上、第２検証エリアＡ１２とする）のパターン密度の差である。今、第１検証エリアＡ１１及び第２検証エリアＡ１２において、第１検証エリアＡ１１に含まれ、第２検証エリアＡ１２に含まれない領域をＭ、第２検証エリアＡ１２に含まれ、第１検証エリアＡ１１に含まれない領域をＮとする。これら領域Ｍ，Ｎの面積は、検証エリアＡ１を対角方向にずらした場合に最大となる。そして、両領域Ｍ，Ｎのいずれか一方に形成されたパターンの面積の合計値が領域の面積と等しく（パターン密度が１００％）、いずれか他方にパターンが全く無い状態（パターン密度が０％）の場合、第１検証エリアＡ１１のパターン密度と第２検証エリアＡ１２のパターン密度の差が最大となる、即ちパターン密度の変化量が最大となる。
【００２３】
この第１検証エリアＡ１１の位置と第２検証エリアＡ１２の位置の相対的なずれ量は、マクロセルの設計時における検証エリアの位置と、チップの設計時における検証エリアの位置との相対的なずれ量の最大値とみることができる。そして、このずれ量は、チップの設計時の検証エリアの基準点に対するマクロセルの基準点のずれ量と見ることができる。そして、最大変化量は、チップの検証エリアに対してマクロセルの基準点をずらして配置したときに、マクロセルの検証時における検証エリアのパターン密度に対して、チップの検証時における検証エリアのパターン密度の差の最大値となる。
【００２４】
そして、ＣＰＵ１２は、第１密度基準値Ｒ１から最大変化量を引いた結果の値を第２密度基準値Ｒ２とする。つまり、マクロセルの検証エリアにおけるパターン密度がこの第２密度基準値Ｒ２以下の場合、マクロセルをチップ上にどのように配置しても、その検証エリア内のパターンは、チップの密度検証において密度違反を発生させないことになる。従って、パターン密度の最大変化量を考慮してマクロセルの密度検証を行うことにより、チップ上にマクロセルを配置したときの密度違反の発生を抑えることが可能となる。
【００２５】
ＣＰＵ１２は、最大変化量を、（パターン密度の最大変化量）＝（領域Ｍ（又は領域Ｎ）の面積）／（検証エリアＡ１の面積）×１００（％）により算出する。そして、ＣＰＵ１２は、第１密度基準値Ｒ１からパターン密度の最大変化量を差し引いた値を第２密度基準値Ｒ２とする。例えば、検証エリアＡ１を１辺が３２μｍの正方形とし、検証ステップ値Ｖ１を８μｍとした場合には、第２密度基準値Ｒ２は、７５−（（３２２−２４２）／３２２）×１００＝３１．２５（％）となる。
【００２６】
次に、ＣＰＵ１２は、検証領域Ｔ１を検証する所定のマクロセル２１の範囲に設定し（ステップＳ１２）、その後、検証領域Ｔ１内に検証エリアＡ１を設定する（ステップＳ１３）。ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１の基準値（検証エリアＡ１の左下頂点の座標値）を配置する位置を、検証領域Ｔ１内の所定の位置（例えば図６における左下の角部分）からＸ軸方向とＹ軸方向とにそれぞれ検証ステップ値Ｖ１の整数倍の値を加算した座標値とする。
【００２７】
次に、ＣＰＵ１２は、ステップＳ１４において、マクロセル２１のレイアウトデータＬに基づいて検証ステップ区画２３（１辺が検証ステップ値Ｖ１である正方形）毎にパターン占有面積を算出し、その算出値を基に面積テーブルＣ１を作成する（図６参照）。尚、図６において、算出したパターン占有面積の数値の一例を各検証ステップ区画２３内に示している。
【００２８】
次に、ＣＰＵ１２は、ステップＳ１３で設定した検証エリアＡ１の中で、未検証の検証エリアＡ１があるか否かを判定し（ステップＳ１５）、未検証の検証エリアＡ１がある場合、その検証エリアＡ１を密度検証の対象としてステップＳ１６に移行する。
【００２９】
ステップＳ１６において、ＣＰＵ１２は、面積テーブルＣ１に基づいて対象とした検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ１を算出し、そのパターン密度Ｄ１が第２密度基準値Ｒ２以下か否かを判定する。パターン密度Ｄ１が第２密度基準値Ｒ２以下の場合、チップ上に配置した場合にも設計規則を満たす（即ち、パターン密度Ｄ１が第１密度基準値Ｒ１以下である）ため、その検証エリアＡ１を検証済のものとして記録し、ステップＳ１５に戻る。一方、パターン密度Ｄ１が第２密度基準値Ｒ２よりも大きい場合、ステップＳ１７に移行する。
【００３０】
ステップＳ１７において、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ１が設計規則を満たすか否か、即ち、パターン密度Ｄ１が第１密度基準値Ｒ１以下か否かを判定する。パターン密度Ｄ１が第１密度基準値Ｒ１よりも大きい場合、マクロセルの設計段階において密度違反である。従って、ＣＰＵ１２は対象の検証エリアＡ１の位置とパターン密度Ｄ１を記録する（ステップＳ１８）。そして、その検証エリアＡ１を検証済のものとして記録し、ステップＳ１５に戻る。
【００３１】
一方、パターン密度Ｄ１が第１密度基準値Ｒ１以下の場合、図４に示すステップＳ１９に移行する。このようにステップＳ１６及びステップＳ１７を経ることで、パターン密度Ｄ１が第１密度基準値Ｒ１以下であって第２密度基準値Ｒ２よりも大きい検証エリアＡ１が、ステップＳ１９以降の密度検証を行う対象となる。この密度検証の対象となる検証エリアＡ１は、マクロセルの設計段階では密度違反を発生していないが、チップ上に配置した場合に設計規則を満たさない、即ち密度違反を発生させる可能性がある検証エリアである。
【００３２】
ステップＳ１９からステップＳ２１において、ＣＰＵ１２は、対象の検証エリアＡ１に対して補助区画を設定し、対象の検証エリアＡ１の密度検証を行う。まず、ステップＳ１９において、ＣＰＵ１２は対象の検証エリアＡ１に対し、内側補助区画３１と外側補助区画３２を設定する。図７に示すように、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１の辺に沿って、検証エリアＡ１の内側に複数の内側補助区画３１を設定し、検証エリアＡ１の外側に複数の外側補助区画３２を設定する。各内側補助区画３１及び各外側補助区画３２は、１辺が検証ステップ値Ｖ１である正方形である。
【００３３】
各内側補助区画３１は、所定の外側補助区画３２と対応している。
詳述すると、図９（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）に示すように、検証エリアＡ１の角部分に位置する各内側補助区画３１ａは３つの外側補助区画３２と対応している。１つは内側補助区画３１ａの対角に位置する外側補助区画３２ａであり、残りの２つは内側補助区画３１のＸ軸方向及びＹ軸方向の対辺部分にそれぞれ位置する外側補助区画３２ｂである。尚、図９（ａ）〜（ｄ）には、検証エリアＡ１の角部分に位置する内側補助区画３１ａとそれに対応する外側補助区画３２ａ，３２ｂとの組み合わせをそれぞれ示している。
【００３４】
そして、図９（ｅ）（ｆ）に示すように、角部分の内側補助区画３１ａ以外の内側補助区画３１ｂ（角部分の内側補助区画３１ａ間に位置する内側補助区画３１ｂ）は、そのＸ軸方向（又はＹ軸方向）の対辺部分に位置する外側補助区画３２ｃと対応している。尚、図９（ｅ）（ｆ）には、内側補助区画３１ｂと外側補助区画３２ｃとの各組み合わせを示している。
【００３５】
上記の組み合わせは、後述のチップ２２全体の密度検証の検証エリアがＸ軸方向及びＹ軸方向の少なくとも一方にずれたときに、そのチップ２２全体の密度検証の検証エリアから一部が外れる内側補助区画３１とチップ２２全体の密度検証の検証エリアに一部が含まれる外側補助区画３２の組み合わせである。このため、チップ２２全体の密度検証の検証エリアがＸ軸方向及びＹ軸方向の少なくとも一方にずれた場合におけるその検証エリアの内のパターン密度を考慮することができ、チップ２２全体の密度検証においてマクロセル２１部分での設計規則違反の判定を出さないようにすることが可能となる。
【００３６】
次に、ＣＰＵ１２は、外側補助区画３２を加味したパターン密度Ｄ２を算出する（ステップＳ２０）。まず、ＣＰＵ１２は、内側補助区画３１のパターン占有面積に、対応する外側補助区画３２のパターン占有面積を足し合わせる。次に、その足し合わせた値と１つの内側補助区画３１の面積とを比較し、そのうちの小さい方の値をその内側補助区画３１のパターン占有面積とする（図８参照）。つまり、この外側補助区画３２に基づく内側補助区画３１のパターン占有面積は、内側補助区画３１に対応する外側補助区画３２のパターン占有面積を全て足し合わしたときに、その内側補助区画３１が取り得る最大のパターン占有面積である。そして、ＣＰＵ１２は、面積テーブルＣ１における各内側補助区画３１のパターン占有面積の値を、外側補助区画３２を加味したパターン占有面積の値に更新する。
【００３７】
図８には、各補助区画３１，３２内のパターン占有面積が図７に示す値の場合の外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積を示している。本実施形態のように内側補助区画３１の１辺の長さ（検証ステップ値Ｖ１）が８μｍの場合、内側補助区画３１の面積は６４μｍ２である。内側補助区画３１のパターン占有面積と対応する外側補助区画３２のパターン占有面積との合計値が内側補助区画３１の面積（６４μｍ２）よりも大きいときは、その内側補助区画３１の面積（６４μｍ２）を、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積とする。一方、合計値が内側補助区画３１の面積（６４μｍ２）以下のときは、その合計値を、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積とする。尚、検証エリアＡ１の辺が検証領域Ｔ１の辺と重なる（検証エリアＡ１が検証領域Ｔ１の端に位置する）場合には、その検証エリアＡ１の外側補助区画３２の一部が検証領域Ｔ１の外側に設定されるが、その検証領域Ｔ１外に設定された外側補助区画３２のパターン占有面積は０（零）とする。
【００３８】
その後、ＣＰＵ１２は、上記工程で各内側補助区画３１のパターン占有面積を更新した面積テーブルＣ１に基づいて検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２を算出する。
次に、ＣＰＵ１２は、パターン密度Ｄ２と設計規則に基づく第１密度基準値Ｒ１とを比較し、パターン密度Ｄ２が第１密度基準値Ｒ１以下か否かを判定する（ステップＳ２１）。パターン密度Ｄ２が第１密度基準値Ｒ１以下の場合、その検証エリアＡ１を検証済のものとして記録し、ステップＳ１５に戻る（図３参照）。一方、パターン密度Ｄ２が第１密度基準値Ｒ１よりも大きい場合には、ステップＳ２２以降の詳細な密度検証を行う。
【００３９】
ＣＰＵ１２は、予め設定されている検証条件Ｐ２（検証するレイヤ、半導体装置の設計規則に基づく第１密度基準値Ｒ１、検証エリアＡ２のサイズ及び検証ステップ値Ｖ２）及びマクロセル２１のレイアウトデータＬに基づいて詳細な密度検証を行う。検証ステップ値Ｖ２は、上記密度検証の検証ステップ値Ｖ１よりも小さな値に設定され、本実施形態では４μｍに設定される。尚、この詳細な密度検証の検証ステップ値Ｖ２は、レイアウトの最小単位に設定するのが望ましい。また、詳細な密度検証での検証エリアＡ２のサイズ及び形状は、上記密度検証の検証エリアＡ１のサイズと等しく設定される。
【００４０】
ステップＳ２２において、ＣＰＵ１２は、詳細な密度検証を行う検証領域Ｔ２を上記の密度検証における検証エリアＡ１と外側補助区画３２を合わせた領域に設定し（図１０参照）、その後、検証領域Ｔ２内に検証エリアＡ２を設定する（ステップＳ２３）。検証エリアＡ２の設定の要領は、検証ステップ値Ｖ２が小さい点を除き上記密度検証の場合（ステップＳ１３を参照）と同様である。
【００４１】
次に、ＣＰＵ１２は、ステップＳ２４において、マクロセル２１のレイアウトデータＬに基づいて検証ステップ区画４１（１辺が検証ステップ値Ｖ２である正方形）毎にパターン占有面積を算出し、その算出値を基に面積テーブルＣ２を作成する（図１０参照）。尚、図１０において、算出したパターン占有面積の数値の一例を各検証ステップ区画４１内に示している。
【００４２】
次に、ＣＰＵ１２は、ステップＳ２３で設定した検証エリアＡ２の中で、未検証の検証エリアＡ２があるか否かを判定し（ステップＳ２５）、未検証の検証エリアＡ２がある場合、その検証エリアＡ２を密度検証の対象としてステップＳ２６に移行する。
【００４３】
ステップＳ２６において、ＣＰＵ１２は、面積テーブルＣ２に基づき対象となる検証エリアＡ２のパターン密度Ｄ３を算出し、そのパターン密度Ｄ３が第１密度基準値Ｒ１以下か否かを判定する。パターン密度Ｄ３が第１密度基準値Ｒ１以下の場合、設計規則を満たすため、その検証エリアＡ２を検証済のものとして記録し、ステップＳ２５に戻る。一方、パターン密度Ｄ３が第１密度基準値Ｒ１よりも大きい場合、ＣＰＵ１２は設計規則を違反するその検証エリアＡ２の位置とパターン密度Ｄ３を記録する（ステップＳ２７）。そして、その検証エリアＡ２を検証済のものとして記録し、ステップＳ２５に戻る。その後、ステップＳ２５において、未検証の検証エリアＡ２がないと判定した場合、詳細な密度検証を完了し、ステップＳ１５に戻る。
【００４４】
そして、ステップＳ１５において、未検証の検証エリアＡ１がないと判定した場合、マクロセル２１のパターン密度検証を終了する。
上記の検証処理において、設計規則違反が記録された場合、その設計規則違反の記録に基づきマクロセル２１のレイアウトデータＬが設計規則を満たすべく編集される。そして、ＣＰＵ１２は、再度上記のパターン密度検証を行う。そして、各検証エリアＡ１（及び各検証エリアＡ２）で設計規則の違反がなければ、マクロセル２１の設計（パターンの形状の作成）が完了する。
【００４５】
半導体装置の設計処理において、ＣＰＵ１２は、チップ２２全体のパターンの形状の作成（マクロセル２１の配置位置等の決定）を行う。その後、ＣＰＵ１２は、チップ２２全体（検証するレイヤ全体）のパターン密度検証を各レイヤで行う。
【００４６】
チップ２２全体のパターン密度検証では、その検証条件（設計規則に基づく密度基準値（前記第１密度基準値Ｒ１と同値）、検証エリアのサイズ、及び検証ステップ値）は、マクロセル２１のパターン密度検証の場合と同様である。
【００４７】
まず、ＣＰＵ１２は、検証領域をチップ２２全体（レイヤ全体）に設定し、その後、マクロセル２１のパターン密度検証の場合と同様に検証エリアを設定する（ステップＳ１３を参照）。次に、各検証エリアでパターン密度が設計規則を満たしているか否か（パターン密度が密度基準値以下か否か）を検証し、設計規則を満たしていない検証エリアが存在した場合には、設計規則を満たすべくチップ２２全体のパターンの編集を行う。その後、チップ２２全体のパターン密度検証を再度行い、各検証エリアで設計規則を満たせば、チップ２２全体の設計が完了する。
【００４８】
以上のように本実施形態のパターン密度検証方法では、マクロセル２１単体のパターン密度検証において、検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ１（実際のパターン密度）が、検証エリアＡ１をＸ軸方向及びＹ軸方向に検証ステップ値Ｖ１だけそれぞれずらしたときに見込まれるパターン密度の最大変化量に基づく第２密度基準値Ｒ２以下か否かを判定する（ステップＳ１６）。パターン密度Ｄ１が第２密度基準値Ｒ２以下の場合、その検証エリアＡ１とその周囲八方の検証エリアＡ１との間（検証ステップ間）で設計規則を違反することはない。また、パターン密度Ｄ１が第２密度基準値Ｒ２よりも大きく、且つ第１密度基準値Ｒ１以下の検証エリアＡ１では、外側補助区画３２を加味したパターン密度Ｄ２に基づく判定を行う（ステップＳ２１）。そして、パターン密度Ｄ２が第１密度基準値Ｒ１以下の場合、その検証エリアＡ１とその周囲八方の検証エリアＡ１との間（検証ステップ間）で設計規則を違反することはなく、パターン密度Ｄ２が第１密度基準値Ｒ１よりも大きい場合、その検証エリアＡ１とその周囲八方の検証エリアＡ１との間（検証ステップ間）では設計規則を違反する虞がある。このように、マクロセル２１単体の密度検証の段階において、各検証エリアＡ１の検証ステップ間で設計規則を違反する虞がある箇所を発見することができるため、チップ２２全体の密度検証においてマクロセル２１部分で設計規則を違反することがないようにパターンを設計することが可能となる。
【００４９】
また、本実施形態のパターン密度検証方法では、パターン密度Ｄ２が第１密度基準値Ｒ１よりも大きい場合、その検証エリアＡ１とその外側補助区画３２を合わせた領域を検証領域Ｔ２とし、検証ステップ値Ｖ１よりも小さい検証ステップ値Ｖ２で密度検証を行う（ステップ２２〜ステップ２７）。これにより、検証エリアＡ１の検証ステップ間で設計規則を違反する詳細な位置を発見することが可能となる。
【００５０】
以上記述したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１の内側と外側に内側補助区画３１と外側補助区画３２とをそれぞれ設定し、内側補助区画３１内のパターン占有面積と外側補助区画３２内のパターン占有面積とに基づき算出された検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２が密度基準を満たすか否かを検証する。従って、周囲八方の検証エリアＡ１との間（検証ステップ間）で設計規則を違反する虞がある検証エリアＡ１を発見することができるため、チップ２２全体の密度検証においてマクロセル２１部分での設計規則違反の判定を出さないようにすることが可能となる。
【００５１】
（２）ＣＰＵ１２は、内側補助区画３１内のパターン占有面積に外側補助区画３２内のパターン占有面積を加味した検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２が密度基準を満たすか否かを検証するため、検証ステップ間で設計規則を違反する虞がある検証エリアＡ１を発見することができる。
【００５２】
（３）ＣＰＵ１２は、内側補助区画３１及び外側補助区画３２をそれぞれ検証エリアＡ１の辺に沿って複数設定し、各内側補助区画３１内のパターン占有面積にそれぞれ対応する外側補助区画３２内のパターン占有面積を加味するため、検証エリアＡ１が検証ステップ間で設計規則を違反するか否かの判定の精度を向上させることが可能となる。
【００５３】
（４）ＣＰＵ１２は、外側補助区画３２内のパターン占有面積を内側補助区画３１内のパターン占有面積に加味する際に、それらを足し合わせた面積が内側補助区画３１の面積よりも大きい場合には、その内側補助区画３１の面積を、外側補助区画３２内のパターン占有面積を加味した内側補助区画３１内のパターン占有面積とする。このため、検証エリアＡ１が検証ステップ間で設計規則を違反するか否かの判定の精度を向上させることが可能となる。
【００５４】
（５）ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１内に含まれるパターン密度Ｄ１が密度基準を満たすか否かを検証し、そのパターン密度Ｄ１が密度基準を満たす場合、内側補助区画３１と外側補助区画３２のパターン占有面積に基づき算出された検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２に基づく検証を行い、検証エリアＡ１内に含まれるパターン密度Ｄ１が密度基準を満たさない場合には、内側補助区画３１と外側補助区画３２のパターン占有面積に基づき算出された検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２に基づく検証を行わない。これにより、パターン密度Ｄ２に基づく検証を行う必要がない検証エリアＡ１においてそのパターン密度Ｄ２に基づく検証を行わずに済むため、設計時間を短縮することが可能となる。
【００５５】
（６）ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１をＸ軸方向及びＹ軸方向にそれぞれ検証ステップ値Ｖ１だけずらしたときに見込まれる検証エリアＡ１内に含まれるパターン密度の最大変化量と密度基準とに基づく閾値（第２密度基準値Ｒ２）を算出し、検証エリアＡ１の位置を検証ステップ値Ｖ１で順次変更し、それぞれの位置で検証エリアＡ１内に含まれるパターン密度Ｄ１と第２密度基準値Ｒ２とを比較し、その比較結果に応じて、内側補助区画３１と外側補助区画３２のパターン占有面積に基づき算出された検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２に基づく検証を行う。これにより、パターン密度Ｄ２に基づく検証を行う必要がない検証エリアＡ１においてそのパターン密度Ｄ２に基づく検証を行わずに済むため、設計時間を短縮することが可能となる。
【００５６】
（７）ＣＰＵ１２は、内側補助区画３１と外側補助区画３２のパターン占有面積に基づき算出された検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２が密度基準を満たさない場合、検証エリアＡ１と各外側補助区画３２を合わせた検証領域Ｔ２内において検証エリアＡ２を検証ステップ値Ｖ２で順次変更し、それぞれの位置で検証エリアＡ２内に含まれるパターン密度Ｄ１が密度基準を満たすか否かを判定する。これにより、検証エリアＡ２の検証ステップ間で設計規則を違反する詳細な位置を発見することが可能となる。
【００５７】
（第二実施形態）
以下、第二実施形態を図１１〜図１９に従って説明する。なお、先の図１〜図１０に示した部材と同一の部材にはそれぞれ同一の符号を付し、それら各要素についてはその説明を省略する。
【００５８】
ＣＰＵ１２は、図１１及び図１２に示すフローチャートに従って、マクロセル２１のパターン密度検証を行う。まず、ＣＰＵ１２は、ステップＳ３１からステップＳ３８までの処理を、第一実施形態のステップＳ１からステップＳ１８までの処理と同様に行う。
【００５９】
次に、ＣＰＵ１２は、ステップＳ３９において、対象の検証エリアＡ１に対し、内側補助区画３１と外側補助区画３２を設定する。図１３に示すように、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１の辺に沿って、検証エリアＡ１の内側に複数の内側補助区画３１を設定し、検証エリアＡ１の外側に複数の外側補助区画３２を設定する。
【００６０】
具体的には、図１４（ａ）〜（ｄ）に示すように、第一実施形態と同様に、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１の角部分に内側補助区画３１ａ及び外側補助区画３２ａ，３２ｂを設定する。そして、図１４（ｅ）（ｆ）に示すように、ＣＰＵ１２は、角部分の内側補助区画３１ａ間に内側補助区画３１ｃを設定する。同様に、ＣＰＵ１２は、角部分の外側補助区画３２ｂ間に外側補助区画３２ｄを設定する。図１４では、内側補助区画３１ｃ及び外側補助区画３２ｄは、長手方向の一辺の長さが検証ステップＶ１の２倍、短手方向の１辺の長さが検証ステップＶ１と等しい長方形である。
【００６１】
各内側補助区画３１は、所定の外側補助区画３２と対応している。詳述すると、図１４（ａ）〜（ｄ）に示すように、検証エリアＡ１の角部分に位置する各内側補助区画３１ａは、３つの外側補助区画３２ａ，３２ｂと対応している。そして、図１４（ｅ）（ｆ）に示すように、角部分の内側補助区画３１ａ間に位置する内側補助区画３１ｃは、そのＸ軸方向（又はＹ軸方向）の対辺部分に位置する外側補助区画３２ｄと対応している。尚、図１４（ｅ）（ｆ）には、内側補助区画３１ｃと外側補助区画３２ｄとの各組み合わせを示している。
【００６２】
次に、ＣＰＵ１２は、ステップＳ４０において、対象の検証エリアＡ１に対して設定された内側補助区画３１内に形成されるパターンに、対応する外側補助区画３２内に形成されるパターンを図形演算する。ＣＰＵ１２は、この図形演算処理により、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積を算出する。例えば、本実施形態では、ＣＰＵ１２は、図形演算として論理和（ＯＲ）処理を行う。
【００６３】
詳述すると、ＣＰＵ１２は、内側補助区画３１内に形成されるパターンに、対応する外側補助区画３２内に形成されるパターンを図形演算する。ＣＰＵ１２は、図形演算したパターンの面積を、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積とする。
【００６４】
例えば、図１５（ａ），（ｂ）に示すように、内側補助区画３１ｃ１（図１３参照）内に形成されるパターンＰａ１に、外側補助区画３２ｄ１（図１３参照）内に形成されるパターンＰａ２を図形演算すると、外側補助区画３２ｄ１を加味した内側補助区画３１ｃ１内のパターンＰａ３は、図１５（ｃ）に示すようなパターンとなる。
【００６５】
例えば、内側補助区画３１ｃ１及び外側補助区画３２ｄ１の長手方向の１辺の長さ（検証ステップ値Ｖ１の２倍）が１６μｍ、短手方向の１辺の長さ（検証ステップＶ１）が８μｍとした場合、内側補助区画３１ｃ１及び外側補助区画３２ｄ１の面積は１２８μｍ２となる。図１５（ａ）、（ｂ）から明らかなように、内側補助区画３１ｃ１内に形成されるパターンＰａ１のパターン占有面積は６４μｍ２、外側補助区画３２ｄ１内に形成されるパターンＰａ２のパターン占有面積は６４μｍ２である。そして、図１５（ｃ）から明らかなように、外側補助区画３２ｄ１を加味した内側補助区画３１ｃ１のパターン面積は１２８μｍ２となる。
【００６６】
この場合、外側補助区画３２ｄ１を加味した内側補助区画３１ｃ１のパターン占有面積（１２８μｍ２）は、内側補助区画３１ｃ１のパターン占有面積の値（６４μｍ２）に、対応する外側補助区画３２ｄ１のパターン占有面積の値（６４μｍ２）を加算した値（１２８μｍ２）と等しくなる。
【００６７】
図１３において検証エリアＡ１が左方向に検証ステップＶ１ずれた場合、検証エリアＡ１に含まれる内側補助区画３１ｃ１のパターン占有面積と外側補助区画３２ｄ１のパターン占有面積を加算した値は、検証ステップＶ１の半分ずれたときに最大となる。図１６は、検証ステップＶ１の半分ずれた検証エリアＡ１（便宜上、検証エリアＡ１ａとする）を示している。
【００６８】
図１６から明からなように、この最大となる検証エリアＡ１ａに含まれる内側補助区画３１ｃ１のパターン占有面積と外側補助区画３２ｄ１のパターン占有面積を加算した値は、１２８μｍ２である。この加算値と、上記のように外側補助区画３２ｄ１を加味した内側補助区画３１ｃ１のパターン占有面積は等しい。
【００６９】
従って、外側補助区画３２ｄ１を加味した内側補助区画３１ｃ１のパターン占有面積は、検証エリアＡ１が図１３において左方向に検証ステップＶ１以内ずれたときの、検証エリアＡ１に含まれる内側補助区画３１ｃ１のパターン占有面積と外側補助区画３２ｄ１のパターン占有面積を加算した値の最大値となる。すなわち、外側補助区画３２ｄ１を加味した内側補助区画３１ｃ１のパターン占有面積は、図１３において検証エリアＡ１が左方向に検証ステップＶ１以内にずれた場合におけるパターン占有面積を考慮した値になっている。
【００７０】
また、図１７（ａ）、（ｂ）に示すように、内側補助区画３１ｃ２（図１３参照）内に形成されるパターンＰａ４に、外側補助区画３２ｄ２内に形成されるパターンＰａ５を図形演算すると、外側補助区画３２ｄ２を加味した内側補助区画３１ｃ２内のパターンＰａ６は、図１７（ｃ）に示すようなパターンとなる。
【００７１】
図１７（ａ）、（ｂ）から明らかなように、内側補助区画３１ｃ２内に形成されるパターンＰａ４のパターン占有面積は６４μｍ２、外側補助区画３２ｄ２内に形成されるパターンＰａ５のパターン占有面積は６４μｍ２である。そして、図１７（ｃ）から明らかなように、外側補助区画３２ｄ２を加味した内側補助区画３１ｃ２内に形成されるパターンＰａ６のパターン占有面積は６４μｍ２となる。
【００７２】
この場合、外側補助区画３２ｄ２を加味した内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積（６４μｍ２）を、内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積（６４μｍ２）に、対応する外側補助区画３２ｄ２のパターン占有面積（６４μｍ２）を加算することにより算出すると、その算出値が１２８μｍ２となる。これは、内側補助区画３１ｃ２内のパターンＰａ４に、対応する外側補助区画３２ｄ２のパターンＰａ５を図形演算する際、内側補助区画３１ｃ２内に形成されるパターンＰａ４と外側補助区画３２ｄ２内に形成されるパターンＰａ５が重なるためである。
【００７３】
このような場合、検証エリアＡ１がずれても、検証エリアＡ１内のパターン占有面積は変わらない。つまり、内側補助区画３１と外側補助区画３２の重なり合う部分のパターン占有面積は、一方の区画のみを考慮すれば良いことになる。従って、図１７の場合、一方の区画のパターン占有面積（６４μｍ２）を考慮すればよい。
【００７４】
つまり、実際に内側補助区画３１ｃ２内に形成されるパターンＰａ４と外側補助区画３２ｄ２内に形成されるパターンＰａ５を図形演算すると、パターンＰａ４とパターンＰａ５が重なる部分のパターン占有面積を内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積に加算しない。その結果、内側補助区画３１ｃ２及び外側補助区画３２ｄ２のパターン占有面積を加算する場合と比べて、外側補助区画３２ｄ２を加味した内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積をより精度良く算出することができるからである。そのため、パターンが重なる部分がある場合、いずれか一方のパターン占有面積からその重なる部分の面積を減算し、その減算後のパターン占有面積と他方のパターン占有面積を加算したことになる。
【００７５】
図１３において検証エリアＡ１を右方向に検証ステップＶ１ずらしたとき、検証エリアＡ１に含まれる内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積と外側補助区画３２ｄ２のパターン占有面積を加算した値は、図１３において検証エリアＡ１が右方向に検証ステップＶ１の半分ずらしたときに最大となる。
【００７６】
図１８は、図１３において右方向に検証ステップＶ１の半分ずらした検証エリアＡ１（便宜上、検証エリアＡ１ｂとする）を示している。図１８から明からなように、この最大となる検証エリアＡ１ｂに含まれる内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積と外側補助区画３２ｄ２のパターン占有面積を加算した値は、６４μｍ２である。この加算値と、上記のように外側補助区画３２ｄ２を加味した内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積は等しい。
【００７７】
従って、外側補助区画３２ｄ２を加味した内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積は、図１３において検証エリアＡ１が右方向に検証ステップＶ１以内ずれたときの、検証エリアＡ１ｂに含まれる内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積と外側補助区画３２ｄ２のパターン占有面積を加算した値の最大値となる。すなわち、外側補助区画３２ｄ２を加味した内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積は、検証エリアＡ１が図１３において右方向に検証ステップＶ１以内ずれた場合におけるパターン占有面積を考慮した値になっている。
【００７８】
そして、ＣＰＵ１２は、面積テーブルＣ１における各内側補助区画３１のパターン占有面積の値を、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積の値に更新する。その後、ＣＰＵ１２は、各内側補助区画３１のパターン占有面積を更新した面積テーブルＣ１に基づいて検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２を算出する。
【００７９】
図１９は、図１３に示すように各補助区画３１，３２内にパターンＰａ７が形成されている場合の外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１内に形成されるパターンＰａ８を示している。そして、図２０は、図１９に示すように外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１内にパターンＰａ８が形成されている場合の外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積を示している。
【００８０】
尚、図２０において、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積の値を各検証ステップ区画２３内に示している。また、検証エリアＡ１の辺が検証領域Ｔ１の辺と重なる（検証エリアＡ１が検証領域Ｔ１の端に位置する）場合には、その検証エリアＡ１の外側補助区画３２の一部が検証領域Ｔ１の外側に設定されるが、その検証領域Ｔ１外に設定された外側補助区画３２にはパターンが無いこととする。
【００８１】
すなわち、ステップＳ４０において、ＣＰＵ１２は、内側補助区画３１内に形成されるパターンに、対応する外側補助区画３２内に形成されるパターンを図形演算することにより、上記のように外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積をより精度良く算出することができる。
【００８２】
従って、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１内における対応する外側補助区画３２内のパターンと図形演算すると自身のパターンと重なる内側補助区画３１の数が多いほど、検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２をより精度良く算出することができる。このため、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１がずれた場合の値により近いパターン密度Ｄ２を算出することができる。この結果、設計規則違反の判定を過剰に出さないようにすることが可能となり、検証エリアＡ１のパターン密度検証を再度行う箇所が減少する。
【００８３】
尚、ＣＰＵ１２は、ステップＳ４１からステップＳ４７までの処理を、第一実施形態のステップＳ２１からステップＳ２７までの処理と同様に行う。
以上記述したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
【００８４】
（１）ＣＰＵ１２は、内側補助区画３１内のパターンに、対応する外側補助区画３２内に形成されるパターンを図形演算して、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１内に形成されるパターンを形成する。そして、ＣＰＵ１２は、その外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１内のパターンに基づいて、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積を算出するようにした。
【００８５】
従って、内側補助区画３１内のパターンに、対応する外側補助区画３２内のパターンを図形演算するとそれらパターンが重なる場合、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積をより精度良く算出することができる。
【００８６】
（２）ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１がずれた場合の値に近いパターン密度Ｄ２を算出できるため、設計規則違反の判定を過剰に出さないようにすることが可能となる。従って、検証エリアＡ１のパターン密度検証を再度行う箇所が減少するため、検証時間を短縮することができる。
【００８７】
（第三実施形態）
以下、第三実施形態を図２１〜２５に従って説明する。なお、先の図１〜図２０に示した部材と同一の部材にはそれぞれ同一の符号を付し、それら各要素についてはその説明を省略する。
【００８８】
ＣＰＵ１２は、第二実施形態と同様に、マクロセル２１のパターン密度検証を行う。尚、本実施形態では、図１１，図１２のステップＳ３１〜Ｓ３８，Ｓ４１〜Ｓ４７の処理と同じ部分について図面を省略し、図１２に示すステップＳ３９及びステップＳ４０に対応する処理を、図２１に示すステップＳ３９ａ及びステップＳ４０ａの処理として説明する。
【００８９】
ＣＰＵ１２は、ステップＳ３９ａにおいて、第一実施形態と同様に、対象の検証エリアＡ１に対し、内側補助区画３１と外側補助区画３２を設定する。ＣＰＵ１２は、設定した内側補助区画３１を所定数の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６に分割する。同様に、ＣＰＵ１２は、外側補助区画３２を所定数の分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６に分割する。ここで、所定数は、内側補助区画３１と外側補助区画３２を分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６に分割することで、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６の一辺が、パターンの最小幅又はパターン同士の最小間隔に応じた長さ付近となる数である。
【００９０】
本実施形態では、内側補助区画３１は、１辺がパターンの最小幅の半分である正方形の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６に分割される。同様に、外側補助区画３２は、１辺がパターンの最小幅の半分である正方形の分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６に分割される。本実施形態では、パターンの最小幅は４μｍである。
【００９１】
従って、図２２に示すように、内側補助区画３１は、１辺がパターンの最小幅の半分（２μｍ）であるため、１６個の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６に分割される。同様に、外側補助区画３２は、１６個の分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６に分割される。
【００９２】
そして、ＣＰＵ１２は、マクロセル２１のレイアウトデータＬに基づいて各内側補助区画３１の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６と、各外側補助区画３２の分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン占有面積を算出する。そして、ＣＰＵ１２は、ステップＳ３４で面積テーブルＣ１に記憶した内側補助区画３１及び外側補助区画３２のパターン占有面積の値を、対応する分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６と分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン占有面積の値に更新する。
【００９３】
各内側補助区画３１は、第一実施形態と同様に、所定の外側補助区画３２とそれぞれ対応している。各内側補助区画３１の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６は、自身の内側補助区画３１に対応する外側補助区画３２の分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６とそれぞれ対応している。詳しくは、図２２に示すように、各内側補助区画３１ｄを分割した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６が、対応する外側補助区画３２ｄを分割した分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６とそれぞれ対応している。
【００９４】
具体的には、内側補助区画３１ｄの左上の角部分に位置する分割内側区画Ｉ１が、外側補助区画３２ｄの左上の角部分に位置する分割外側区画Ｏ１と対応している。その分割内側区画Ｉ１の右隣に位置する分割内側区画Ｉ２が、分割外側区画Ｏ１の右隣に位置する分割外側区画Ｏ２と対応している。また、分割内側区画Ｉ２の右隣に位置する分割内側区画Ｉ３が、分割外側区画Ｏ２の右隣に位置する分割外側区画Ｏ３と対応している。そして、内側補助区画３１ｄの右下の角部分に位置する分割内側区画Ｉ１６が、外側補助区画３２ｄの右下の角部分に位置する分割外側区画Ｏ１６と対応している。
【００９５】
次に、ステップＳ４０ａにおいて、ＣＰＵ１２は、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味したパターン密度Ｄ２を算出する。まず、ＣＰＵ１２は、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６内に形成されるパターンのパターン占有面積の値に、対応する分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６内に形成されるパターンのパターン占有面積の値を加算する。次に、その加算値と分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６の面積（４μｍ２）とを比較し、そのうちの小さい方の値をその分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積とする。
【００９６】
つまり、この分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６に基づく分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６内に形成されるパターンのパターン占有面積は、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６に、対応する分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６内に形成されるパターンのパターン占有面積を全て加算したときに、その分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６が取り得る最大のパターン占有面積である。
【００９７】
本実施形態では、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６の１辺の長さが２μｍの場合、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６の面積は４μｍ２である。そして、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積と、対応する分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン占有面積との加算値が分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６の面積（４μｍ２）よりも大きいときは、その分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６の面積（４μｍ２）を、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積とする。反対に、加算値が分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６の面積（４μｍ２）以下のときは、その加算値を、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積とする。
【００９８】
ＣＰＵ１２は、上記の分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積を算出する場合と比べて、より精度良く算出することができる。
【００９９】
図２３（ａ）、（ｂ）に示すように、内側補助区画３１内にパターンＰａ１０が、外側補助区画３２内にパターンＰａ１１が配置される場合に、ＣＰＵ１２が分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を算出する処理を説明する。ＣＰＵ１２は、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積に、対応する分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン占有面積を加算して、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を算出する。
【０１００】
詳述すると、図２３（ａ）、（ｂ）に示すような内側補助区画３１及び外側補助区画３２の場合の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６内に形成されるパターンＰａ１０のパターン占有面積、及び、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６内に形成されるパターンＰａ１１のパターン占有面積を図２４（ａ）、（ｂ）に示す。
【０１０１】
図２４（ａ）、（ｂ）において、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積の値と、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン占有面積の値を、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６内及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６内にそれぞれ示している。図２４（ｃ）に、算出した分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を示す。
【０１０２】
図２４（ｃ）において、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積の値を、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６内に示している。従って、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積は、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を全て加算した値のため、その値は４８μｍ２である。図２３（ｃ）から明らかなように、内側補助区画３１の面積が６４μｍ２であるため、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積の値は４８μｍ２である。
【０１０３】
従って、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積の値は、実際に、内側補助区画３１内に形成されるパターンＰａ１０に、対応する外側補助区画３２内に形成されるパターンＰａ１１を加算した値（４８μｍ２）と等しい。すなわち、図２３（ａ）、（ｂ）に示すような内側補助区画３１及び外側補助区画３２の場合、ＣＰＵ１２は、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を精度良く算出することができる。
【０１０４】
これは、図２３（ａ）、（ｂ）に示すような内側補助区画３１及び外側補助区画３２の場合、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６又は分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６内のパターン密度が０％又は１００％のいずれかであり、ＣＰＵ１２が分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６又は分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン占有面積を精度良く算出することができるためである。
【０１０５】
詳しくは、分割内側区画Ｉ１内のパターン密度が０％の場合（分割内側区画Ｉ１にパターンが無い場合）、分割内側区画Ｉ１のパターン占有面積に、対応する分割外側区画Ｏ１のパターン占有面積を加算すると、分割外側区画Ｏ１のパターン占有面積が、分割外側区画Ｏ１を加味した分割内側区画Ｉ１のパターン占有面積となる。
【０１０６】
すなわち、分割内側区画Ｉ１内にパターンが無いため、分割外側区画Ｏ１のパターンのみが、分割外側区画Ｏ１を加味した分割内側区画Ｉ１内に形成される。従って、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６又は分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン密度が０％の場合、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積をより精度良く算出することができる。
【０１０７】
一方、分割内側区画Ｉ１のパターン密度が１００％の場合（分割内側区画Ｉ１内の全ての領域にパターンが形成されている場合）、分割内側区画Ｉ１のパターン占有面積に、対応する分割外側区画Ｏ１のパターン占有面積を加算すると、分割内側区画Ｉ１のパターン占有面積が、分割外側区画Ｏ１を加味した分割内側区画Ｉ１のパターン占有面積となる。
【０１０８】
換言すると、分割内側区画Ｉ１の全ての領域にパターンが形成されているため、どの様な分割外側区画Ｏ１内に形成されるパターンと図形演算されても、分割外側区画Ｏ１を加味した分割内側区画Ｉ１内に形成されるパターンは、分割内側区画Ｉ１内に形成されるパターンから変更されない。従って、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６又は分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン密度が１００％の場合、ＣＰＵ１２は、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積をより精度良く算出することができる。
【０１０９】
反対に、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６又は分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン密度が０％又は１００％ではない場合であって、内側補助区画３１内のパターンに、外側補助区画３２内のパターンを図形演算するとそれらパターンが重なってしまうとき、対応する分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を精度良く算出することができずに実際の値よりも算出値が大きくなってしまう。
【０１１０】
このため、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６又は分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン密度が０％又は１００％ではない場合、上記のように、対応する分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を精度良く算出することができずに実際の値よりも算出値が大きくなってしまう可能性がある。
【０１１１】
このような補助区画は、面積が小さいほど、パターン密度が０％又は１００％となる区画の割合が多くなる。補助区画の１辺の長さをパターン編集可能な最小単位まで短くすると、検証エリアＡ１における全ての補助区画のパターン密度が０％又は１００％になる。つまり、補助区画は、パターン編集可能な最小単位まで１辺の長さを短くするほど、補助区画のパターン密度が０％又は１００％になる確率が高くなる。しかし、補助区画の面積が小さいほど、検証エリアＡ１の補助区画の数が増加するため、ＣＰＵ１２の負荷が増大する。
【０１１２】
例えば、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６の１辺の長さは、本実施形態のように最小幅又は最小間隔の半分が好ましい。分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６は、最小間隔で最小幅のパターンが配置される条件が０％又は１００％のパターン密度に最もなりにくい。図２５は、この０％又は１００％のパターン密度に最もなりにくい条件で分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６に配置されているパターンＰａ１３，Ｐａ１４を示している。図２５において、パターン密度が０％又は１００％の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６内に右下がり斜線を引いて示している。この場合、図２５から明らかなように、パターン密度が０％又は１００％の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６は、全体の５０％となる。
【０１１３】
分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６は、内側補助区画３１及び外側補助区画３２よりも面積が小さいため、パターン密度が０％又は１００％になりやすい。内側補助区画３１又は外側補助区画３２のパターン密度が０％又は１００％ではない場合であって、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６又は分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン密度が０％又は１００％のとき、ＣＰＵ１２は、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積より、精度良く算出することができる。
【０１１４】
従って、ＣＰＵ１２は、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を算出する方が、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積を算出するより、同じ面積の領域のパターン占有面積を算出する場合に精度良く算出することができる。
【０１１５】
図２３（ａ）、（ｂ）に示すような内側補助区画３１及び外側補助区画３２の場合、ＣＰＵ１２は、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積のパターン占有面積を、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積に基づいて算出する方が、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積を算出するより、精度良く算出することができる。この場合、パターン占有面積の算出値は１６μｍ２小さくなる。
【０１１６】
そして、ＣＰＵ１２は、面積テーブルＣ１における各分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積の値を、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積の値に更新する。ＣＰＵ１２は、各分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を更新した面積テーブルＣ１に基づいて検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２を算出する。このとき、検証エリアＡ１において、パターン密度が０％又は１００％の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６の総面積は、パターン密度が０％又は１００％の内側補助区画３１及び外側補助区画３２の総面積より大きい。
【０１１７】
従って、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１のパターン占有面積を、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積に基づいて算出する方が、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積に基づいて算出するより、精度良く算出できる。このため、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１がずれた場合の値により近いパターン密度Ｄ２を算出することができる。この結果、設計規則違反の判定を過剰に出さないようにすることが可能となり、検証エリアＡ１のパターン密度検証を再度行う箇所が減少する。
【０１１８】
以上記述したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）ＣＰＵ１２は、内側補助区画３１及び外側補助区画３２を分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６にそれぞれ分割する。そして、ＣＰＵ１２は、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６に、対応する分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を図形演算することで、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を算出するようにした。
【０１１９】
ＣＰＵ１２は、内側補助区画３１又は外側補助区画３２のパターン密度が０％又は１００％の場合、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１を精度良く算出することができる。また、ＣＰＵ１２は、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６又は分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン密度が０％又は１００％の場合、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６を精度良く算出することができる。
【０１２０】
分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６は、面積が小さいため、内側補助区画３１及び外側補助区画３２より、パターン密度が０％又は１００％になりやすい。このため、検証エリアＡ１において、パターン密度が０％又は１００％の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６の総面積は、パターン密度が０％又は１００％の内側補助区画３１及び外側補助区画３２の総面積より大きい。
【０１２１】
従って、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１のパターン占有面積を、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積に基づいて算出する方が、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積に基づいて算出するより、精度良く算出できる。
【０１２２】
（２）ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１がずれた場合の値に近いパターン密度Ｄ２を算出できるため、設計規則違反の判定を過剰に出さないようにすることが可能となる。従って、検証エリアＡ１のパターン密度検証を再度行う箇所が減少するため、検証時間を短縮することができる。
【０１２３】
尚、上記各実施の形態は、以下の態様で実施してもよい。
・内側補助区画３１と外側補助区画３２の組み合わせは、上記実施形態の組み合わせに限定されるものではなく、適宜変更してもよい。
【０１２４】
・上記実施形態では、内側補助区画３１及び外側補助区画３２はそれぞれ複数設定されたが、特にこれに限定されるものではなく、それぞれ単数としてもよい。
・上記実施形態では、内側補助区画３１及び外側補助区画３２は検証エリアＡ１の全周に亘って設定されたが、特にこれに限定されるものではなく、例えば、Ｘ軸方向の一辺及びＹ軸方向の一辺のみに沿って設定してもよい。
【０１２５】
・上記実施形態では、内側補助区画３１及び外側補助区画３２に基づく密度検証を、上限側の密度検証に用いたが、下限側の密度検証に用いてもよく、また、その上限側及び下限側の密度検証を両方行ってもよい。尚、下限側の密度検証の場合、第１密度基準値Ｒ１とパターン密度の最大変化量を足し合わせた値を第２密度基準値Ｒ２とする。
【０１２６】
・上記実施形態の密度検証処理において、第２密度基準値Ｒ２に基づく密度検証（ステップＳ１１及びステップＳ１６）を省いてもよい。
・上記実施形態において、パターン密度Ｄ１と第２密度基準値Ｒ２とを比較する処理を行うステップＳ１６と、パターン密度Ｄ１と第１密度基準値Ｒ１とを比較する処理を行うステップＳ１７の順序を入れ替えてもよい。
【０１２７】
上記各実施形態に関し、以下の付記を開示する。
（付記１）
半導体装置に形成するパターンのレイアウトデータを生成する設計装置の中央処理装置にて実行されるパターン密度検証方法であって、
前記中央処理装置は、検証エリアの内側と外側に内側補助区画と外側補助区画とをそれぞれ設定し、前記内側補助区画内のパターン占有面積と前記外側補助区画内のパターン占有面積とに基づき算出された前記検証エリアのパターン密度が所定の密度基準を満たすか否かを検証する、
ことを特徴とするパターン密度検証方法。（１）
（付記２）
前記中央処理装置は、前記内側補助区画内のパターン占有面積に前記外側補助区画内のパターン占有面積を加味した上で、前記検証エリアのパターン密度を算出する、
ことを特徴とする付記１記載のパターン密度検証方法。（２）
（付記３）
前記中央処理装置は、前記内側補助区画内に形成されるパターンと前記外側補助区画内に形成されるパターンを図形演算し、その演算結果に基づいて前記検証エリアのパターン密度を算出する、
ことを特徴とする付記１記載のパターン密度検証方法。（３）
（付記４）
前記中央処理装置は、前記内側補助区画及び前記外側補助区画をそれぞれ前記検証エリアの辺に沿って複数設定し、前記各内側補助区画内のパターン占有面積にそれぞれ対応する前記外側補助区画内のパターン占有面積を加味する、
ことを特徴とする付記２又は３記載のパターン密度検証方法。（４）
（付記５）
前記中央処理装置は、前記内側補助区画及び前記外側補助区画を複数の分割内側区画及び分割外側区画に分割し、前記分割内側区画のパターン占有面積にそれぞれ対応する前記分割外側区画のパターン占有面積を加味した上で、前記検証エリアのパターン密度を算出する、
ことを特徴とする付記４記載のパターン密度検証方法。（５）
（付記６）
前記中央処理装置は、前記内側補助区画及び前記外側補助区画の大きさを、パターンの幅又はパターンの間隔に応じて設定することを特徴とする付記５記載のパターン密度検証方法。
（付記７）
前記中央処理装置は、前記外側補助区画内のパターン占有面積を前記内側補助区画内のパターン占有面積に加味する際に、それらを足し合わせた面積が前記内側補助区画の面積よりも大きい場合には、その内側補助区画の面積を、前記外側補助区画内のパターン占有面積を加味した前記内側補助区画内のパターン占有面積とする、
ことを特徴とする付記２〜６のうち何れか一項に記載のパターン密度検証方法。
（付記８）
前記中央処理装置は、前記検証エリア内に含まれるパターン密度が前記密度基準を満たすか否かを検証し、
そのパターン密度が前記密度基準を満たす場合、前記内側補助区画と前記外側補助区画のパターン占有面積に基づき算出された前記検証エリアのパターン密度に基づく検証を行い、
前記検証エリア内に含まれるパターン密度が前記密度基準を満たさない場合には、前記内側補助区画と前記外側補助区画のパターン占有面積に基づき算出された前記検証エリアのパターン密度に基づく検証を行わない、
ことを特徴とする付記１〜７のうちの何れか一項に記載のパターン密度検証方法。
（付記９）
前記中央処理装置は、前記検証エリアをＸ軸方向及びＹ軸方向にそれぞれ検証ステップ値だけずらしたときに見込まれる前記検証エリア内に含まれるパターン密度の最大変化量と前記密度基準とに基づく閾値を算出し、
前記検証エリアの位置を前記検証ステップ値で順次変更し、それぞれの位置で前記検証エリア内に含まれるパターン密度と前記閾値とを比較し、その比較結果に応じて、前記内側補助区画と前記外側補助区画のパターン占有面積に基づき算出された前記検証エリアのパターン密度に基づく検証を行う、
ことを特徴とする付記１〜８のうちの何れか一項に記載のパターン密度検証方法。
（付記１０）
前記中央処理装置は、前記内側補助区画と前記外側補助区画のパターン占有面積に基づき算出された前記検証エリアのパターン密度が前記密度基準を満たさない場合、前記検証エリアと前記各外側補助区画を合わせた検証領域内において前記検証エリアを所定の検証ステップ値で順次変更し、それぞれの位置で前記検証エリア内に含まれるパターン密度が前記密度基準を満たすか否かを判定する、
ことを特徴とする付記１〜９のうちの何れか一項に記載のパターン密度検証方法。
（付記１１）
半導体装置に形成するパターンのレイアウトデータを生成するために設計装置の中央処理装置が実行するプログラムであって、
検証エリアの内側と外側に内側補助区画と外側補助区画とをそれぞれ設定するステップと、
前記内側補助区画内のパターン占有面積と前記外側補助区画のパターン占有面積とに基づき算出された前記検証エリアのパターン密度が所定の密度基準を満たすか否かを検証するステップと、
を含む、
ことを特徴とするプログラム。（６）
【符号の説明】
【０１２８】
１１ 設計装置
１２ 中央処理装置（ＣＰＵ）
３１ 内側補助区画
３２ 外側補助区画
Ａ１，Ａ２ 検証エリア
Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３ パターン密度
Ｉ１〜Ｉ１６ 分割内側区画
Ｌ レイアウトデータ
Ｏ１〜Ｏ１６ 分割外側区画
Ｒ１ 第１密度基準値
Ｒ２ 第２密度基準値（閾値）
Ｔ１，Ｔ２ 検証領域
Ｖ１，Ｖ２ 検証ステップ値
【技術分野】
【０００１】
半導体装置のパターン密度検証方法及びプログラムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体装置のレイアウト設計では、セルを配置し、配線パターンを生成する。そして、設計した各配線層のパターンの密度が半導体装置の設計規則を満たすか否かの検証（密度検証）を行っている。この密度検証において、設計規則に基づく所定サイズの検証エリアの配置位置を、検証ステップ値で順次変更し、それぞれの位置での検証エリアのパターン密度が設計規則を満たしているか否かを判定する。そして、設計規則を満たしていない箇所が存在すれば、その設計規則を満たすべくパターンを編集し、再度パターン密度検証を行う。
【０００３】
レイアウト設計において、セルはマクロセルを含む。マクロセルは、半導体装置内の特定機能をひとかたまりとした機能ブロックである。このため、マクロセルを配置した後に密度検証を行う方法では、マクロセル内の密度違反を検出した場合に、マクロセルの設計変更を行わなければならない。このため、マクロセルの設計の段階でも該マクロセル部分だけの密度検証を行う手法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−６７４４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、マクロセルを配置するときに、マクロセルの基準位置（例えば設計上の原点）と、半導体装置の設計基準となる格子の交点とが異なる場合がある。この場合、マクロセルを密度検証した検証エリアの位置と、半導体装置の検証エリアの位置がずれる。すると、配線パターンの位置によって、エラーとなる場合がある。この場合には、上記と同様にマクロセルのレイアウトを再度行わなければならず、開発期間が増加してしまう。
【０００６】
このパターン密度検証方法で、チップ全体の密度検証においてマクロセル部分での設計規則違反の判定を出さないようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一観点によれば、中央処理装置は、検証エリアの内側と外側に内側補助区画と外側補助区画とをそれぞれ設定し、前記内側補助区画内のパターン占有面積と前記外側補助区画内のパターン占有面積とに基づき算出された前記検証エリアのパターン密度が所定の密度基準を満たすか否かを検証する。
【発明の効果】
【０００８】
開示されたパターン密度検証方法によれば、チップ全体の密度検証においてマクロセル部分での設計規則違反の判定を出さないようにすることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】配線設計装置の概略構成図である。
【図２】密度検証処理の説明図である。
【図３】第一実施形態の密度検証処理のフロー図である。
【図４】第一実施形態の密度検証処理のフロー図である。
【図５】パターン密度の最大変化量の説明図である。
【図６】第一実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図７】第一実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図８】第一実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図９】（ａ）〜（ｆ）は第一実施形態の内側補助区画と外側補助区画の組み合わせの説明図である。
【図１０】密度検証処理の説明図である。
【図１１】第二実施形態の密度検証処理のフロー図である。
【図１２】第二実施形態の密度検証処理のフロー図である。
【図１３】第二実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図１４】（ａ）〜（ｆ）は第二実施形態の内側補助区画と外側補助区画の組み合わせの説明図である。
【図１５】（ａ）〜（ｃ）は、第二実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図１６】第二実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図１７】（ａ）〜（ｃ）は、第二実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図１８】第二実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図１９】第二実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図２０】第二実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図２１】第三実施形態の密度検証処理のフロー図である。
【図２２】第三実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図２３】（ａ）〜（ｃ）は、第三実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図２４】（ａ）〜（ｃ）は、第三実施形態の密度検証処理の説明図である。
【図２５】第三実施形態の密度検証処理の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
（第一実施形態）
以下、第一実施形態を図１〜図１０に従って説明する。
図１に示すように、半導体装置のレイアウトデータを生成するための設計装置（コンピュータ）１１は一般的なＣＡＤ（Computer Aided Design ）装置からなり、中央処理装置（以下、ＣＰＵという）１２、メモリ１３、記憶装置１４、表示装置１５、入力装置１６、及び、ドライブ装置１７により構成され、それらはバス１８を介して相互に接続されている。
【００１１】
ＣＰＵ１２は、メモリ１３を利用してプログラムを実行し、半導体装置のレイアウト設計等の必要な処理を実現する。プログラムは、ＣＰＵ１２を半導体装置のレイアウトデータを生成する設計装置としての各種手段として機能させるためのものである。メモリ１３には、各種処理を提供するために必要なプログラムとデータが格納され、メモリ１３としては、通常、キャッシュ・メモリ、システム・メモリおよびディスプレイ・メモリを含む。
【００１２】
表示装置１５は、レイアウト表示、パラメータ入力画面等の表示に用いられ、これにはＣＲＴ，ＬＣＤ，ＰＤＰ等が用いられる。入力装置１６は、ユーザからの要求や指示，パターン，パラメータの入力に用いられ、これにはキーボードおよびマウス装置（図示せず）等が用いられる。
【００１３】
コンピュータ１１は、レイアウトデータに基づき半導体装置に形成するパターン（図形）を表示装置１５に表示させる。そして、コンピュータ１１は、ユーザが操作する入力装置１６からの信号に従って、表示装置１５上のパターンの追加，削除を行うとともに、レイアウトデータに対してパターンデータの追加，削除を行う。
【００１４】
記憶装置１４は、通常、磁気ディスク装置、光ディスク装置、光磁気ディスク装置を含む。この記憶装置１４には、半導体装置（半導体集積回路装置）のレイアウトデータを生成するためのプログラムデータとファイルが格納され、ＣＰＵ１２は、入力装置１６による指示に応答しているプログラム，データをメモリ１３へ転送し、それを実行する。
【００１５】
ＣＰＵ１２が実行するプログラムデータは、記録媒体１９にて提供される。ドライブ装置１７は、記録媒体１９を駆動し、その記憶内容にアクセスする。ＣＰＵ１２は、ドライブ装置１７を介して記録媒体１９からプログラムデータを読み出し、それを記憶装置１４にインストールする。
【００１６】
記録媒体１９としては、磁気テープ（MT）、メモリカード、フレキシブルディスク、光ディスク（CD-ROM,DVD-ROM,… ）、光磁気ディスク（MO,MD,…）等、任意のコンピュータ読み取り可能な記録媒体を使用することができる。この記録媒体１９に、上述のプログラム，データを格納しておき、必要に応じて、メモリ１３にロードして使用することもできる。
【００１７】
尚、記録媒体１９には、通信媒体を介してアップロード又はダウンロードされたプログラムデータを記録した媒体、ディスク装置を含む。更に、コンピュータによって直接実行可能なプログラムを記録した記録媒体だけでなく、いったん他の記録媒体（ハードディスク等）にインストールすることによって実行可能となるようなプログラムを記録した記録媒体や、暗号化されたり、圧縮されたりしたプログラムを記録した記録媒体も含む。
【００１８】
次に、パターン密度を考慮したレイアウト設計手法の概要を説明する。
まず、ＣＰＵ１２は、図２に示すマクロセル２１（半導体装置内の特定機能をひとかたまりとした機能ブロック）のパターンデータを作成し、その後、マクロセル２１のパターン密度検証を各レイヤ（層）で行う。このパターン密度検証で、マクロセル２１のパターン密度が半導体装置の設計規則を満たしていない場合には、その設計規則を満たすようにマクロセル２１のパターンの編集を行う。パターン密度は、検証エリアの面積に対する、検証エリア内のパターンの面積の合計値の比率である。
【００１９】
次に、ＣＰＵ１２は、チップ２２全体のパターンの形状の作成を行い、その後、チップ２２全体（検証するレイヤ全体）のパターン密度検証を各レイヤで行う。このパターン密度検証で、チップ２２全体のパターン密度が半導体装置の設計規則を満たしていない場合には、その設計規則を満たすべくパターンの編集を行う。そして、各レイヤでチップ２２全体のパターン密度が設計規則を満たせば、レイアウトが確定する。
【００２０】
次に、上記のマクロセル２１のパターン密度検証方法の詳細を図３〜図１０に従って説明する。
ＣＰＵ１２は、予め設定されている検証条件Ｐ１（検証するレイヤ、半導体装置の設計規則に基づく第１密度基準値Ｒ１、検証エリアＡ１のサイズ及び検証ステップ値Ｖ１）及びマクロセル２１のレイアウトデータＬに基づいて下記の処理を行う。例えば、１つの配線層において、第１密度基準値Ｒ１を７５％とし、検証エリアＡ１を１辺が３２μｍの正方形とし、検証ステップ値Ｖ１は８μｍとする。
【００２１】
まず、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１をＸ軸方向及びＹ軸方向に検証ステップ値Ｖ１だけそれぞれずらしたときに見込まれるパターン密度の最大変化量に基づく第２密度基準値Ｒ２を算出する（図３中、ステップＳ１１）。
【００２２】
このパターン密度の最大変化量は、図５に示すように、検証エリアＡ１をＸ軸方向及びＹ軸方向に検証ステップ値Ｖ１だけそれぞれずらしたときに、ずらす前の検証エリアＡ１（便宜上、第１検証エリアＡ１１とする）のパターン密度と、ずらした後の検証エリアＡ１（便宜上、第２検証エリアＡ１２とする）のパターン密度の差である。今、第１検証エリアＡ１１及び第２検証エリアＡ１２において、第１検証エリアＡ１１に含まれ、第２検証エリアＡ１２に含まれない領域をＭ、第２検証エリアＡ１２に含まれ、第１検証エリアＡ１１に含まれない領域をＮとする。これら領域Ｍ，Ｎの面積は、検証エリアＡ１を対角方向にずらした場合に最大となる。そして、両領域Ｍ，Ｎのいずれか一方に形成されたパターンの面積の合計値が領域の面積と等しく（パターン密度が１００％）、いずれか他方にパターンが全く無い状態（パターン密度が０％）の場合、第１検証エリアＡ１１のパターン密度と第２検証エリアＡ１２のパターン密度の差が最大となる、即ちパターン密度の変化量が最大となる。
【００２３】
この第１検証エリアＡ１１の位置と第２検証エリアＡ１２の位置の相対的なずれ量は、マクロセルの設計時における検証エリアの位置と、チップの設計時における検証エリアの位置との相対的なずれ量の最大値とみることができる。そして、このずれ量は、チップの設計時の検証エリアの基準点に対するマクロセルの基準点のずれ量と見ることができる。そして、最大変化量は、チップの検証エリアに対してマクロセルの基準点をずらして配置したときに、マクロセルの検証時における検証エリアのパターン密度に対して、チップの検証時における検証エリアのパターン密度の差の最大値となる。
【００２４】
そして、ＣＰＵ１２は、第１密度基準値Ｒ１から最大変化量を引いた結果の値を第２密度基準値Ｒ２とする。つまり、マクロセルの検証エリアにおけるパターン密度がこの第２密度基準値Ｒ２以下の場合、マクロセルをチップ上にどのように配置しても、その検証エリア内のパターンは、チップの密度検証において密度違反を発生させないことになる。従って、パターン密度の最大変化量を考慮してマクロセルの密度検証を行うことにより、チップ上にマクロセルを配置したときの密度違反の発生を抑えることが可能となる。
【００２５】
ＣＰＵ１２は、最大変化量を、（パターン密度の最大変化量）＝（領域Ｍ（又は領域Ｎ）の面積）／（検証エリアＡ１の面積）×１００（％）により算出する。そして、ＣＰＵ１２は、第１密度基準値Ｒ１からパターン密度の最大変化量を差し引いた値を第２密度基準値Ｒ２とする。例えば、検証エリアＡ１を１辺が３２μｍの正方形とし、検証ステップ値Ｖ１を８μｍとした場合には、第２密度基準値Ｒ２は、７５−（（３２２−２４２）／３２２）×１００＝３１．２５（％）となる。
【００２６】
次に、ＣＰＵ１２は、検証領域Ｔ１を検証する所定のマクロセル２１の範囲に設定し（ステップＳ１２）、その後、検証領域Ｔ１内に検証エリアＡ１を設定する（ステップＳ１３）。ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１の基準値（検証エリアＡ１の左下頂点の座標値）を配置する位置を、検証領域Ｔ１内の所定の位置（例えば図６における左下の角部分）からＸ軸方向とＹ軸方向とにそれぞれ検証ステップ値Ｖ１の整数倍の値を加算した座標値とする。
【００２７】
次に、ＣＰＵ１２は、ステップＳ１４において、マクロセル２１のレイアウトデータＬに基づいて検証ステップ区画２３（１辺が検証ステップ値Ｖ１である正方形）毎にパターン占有面積を算出し、その算出値を基に面積テーブルＣ１を作成する（図６参照）。尚、図６において、算出したパターン占有面積の数値の一例を各検証ステップ区画２３内に示している。
【００２８】
次に、ＣＰＵ１２は、ステップＳ１３で設定した検証エリアＡ１の中で、未検証の検証エリアＡ１があるか否かを判定し（ステップＳ１５）、未検証の検証エリアＡ１がある場合、その検証エリアＡ１を密度検証の対象としてステップＳ１６に移行する。
【００２９】
ステップＳ１６において、ＣＰＵ１２は、面積テーブルＣ１に基づいて対象とした検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ１を算出し、そのパターン密度Ｄ１が第２密度基準値Ｒ２以下か否かを判定する。パターン密度Ｄ１が第２密度基準値Ｒ２以下の場合、チップ上に配置した場合にも設計規則を満たす（即ち、パターン密度Ｄ１が第１密度基準値Ｒ１以下である）ため、その検証エリアＡ１を検証済のものとして記録し、ステップＳ１５に戻る。一方、パターン密度Ｄ１が第２密度基準値Ｒ２よりも大きい場合、ステップＳ１７に移行する。
【００３０】
ステップＳ１７において、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ１が設計規則を満たすか否か、即ち、パターン密度Ｄ１が第１密度基準値Ｒ１以下か否かを判定する。パターン密度Ｄ１が第１密度基準値Ｒ１よりも大きい場合、マクロセルの設計段階において密度違反である。従って、ＣＰＵ１２は対象の検証エリアＡ１の位置とパターン密度Ｄ１を記録する（ステップＳ１８）。そして、その検証エリアＡ１を検証済のものとして記録し、ステップＳ１５に戻る。
【００３１】
一方、パターン密度Ｄ１が第１密度基準値Ｒ１以下の場合、図４に示すステップＳ１９に移行する。このようにステップＳ１６及びステップＳ１７を経ることで、パターン密度Ｄ１が第１密度基準値Ｒ１以下であって第２密度基準値Ｒ２よりも大きい検証エリアＡ１が、ステップＳ１９以降の密度検証を行う対象となる。この密度検証の対象となる検証エリアＡ１は、マクロセルの設計段階では密度違反を発生していないが、チップ上に配置した場合に設計規則を満たさない、即ち密度違反を発生させる可能性がある検証エリアである。
【００３２】
ステップＳ１９からステップＳ２１において、ＣＰＵ１２は、対象の検証エリアＡ１に対して補助区画を設定し、対象の検証エリアＡ１の密度検証を行う。まず、ステップＳ１９において、ＣＰＵ１２は対象の検証エリアＡ１に対し、内側補助区画３１と外側補助区画３２を設定する。図７に示すように、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１の辺に沿って、検証エリアＡ１の内側に複数の内側補助区画３１を設定し、検証エリアＡ１の外側に複数の外側補助区画３２を設定する。各内側補助区画３１及び各外側補助区画３２は、１辺が検証ステップ値Ｖ１である正方形である。
【００３３】
各内側補助区画３１は、所定の外側補助区画３２と対応している。
詳述すると、図９（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）に示すように、検証エリアＡ１の角部分に位置する各内側補助区画３１ａは３つの外側補助区画３２と対応している。１つは内側補助区画３１ａの対角に位置する外側補助区画３２ａであり、残りの２つは内側補助区画３１のＸ軸方向及びＹ軸方向の対辺部分にそれぞれ位置する外側補助区画３２ｂである。尚、図９（ａ）〜（ｄ）には、検証エリアＡ１の角部分に位置する内側補助区画３１ａとそれに対応する外側補助区画３２ａ，３２ｂとの組み合わせをそれぞれ示している。
【００３４】
そして、図９（ｅ）（ｆ）に示すように、角部分の内側補助区画３１ａ以外の内側補助区画３１ｂ（角部分の内側補助区画３１ａ間に位置する内側補助区画３１ｂ）は、そのＸ軸方向（又はＹ軸方向）の対辺部分に位置する外側補助区画３２ｃと対応している。尚、図９（ｅ）（ｆ）には、内側補助区画３１ｂと外側補助区画３２ｃとの各組み合わせを示している。
【００３５】
上記の組み合わせは、後述のチップ２２全体の密度検証の検証エリアがＸ軸方向及びＹ軸方向の少なくとも一方にずれたときに、そのチップ２２全体の密度検証の検証エリアから一部が外れる内側補助区画３１とチップ２２全体の密度検証の検証エリアに一部が含まれる外側補助区画３２の組み合わせである。このため、チップ２２全体の密度検証の検証エリアがＸ軸方向及びＹ軸方向の少なくとも一方にずれた場合におけるその検証エリアの内のパターン密度を考慮することができ、チップ２２全体の密度検証においてマクロセル２１部分での設計規則違反の判定を出さないようにすることが可能となる。
【００３６】
次に、ＣＰＵ１２は、外側補助区画３２を加味したパターン密度Ｄ２を算出する（ステップＳ２０）。まず、ＣＰＵ１２は、内側補助区画３１のパターン占有面積に、対応する外側補助区画３２のパターン占有面積を足し合わせる。次に、その足し合わせた値と１つの内側補助区画３１の面積とを比較し、そのうちの小さい方の値をその内側補助区画３１のパターン占有面積とする（図８参照）。つまり、この外側補助区画３２に基づく内側補助区画３１のパターン占有面積は、内側補助区画３１に対応する外側補助区画３２のパターン占有面積を全て足し合わしたときに、その内側補助区画３１が取り得る最大のパターン占有面積である。そして、ＣＰＵ１２は、面積テーブルＣ１における各内側補助区画３１のパターン占有面積の値を、外側補助区画３２を加味したパターン占有面積の値に更新する。
【００３７】
図８には、各補助区画３１，３２内のパターン占有面積が図７に示す値の場合の外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積を示している。本実施形態のように内側補助区画３１の１辺の長さ（検証ステップ値Ｖ１）が８μｍの場合、内側補助区画３１の面積は６４μｍ２である。内側補助区画３１のパターン占有面積と対応する外側補助区画３２のパターン占有面積との合計値が内側補助区画３１の面積（６４μｍ２）よりも大きいときは、その内側補助区画３１の面積（６４μｍ２）を、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積とする。一方、合計値が内側補助区画３１の面積（６４μｍ２）以下のときは、その合計値を、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積とする。尚、検証エリアＡ１の辺が検証領域Ｔ１の辺と重なる（検証エリアＡ１が検証領域Ｔ１の端に位置する）場合には、その検証エリアＡ１の外側補助区画３２の一部が検証領域Ｔ１の外側に設定されるが、その検証領域Ｔ１外に設定された外側補助区画３２のパターン占有面積は０（零）とする。
【００３８】
その後、ＣＰＵ１２は、上記工程で各内側補助区画３１のパターン占有面積を更新した面積テーブルＣ１に基づいて検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２を算出する。
次に、ＣＰＵ１２は、パターン密度Ｄ２と設計規則に基づく第１密度基準値Ｒ１とを比較し、パターン密度Ｄ２が第１密度基準値Ｒ１以下か否かを判定する（ステップＳ２１）。パターン密度Ｄ２が第１密度基準値Ｒ１以下の場合、その検証エリアＡ１を検証済のものとして記録し、ステップＳ１５に戻る（図３参照）。一方、パターン密度Ｄ２が第１密度基準値Ｒ１よりも大きい場合には、ステップＳ２２以降の詳細な密度検証を行う。
【００３９】
ＣＰＵ１２は、予め設定されている検証条件Ｐ２（検証するレイヤ、半導体装置の設計規則に基づく第１密度基準値Ｒ１、検証エリアＡ２のサイズ及び検証ステップ値Ｖ２）及びマクロセル２１のレイアウトデータＬに基づいて詳細な密度検証を行う。検証ステップ値Ｖ２は、上記密度検証の検証ステップ値Ｖ１よりも小さな値に設定され、本実施形態では４μｍに設定される。尚、この詳細な密度検証の検証ステップ値Ｖ２は、レイアウトの最小単位に設定するのが望ましい。また、詳細な密度検証での検証エリアＡ２のサイズ及び形状は、上記密度検証の検証エリアＡ１のサイズと等しく設定される。
【００４０】
ステップＳ２２において、ＣＰＵ１２は、詳細な密度検証を行う検証領域Ｔ２を上記の密度検証における検証エリアＡ１と外側補助区画３２を合わせた領域に設定し（図１０参照）、その後、検証領域Ｔ２内に検証エリアＡ２を設定する（ステップＳ２３）。検証エリアＡ２の設定の要領は、検証ステップ値Ｖ２が小さい点を除き上記密度検証の場合（ステップＳ１３を参照）と同様である。
【００４１】
次に、ＣＰＵ１２は、ステップＳ２４において、マクロセル２１のレイアウトデータＬに基づいて検証ステップ区画４１（１辺が検証ステップ値Ｖ２である正方形）毎にパターン占有面積を算出し、その算出値を基に面積テーブルＣ２を作成する（図１０参照）。尚、図１０において、算出したパターン占有面積の数値の一例を各検証ステップ区画４１内に示している。
【００４２】
次に、ＣＰＵ１２は、ステップＳ２３で設定した検証エリアＡ２の中で、未検証の検証エリアＡ２があるか否かを判定し（ステップＳ２５）、未検証の検証エリアＡ２がある場合、その検証エリアＡ２を密度検証の対象としてステップＳ２６に移行する。
【００４３】
ステップＳ２６において、ＣＰＵ１２は、面積テーブルＣ２に基づき対象となる検証エリアＡ２のパターン密度Ｄ３を算出し、そのパターン密度Ｄ３が第１密度基準値Ｒ１以下か否かを判定する。パターン密度Ｄ３が第１密度基準値Ｒ１以下の場合、設計規則を満たすため、その検証エリアＡ２を検証済のものとして記録し、ステップＳ２５に戻る。一方、パターン密度Ｄ３が第１密度基準値Ｒ１よりも大きい場合、ＣＰＵ１２は設計規則を違反するその検証エリアＡ２の位置とパターン密度Ｄ３を記録する（ステップＳ２７）。そして、その検証エリアＡ２を検証済のものとして記録し、ステップＳ２５に戻る。その後、ステップＳ２５において、未検証の検証エリアＡ２がないと判定した場合、詳細な密度検証を完了し、ステップＳ１５に戻る。
【００４４】
そして、ステップＳ１５において、未検証の検証エリアＡ１がないと判定した場合、マクロセル２１のパターン密度検証を終了する。
上記の検証処理において、設計規則違反が記録された場合、その設計規則違反の記録に基づきマクロセル２１のレイアウトデータＬが設計規則を満たすべく編集される。そして、ＣＰＵ１２は、再度上記のパターン密度検証を行う。そして、各検証エリアＡ１（及び各検証エリアＡ２）で設計規則の違反がなければ、マクロセル２１の設計（パターンの形状の作成）が完了する。
【００４５】
半導体装置の設計処理において、ＣＰＵ１２は、チップ２２全体のパターンの形状の作成（マクロセル２１の配置位置等の決定）を行う。その後、ＣＰＵ１２は、チップ２２全体（検証するレイヤ全体）のパターン密度検証を各レイヤで行う。
【００４６】
チップ２２全体のパターン密度検証では、その検証条件（設計規則に基づく密度基準値（前記第１密度基準値Ｒ１と同値）、検証エリアのサイズ、及び検証ステップ値）は、マクロセル２１のパターン密度検証の場合と同様である。
【００４７】
まず、ＣＰＵ１２は、検証領域をチップ２２全体（レイヤ全体）に設定し、その後、マクロセル２１のパターン密度検証の場合と同様に検証エリアを設定する（ステップＳ１３を参照）。次に、各検証エリアでパターン密度が設計規則を満たしているか否か（パターン密度が密度基準値以下か否か）を検証し、設計規則を満たしていない検証エリアが存在した場合には、設計規則を満たすべくチップ２２全体のパターンの編集を行う。その後、チップ２２全体のパターン密度検証を再度行い、各検証エリアで設計規則を満たせば、チップ２２全体の設計が完了する。
【００４８】
以上のように本実施形態のパターン密度検証方法では、マクロセル２１単体のパターン密度検証において、検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ１（実際のパターン密度）が、検証エリアＡ１をＸ軸方向及びＹ軸方向に検証ステップ値Ｖ１だけそれぞれずらしたときに見込まれるパターン密度の最大変化量に基づく第２密度基準値Ｒ２以下か否かを判定する（ステップＳ１６）。パターン密度Ｄ１が第２密度基準値Ｒ２以下の場合、その検証エリアＡ１とその周囲八方の検証エリアＡ１との間（検証ステップ間）で設計規則を違反することはない。また、パターン密度Ｄ１が第２密度基準値Ｒ２よりも大きく、且つ第１密度基準値Ｒ１以下の検証エリアＡ１では、外側補助区画３２を加味したパターン密度Ｄ２に基づく判定を行う（ステップＳ２１）。そして、パターン密度Ｄ２が第１密度基準値Ｒ１以下の場合、その検証エリアＡ１とその周囲八方の検証エリアＡ１との間（検証ステップ間）で設計規則を違反することはなく、パターン密度Ｄ２が第１密度基準値Ｒ１よりも大きい場合、その検証エリアＡ１とその周囲八方の検証エリアＡ１との間（検証ステップ間）では設計規則を違反する虞がある。このように、マクロセル２１単体の密度検証の段階において、各検証エリアＡ１の検証ステップ間で設計規則を違反する虞がある箇所を発見することができるため、チップ２２全体の密度検証においてマクロセル２１部分で設計規則を違反することがないようにパターンを設計することが可能となる。
【００４９】
また、本実施形態のパターン密度検証方法では、パターン密度Ｄ２が第１密度基準値Ｒ１よりも大きい場合、その検証エリアＡ１とその外側補助区画３２を合わせた領域を検証領域Ｔ２とし、検証ステップ値Ｖ１よりも小さい検証ステップ値Ｖ２で密度検証を行う（ステップ２２〜ステップ２７）。これにより、検証エリアＡ１の検証ステップ間で設計規則を違反する詳細な位置を発見することが可能となる。
【００５０】
以上記述したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１の内側と外側に内側補助区画３１と外側補助区画３２とをそれぞれ設定し、内側補助区画３１内のパターン占有面積と外側補助区画３２内のパターン占有面積とに基づき算出された検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２が密度基準を満たすか否かを検証する。従って、周囲八方の検証エリアＡ１との間（検証ステップ間）で設計規則を違反する虞がある検証エリアＡ１を発見することができるため、チップ２２全体の密度検証においてマクロセル２１部分での設計規則違反の判定を出さないようにすることが可能となる。
【００５１】
（２）ＣＰＵ１２は、内側補助区画３１内のパターン占有面積に外側補助区画３２内のパターン占有面積を加味した検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２が密度基準を満たすか否かを検証するため、検証ステップ間で設計規則を違反する虞がある検証エリアＡ１を発見することができる。
【００５２】
（３）ＣＰＵ１２は、内側補助区画３１及び外側補助区画３２をそれぞれ検証エリアＡ１の辺に沿って複数設定し、各内側補助区画３１内のパターン占有面積にそれぞれ対応する外側補助区画３２内のパターン占有面積を加味するため、検証エリアＡ１が検証ステップ間で設計規則を違反するか否かの判定の精度を向上させることが可能となる。
【００５３】
（４）ＣＰＵ１２は、外側補助区画３２内のパターン占有面積を内側補助区画３１内のパターン占有面積に加味する際に、それらを足し合わせた面積が内側補助区画３１の面積よりも大きい場合には、その内側補助区画３１の面積を、外側補助区画３２内のパターン占有面積を加味した内側補助区画３１内のパターン占有面積とする。このため、検証エリアＡ１が検証ステップ間で設計規則を違反するか否かの判定の精度を向上させることが可能となる。
【００５４】
（５）ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１内に含まれるパターン密度Ｄ１が密度基準を満たすか否かを検証し、そのパターン密度Ｄ１が密度基準を満たす場合、内側補助区画３１と外側補助区画３２のパターン占有面積に基づき算出された検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２に基づく検証を行い、検証エリアＡ１内に含まれるパターン密度Ｄ１が密度基準を満たさない場合には、内側補助区画３１と外側補助区画３２のパターン占有面積に基づき算出された検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２に基づく検証を行わない。これにより、パターン密度Ｄ２に基づく検証を行う必要がない検証エリアＡ１においてそのパターン密度Ｄ２に基づく検証を行わずに済むため、設計時間を短縮することが可能となる。
【００５５】
（６）ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１をＸ軸方向及びＹ軸方向にそれぞれ検証ステップ値Ｖ１だけずらしたときに見込まれる検証エリアＡ１内に含まれるパターン密度の最大変化量と密度基準とに基づく閾値（第２密度基準値Ｒ２）を算出し、検証エリアＡ１の位置を検証ステップ値Ｖ１で順次変更し、それぞれの位置で検証エリアＡ１内に含まれるパターン密度Ｄ１と第２密度基準値Ｒ２とを比較し、その比較結果に応じて、内側補助区画３１と外側補助区画３２のパターン占有面積に基づき算出された検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２に基づく検証を行う。これにより、パターン密度Ｄ２に基づく検証を行う必要がない検証エリアＡ１においてそのパターン密度Ｄ２に基づく検証を行わずに済むため、設計時間を短縮することが可能となる。
【００５６】
（７）ＣＰＵ１２は、内側補助区画３１と外側補助区画３２のパターン占有面積に基づき算出された検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２が密度基準を満たさない場合、検証エリアＡ１と各外側補助区画３２を合わせた検証領域Ｔ２内において検証エリアＡ２を検証ステップ値Ｖ２で順次変更し、それぞれの位置で検証エリアＡ２内に含まれるパターン密度Ｄ１が密度基準を満たすか否かを判定する。これにより、検証エリアＡ２の検証ステップ間で設計規則を違反する詳細な位置を発見することが可能となる。
【００５７】
（第二実施形態）
以下、第二実施形態を図１１〜図１９に従って説明する。なお、先の図１〜図１０に示した部材と同一の部材にはそれぞれ同一の符号を付し、それら各要素についてはその説明を省略する。
【００５８】
ＣＰＵ１２は、図１１及び図１２に示すフローチャートに従って、マクロセル２１のパターン密度検証を行う。まず、ＣＰＵ１２は、ステップＳ３１からステップＳ３８までの処理を、第一実施形態のステップＳ１からステップＳ１８までの処理と同様に行う。
【００５９】
次に、ＣＰＵ１２は、ステップＳ３９において、対象の検証エリアＡ１に対し、内側補助区画３１と外側補助区画３２を設定する。図１３に示すように、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１の辺に沿って、検証エリアＡ１の内側に複数の内側補助区画３１を設定し、検証エリアＡ１の外側に複数の外側補助区画３２を設定する。
【００６０】
具体的には、図１４（ａ）〜（ｄ）に示すように、第一実施形態と同様に、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１の角部分に内側補助区画３１ａ及び外側補助区画３２ａ，３２ｂを設定する。そして、図１４（ｅ）（ｆ）に示すように、ＣＰＵ１２は、角部分の内側補助区画３１ａ間に内側補助区画３１ｃを設定する。同様に、ＣＰＵ１２は、角部分の外側補助区画３２ｂ間に外側補助区画３２ｄを設定する。図１４では、内側補助区画３１ｃ及び外側補助区画３２ｄは、長手方向の一辺の長さが検証ステップＶ１の２倍、短手方向の１辺の長さが検証ステップＶ１と等しい長方形である。
【００６１】
各内側補助区画３１は、所定の外側補助区画３２と対応している。詳述すると、図１４（ａ）〜（ｄ）に示すように、検証エリアＡ１の角部分に位置する各内側補助区画３１ａは、３つの外側補助区画３２ａ，３２ｂと対応している。そして、図１４（ｅ）（ｆ）に示すように、角部分の内側補助区画３１ａ間に位置する内側補助区画３１ｃは、そのＸ軸方向（又はＹ軸方向）の対辺部分に位置する外側補助区画３２ｄと対応している。尚、図１４（ｅ）（ｆ）には、内側補助区画３１ｃと外側補助区画３２ｄとの各組み合わせを示している。
【００６２】
次に、ＣＰＵ１２は、ステップＳ４０において、対象の検証エリアＡ１に対して設定された内側補助区画３１内に形成されるパターンに、対応する外側補助区画３２内に形成されるパターンを図形演算する。ＣＰＵ１２は、この図形演算処理により、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積を算出する。例えば、本実施形態では、ＣＰＵ１２は、図形演算として論理和（ＯＲ）処理を行う。
【００６３】
詳述すると、ＣＰＵ１２は、内側補助区画３１内に形成されるパターンに、対応する外側補助区画３２内に形成されるパターンを図形演算する。ＣＰＵ１２は、図形演算したパターンの面積を、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積とする。
【００６４】
例えば、図１５（ａ），（ｂ）に示すように、内側補助区画３１ｃ１（図１３参照）内に形成されるパターンＰａ１に、外側補助区画３２ｄ１（図１３参照）内に形成されるパターンＰａ２を図形演算すると、外側補助区画３２ｄ１を加味した内側補助区画３１ｃ１内のパターンＰａ３は、図１５（ｃ）に示すようなパターンとなる。
【００６５】
例えば、内側補助区画３１ｃ１及び外側補助区画３２ｄ１の長手方向の１辺の長さ（検証ステップ値Ｖ１の２倍）が１６μｍ、短手方向の１辺の長さ（検証ステップＶ１）が８μｍとした場合、内側補助区画３１ｃ１及び外側補助区画３２ｄ１の面積は１２８μｍ２となる。図１５（ａ）、（ｂ）から明らかなように、内側補助区画３１ｃ１内に形成されるパターンＰａ１のパターン占有面積は６４μｍ２、外側補助区画３２ｄ１内に形成されるパターンＰａ２のパターン占有面積は６４μｍ２である。そして、図１５（ｃ）から明らかなように、外側補助区画３２ｄ１を加味した内側補助区画３１ｃ１のパターン面積は１２８μｍ２となる。
【００６６】
この場合、外側補助区画３２ｄ１を加味した内側補助区画３１ｃ１のパターン占有面積（１２８μｍ２）は、内側補助区画３１ｃ１のパターン占有面積の値（６４μｍ２）に、対応する外側補助区画３２ｄ１のパターン占有面積の値（６４μｍ２）を加算した値（１２８μｍ２）と等しくなる。
【００６７】
図１３において検証エリアＡ１が左方向に検証ステップＶ１ずれた場合、検証エリアＡ１に含まれる内側補助区画３１ｃ１のパターン占有面積と外側補助区画３２ｄ１のパターン占有面積を加算した値は、検証ステップＶ１の半分ずれたときに最大となる。図１６は、検証ステップＶ１の半分ずれた検証エリアＡ１（便宜上、検証エリアＡ１ａとする）を示している。
【００６８】
図１６から明からなように、この最大となる検証エリアＡ１ａに含まれる内側補助区画３１ｃ１のパターン占有面積と外側補助区画３２ｄ１のパターン占有面積を加算した値は、１２８μｍ２である。この加算値と、上記のように外側補助区画３２ｄ１を加味した内側補助区画３１ｃ１のパターン占有面積は等しい。
【００６９】
従って、外側補助区画３２ｄ１を加味した内側補助区画３１ｃ１のパターン占有面積は、検証エリアＡ１が図１３において左方向に検証ステップＶ１以内ずれたときの、検証エリアＡ１に含まれる内側補助区画３１ｃ１のパターン占有面積と外側補助区画３２ｄ１のパターン占有面積を加算した値の最大値となる。すなわち、外側補助区画３２ｄ１を加味した内側補助区画３１ｃ１のパターン占有面積は、図１３において検証エリアＡ１が左方向に検証ステップＶ１以内にずれた場合におけるパターン占有面積を考慮した値になっている。
【００７０】
また、図１７（ａ）、（ｂ）に示すように、内側補助区画３１ｃ２（図１３参照）内に形成されるパターンＰａ４に、外側補助区画３２ｄ２内に形成されるパターンＰａ５を図形演算すると、外側補助区画３２ｄ２を加味した内側補助区画３１ｃ２内のパターンＰａ６は、図１７（ｃ）に示すようなパターンとなる。
【００７１】
図１７（ａ）、（ｂ）から明らかなように、内側補助区画３１ｃ２内に形成されるパターンＰａ４のパターン占有面積は６４μｍ２、外側補助区画３２ｄ２内に形成されるパターンＰａ５のパターン占有面積は６４μｍ２である。そして、図１７（ｃ）から明らかなように、外側補助区画３２ｄ２を加味した内側補助区画３１ｃ２内に形成されるパターンＰａ６のパターン占有面積は６４μｍ２となる。
【００７２】
この場合、外側補助区画３２ｄ２を加味した内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積（６４μｍ２）を、内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積（６４μｍ２）に、対応する外側補助区画３２ｄ２のパターン占有面積（６４μｍ２）を加算することにより算出すると、その算出値が１２８μｍ２となる。これは、内側補助区画３１ｃ２内のパターンＰａ４に、対応する外側補助区画３２ｄ２のパターンＰａ５を図形演算する際、内側補助区画３１ｃ２内に形成されるパターンＰａ４と外側補助区画３２ｄ２内に形成されるパターンＰａ５が重なるためである。
【００７３】
このような場合、検証エリアＡ１がずれても、検証エリアＡ１内のパターン占有面積は変わらない。つまり、内側補助区画３１と外側補助区画３２の重なり合う部分のパターン占有面積は、一方の区画のみを考慮すれば良いことになる。従って、図１７の場合、一方の区画のパターン占有面積（６４μｍ２）を考慮すればよい。
【００７４】
つまり、実際に内側補助区画３１ｃ２内に形成されるパターンＰａ４と外側補助区画３２ｄ２内に形成されるパターンＰａ５を図形演算すると、パターンＰａ４とパターンＰａ５が重なる部分のパターン占有面積を内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積に加算しない。その結果、内側補助区画３１ｃ２及び外側補助区画３２ｄ２のパターン占有面積を加算する場合と比べて、外側補助区画３２ｄ２を加味した内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積をより精度良く算出することができるからである。そのため、パターンが重なる部分がある場合、いずれか一方のパターン占有面積からその重なる部分の面積を減算し、その減算後のパターン占有面積と他方のパターン占有面積を加算したことになる。
【００７５】
図１３において検証エリアＡ１を右方向に検証ステップＶ１ずらしたとき、検証エリアＡ１に含まれる内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積と外側補助区画３２ｄ２のパターン占有面積を加算した値は、図１３において検証エリアＡ１が右方向に検証ステップＶ１の半分ずらしたときに最大となる。
【００７６】
図１８は、図１３において右方向に検証ステップＶ１の半分ずらした検証エリアＡ１（便宜上、検証エリアＡ１ｂとする）を示している。図１８から明からなように、この最大となる検証エリアＡ１ｂに含まれる内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積と外側補助区画３２ｄ２のパターン占有面積を加算した値は、６４μｍ２である。この加算値と、上記のように外側補助区画３２ｄ２を加味した内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積は等しい。
【００７７】
従って、外側補助区画３２ｄ２を加味した内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積は、図１３において検証エリアＡ１が右方向に検証ステップＶ１以内ずれたときの、検証エリアＡ１ｂに含まれる内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積と外側補助区画３２ｄ２のパターン占有面積を加算した値の最大値となる。すなわち、外側補助区画３２ｄ２を加味した内側補助区画３１ｃ２のパターン占有面積は、検証エリアＡ１が図１３において右方向に検証ステップＶ１以内ずれた場合におけるパターン占有面積を考慮した値になっている。
【００７８】
そして、ＣＰＵ１２は、面積テーブルＣ１における各内側補助区画３１のパターン占有面積の値を、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積の値に更新する。その後、ＣＰＵ１２は、各内側補助区画３１のパターン占有面積を更新した面積テーブルＣ１に基づいて検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２を算出する。
【００７９】
図１９は、図１３に示すように各補助区画３１，３２内にパターンＰａ７が形成されている場合の外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１内に形成されるパターンＰａ８を示している。そして、図２０は、図１９に示すように外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１内にパターンＰａ８が形成されている場合の外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積を示している。
【００８０】
尚、図２０において、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積の値を各検証ステップ区画２３内に示している。また、検証エリアＡ１の辺が検証領域Ｔ１の辺と重なる（検証エリアＡ１が検証領域Ｔ１の端に位置する）場合には、その検証エリアＡ１の外側補助区画３２の一部が検証領域Ｔ１の外側に設定されるが、その検証領域Ｔ１外に設定された外側補助区画３２にはパターンが無いこととする。
【００８１】
すなわち、ステップＳ４０において、ＣＰＵ１２は、内側補助区画３１内に形成されるパターンに、対応する外側補助区画３２内に形成されるパターンを図形演算することにより、上記のように外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積をより精度良く算出することができる。
【００８２】
従って、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１内における対応する外側補助区画３２内のパターンと図形演算すると自身のパターンと重なる内側補助区画３１の数が多いほど、検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２をより精度良く算出することができる。このため、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１がずれた場合の値により近いパターン密度Ｄ２を算出することができる。この結果、設計規則違反の判定を過剰に出さないようにすることが可能となり、検証エリアＡ１のパターン密度検証を再度行う箇所が減少する。
【００８３】
尚、ＣＰＵ１２は、ステップＳ４１からステップＳ４７までの処理を、第一実施形態のステップＳ２１からステップＳ２７までの処理と同様に行う。
以上記述したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
【００８４】
（１）ＣＰＵ１２は、内側補助区画３１内のパターンに、対応する外側補助区画３２内に形成されるパターンを図形演算して、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１内に形成されるパターンを形成する。そして、ＣＰＵ１２は、その外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１内のパターンに基づいて、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積を算出するようにした。
【００８５】
従って、内側補助区画３１内のパターンに、対応する外側補助区画３２内のパターンを図形演算するとそれらパターンが重なる場合、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積をより精度良く算出することができる。
【００８６】
（２）ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１がずれた場合の値に近いパターン密度Ｄ２を算出できるため、設計規則違反の判定を過剰に出さないようにすることが可能となる。従って、検証エリアＡ１のパターン密度検証を再度行う箇所が減少するため、検証時間を短縮することができる。
【００８７】
（第三実施形態）
以下、第三実施形態を図２１〜２５に従って説明する。なお、先の図１〜図２０に示した部材と同一の部材にはそれぞれ同一の符号を付し、それら各要素についてはその説明を省略する。
【００８８】
ＣＰＵ１２は、第二実施形態と同様に、マクロセル２１のパターン密度検証を行う。尚、本実施形態では、図１１，図１２のステップＳ３１〜Ｓ３８，Ｓ４１〜Ｓ４７の処理と同じ部分について図面を省略し、図１２に示すステップＳ３９及びステップＳ４０に対応する処理を、図２１に示すステップＳ３９ａ及びステップＳ４０ａの処理として説明する。
【００８９】
ＣＰＵ１２は、ステップＳ３９ａにおいて、第一実施形態と同様に、対象の検証エリアＡ１に対し、内側補助区画３１と外側補助区画３２を設定する。ＣＰＵ１２は、設定した内側補助区画３１を所定数の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６に分割する。同様に、ＣＰＵ１２は、外側補助区画３２を所定数の分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６に分割する。ここで、所定数は、内側補助区画３１と外側補助区画３２を分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６に分割することで、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６の一辺が、パターンの最小幅又はパターン同士の最小間隔に応じた長さ付近となる数である。
【００９０】
本実施形態では、内側補助区画３１は、１辺がパターンの最小幅の半分である正方形の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６に分割される。同様に、外側補助区画３２は、１辺がパターンの最小幅の半分である正方形の分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６に分割される。本実施形態では、パターンの最小幅は４μｍである。
【００９１】
従って、図２２に示すように、内側補助区画３１は、１辺がパターンの最小幅の半分（２μｍ）であるため、１６個の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６に分割される。同様に、外側補助区画３２は、１６個の分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６に分割される。
【００９２】
そして、ＣＰＵ１２は、マクロセル２１のレイアウトデータＬに基づいて各内側補助区画３１の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６と、各外側補助区画３２の分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン占有面積を算出する。そして、ＣＰＵ１２は、ステップＳ３４で面積テーブルＣ１に記憶した内側補助区画３１及び外側補助区画３２のパターン占有面積の値を、対応する分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６と分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン占有面積の値に更新する。
【００９３】
各内側補助区画３１は、第一実施形態と同様に、所定の外側補助区画３２とそれぞれ対応している。各内側補助区画３１の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６は、自身の内側補助区画３１に対応する外側補助区画３２の分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６とそれぞれ対応している。詳しくは、図２２に示すように、各内側補助区画３１ｄを分割した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６が、対応する外側補助区画３２ｄを分割した分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６とそれぞれ対応している。
【００９４】
具体的には、内側補助区画３１ｄの左上の角部分に位置する分割内側区画Ｉ１が、外側補助区画３２ｄの左上の角部分に位置する分割外側区画Ｏ１と対応している。その分割内側区画Ｉ１の右隣に位置する分割内側区画Ｉ２が、分割外側区画Ｏ１の右隣に位置する分割外側区画Ｏ２と対応している。また、分割内側区画Ｉ２の右隣に位置する分割内側区画Ｉ３が、分割外側区画Ｏ２の右隣に位置する分割外側区画Ｏ３と対応している。そして、内側補助区画３１ｄの右下の角部分に位置する分割内側区画Ｉ１６が、外側補助区画３２ｄの右下の角部分に位置する分割外側区画Ｏ１６と対応している。
【００９５】
次に、ステップＳ４０ａにおいて、ＣＰＵ１２は、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味したパターン密度Ｄ２を算出する。まず、ＣＰＵ１２は、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６内に形成されるパターンのパターン占有面積の値に、対応する分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６内に形成されるパターンのパターン占有面積の値を加算する。次に、その加算値と分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６の面積（４μｍ２）とを比較し、そのうちの小さい方の値をその分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積とする。
【００９６】
つまり、この分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６に基づく分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６内に形成されるパターンのパターン占有面積は、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６に、対応する分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６内に形成されるパターンのパターン占有面積を全て加算したときに、その分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６が取り得る最大のパターン占有面積である。
【００９７】
本実施形態では、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６の１辺の長さが２μｍの場合、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６の面積は４μｍ２である。そして、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積と、対応する分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン占有面積との加算値が分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６の面積（４μｍ２）よりも大きいときは、その分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６の面積（４μｍ２）を、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積とする。反対に、加算値が分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６の面積（４μｍ２）以下のときは、その加算値を、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積とする。
【００９８】
ＣＰＵ１２は、上記の分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積を算出する場合と比べて、より精度良く算出することができる。
【００９９】
図２３（ａ）、（ｂ）に示すように、内側補助区画３１内にパターンＰａ１０が、外側補助区画３２内にパターンＰａ１１が配置される場合に、ＣＰＵ１２が分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を算出する処理を説明する。ＣＰＵ１２は、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積に、対応する分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン占有面積を加算して、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を算出する。
【０１００】
詳述すると、図２３（ａ）、（ｂ）に示すような内側補助区画３１及び外側補助区画３２の場合の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６内に形成されるパターンＰａ１０のパターン占有面積、及び、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６内に形成されるパターンＰａ１１のパターン占有面積を図２４（ａ）、（ｂ）に示す。
【０１０１】
図２４（ａ）、（ｂ）において、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積の値と、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン占有面積の値を、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６内及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６内にそれぞれ示している。図２４（ｃ）に、算出した分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を示す。
【０１０２】
図２４（ｃ）において、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積の値を、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６内に示している。従って、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積は、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を全て加算した値のため、その値は４８μｍ２である。図２３（ｃ）から明らかなように、内側補助区画３１の面積が６４μｍ２であるため、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積の値は４８μｍ２である。
【０１０３】
従って、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積の値は、実際に、内側補助区画３１内に形成されるパターンＰａ１０に、対応する外側補助区画３２内に形成されるパターンＰａ１１を加算した値（４８μｍ２）と等しい。すなわち、図２３（ａ）、（ｂ）に示すような内側補助区画３１及び外側補助区画３２の場合、ＣＰＵ１２は、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を精度良く算出することができる。
【０１０４】
これは、図２３（ａ）、（ｂ）に示すような内側補助区画３１及び外側補助区画３２の場合、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６又は分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６内のパターン密度が０％又は１００％のいずれかであり、ＣＰＵ１２が分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６又は分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン占有面積を精度良く算出することができるためである。
【０１０５】
詳しくは、分割内側区画Ｉ１内のパターン密度が０％の場合（分割内側区画Ｉ１にパターンが無い場合）、分割内側区画Ｉ１のパターン占有面積に、対応する分割外側区画Ｏ１のパターン占有面積を加算すると、分割外側区画Ｏ１のパターン占有面積が、分割外側区画Ｏ１を加味した分割内側区画Ｉ１のパターン占有面積となる。
【０１０６】
すなわち、分割内側区画Ｉ１内にパターンが無いため、分割外側区画Ｏ１のパターンのみが、分割外側区画Ｏ１を加味した分割内側区画Ｉ１内に形成される。従って、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６又は分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン密度が０％の場合、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積をより精度良く算出することができる。
【０１０７】
一方、分割内側区画Ｉ１のパターン密度が１００％の場合（分割内側区画Ｉ１内の全ての領域にパターンが形成されている場合）、分割内側区画Ｉ１のパターン占有面積に、対応する分割外側区画Ｏ１のパターン占有面積を加算すると、分割内側区画Ｉ１のパターン占有面積が、分割外側区画Ｏ１を加味した分割内側区画Ｉ１のパターン占有面積となる。
【０１０８】
換言すると、分割内側区画Ｉ１の全ての領域にパターンが形成されているため、どの様な分割外側区画Ｏ１内に形成されるパターンと図形演算されても、分割外側区画Ｏ１を加味した分割内側区画Ｉ１内に形成されるパターンは、分割内側区画Ｉ１内に形成されるパターンから変更されない。従って、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６又は分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン密度が１００％の場合、ＣＰＵ１２は、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積をより精度良く算出することができる。
【０１０９】
反対に、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６又は分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン密度が０％又は１００％ではない場合であって、内側補助区画３１内のパターンに、外側補助区画３２内のパターンを図形演算するとそれらパターンが重なってしまうとき、対応する分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を精度良く算出することができずに実際の値よりも算出値が大きくなってしまう。
【０１１０】
このため、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６又は分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン密度が０％又は１００％ではない場合、上記のように、対応する分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を精度良く算出することができずに実際の値よりも算出値が大きくなってしまう可能性がある。
【０１１１】
このような補助区画は、面積が小さいほど、パターン密度が０％又は１００％となる区画の割合が多くなる。補助区画の１辺の長さをパターン編集可能な最小単位まで短くすると、検証エリアＡ１における全ての補助区画のパターン密度が０％又は１００％になる。つまり、補助区画は、パターン編集可能な最小単位まで１辺の長さを短くするほど、補助区画のパターン密度が０％又は１００％になる確率が高くなる。しかし、補助区画の面積が小さいほど、検証エリアＡ１の補助区画の数が増加するため、ＣＰＵ１２の負荷が増大する。
【０１１２】
例えば、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６の１辺の長さは、本実施形態のように最小幅又は最小間隔の半分が好ましい。分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６は、最小間隔で最小幅のパターンが配置される条件が０％又は１００％のパターン密度に最もなりにくい。図２５は、この０％又は１００％のパターン密度に最もなりにくい条件で分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６に配置されているパターンＰａ１３，Ｐａ１４を示している。図２５において、パターン密度が０％又は１００％の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６内に右下がり斜線を引いて示している。この場合、図２５から明らかなように、パターン密度が０％又は１００％の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６は、全体の５０％となる。
【０１１３】
分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６は、内側補助区画３１及び外側補助区画３２よりも面積が小さいため、パターン密度が０％又は１００％になりやすい。内側補助区画３１又は外側補助区画３２のパターン密度が０％又は１００％ではない場合であって、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６又は分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン密度が０％又は１００％のとき、ＣＰＵ１２は、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積より、精度良く算出することができる。
【０１１４】
従って、ＣＰＵ１２は、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を算出する方が、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積を算出するより、同じ面積の領域のパターン占有面積を算出する場合に精度良く算出することができる。
【０１１５】
図２３（ａ）、（ｂ）に示すような内側補助区画３１及び外側補助区画３２の場合、ＣＰＵ１２は、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積のパターン占有面積を、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積に基づいて算出する方が、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積を算出するより、精度良く算出することができる。この場合、パターン占有面積の算出値は１６μｍ２小さくなる。
【０１１６】
そして、ＣＰＵ１２は、面積テーブルＣ１における各分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積の値を、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積の値に更新する。ＣＰＵ１２は、各分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を更新した面積テーブルＣ１に基づいて検証エリアＡ１のパターン密度Ｄ２を算出する。このとき、検証エリアＡ１において、パターン密度が０％又は１００％の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６の総面積は、パターン密度が０％又は１００％の内側補助区画３１及び外側補助区画３２の総面積より大きい。
【０１１７】
従って、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１のパターン占有面積を、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積に基づいて算出する方が、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積に基づいて算出するより、精度良く算出できる。このため、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１がずれた場合の値により近いパターン密度Ｄ２を算出することができる。この結果、設計規則違反の判定を過剰に出さないようにすることが可能となり、検証エリアＡ１のパターン密度検証を再度行う箇所が減少する。
【０１１８】
以上記述したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）ＣＰＵ１２は、内側補助区画３１及び外側補助区画３２を分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６にそれぞれ分割する。そして、ＣＰＵ１２は、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６に、対応する分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を図形演算することで、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積を算出するようにした。
【０１１９】
ＣＰＵ１２は、内側補助区画３１又は外側補助区画３２のパターン密度が０％又は１００％の場合、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１を精度良く算出することができる。また、ＣＰＵ１２は、分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６又は分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６のパターン密度が０％又は１００％の場合、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６を精度良く算出することができる。
【０１２０】
分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６は、面積が小さいため、内側補助区画３１及び外側補助区画３２より、パターン密度が０％又は１００％になりやすい。このため、検証エリアＡ１において、パターン密度が０％又は１００％の分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６及び分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６の総面積は、パターン密度が０％又は１００％の内側補助区画３１及び外側補助区画３２の総面積より大きい。
【０１２１】
従って、ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１のパターン占有面積を、分割外側区画Ｏ１〜Ｏ１６を加味した分割内側区画Ｉ１〜Ｉ１６のパターン占有面積に基づいて算出する方が、外側補助区画３２を加味した内側補助区画３１のパターン占有面積に基づいて算出するより、精度良く算出できる。
【０１２２】
（２）ＣＰＵ１２は、検証エリアＡ１がずれた場合の値に近いパターン密度Ｄ２を算出できるため、設計規則違反の判定を過剰に出さないようにすることが可能となる。従って、検証エリアＡ１のパターン密度検証を再度行う箇所が減少するため、検証時間を短縮することができる。
【０１２３】
尚、上記各実施の形態は、以下の態様で実施してもよい。
・内側補助区画３１と外側補助区画３２の組み合わせは、上記実施形態の組み合わせに限定されるものではなく、適宜変更してもよい。
【０１２４】
・上記実施形態では、内側補助区画３１及び外側補助区画３２はそれぞれ複数設定されたが、特にこれに限定されるものではなく、それぞれ単数としてもよい。
・上記実施形態では、内側補助区画３１及び外側補助区画３２は検証エリアＡ１の全周に亘って設定されたが、特にこれに限定されるものではなく、例えば、Ｘ軸方向の一辺及びＹ軸方向の一辺のみに沿って設定してもよい。
【０１２５】
・上記実施形態では、内側補助区画３１及び外側補助区画３２に基づく密度検証を、上限側の密度検証に用いたが、下限側の密度検証に用いてもよく、また、その上限側及び下限側の密度検証を両方行ってもよい。尚、下限側の密度検証の場合、第１密度基準値Ｒ１とパターン密度の最大変化量を足し合わせた値を第２密度基準値Ｒ２とする。
【０１２６】
・上記実施形態の密度検証処理において、第２密度基準値Ｒ２に基づく密度検証（ステップＳ１１及びステップＳ１６）を省いてもよい。
・上記実施形態において、パターン密度Ｄ１と第２密度基準値Ｒ２とを比較する処理を行うステップＳ１６と、パターン密度Ｄ１と第１密度基準値Ｒ１とを比較する処理を行うステップＳ１７の順序を入れ替えてもよい。
【０１２７】
上記各実施形態に関し、以下の付記を開示する。
（付記１）
半導体装置に形成するパターンのレイアウトデータを生成する設計装置の中央処理装置にて実行されるパターン密度検証方法であって、
前記中央処理装置は、検証エリアの内側と外側に内側補助区画と外側補助区画とをそれぞれ設定し、前記内側補助区画内のパターン占有面積と前記外側補助区画内のパターン占有面積とに基づき算出された前記検証エリアのパターン密度が所定の密度基準を満たすか否かを検証する、
ことを特徴とするパターン密度検証方法。（１）
（付記２）
前記中央処理装置は、前記内側補助区画内のパターン占有面積に前記外側補助区画内のパターン占有面積を加味した上で、前記検証エリアのパターン密度を算出する、
ことを特徴とする付記１記載のパターン密度検証方法。（２）
（付記３）
前記中央処理装置は、前記内側補助区画内に形成されるパターンと前記外側補助区画内に形成されるパターンを図形演算し、その演算結果に基づいて前記検証エリアのパターン密度を算出する、
ことを特徴とする付記１記載のパターン密度検証方法。（３）
（付記４）
前記中央処理装置は、前記内側補助区画及び前記外側補助区画をそれぞれ前記検証エリアの辺に沿って複数設定し、前記各内側補助区画内のパターン占有面積にそれぞれ対応する前記外側補助区画内のパターン占有面積を加味する、
ことを特徴とする付記２又は３記載のパターン密度検証方法。（４）
（付記５）
前記中央処理装置は、前記内側補助区画及び前記外側補助区画を複数の分割内側区画及び分割外側区画に分割し、前記分割内側区画のパターン占有面積にそれぞれ対応する前記分割外側区画のパターン占有面積を加味した上で、前記検証エリアのパターン密度を算出する、
ことを特徴とする付記４記載のパターン密度検証方法。（５）
（付記６）
前記中央処理装置は、前記内側補助区画及び前記外側補助区画の大きさを、パターンの幅又はパターンの間隔に応じて設定することを特徴とする付記５記載のパターン密度検証方法。
（付記７）
前記中央処理装置は、前記外側補助区画内のパターン占有面積を前記内側補助区画内のパターン占有面積に加味する際に、それらを足し合わせた面積が前記内側補助区画の面積よりも大きい場合には、その内側補助区画の面積を、前記外側補助区画内のパターン占有面積を加味した前記内側補助区画内のパターン占有面積とする、
ことを特徴とする付記２〜６のうち何れか一項に記載のパターン密度検証方法。
（付記８）
前記中央処理装置は、前記検証エリア内に含まれるパターン密度が前記密度基準を満たすか否かを検証し、
そのパターン密度が前記密度基準を満たす場合、前記内側補助区画と前記外側補助区画のパターン占有面積に基づき算出された前記検証エリアのパターン密度に基づく検証を行い、
前記検証エリア内に含まれるパターン密度が前記密度基準を満たさない場合には、前記内側補助区画と前記外側補助区画のパターン占有面積に基づき算出された前記検証エリアのパターン密度に基づく検証を行わない、
ことを特徴とする付記１〜７のうちの何れか一項に記載のパターン密度検証方法。
（付記９）
前記中央処理装置は、前記検証エリアをＸ軸方向及びＹ軸方向にそれぞれ検証ステップ値だけずらしたときに見込まれる前記検証エリア内に含まれるパターン密度の最大変化量と前記密度基準とに基づく閾値を算出し、
前記検証エリアの位置を前記検証ステップ値で順次変更し、それぞれの位置で前記検証エリア内に含まれるパターン密度と前記閾値とを比較し、その比較結果に応じて、前記内側補助区画と前記外側補助区画のパターン占有面積に基づき算出された前記検証エリアのパターン密度に基づく検証を行う、
ことを特徴とする付記１〜８のうちの何れか一項に記載のパターン密度検証方法。
（付記１０）
前記中央処理装置は、前記内側補助区画と前記外側補助区画のパターン占有面積に基づき算出された前記検証エリアのパターン密度が前記密度基準を満たさない場合、前記検証エリアと前記各外側補助区画を合わせた検証領域内において前記検証エリアを所定の検証ステップ値で順次変更し、それぞれの位置で前記検証エリア内に含まれるパターン密度が前記密度基準を満たすか否かを判定する、
ことを特徴とする付記１〜９のうちの何れか一項に記載のパターン密度検証方法。
（付記１１）
半導体装置に形成するパターンのレイアウトデータを生成するために設計装置の中央処理装置が実行するプログラムであって、
検証エリアの内側と外側に内側補助区画と外側補助区画とをそれぞれ設定するステップと、
前記内側補助区画内のパターン占有面積と前記外側補助区画のパターン占有面積とに基づき算出された前記検証エリアのパターン密度が所定の密度基準を満たすか否かを検証するステップと、
を含む、
ことを特徴とするプログラム。（６）
【符号の説明】
【０１２８】
１１ 設計装置
１２ 中央処理装置（ＣＰＵ）
３１ 内側補助区画
３２ 外側補助区画
Ａ１，Ａ２ 検証エリア
Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３ パターン密度
Ｉ１〜Ｉ１６ 分割内側区画
Ｌ レイアウトデータ
Ｏ１〜Ｏ１６ 分割外側区画
Ｒ１ 第１密度基準値
Ｒ２ 第２密度基準値（閾値）
Ｔ１，Ｔ２ 検証領域
Ｖ１，Ｖ２ 検証ステップ値
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体装置に形成するパターンのレイアウトデータを生成する設計装置の中央処理装置にて実行されるパターン密度検証方法であって、
前記中央処理装置は、検証エリアの内側と外側に内側補助区画と外側補助区画とをそれぞれ設定し、前記内側補助区画内のパターン占有面積と前記外側補助区画内のパターン占有面積とに基づき算出された前記検証エリアのパターン密度が所定の密度基準を満たすか否かを検証する、
ことを特徴とするパターン密度検証方法。
【請求項２】
前記中央処理装置は、前記内側補助区画内のパターン占有面積に前記外側補助区画内のパターン占有面積を加味した上で、前記検証エリアのパターン密度を算出する、
ことを特徴とする請求項１記載のパターン密度検証方法。
【請求項３】
前記中央処理装置は、前記内側補助区画内に形成されるパターンと前記外側補助区画内に形成されるパターンを図形演算し、その演算結果に基づいて前記検証エリアのパターン密度を算出する、
ことを特徴とする請求項１記載のパターン密度検証方法。
【請求項４】
前記中央処理装置は、前記内側補助区画及び前記外側補助区画をそれぞれ前記検証エリアの辺に沿って複数設定し、前記各内側補助区画内のパターン占有面積にそれぞれ対応する前記外側補助区画内のパターン占有面積を加味する、
ことを特徴とする請求項２又は３記載のパターン密度検証方法。
【請求項５】
前記中央処理装置は、前記内側補助区画及び前記外側補助区画を複数の分割内側区画及び分割外側区画に分割し、前記分割内側区画のパターン占有面積にそれぞれ対応する前記分割外側区画のパターン占有面積を加味した上で、前記検証エリアのパターン密度を算出する、
ことを特徴とする請求項４記載のパターン密度検証方法。
【請求項６】
半導体装置に形成するパターンのレイアウトデータを生成するために設計装置の中央処理装置が実行するプログラムであって、
検証エリアの内側と外側に内側補助区画と外側補助区画とをそれぞれ設定するステップと、
前記内側補助区画内のパターン占有面積と前記外側補助区画のパターン占有面積とに基づき算出された前記検証エリアのパターン密度が所定の密度基準を満たすか否かを検証するステップと、
を含む、
ことを特徴とするプログラム。
【請求項１】
半導体装置に形成するパターンのレイアウトデータを生成する設計装置の中央処理装置にて実行されるパターン密度検証方法であって、
前記中央処理装置は、検証エリアの内側と外側に内側補助区画と外側補助区画とをそれぞれ設定し、前記内側補助区画内のパターン占有面積と前記外側補助区画内のパターン占有面積とに基づき算出された前記検証エリアのパターン密度が所定の密度基準を満たすか否かを検証する、
ことを特徴とするパターン密度検証方法。
【請求項２】
前記中央処理装置は、前記内側補助区画内のパターン占有面積に前記外側補助区画内のパターン占有面積を加味した上で、前記検証エリアのパターン密度を算出する、
ことを特徴とする請求項１記載のパターン密度検証方法。
【請求項３】
前記中央処理装置は、前記内側補助区画内に形成されるパターンと前記外側補助区画内に形成されるパターンを図形演算し、その演算結果に基づいて前記検証エリアのパターン密度を算出する、
ことを特徴とする請求項１記載のパターン密度検証方法。
【請求項４】
前記中央処理装置は、前記内側補助区画及び前記外側補助区画をそれぞれ前記検証エリアの辺に沿って複数設定し、前記各内側補助区画内のパターン占有面積にそれぞれ対応する前記外側補助区画内のパターン占有面積を加味する、
ことを特徴とする請求項２又は３記載のパターン密度検証方法。
【請求項５】
前記中央処理装置は、前記内側補助区画及び前記外側補助区画を複数の分割内側区画及び分割外側区画に分割し、前記分割内側区画のパターン占有面積にそれぞれ対応する前記分割外側区画のパターン占有面積を加味した上で、前記検証エリアのパターン密度を算出する、
ことを特徴とする請求項４記載のパターン密度検証方法。
【請求項６】
半導体装置に形成するパターンのレイアウトデータを生成するために設計装置の中央処理装置が実行するプログラムであって、
検証エリアの内側と外側に内側補助区画と外側補助区画とをそれぞれ設定するステップと、
前記内側補助区画内のパターン占有面積と前記外側補助区画のパターン占有面積とに基づき算出された前記検証エリアのパターン密度が所定の密度基準を満たすか否かを検証するステップと、
を含む、
ことを特徴とするプログラム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【公開番号】特開２０１１−７０６３０（Ｐ２０１１−７０６３０Ａ）
【公開日】平成２３年４月７日（２０１１．４．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−６２０００（Ｐ２０１０−６２０００）
【出願日】平成２２年３月１８日（２０１０．３．１８）
【出願人】（３０８０１４３４１）富士通セミコンダクター株式会社 (2,507)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年４月７日（２０１１．４．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月１８日（２０１０．３．１８）
【出願人】（３０８０１４３４１）富士通セミコンダクター株式会社 (2,507)
【Ｆターム（参考）】
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