ワイピング装置および液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
【課題】本発明は、消耗品を極力少なくすることができると共に、高いワイピング性能を維持することができるワイピング装置を、またこれを備える液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供する。
【解決手段】機能液滴吐出ヘッド１のノズル面５３をワイピング処理するワイピングブレード８１と、ワイピングブレード８１を洗浄処理する洗浄手段８２と、ワイピングブレード８１を、ワイピング処理のためのワイピング領域と洗浄処理のための洗浄領域との間で、周回運動させる周回機構８４と、を備えたことを特徴とする。
【解決手段】機能液滴吐出ヘッド１のノズル面５３をワイピング処理するワイピングブレード８１と、ワイピングブレード８１を洗浄処理する洗浄手段８２と、ワイピングブレード８１を、ワイピング処理のためのワイピング領域と洗浄処理のための洗浄領域との間で、周回運動させる周回機構８４と、を備えたことを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェットヘッドに代表される機能液滴吐出ヘッドのノズル面をワイピングするワイピング装置および液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種のワイピング装置として、機能液滴吐出ヘッドのノズル面を清掃用布により払拭洗浄する装置（クリーニング装置）が知られている。この装置では、繰出しリールから繰出し自在に繰出され、巻取りリールに巻取り自在に巻回される清掃用布が、両リール間に位置し洗浄液を吐出すると共に所定の間隙を存して配設された複数の吐出ゴム部の上面に張られており、この吐出ゴム部に位置して清掃用布に機能液滴吐出ヘッドのノズル面を当接させ、この状態で清掃用布を水平移動することで、汚れを除去するようにしている。（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００１−１７１１３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記従来の装置では、機能液滴吐出ヘッドのノズル面の払拭に清掃用布を用いているため、ゴミ、ケバが発生すると共に、汚れた清掃用布はそのまま消耗品として廃棄されるため、交換作業が煩雑であり、かつランニングコストがかさむ問題があった。
【０００４】
本発明は、消耗品を極力少なくすることができると共に、高いワイピング性能を維持することができるワイピング装置を、またこれを備える液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することをその課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明のワイピング装置は、機能液滴吐出ヘッドのノズル面をワイピング処理するワイピングブレードと、ワイピングブレードを洗浄処理する洗浄手段と、ワイピングブレードを、ワイピング処理のためのワイピング領域と洗浄処理のための洗浄領域との間で、周回運動させる周回機構と、を備えたことを特徴とする。
【０００６】
この構成によれば、周回機構により、ワイピングブレードをワイピング領域に移動させてノズル面をワイピング処理すると共に、ワイピング後の汚れたワイピングブレードを洗浄領域に移動させ洗浄手段により洗浄処理する。この洗浄処理により、汚れが付着していないワイピングブレードで機能液滴吐出ヘッドのノズル面をワイピングすることができ、かつワイピングブレードを繰り返し使用することができる。したがって、消耗品を極力少なくすることができると共に、高いワイピング性能を維持することができる。また、簡易な構成であるため装置の小型化を実現することができる。さらに、ワイピングブレードはゴムや樹脂で形成されかつ、常に洗浄されるのでゴミ、ケバ等が発生することが無い。なお、ワイピングブレードは等間隔に複数設けることが好ましい。このようにすれば、ワイピング処理と洗浄処理を同時並行で行うことが可能となる。
【０００７】
この場合、周回機構は外周面にワイピングブレードが設けられ、ワイピングブレードを周回運動させる回転ドラムと、回転ドラムの駆動源となるアクチュエータと、アクチュエータの駆動力を回転ドラムに伝達する動力伝達機構と、を有していることが、好ましい。
【０００８】
この構成によれば、単純な構造で周回機構を構成することが可能である。また、回転ドラムを用いることで、回転ドラムの外周面に汚れが付着しても、ワイピングブレードと共に汚れを簡単に洗浄することができる。
【０００９】
この場合、ワイピングブレードは、回転ドラムの外周面に着脱自在に装着されていることが、好ましい。
【００１０】
この構成によれば、ワイピングブレードが劣化した場合等において対象となるワイピングブレードのみを交換すればよく、メンテナンス作業が容易である。
【００１１】
この場合、周回機構は、外周面にワイピングブレードが設けられたバンド状のブレード保持部材と、外周面にブレード保持部材が装着され、ブレード保持部材を介してワイピングブレードを周回運動させる回転体と、回転体の駆動源となるアクチュエータと、アクチュエータの駆動力を回転体に伝達する動力伝達機構と、を有していることが、好ましい。
【００１２】
この構成によれば、ブレード保持部材を着脱することができるため、ワイピングブレードが劣化した場合等において対象となるワイピングブレードをブレード保持部材と共に交換すればよく、メンテナンス作業が容易である。
【００１３】
この場合、周回機構は、外周面にワイピングブレードが設けられたベルト状のブレード保持部材と、ブレード保持部材が掛け渡され、ブレード保持部材を介してワイピングブレードを周回運動させる一対のプーリと、プーリの駆動源となるアクチュエータと、アクチュエータの駆動力を一対のプーリのいずれか一方に伝達する動力伝達機構と、を有しているが、好ましい。
【００１４】
この構成によれば、ブレード保持部材が一対のプーリに掛け渡されているため、ワイピング領域と洗浄領域との離間距離を十分とることができ、十分な作業領域を確保すると共に、ベルト状のブレード保持部材の長さにより洗浄手段の配置の自由度を高めることができる。
【００１５】
この場合、ワイピングブレードとブレード保持部材は、一体に成形されているが、好ましい。
【００１６】
この構成によれば、ブレード保持部材を簡単に作製することができると共に、部品点数および組立て工数を削減することができる。
【００１７】
この場合、洗浄手段は、洗浄液を満たすと共に、洗浄領域に移動したワイピングブレードが洗浄液に浸漬される洗浄液槽で、構成されていることが、好ましい。
【００１８】
この構成によれば、ワイピングブレードを洗浄液に浸漬することにより、汚れ（機能液）の溶解が促進されワイピングブレードを良好に洗浄することができる。
【００１９】
この場合、洗浄液に浸漬されたワイピングブレードに接触し、ワイピングブレードをブラッシング処理するブレードクリーナーを、更に備えたことが、好ましい。
【００２０】
この構成によれば、ワイピングブレードをブラッシング洗浄により、強固な汚れを掻き落とすことができ、より一層ワイピングブレードを良好に洗浄することができる。なお、ブレードクリーナーの掻き取り面はブラシ状でも、スポンジ状でも良い。さらに、ブラッシング処理は、ワイピングブレードを固定としブレードクリーナーを可動（回転又は往復動）とする場合と、ブレードクリーナーを固定としワイピングブレードを周回機構により可動とする場合とのいずれであっても良い。
【００２１】
この場合、洗浄手段は、ワイピングブレードに洗浄液を吹き付ける洗浄液ノズルと、洗浄液槽を供給源として洗浄液ノズルに洗浄液を送液する送液手段と、を有していることが、好ましい。
【００２２】
この構成によれば、ワイピングブレードに対し、洗浄液ノズルから洗浄液を吹き付けることにより、ワイピングブレードに付着した汚れを吹き飛ばすことができ、より効果的にワイピングブレードの洗浄を行うことができる。また、洗浄液槽から洗浄液を汲み取って吹き付けているため、別途タンクを設ける必要がなく、かつ洗浄液を有効活用することができる。なお、送液手段はポンプでも，イジェクターでも良い。さらに、洗浄液ノズルは、洗浄液内に設けても、洗浄液外に設けても良い。
【００２３】
この場合、ワイピング処理は、機能液吐出ヘッドに対しワイピングブレードを相対的に移動させることにより行われ、少なくともワイピングブレードの先端部は、移動方向に傾いていることをが、好ましい。
【００２４】
この構成によれば、ワイピングブレードの撓み量が小さくなり、汚れを掻き取り易い角度でノズル面に接触させることができる。このため、ノズル面に付着した汚れを確実に払拭することができる。
【００２５】
この場合、ワイピング処理は、機能液吐出ヘッドに対しワイピングブレードを相対的に移動させることにより行われ、少なくともワイピングブレードの先端部は、複数に分岐して形成され、移動方向に対して順に並んでいることが、好ましい。
【００２６】
この構成によれば、ワイピングブレードに設けられた複数の先端部により、ノズル面を連続的に払拭することができる。すなわち先行する分岐部により汚れが残っても後行する分岐部で汚れをとることができ確実に払拭することができる。
【００２７】
本発明の液滴吐出装置は、上記したワイピング装置と、ワークに対し、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら機能液滴を吐出して描画を行う描画装置と、を備えたことを特徴とする
【００２８】
この構成によれば、定期的なワイピングブレードの洗浄および交換作業が不要になるため、装置の稼働停止時間を短縮することができ、生産性を向上させることができる。また、機能液滴吐出ヘッドのノズル面を汚れの無い状態に維持することができ、機能液滴吐出ヘッドの吐出性能を安定に維持することができる。
【００２９】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液による成膜部を形成することを特徴とする。
【００３０】
また、本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００３１】
これらの構成によれば、非消耗品で清浄に管理されたワイピングブレードにより、機能液滴吐出ヘッドを常に正常に保つことができる。液滴吐出装置により製造することで、ワークの生産性を向上させることができる。なお、電気光学装置（フラットパネルディスプレイ：ＦＰＤ）としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）やＳＥＤ（Surface-conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００３２】
本発明の電子機器は、上記した電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または上記した電気光学装置に搭載したことを特徴とする。
【００３３】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータのほか、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下、添付の図面を参照して、本発明の実施形態に係るワイピング装置およびこれを備える液滴吐出装置について説明する。液滴吐出装置は、フラットパネルディスプレイの製造ラインに組み込まれるものであり、インクジェットヘッドである機能液滴吐出ヘッドを用いた印刷技術（インクジェット法）により、液晶表示装置のカラーフィルタや有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子等を形成するものである。
【００３５】
図１に示すように、液滴吐出装置１は、機台２と、機台２上の全域に広く載置され、Ｒ・Ｇ・Ｂ３個の機能液滴吐出ヘッド１７を搭載した描画装置３と、機台２上で描画装置３に添設された吸引装置６１およびワイピング装置６２とから成るメンテナンス装置４とを備え、メンテナンス装置４により機能液滴吐出ヘッド１７のメンテナンス処理（機能維持・回復）を行うと共に、描画装置３により基板Ｗ（ワーク）上に機能液を吐出させる描画動作を行うようにしている。また、液滴吐出装置１は、各構成部品へ駆動・制御用の圧縮エアーを供給するエアー供給装置（図示省略）や、パソコン等で構成され、液滴吐出装置１の各部を制御する制御装置５（図３参照）を、備えている。
【００３６】
描画装置３は、Ｘ軸テーブル１２およびＸ軸テーブル１２に直交するＹ軸テーブル１３から成るＸＹ移動機構１１と、Ｙ軸テーブル１３に移動自在に取り付けられたキャリッジ１４と、キャリッジ１４に垂設したヘッドユニット１５とを有している。そして、ヘッドユニット１５には、機能液滴吐出ヘッド１７が搭載されている。一方、基板Ｗは、Ｘ軸テーブル１２の端部に臨む一対の基板認識カメラ（図示省略）により、Ｘ軸テーブル１２に位置決めされた状態で搭載されている。
【００３７】
Ｘ軸テーブル１２は、Ｘ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＸ軸スライダ２１を有し、これに吸着テーブル２３および基板θテーブル２４等から成るセットテーブル２２を移動自在に搭載して、構成されている。同様に、Ｙ軸テーブル１３は、Ｙ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＹ軸スライダ３１を有し、これに上記のキャリッジ１４を介してヘッドユニット１５を移動自在に搭載して、構成されている。Ｘ軸テーブル１２は、機台２上に直接支持される一方、Ｙ軸テーブル１３は、機台２上に立設した左右の支柱３２に支持されており、Ｘ軸テーブル１２とメンテナンス装置４とを跨ぐように延在している。
【００３８】
そして、Ｙ軸テーブル１３は、これに搭載したヘッドユニット１５を、Ｘ軸テーブル１２の直上部に位置する描画エリア９１と、メンテナンス装置４の直上部に位置するメンテナンスエリア９２との相互間で、適宜移動させる。すなわち、Ｙ軸テーブル１３は、Ｘ軸テーブル１２に導入した基板Ｗに描画動作を行う場合には、ヘッドユニット１５を描画エリア９１に臨ませ、機能液滴吐出ヘッド１７のメンテナンス処理を行う場合には、ヘッドユニット１５をメンテナンスエリア９２に臨ませる。
【００３９】
ヘッドユニット１５は、３個の機能液滴吐出ヘッド１７と、これを位置決めして装着するヘッドプレート１６と、から構成されている。３個の機能液滴吐出ヘッド１７は、ヘッドプレート１６を介してキャリッジ１４に搭載されている。
図２に示すように、各機能液滴吐出ヘッド１７は、インクジェット方式で機能液を吐出するものであって、機能液滴吐出ヘッド１７に機能液を供給する２連の接続針４２と、接続針４２を有する機能液導入部４１と、機能液導入部４１の側方に連なり、制御装置５に接続される２連のコネクタ５６を備えるヘッド基板４３と、機能液導入部４１の下方（同図では上方）に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体４４とを備えている。
ヘッド本体４４は、ピエゾ素子等で構成されたポンプ部５１と、２本のノズル列５４を相互に平行に形成したノズル面５３を有するノズルプレート５２と、を更に備えている。各ノズル列５４は、複数の吐出ノズル５５が等ピッチで並べられて構成されている。そして、コネクタ５６を介してポンプ部５１に駆動波形を印加することにより、各吐出ノズル５５から機能液が吐出される。
【００４０】
このように構成された描画装置３は、基板Ｗを載置したセットテーブル２２がＸ軸方向に移動するのに同期して、機能液滴吐出ヘッド１７を駆動させて基板Ｗに機能液を吐出して主走査を行う。次にＹ軸方向にヘッドユニット１５が移動しＹ軸方向の副走査を行う。その後、基板ＷをＸ軸方向に復動させ、同期して機能液滴吐出ヘッド１７を駆動することで再度主走査を行う。以上の動作を繰り返し行うことで基板Ｗに所望の描画を行う。
【００４１】
図１に示すように、メンテナンス装置４は、機能液滴吐出ヘッド１７の吐出ノズル５５から機能液を吸引する吸引装置６１と、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面５３に付着した機能液等の汚れをワイピング処理により除去するワイピング装置６２と、を備えている。吸引装置６１とワイピング装置６２とは、Ｙ軸テーブル１３によるヘッドユニット１５の移動軌跡上に設けられており、Ｙ軸テーブル１３により、吸引装置６１、ワイピング装置６２の直上部に機能液滴吐出ヘッド１７を臨ませることができるようになっている。ワイピング装置６２は、吸引装置６１と描画装置３との間に配設されており、ヘッドユニット１５は、吸引装置６１の吸引動作の後ワイピング装置６２に臨み、ここでワイピング処理を行った後、描画装置３に導入される。
【００４２】
吸引装置６１は、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面５３をキャッピングするヘッドキャップ７１と、機能液滴吐出ヘッド１７の吐出ノズル５５からヘッドキャップ７１を介して機能液を吸引する吸引ポンプと、ヘッドキャップ７１を昇降させるキャップ昇降機構と、を備えている。キャップ昇降機構によりヘッドキャップ７１を上昇させノズル面５３に当接させておいて、吸引ポンプにより機能液滴吐出ヘッド１７から機能液を吸引することにより、吐出ノズル５５をクリーニングする。
【００４３】
次に、図３および図４を参照して第１実施形態に係るワイピング装置６２について説明する。ワイピング装置６２は、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面５３をワイピング処理する３個のワイピングブレード８１と、各ワイピングブレード８１を突設したブレード保持ドラム１０１（回転ドラム）を有し、ブレード保持ドラム１０１を介してワイピングブレード８１を周回運動させる周回機構８４と、洗浄液を満し、ワイピングブレード８１が浸漬される洗浄液槽８２と、洗浄液槽８２に配設され、ワイピングブレード８１をブラッシング処理するブレードクリーナー８３と、上記装置主要部を一体として昇降させるワイピング昇降機構８５と、から構成されている。また、洗浄液槽８２の側面には、図外の洗浄液供給手段に連なる補給液パイプ１２２が接続され、下面には、後述する廃液タンク１３４に連なるドレインパイプ１３２が接続されている。
【００４４】
ワイピング昇降機構８５は、ベースとなるベースプレート１１１と、ベースプレート１１１の中央に載置された昇降シリンダ１１２と、上部に洗浄液槽８２、ブレードクリーナー８３および周回機構８４等からなる装置主要部を昇降自在に支持する昇降プレート１１３と、ベースプレート１１１の四隅に立設され、昇降プレート１１３の上下方向のスライドをガイドする４本（同図では２本のみ図示）の昇降ガイド１１４と、から構成されている。各昇降ガイド１１４の上端部には昇降プレート１１３の上昇端位置を規制する度当りブロック１１５が設けられており、昇降プレート１１３が上昇端位置に上昇した状態で、ワイピングブレード８１が機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面５３に接触するようになっている。また、昇降プレート１１３には、４本の昇降ガイド１１４が挿通される４つのガイド孔およびドレインパイプ１３２が遊挿される挿通開口が形成されている。
【００４５】
ワイピングブレード８１は、ゴムや樹脂等の可撓性材料で成形され、ブレード保持ドラム１０１の外周面に着脱自在に装着され、かつ複数（本実施形態では３個）の機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面５３を一度にワイピング処理できるように軸方向に十分なワイピング幅を有している（図４参照）。ノズル面５３に接するワイピングブレード８１の先端部は、鋭角となるように形成されており、かつ機能液滴吐出ヘッド１７の移動方向に対して逆方向に屈曲している（図５（ａ）参照）。一方、ワイピングブレード８１の下端は、断面蟻形の凸状部が軸方向に延在するように形成されている。
【００４６】
また、図５（ｂ）に示すようにワイピングブレード８１の先端部を、機能液滴吐出ヘッド１７の移動方向に対し屈曲させることなく、垂直に形成してもよい。また、図５（ｃ）に示すようにワイピングブレード８１の先端部を機能液滴吐出ヘッド１７の移動方向に対し、二股に形成してもよい。これにより、連続的にノズル面５３をワイピング処理することができる。そして、この場合には、先行する第１ブレード部を同図（ａ）のように屈曲させ、後行する第２ブレード部を同図（ｂ）のように垂直に形成すること、が好ましい。すなわち、先行する第１ブレード部でノズル面５３の汚れを掻き残した場合でも、第２ブレード部で確実に掻き取ることができる。なお、本実施形態のワイピングブレード８１は、複数のノズル面５３を一度にワイピング処理できるノズル幅を有するが、これを分割した複数の分割ブレードで構成してもよい。これにより、一部の分割ブレードが破損した場合でも該当する分割ブレードを交換することができる。
【００４７】
周回機構８４は、外周面に３個のワイピングブレード８１が等間隔に装着したブレード保持ドラム１０１と、ブレード保持ドラム１０１を介してワイピングブレード８１を周回運動させるモータ１０２（アクチュエータ）と、モータ１０２の出力軸に接続され、モータ１０２の出力をブレード保持ドラム１０１およびブレードクリーナー８３にそれぞれ伝達する減速伝達部１０３（動力伝達機構）と、から構成されている。
【００４８】
ブレード保持ドラム１０１は、ドラム本体とドラム本体が軸着されたドラム軸とから成り、ドラム軸で減速伝達部１０３に連結されている。ドラム本体の外周面には、周方向に等間隔かつ軸方向に延在するように３つの蟻溝が形成されている。この蟻溝にワイピングブレード８１の凸状部が軸方向からスライド係合することで、各ワイピングブレード８１がブレード保持ドラム１０１に着脱自在かつ抜け止め状態で装着されている。なお、本実施形態では、ワイピングブレード８１と共にブレード保持ドラム１０１の一部も洗浄液槽８２に浸漬されるためブレード保持ドラム１０１の外周面に汚れが付着しても、ワイピングブレード８１と共に汚れを簡単に洗浄することができる。
【００４９】
なお、図６に示すように、ドラム本体の代わりにバンド状のブレード保持バンド（ブレード保持部材）１０８とブレード保持バンド１０８を装着したドラム形状の回転体１０９で代用してもよい。この場合、ブレード保持バンド１０８と３個のワイピングブレード８１とは一体に形成されており、一体として回転体１０９に装着（着脱自在）するようになっている。ワイピングブレード８１が劣化した場合等において、対象となるワイピングブレード８１をブレード保持バンド１０８と共に交換することができ、メンテナンスが容易である。
【００５０】
減速伝達部１０３は、ギアボックス内に複数のギアから成る減速ギア列を有し、モータ１０２から出力された回転動力の回転方向および回転数を調整してブレード固定ドラム１０１およびブレードクリーナー８３に伝達する。すなわち、モータ１０２の回転に同期して、ブレード保持ドラム１０１とブレードクリーナー８３とが同時に回転するようになっている。もっとも、モータ１０２の正転および逆転で切替わるクラッチを内蔵し、モータ１０２の正転時にブレード保持ドラム１０１を回転させ、逆転時にブレードクリーナー８３を回転させるようにしてもよい。なお、減速伝達部１０３は、ベルトを用いた巻掛伝導機構としてもよい。
【００５１】
ブレードクリーナー８３は、ドラム形状のクリーナー本体１５１と、クリーナー本体１５１の外周面に植設したブラシ体１５２と、クリーナー本体１５１が軸着されると共に、減速伝達部１０３に連結された駆動軸と、から構成されており、洗浄液で満たされた洗浄液槽８２内において、ワイピングブレード８１の先端部に接する位置に配置されている。ワイピングブレード８１に接した状態でモータ１０２の駆動力を受けブレードクリーナー８３が回転することで、ワピイングブレード８１のブラッシング洗浄が行われる。また、ブレードクリーナー８３が洗浄液槽８２内に配置されることで、その目詰まりが防止され、常に清浄なブレードクリーナー８３でワイピングブレード８１をブラッシング洗浄することができる。なお、ブラシ体１５２の代わりに円筒状のスポンジ体を用いても良い。さらに、ブラッシング処理は、ワイピングブレード８１を固定としブレードクリーナー８３を可動（回転又は往復動）とする場合と、ブレードクリーナー８３を固定としワイピングブレード８１を周回機構８４により可動とする場合とのいずれであってもよい。ワイピングブレード８１を固定とする場合には、ブレード保持ドラム１０１に対応する円弧状ベースにブラシ体１５２を植設することが、好ましい。
【００５２】
洗浄液槽８２は、ステンレス等で形成された直方体形状の開放タンクであり、上端部にはブレード固定ドラム１０１が望む上端開口部が形成されている。なお、請求項に言うワイピング領域はワイピングブレード８１が機能液滴吐出ヘッド１７の直下に位置する領域であり、洗浄領域はワイピングブレード８１が洗浄液槽８２に浸漬される領域である。
洗浄液供給手段に連なる補給液パイプ１２２には、電磁弁が介設される一方、洗浄液槽８２の上部には洗浄液の液位を検出する液面検出センサ１２３が設けられている。電磁弁１２４および液面検出センサ１２３は、制御装置５に接続されており、液面検出センサ１２３が所定の液位の下限を検出した場合には電磁弁１２４が開弁し、上限を検出した場合には閉弁する。これにより、蒸発等により洗浄液が目減りしても液位を一定に保つように洗浄液を補給することができる。
【００５３】
洗浄液排出手段は、洗浄液槽８２の直下においてベースプレート１１１上に配設した廃液タンク１３４と、洗浄液槽８２と廃液タンク１３４とを接続するドレインパイプ１３２と、ドレインパイプ１３２に介設したドレインバルブ１３３とから構成されている。常時「閉」のドレインバルブ１３３を開弁することにより洗浄液の排出が可能となっている。
なお、本実施形態では採用してないが、フィルタを通して洗浄液を循環させる循環機構を備えても良い。この構成により、汚れた洗浄液をフィルタで濾過することができ一定の洗浄力を保つと共に、汚れの再付着を防止することができる。この構成により、洗浄液の交換回数も削減できランニングコストを減らすことが可能である。
また、ドレインバルブ１３３を電磁弁で構成すると共に制御装置５を接続し、かつ洗浄液槽８２内部に制御装置５に接続された濃度計を設置し、所定の濃度を検出した場合に装置をＯＦＦとしドレインバルブ１３３が自動的に開弁するようにしてもよい。なお、周回機構８４の駆動軸等の貫通部分は適宜シールされていることは言うまでもない。
【００５４】
以下、第１実施形態のワイピング動作について説明する。ワイピングブレード８１の初期状態では、３個のうち２個のワイピングブレード８１は洗浄液内に、残りの１個のワイピングブレード８１は最上部にそれぞれ待機している。また、昇降シリンダ１１２は昇降プレート１１３を下降端位置（離間位置）で支持している。この状態から、制御装置５からワイプ指令が発令されると、モータ１０２が駆動して、ブレード保持ドラム１０１を１２０度回転させ、洗浄液内に待機している先行するワイピングブレード８１を、ほぼ最上部にくる位置まで周回移動させる。上記動作と並行して、昇降シリンダ１１２が駆動し、昇降プレート１１３を介して、先行するワイピングブレード８１の先端部を、ワイピング処理できる高さまで上昇させる。
【００５５】
次に、Ｙ軸テーブル１３が駆動し、吸引装置６１上に待機している機能液滴吐出ヘッド１７を、ワイピングブレード８１上を通過するように図示の矢印方向に移動させる。これにより機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面５３がワイピングブレード８１に摺接することでワイピング処理が行われる。上記動作は、洗浄液がワイピングブレード８１に付着したまま行われるため、ノズル面５３に付着した汚れを掻き取るワイピング処理が良好になされる。ノズル面５３の後端がワイピングブレード８１を通過した機能液滴吐出ヘッド１７は描画エリア９１に向かって移動する一方、昇降シリンダ１１２は昇降プレート１１３を下降端位置まで下降させる。昇降シリンダ１１２の下降が開始されると、ブレード保持ドラム１０１が再度１２０度回転し、後行するワイピングブレード８１が最上部に臨むと共に、処理後のワイピングブレード８１が洗浄液内に入り、次のワイプ指令まで待機する。ワイピングブレード８１が洗浄液中で待機することにより、ブレードクリーナー８３でブラッシング洗浄処理した場合に汚れが落ちやすくなる。
【００５６】
また、ブレード保持ドラム１０１の再回転と同時に、ブレードクリーナー８３が回転を開始し、ここで、ブレードクリーナー８３が移動中のワイピングブレード８１に回転接触し、付着した汚れを掻き落すことでブラッシング洗浄処理が行われる。そして、各ワイピングブレード８１が１２０度回転したところでブレード保持ドラム１０１およびブレードクリーナー８３の回転を停止する。このように、３個のワイピングブレード８１によりワイピング処理および洗浄処理が同時併行的に行われる。なお、本実施形態では、ワイピングブレード８１が停止した状態でワイピング処理されるが、機能液滴吐出ヘッド１７の移動に対してワイピングブレード８１を相対的に周回運動させることでワイピング処理しても良い（この方式における好適な実施形態は後に記す）。
【００５７】
次に、図７を参照して、第２実施形態に係るワイピング装置６２について説明する。この実施形態では、第１実施形態のブレードクリーナー８３に代えて、ワイピングブレード８１に洗浄液を吹き付ける洗浄液吹付け装置８９が設けられている。洗浄液吹付け装置８９は、ワイピングブレード８１に洗浄液を吹き付ける洗浄液ノズル１４１と、洗浄液ノズル１４１に洗浄液を送液する送液ポンプ１４３（送液手段）と、送液ポンプ１４３の吐出側と洗浄液ノズル１４１とを接続する送液パイプ１４２と、送液ポンプ１４３の吸引側と洗浄液槽８２とを接続する吸引パイプ１４５と、吸引パイプ１４５に介設したフィルタ１４４と、から構成されている。
【００５８】
洗浄液ノズル１４１は、洗浄液槽８２内において、ワイピングブレード８１に対峙するように配設され、洗浄液槽８２外に設けた送液ポンプ１４３から延びる送液パイプ１４２が洗浄液槽８２を貫通して洗浄液ノズル１４１に接続されている。洗浄液ノズル１４１は、直下位置に移動中のワイピングブレード８１に洗浄液を吹き付けるようになっており、ワイピングブレード８１の吹き付け洗浄と洗浄液槽８２内の洗浄液の攪拌とを行う。このように洗浄液中で洗浄液を吹き付けるので、洗浄液が飛び散ることが無い。また、攪拌された洗浄液はフィルタ１４４で濾過されるので一定の洗浄力を保つと共に、汚れの再付着を防止することができる。これにより、洗浄液の交換回数も削減できランニングコストを減らすことが可能である。この場合、更にブレードクリーナー８３を備えて洗浄力を高めても良い。また、洗浄液ノズル１４１は、スリット状のものであってもよいし、アレイ状のものであってもよい。なお、図８に示すように洗浄液ノズル１４１の吹き付け位置は、洗浄液槽８２内に限らず洗浄液槽８２外でも良い。かかる場合には、洗浄液槽８２の上開口部を広くし洗浄液ノズル１４１をいくぶん下向きに傾け、洗浄液を吹き付けることが好ましい。さらに送液ポンプ１４３の代わりにイジェクターを採用しても良い。
【００５９】
このように構成されたワイピング装置６２は、ワイピング処理については第１実施形態と同様であるが、洗浄処理では、ワイピング処理を終えて、ブレード保持ドラム１０１が回転を開始すると同時に送液ポンプ１４３が駆動し、移動中のワイピングブレード８１に洗浄液ノズル１４１から洗浄液を吹き付ける。洗浄液ノズル１４１からワイピングブレード８１に洗浄液が吹き付けられると、この吹き付けの水勢によりワイピングブレード８１の汚れが吹きはらわれ洗浄が行われる。
【００６０】
次に、図９に示す第３実施形態に係るワイピング装置６２について説明する。この実施形態では、周回機構８４が、外周面に３個のワイピングブレード８１を等間隔に装着されたブレード保持ベルト１０５（ブレード保持部材）と、ブレード保持ベルト１０５が掛け渡された上側の従動動プーリ１０６および下側の駆動プーリ１０７と、両プーリ１０６、１０７およびブレード保持ベルト１０５を介してワイピングブレード８１を周回運動させるモータ１０２と、モータ１０２の駆動力を駆動プーリ１０７およびブレードクリーナー８３に伝達する減速伝達部１０３（動力伝達機構）と、から構成されている。
【００６１】
従動プーリ１０６は、機能液滴吐出ヘッド１７の真下に位置して、昇降プレート１１３に立設した支柱（図示せず）に回転自在に軸支される一方、駆動プーリ１０７は、洗浄液槽８２内に配設されており、両プーリ１０６、１０７は、洗浄液槽８２の設置スペースを考慮し鉛直方向に十分に離間して配設されている。自由回転する従動プーリ１０６と共に、駆動プーリ１０７は、減速伝達部１０３から伝達された回転動力によりワイピングブレード８１を周回運動させる。この場合、ブレードクリーナー８３の代わりに洗浄液吹付け装置８９を備えても良いし、ブレードクリーナー８３および洗浄液吹付け装置８９を共に備えても良い。また、ワイピングブレード８１とブレード保持ベルト１０５とを一体に成形してもよい。
【００６２】
このように構成されたワイピング装置６２では、ワイピングブレード８１が１個は洗浄液内に、１個は最上部に、残りの１個は両プーリ１０６、１０７の中間部にそれぞれ待機している。この状態からワイプ指令が発令されるとブレード保持ベルト１０５が１／３周ずつ送り出され第１実施形態と同様にワイピング処理および洗浄処理が行われる。
【００６３】
次に、図１０に示す第４実施形態に係るワイピング装置６２について説明する。この実施形態では、周回機構８４が、外周面に４個のワイピングブレード８１を等間隔に装着されたブレード保持ベルト１０５（ブレード保持部材）と、ブレード保持ベルト１０５が掛け渡された上側の一対の従動プーリ１０６および下側の駆動プーリ１０７と、各プーリ１０６、１０７およびブレード保持ベルト１０５を介してワイピングブレード８１を周回運動させるモータ１０２と、モータ１０２の駆動力を駆動プーリ１０７およびブレードクリーナー８３に伝達する減速伝達部１０３（動力伝達機構）と、から構成されている。
【００６４】
一対の従動プーリ１０６は、機能液滴吐出ヘッド１７の真下に位置して、昇降プレート１１３に立設した支柱（図示せず）に回転自在に軸支される一方、駆動プーリ１０７は、洗浄液槽８２内に配設されており、一対の従動プーリ１０６は、水平方向に離間して配設され、従動プーリ１０６と駆動プーリ１０７とは鉛直方向に十分に離間して配設されている。自由回転する従動プーリ１０６と共に、駆動プーリ１０７は、減速伝達部１０３から伝達された回転動力により洗浄液に浸漬しているワイピングブレード８１を周回運動させる。各プーリ１０６、１０７の離間寸法は洗浄液槽８２の設置スペースを考慮して設定される。この場合、ブレードクリーナー８３の代わりに洗浄液吹付け装置８９を備えても良いし、ブレードクリーナー８３および洗浄液吹付け装置８９を共に備えても良い。また、ワイピングブレード８１とブレード保持ベルト１０５とを一体に成形してもよい。
【００６５】
このように構成されたワイピング装置６２は、ワイピングブレード８１の初期位置は、２個は洗浄液内に、残りの２個は最上部にそれぞれ待機している。この状態からワイプ指令が発令されるとブレード保持ベルト１０５を１／２周ごとに送り出して、２個のワイピングブレード８１で第１実施形態と同様にワイピング処理を連続的に行うと共に残りの２個のワイピングブレード８１で洗浄処理が同時併行的に行われる。
【００６６】
なお、機能液滴吐出ヘッド１７を停止させた状態でワイピングブレード８１を連続的に周回運動させてもよい。この場合には、昇降プレート１１３が上昇端位置に固定され、ワイピングブレード８１の先端部が、ノズル面５３をワイピング処理できる高さに達した状態で、ワイピング処理を連続的に行う。そして、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面５３の長さに対応して両従動プーリ１０６，１０６間の距離が決定される。
【００６７】
以上説明したとおり、このワイピング装置６２によれば、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面５３をワイピング処理すると共に、ワイピング処理後のワイピングブレード８１を洗浄処理することができ、高いワイピング性能を維持したままワイピング処理を行うことができ、かつワイピングブレード８１を繰り返し使用できるため消耗品を削減することができる。また、簡易な構成であるため装置の小型化を実現することが可能である。
【００６８】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、さらにこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、および薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板をいう。
【００６９】
まず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図１１は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１２は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図１２（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【００７０】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図１２（ｂ）に示すように、基板５０１およびブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図１２（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド１７により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【００７１】
以上のブラックマトリクス形成工程およびバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置のばらつきを自動補正できる。
【００７２】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図１２（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド１７によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００７３】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図１２（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【００７４】
図１２は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図１２に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００７５】
この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、および、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【００７６】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図１２において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【００７７】
液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００７８】
通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【００７９】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。
【００８０】
図１３は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【００８１】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。
【００８２】
液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００８３】
図１５は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【００８４】
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。
【００８５】
対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１および信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【００８６】
また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【００８７】
なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【００８８】
次に、図１６は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。
【００８９】
この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３および陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されると共に、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【００９０】
回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。
【００９１】
また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。
【００９２】
そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。
【００９３】
このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。
【００９４】
上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３および機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、および、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。
【００９５】
バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。
【００９６】
上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層をさらに形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成することも可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【００９７】
発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、または青色（Ｂ）のいずれかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。
【００９８】
そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【００９９】
陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１００】
次に、上記の表示装置６００の製造工程を図１７〜図２５を参照して説明する。
この表示装置６００は、図１７に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、および対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１０１】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図１８に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図１９に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。
【０１０２】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理および撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａおよび画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓおよび有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば四フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１０３】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図２に示した液滴吐出装置１のセットテーブル２２に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）および発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【０１０４】
図２０に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド１７から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図２１に示すように、乾燥処理および熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入／輸送層６１７ａを形成する。
【０１０５】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒並びに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。
【０１０６】
そして次に、図２２に示すように、各色のうちのいずれか（図２２の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。
【０１０７】
その後、乾燥工程等を行うことにより、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２３に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。
【０１０８】
同様に、機能液滴吐出ヘッド１７を用い、図２４に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決めることも可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１０９】
以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【０１１０】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図２５に示すように、発光層６１７ｂおよび有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１１１】
このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。
【０１１２】
次に、図２６は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、およびこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１１３】
第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。
【０１１４】
放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。
【０１１５】
第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、およびＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１１６】
本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、および蛍光体７０９を、図２に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１のセットテーブル２２に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド１７により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、またはニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１１７】
補充対象となるすべてのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。
【０１１８】
ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１および蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド１７から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。
【０１１９】
次に、図２７は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、およびこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。
【０１２０】
第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１２１】
第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１２２】
そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１２３】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１２４】
第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図２８（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２８（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１２５】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】液滴吐出装置の平面模式図である。
【図２】機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。
【図３】第１実施形態に係るワイピング装置の正面模式図である。
【図４】第１実施形態に係るワイピング装置の側面模式図である。
【図５】（ａ）〜（ｃ）は、ワイピングブレードの断面図である。
【図６】回転体にブレード固定バンドを装着した正面図である。
【図７】第２実施形態に係るワイピング装置の正面模式図である。
【図８】洗浄液吹付け装置を外部に設けた第２実施形態に係るワイピング装置の正面模式図である。
【図９】第３実施形態に係るワイピング装置の正面模式図である。
【図１０】第４実施形態に係るワイピング装置の正面模式図である。
【図１１】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図１２】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図１３】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１４】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１５】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１６】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図１７】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図１８】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１９】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図２０】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２１】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２２】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２３】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２４】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２５】陰極の形成を説明する工程図である。
【図２６】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図２７】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図２８】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１２７】
１…液滴吐出装置 １７…機能液滴吐出ヘッド ５３…ノズル面 ６２…ワイピング装置 ８１…ワイピングブレード ８２…洗浄液槽 ８３…ブレードクリーナー ８４…周回機構 １０１…ブレード固定ドラム（回転ドラム） １０２…モータ（アクチュエータ） １０３…減速伝達部（動力伝達機構） １０５…ブレード保持ベルト（ブレード保持部材） １０６…上段プーリ １０７…下段プーリ １０８…ブレード保持バンド（ブレード保持部材） １０９…回転体 １４１…洗浄液ノズル １４３…送液ポンプ ５０８…着色層 Ｗ（ワーク）…基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェットヘッドに代表される機能液滴吐出ヘッドのノズル面をワイピングするワイピング装置および液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種のワイピング装置として、機能液滴吐出ヘッドのノズル面を清掃用布により払拭洗浄する装置（クリーニング装置）が知られている。この装置では、繰出しリールから繰出し自在に繰出され、巻取りリールに巻取り自在に巻回される清掃用布が、両リール間に位置し洗浄液を吐出すると共に所定の間隙を存して配設された複数の吐出ゴム部の上面に張られており、この吐出ゴム部に位置して清掃用布に機能液滴吐出ヘッドのノズル面を当接させ、この状態で清掃用布を水平移動することで、汚れを除去するようにしている。（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００１−１７１１３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記従来の装置では、機能液滴吐出ヘッドのノズル面の払拭に清掃用布を用いているため、ゴミ、ケバが発生すると共に、汚れた清掃用布はそのまま消耗品として廃棄されるため、交換作業が煩雑であり、かつランニングコストがかさむ問題があった。
【０００４】
本発明は、消耗品を極力少なくすることができると共に、高いワイピング性能を維持することができるワイピング装置を、またこれを備える液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することをその課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明のワイピング装置は、機能液滴吐出ヘッドのノズル面をワイピング処理するワイピングブレードと、ワイピングブレードを洗浄処理する洗浄手段と、ワイピングブレードを、ワイピング処理のためのワイピング領域と洗浄処理のための洗浄領域との間で、周回運動させる周回機構と、を備えたことを特徴とする。
【０００６】
この構成によれば、周回機構により、ワイピングブレードをワイピング領域に移動させてノズル面をワイピング処理すると共に、ワイピング後の汚れたワイピングブレードを洗浄領域に移動させ洗浄手段により洗浄処理する。この洗浄処理により、汚れが付着していないワイピングブレードで機能液滴吐出ヘッドのノズル面をワイピングすることができ、かつワイピングブレードを繰り返し使用することができる。したがって、消耗品を極力少なくすることができると共に、高いワイピング性能を維持することができる。また、簡易な構成であるため装置の小型化を実現することができる。さらに、ワイピングブレードはゴムや樹脂で形成されかつ、常に洗浄されるのでゴミ、ケバ等が発生することが無い。なお、ワイピングブレードは等間隔に複数設けることが好ましい。このようにすれば、ワイピング処理と洗浄処理を同時並行で行うことが可能となる。
【０００７】
この場合、周回機構は外周面にワイピングブレードが設けられ、ワイピングブレードを周回運動させる回転ドラムと、回転ドラムの駆動源となるアクチュエータと、アクチュエータの駆動力を回転ドラムに伝達する動力伝達機構と、を有していることが、好ましい。
【０００８】
この構成によれば、単純な構造で周回機構を構成することが可能である。また、回転ドラムを用いることで、回転ドラムの外周面に汚れが付着しても、ワイピングブレードと共に汚れを簡単に洗浄することができる。
【０００９】
この場合、ワイピングブレードは、回転ドラムの外周面に着脱自在に装着されていることが、好ましい。
【００１０】
この構成によれば、ワイピングブレードが劣化した場合等において対象となるワイピングブレードのみを交換すればよく、メンテナンス作業が容易である。
【００１１】
この場合、周回機構は、外周面にワイピングブレードが設けられたバンド状のブレード保持部材と、外周面にブレード保持部材が装着され、ブレード保持部材を介してワイピングブレードを周回運動させる回転体と、回転体の駆動源となるアクチュエータと、アクチュエータの駆動力を回転体に伝達する動力伝達機構と、を有していることが、好ましい。
【００１２】
この構成によれば、ブレード保持部材を着脱することができるため、ワイピングブレードが劣化した場合等において対象となるワイピングブレードをブレード保持部材と共に交換すればよく、メンテナンス作業が容易である。
【００１３】
この場合、周回機構は、外周面にワイピングブレードが設けられたベルト状のブレード保持部材と、ブレード保持部材が掛け渡され、ブレード保持部材を介してワイピングブレードを周回運動させる一対のプーリと、プーリの駆動源となるアクチュエータと、アクチュエータの駆動力を一対のプーリのいずれか一方に伝達する動力伝達機構と、を有しているが、好ましい。
【００１４】
この構成によれば、ブレード保持部材が一対のプーリに掛け渡されているため、ワイピング領域と洗浄領域との離間距離を十分とることができ、十分な作業領域を確保すると共に、ベルト状のブレード保持部材の長さにより洗浄手段の配置の自由度を高めることができる。
【００１５】
この場合、ワイピングブレードとブレード保持部材は、一体に成形されているが、好ましい。
【００１６】
この構成によれば、ブレード保持部材を簡単に作製することができると共に、部品点数および組立て工数を削減することができる。
【００１７】
この場合、洗浄手段は、洗浄液を満たすと共に、洗浄領域に移動したワイピングブレードが洗浄液に浸漬される洗浄液槽で、構成されていることが、好ましい。
【００１８】
この構成によれば、ワイピングブレードを洗浄液に浸漬することにより、汚れ（機能液）の溶解が促進されワイピングブレードを良好に洗浄することができる。
【００１９】
この場合、洗浄液に浸漬されたワイピングブレードに接触し、ワイピングブレードをブラッシング処理するブレードクリーナーを、更に備えたことが、好ましい。
【００２０】
この構成によれば、ワイピングブレードをブラッシング洗浄により、強固な汚れを掻き落とすことができ、より一層ワイピングブレードを良好に洗浄することができる。なお、ブレードクリーナーの掻き取り面はブラシ状でも、スポンジ状でも良い。さらに、ブラッシング処理は、ワイピングブレードを固定としブレードクリーナーを可動（回転又は往復動）とする場合と、ブレードクリーナーを固定としワイピングブレードを周回機構により可動とする場合とのいずれであっても良い。
【００２１】
この場合、洗浄手段は、ワイピングブレードに洗浄液を吹き付ける洗浄液ノズルと、洗浄液槽を供給源として洗浄液ノズルに洗浄液を送液する送液手段と、を有していることが、好ましい。
【００２２】
この構成によれば、ワイピングブレードに対し、洗浄液ノズルから洗浄液を吹き付けることにより、ワイピングブレードに付着した汚れを吹き飛ばすことができ、より効果的にワイピングブレードの洗浄を行うことができる。また、洗浄液槽から洗浄液を汲み取って吹き付けているため、別途タンクを設ける必要がなく、かつ洗浄液を有効活用することができる。なお、送液手段はポンプでも，イジェクターでも良い。さらに、洗浄液ノズルは、洗浄液内に設けても、洗浄液外に設けても良い。
【００２３】
この場合、ワイピング処理は、機能液吐出ヘッドに対しワイピングブレードを相対的に移動させることにより行われ、少なくともワイピングブレードの先端部は、移動方向に傾いていることをが、好ましい。
【００２４】
この構成によれば、ワイピングブレードの撓み量が小さくなり、汚れを掻き取り易い角度でノズル面に接触させることができる。このため、ノズル面に付着した汚れを確実に払拭することができる。
【００２５】
この場合、ワイピング処理は、機能液吐出ヘッドに対しワイピングブレードを相対的に移動させることにより行われ、少なくともワイピングブレードの先端部は、複数に分岐して形成され、移動方向に対して順に並んでいることが、好ましい。
【００２６】
この構成によれば、ワイピングブレードに設けられた複数の先端部により、ノズル面を連続的に払拭することができる。すなわち先行する分岐部により汚れが残っても後行する分岐部で汚れをとることができ確実に払拭することができる。
【００２７】
本発明の液滴吐出装置は、上記したワイピング装置と、ワークに対し、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら機能液滴を吐出して描画を行う描画装置と、を備えたことを特徴とする
【００２８】
この構成によれば、定期的なワイピングブレードの洗浄および交換作業が不要になるため、装置の稼働停止時間を短縮することができ、生産性を向上させることができる。また、機能液滴吐出ヘッドのノズル面を汚れの無い状態に維持することができ、機能液滴吐出ヘッドの吐出性能を安定に維持することができる。
【００２９】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液による成膜部を形成することを特徴とする。
【００３０】
また、本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００３１】
これらの構成によれば、非消耗品で清浄に管理されたワイピングブレードにより、機能液滴吐出ヘッドを常に正常に保つことができる。液滴吐出装置により製造することで、ワークの生産性を向上させることができる。なお、電気光学装置（フラットパネルディスプレイ：ＦＰＤ）としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）やＳＥＤ（Surface-conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００３２】
本発明の電子機器は、上記した電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または上記した電気光学装置に搭載したことを特徴とする。
【００３３】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータのほか、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下、添付の図面を参照して、本発明の実施形態に係るワイピング装置およびこれを備える液滴吐出装置について説明する。液滴吐出装置は、フラットパネルディスプレイの製造ラインに組み込まれるものであり、インクジェットヘッドである機能液滴吐出ヘッドを用いた印刷技術（インクジェット法）により、液晶表示装置のカラーフィルタや有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子等を形成するものである。
【００３５】
図１に示すように、液滴吐出装置１は、機台２と、機台２上の全域に広く載置され、Ｒ・Ｇ・Ｂ３個の機能液滴吐出ヘッド１７を搭載した描画装置３と、機台２上で描画装置３に添設された吸引装置６１およびワイピング装置６２とから成るメンテナンス装置４とを備え、メンテナンス装置４により機能液滴吐出ヘッド１７のメンテナンス処理（機能維持・回復）を行うと共に、描画装置３により基板Ｗ（ワーク）上に機能液を吐出させる描画動作を行うようにしている。また、液滴吐出装置１は、各構成部品へ駆動・制御用の圧縮エアーを供給するエアー供給装置（図示省略）や、パソコン等で構成され、液滴吐出装置１の各部を制御する制御装置５（図３参照）を、備えている。
【００３６】
描画装置３は、Ｘ軸テーブル１２およびＸ軸テーブル１２に直交するＹ軸テーブル１３から成るＸＹ移動機構１１と、Ｙ軸テーブル１３に移動自在に取り付けられたキャリッジ１４と、キャリッジ１４に垂設したヘッドユニット１５とを有している。そして、ヘッドユニット１５には、機能液滴吐出ヘッド１７が搭載されている。一方、基板Ｗは、Ｘ軸テーブル１２の端部に臨む一対の基板認識カメラ（図示省略）により、Ｘ軸テーブル１２に位置決めされた状態で搭載されている。
【００３７】
Ｘ軸テーブル１２は、Ｘ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＸ軸スライダ２１を有し、これに吸着テーブル２３および基板θテーブル２４等から成るセットテーブル２２を移動自在に搭載して、構成されている。同様に、Ｙ軸テーブル１３は、Ｙ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＹ軸スライダ３１を有し、これに上記のキャリッジ１４を介してヘッドユニット１５を移動自在に搭載して、構成されている。Ｘ軸テーブル１２は、機台２上に直接支持される一方、Ｙ軸テーブル１３は、機台２上に立設した左右の支柱３２に支持されており、Ｘ軸テーブル１２とメンテナンス装置４とを跨ぐように延在している。
【００３８】
そして、Ｙ軸テーブル１３は、これに搭載したヘッドユニット１５を、Ｘ軸テーブル１２の直上部に位置する描画エリア９１と、メンテナンス装置４の直上部に位置するメンテナンスエリア９２との相互間で、適宜移動させる。すなわち、Ｙ軸テーブル１３は、Ｘ軸テーブル１２に導入した基板Ｗに描画動作を行う場合には、ヘッドユニット１５を描画エリア９１に臨ませ、機能液滴吐出ヘッド１７のメンテナンス処理を行う場合には、ヘッドユニット１５をメンテナンスエリア９２に臨ませる。
【００３９】
ヘッドユニット１５は、３個の機能液滴吐出ヘッド１７と、これを位置決めして装着するヘッドプレート１６と、から構成されている。３個の機能液滴吐出ヘッド１７は、ヘッドプレート１６を介してキャリッジ１４に搭載されている。
図２に示すように、各機能液滴吐出ヘッド１７は、インクジェット方式で機能液を吐出するものであって、機能液滴吐出ヘッド１７に機能液を供給する２連の接続針４２と、接続針４２を有する機能液導入部４１と、機能液導入部４１の側方に連なり、制御装置５に接続される２連のコネクタ５６を備えるヘッド基板４３と、機能液導入部４１の下方（同図では上方）に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体４４とを備えている。
ヘッド本体４４は、ピエゾ素子等で構成されたポンプ部５１と、２本のノズル列５４を相互に平行に形成したノズル面５３を有するノズルプレート５２と、を更に備えている。各ノズル列５４は、複数の吐出ノズル５５が等ピッチで並べられて構成されている。そして、コネクタ５６を介してポンプ部５１に駆動波形を印加することにより、各吐出ノズル５５から機能液が吐出される。
【００４０】
このように構成された描画装置３は、基板Ｗを載置したセットテーブル２２がＸ軸方向に移動するのに同期して、機能液滴吐出ヘッド１７を駆動させて基板Ｗに機能液を吐出して主走査を行う。次にＹ軸方向にヘッドユニット１５が移動しＹ軸方向の副走査を行う。その後、基板ＷをＸ軸方向に復動させ、同期して機能液滴吐出ヘッド１７を駆動することで再度主走査を行う。以上の動作を繰り返し行うことで基板Ｗに所望の描画を行う。
【００４１】
図１に示すように、メンテナンス装置４は、機能液滴吐出ヘッド１７の吐出ノズル５５から機能液を吸引する吸引装置６１と、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面５３に付着した機能液等の汚れをワイピング処理により除去するワイピング装置６２と、を備えている。吸引装置６１とワイピング装置６２とは、Ｙ軸テーブル１３によるヘッドユニット１５の移動軌跡上に設けられており、Ｙ軸テーブル１３により、吸引装置６１、ワイピング装置６２の直上部に機能液滴吐出ヘッド１７を臨ませることができるようになっている。ワイピング装置６２は、吸引装置６１と描画装置３との間に配設されており、ヘッドユニット１５は、吸引装置６１の吸引動作の後ワイピング装置６２に臨み、ここでワイピング処理を行った後、描画装置３に導入される。
【００４２】
吸引装置６１は、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面５３をキャッピングするヘッドキャップ７１と、機能液滴吐出ヘッド１７の吐出ノズル５５からヘッドキャップ７１を介して機能液を吸引する吸引ポンプと、ヘッドキャップ７１を昇降させるキャップ昇降機構と、を備えている。キャップ昇降機構によりヘッドキャップ７１を上昇させノズル面５３に当接させておいて、吸引ポンプにより機能液滴吐出ヘッド１７から機能液を吸引することにより、吐出ノズル５５をクリーニングする。
【００４３】
次に、図３および図４を参照して第１実施形態に係るワイピング装置６２について説明する。ワイピング装置６２は、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面５３をワイピング処理する３個のワイピングブレード８１と、各ワイピングブレード８１を突設したブレード保持ドラム１０１（回転ドラム）を有し、ブレード保持ドラム１０１を介してワイピングブレード８１を周回運動させる周回機構８４と、洗浄液を満し、ワイピングブレード８１が浸漬される洗浄液槽８２と、洗浄液槽８２に配設され、ワイピングブレード８１をブラッシング処理するブレードクリーナー８３と、上記装置主要部を一体として昇降させるワイピング昇降機構８５と、から構成されている。また、洗浄液槽８２の側面には、図外の洗浄液供給手段に連なる補給液パイプ１２２が接続され、下面には、後述する廃液タンク１３４に連なるドレインパイプ１３２が接続されている。
【００４４】
ワイピング昇降機構８５は、ベースとなるベースプレート１１１と、ベースプレート１１１の中央に載置された昇降シリンダ１１２と、上部に洗浄液槽８２、ブレードクリーナー８３および周回機構８４等からなる装置主要部を昇降自在に支持する昇降プレート１１３と、ベースプレート１１１の四隅に立設され、昇降プレート１１３の上下方向のスライドをガイドする４本（同図では２本のみ図示）の昇降ガイド１１４と、から構成されている。各昇降ガイド１１４の上端部には昇降プレート１１３の上昇端位置を規制する度当りブロック１１５が設けられており、昇降プレート１１３が上昇端位置に上昇した状態で、ワイピングブレード８１が機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面５３に接触するようになっている。また、昇降プレート１１３には、４本の昇降ガイド１１４が挿通される４つのガイド孔およびドレインパイプ１３２が遊挿される挿通開口が形成されている。
【００４５】
ワイピングブレード８１は、ゴムや樹脂等の可撓性材料で成形され、ブレード保持ドラム１０１の外周面に着脱自在に装着され、かつ複数（本実施形態では３個）の機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面５３を一度にワイピング処理できるように軸方向に十分なワイピング幅を有している（図４参照）。ノズル面５３に接するワイピングブレード８１の先端部は、鋭角となるように形成されており、かつ機能液滴吐出ヘッド１７の移動方向に対して逆方向に屈曲している（図５（ａ）参照）。一方、ワイピングブレード８１の下端は、断面蟻形の凸状部が軸方向に延在するように形成されている。
【００４６】
また、図５（ｂ）に示すようにワイピングブレード８１の先端部を、機能液滴吐出ヘッド１７の移動方向に対し屈曲させることなく、垂直に形成してもよい。また、図５（ｃ）に示すようにワイピングブレード８１の先端部を機能液滴吐出ヘッド１７の移動方向に対し、二股に形成してもよい。これにより、連続的にノズル面５３をワイピング処理することができる。そして、この場合には、先行する第１ブレード部を同図（ａ）のように屈曲させ、後行する第２ブレード部を同図（ｂ）のように垂直に形成すること、が好ましい。すなわち、先行する第１ブレード部でノズル面５３の汚れを掻き残した場合でも、第２ブレード部で確実に掻き取ることができる。なお、本実施形態のワイピングブレード８１は、複数のノズル面５３を一度にワイピング処理できるノズル幅を有するが、これを分割した複数の分割ブレードで構成してもよい。これにより、一部の分割ブレードが破損した場合でも該当する分割ブレードを交換することができる。
【００４７】
周回機構８４は、外周面に３個のワイピングブレード８１が等間隔に装着したブレード保持ドラム１０１と、ブレード保持ドラム１０１を介してワイピングブレード８１を周回運動させるモータ１０２（アクチュエータ）と、モータ１０２の出力軸に接続され、モータ１０２の出力をブレード保持ドラム１０１およびブレードクリーナー８３にそれぞれ伝達する減速伝達部１０３（動力伝達機構）と、から構成されている。
【００４８】
ブレード保持ドラム１０１は、ドラム本体とドラム本体が軸着されたドラム軸とから成り、ドラム軸で減速伝達部１０３に連結されている。ドラム本体の外周面には、周方向に等間隔かつ軸方向に延在するように３つの蟻溝が形成されている。この蟻溝にワイピングブレード８１の凸状部が軸方向からスライド係合することで、各ワイピングブレード８１がブレード保持ドラム１０１に着脱自在かつ抜け止め状態で装着されている。なお、本実施形態では、ワイピングブレード８１と共にブレード保持ドラム１０１の一部も洗浄液槽８２に浸漬されるためブレード保持ドラム１０１の外周面に汚れが付着しても、ワイピングブレード８１と共に汚れを簡単に洗浄することができる。
【００４９】
なお、図６に示すように、ドラム本体の代わりにバンド状のブレード保持バンド（ブレード保持部材）１０８とブレード保持バンド１０８を装着したドラム形状の回転体１０９で代用してもよい。この場合、ブレード保持バンド１０８と３個のワイピングブレード８１とは一体に形成されており、一体として回転体１０９に装着（着脱自在）するようになっている。ワイピングブレード８１が劣化した場合等において、対象となるワイピングブレード８１をブレード保持バンド１０８と共に交換することができ、メンテナンスが容易である。
【００５０】
減速伝達部１０３は、ギアボックス内に複数のギアから成る減速ギア列を有し、モータ１０２から出力された回転動力の回転方向および回転数を調整してブレード固定ドラム１０１およびブレードクリーナー８３に伝達する。すなわち、モータ１０２の回転に同期して、ブレード保持ドラム１０１とブレードクリーナー８３とが同時に回転するようになっている。もっとも、モータ１０２の正転および逆転で切替わるクラッチを内蔵し、モータ１０２の正転時にブレード保持ドラム１０１を回転させ、逆転時にブレードクリーナー８３を回転させるようにしてもよい。なお、減速伝達部１０３は、ベルトを用いた巻掛伝導機構としてもよい。
【００５１】
ブレードクリーナー８３は、ドラム形状のクリーナー本体１５１と、クリーナー本体１５１の外周面に植設したブラシ体１５２と、クリーナー本体１５１が軸着されると共に、減速伝達部１０３に連結された駆動軸と、から構成されており、洗浄液で満たされた洗浄液槽８２内において、ワイピングブレード８１の先端部に接する位置に配置されている。ワイピングブレード８１に接した状態でモータ１０２の駆動力を受けブレードクリーナー８３が回転することで、ワピイングブレード８１のブラッシング洗浄が行われる。また、ブレードクリーナー８３が洗浄液槽８２内に配置されることで、その目詰まりが防止され、常に清浄なブレードクリーナー８３でワイピングブレード８１をブラッシング洗浄することができる。なお、ブラシ体１５２の代わりに円筒状のスポンジ体を用いても良い。さらに、ブラッシング処理は、ワイピングブレード８１を固定としブレードクリーナー８３を可動（回転又は往復動）とする場合と、ブレードクリーナー８３を固定としワイピングブレード８１を周回機構８４により可動とする場合とのいずれであってもよい。ワイピングブレード８１を固定とする場合には、ブレード保持ドラム１０１に対応する円弧状ベースにブラシ体１５２を植設することが、好ましい。
【００５２】
洗浄液槽８２は、ステンレス等で形成された直方体形状の開放タンクであり、上端部にはブレード固定ドラム１０１が望む上端開口部が形成されている。なお、請求項に言うワイピング領域はワイピングブレード８１が機能液滴吐出ヘッド１７の直下に位置する領域であり、洗浄領域はワイピングブレード８１が洗浄液槽８２に浸漬される領域である。
洗浄液供給手段に連なる補給液パイプ１２２には、電磁弁が介設される一方、洗浄液槽８２の上部には洗浄液の液位を検出する液面検出センサ１２３が設けられている。電磁弁１２４および液面検出センサ１２３は、制御装置５に接続されており、液面検出センサ１２３が所定の液位の下限を検出した場合には電磁弁１２４が開弁し、上限を検出した場合には閉弁する。これにより、蒸発等により洗浄液が目減りしても液位を一定に保つように洗浄液を補給することができる。
【００５３】
洗浄液排出手段は、洗浄液槽８２の直下においてベースプレート１１１上に配設した廃液タンク１３４と、洗浄液槽８２と廃液タンク１３４とを接続するドレインパイプ１３２と、ドレインパイプ１３２に介設したドレインバルブ１３３とから構成されている。常時「閉」のドレインバルブ１３３を開弁することにより洗浄液の排出が可能となっている。
なお、本実施形態では採用してないが、フィルタを通して洗浄液を循環させる循環機構を備えても良い。この構成により、汚れた洗浄液をフィルタで濾過することができ一定の洗浄力を保つと共に、汚れの再付着を防止することができる。この構成により、洗浄液の交換回数も削減できランニングコストを減らすことが可能である。
また、ドレインバルブ１３３を電磁弁で構成すると共に制御装置５を接続し、かつ洗浄液槽８２内部に制御装置５に接続された濃度計を設置し、所定の濃度を検出した場合に装置をＯＦＦとしドレインバルブ１３３が自動的に開弁するようにしてもよい。なお、周回機構８４の駆動軸等の貫通部分は適宜シールされていることは言うまでもない。
【００５４】
以下、第１実施形態のワイピング動作について説明する。ワイピングブレード８１の初期状態では、３個のうち２個のワイピングブレード８１は洗浄液内に、残りの１個のワイピングブレード８１は最上部にそれぞれ待機している。また、昇降シリンダ１１２は昇降プレート１１３を下降端位置（離間位置）で支持している。この状態から、制御装置５からワイプ指令が発令されると、モータ１０２が駆動して、ブレード保持ドラム１０１を１２０度回転させ、洗浄液内に待機している先行するワイピングブレード８１を、ほぼ最上部にくる位置まで周回移動させる。上記動作と並行して、昇降シリンダ１１２が駆動し、昇降プレート１１３を介して、先行するワイピングブレード８１の先端部を、ワイピング処理できる高さまで上昇させる。
【００５５】
次に、Ｙ軸テーブル１３が駆動し、吸引装置６１上に待機している機能液滴吐出ヘッド１７を、ワイピングブレード８１上を通過するように図示の矢印方向に移動させる。これにより機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面５３がワイピングブレード８１に摺接することでワイピング処理が行われる。上記動作は、洗浄液がワイピングブレード８１に付着したまま行われるため、ノズル面５３に付着した汚れを掻き取るワイピング処理が良好になされる。ノズル面５３の後端がワイピングブレード８１を通過した機能液滴吐出ヘッド１７は描画エリア９１に向かって移動する一方、昇降シリンダ１１２は昇降プレート１１３を下降端位置まで下降させる。昇降シリンダ１１２の下降が開始されると、ブレード保持ドラム１０１が再度１２０度回転し、後行するワイピングブレード８１が最上部に臨むと共に、処理後のワイピングブレード８１が洗浄液内に入り、次のワイプ指令まで待機する。ワイピングブレード８１が洗浄液中で待機することにより、ブレードクリーナー８３でブラッシング洗浄処理した場合に汚れが落ちやすくなる。
【００５６】
また、ブレード保持ドラム１０１の再回転と同時に、ブレードクリーナー８３が回転を開始し、ここで、ブレードクリーナー８３が移動中のワイピングブレード８１に回転接触し、付着した汚れを掻き落すことでブラッシング洗浄処理が行われる。そして、各ワイピングブレード８１が１２０度回転したところでブレード保持ドラム１０１およびブレードクリーナー８３の回転を停止する。このように、３個のワイピングブレード８１によりワイピング処理および洗浄処理が同時併行的に行われる。なお、本実施形態では、ワイピングブレード８１が停止した状態でワイピング処理されるが、機能液滴吐出ヘッド１７の移動に対してワイピングブレード８１を相対的に周回運動させることでワイピング処理しても良い（この方式における好適な実施形態は後に記す）。
【００５７】
次に、図７を参照して、第２実施形態に係るワイピング装置６２について説明する。この実施形態では、第１実施形態のブレードクリーナー８３に代えて、ワイピングブレード８１に洗浄液を吹き付ける洗浄液吹付け装置８９が設けられている。洗浄液吹付け装置８９は、ワイピングブレード８１に洗浄液を吹き付ける洗浄液ノズル１４１と、洗浄液ノズル１４１に洗浄液を送液する送液ポンプ１４３（送液手段）と、送液ポンプ１４３の吐出側と洗浄液ノズル１４１とを接続する送液パイプ１４２と、送液ポンプ１４３の吸引側と洗浄液槽８２とを接続する吸引パイプ１４５と、吸引パイプ１４５に介設したフィルタ１４４と、から構成されている。
【００５８】
洗浄液ノズル１４１は、洗浄液槽８２内において、ワイピングブレード８１に対峙するように配設され、洗浄液槽８２外に設けた送液ポンプ１４３から延びる送液パイプ１４２が洗浄液槽８２を貫通して洗浄液ノズル１４１に接続されている。洗浄液ノズル１４１は、直下位置に移動中のワイピングブレード８１に洗浄液を吹き付けるようになっており、ワイピングブレード８１の吹き付け洗浄と洗浄液槽８２内の洗浄液の攪拌とを行う。このように洗浄液中で洗浄液を吹き付けるので、洗浄液が飛び散ることが無い。また、攪拌された洗浄液はフィルタ１４４で濾過されるので一定の洗浄力を保つと共に、汚れの再付着を防止することができる。これにより、洗浄液の交換回数も削減できランニングコストを減らすことが可能である。この場合、更にブレードクリーナー８３を備えて洗浄力を高めても良い。また、洗浄液ノズル１４１は、スリット状のものであってもよいし、アレイ状のものであってもよい。なお、図８に示すように洗浄液ノズル１４１の吹き付け位置は、洗浄液槽８２内に限らず洗浄液槽８２外でも良い。かかる場合には、洗浄液槽８２の上開口部を広くし洗浄液ノズル１４１をいくぶん下向きに傾け、洗浄液を吹き付けることが好ましい。さらに送液ポンプ１４３の代わりにイジェクターを採用しても良い。
【００５９】
このように構成されたワイピング装置６２は、ワイピング処理については第１実施形態と同様であるが、洗浄処理では、ワイピング処理を終えて、ブレード保持ドラム１０１が回転を開始すると同時に送液ポンプ１４３が駆動し、移動中のワイピングブレード８１に洗浄液ノズル１４１から洗浄液を吹き付ける。洗浄液ノズル１４１からワイピングブレード８１に洗浄液が吹き付けられると、この吹き付けの水勢によりワイピングブレード８１の汚れが吹きはらわれ洗浄が行われる。
【００６０】
次に、図９に示す第３実施形態に係るワイピング装置６２について説明する。この実施形態では、周回機構８４が、外周面に３個のワイピングブレード８１を等間隔に装着されたブレード保持ベルト１０５（ブレード保持部材）と、ブレード保持ベルト１０５が掛け渡された上側の従動動プーリ１０６および下側の駆動プーリ１０７と、両プーリ１０６、１０７およびブレード保持ベルト１０５を介してワイピングブレード８１を周回運動させるモータ１０２と、モータ１０２の駆動力を駆動プーリ１０７およびブレードクリーナー８３に伝達する減速伝達部１０３（動力伝達機構）と、から構成されている。
【００６１】
従動プーリ１０６は、機能液滴吐出ヘッド１７の真下に位置して、昇降プレート１１３に立設した支柱（図示せず）に回転自在に軸支される一方、駆動プーリ１０７は、洗浄液槽８２内に配設されており、両プーリ１０６、１０７は、洗浄液槽８２の設置スペースを考慮し鉛直方向に十分に離間して配設されている。自由回転する従動プーリ１０６と共に、駆動プーリ１０７は、減速伝達部１０３から伝達された回転動力によりワイピングブレード８１を周回運動させる。この場合、ブレードクリーナー８３の代わりに洗浄液吹付け装置８９を備えても良いし、ブレードクリーナー８３および洗浄液吹付け装置８９を共に備えても良い。また、ワイピングブレード８１とブレード保持ベルト１０５とを一体に成形してもよい。
【００６２】
このように構成されたワイピング装置６２では、ワイピングブレード８１が１個は洗浄液内に、１個は最上部に、残りの１個は両プーリ１０６、１０７の中間部にそれぞれ待機している。この状態からワイプ指令が発令されるとブレード保持ベルト１０５が１／３周ずつ送り出され第１実施形態と同様にワイピング処理および洗浄処理が行われる。
【００６３】
次に、図１０に示す第４実施形態に係るワイピング装置６２について説明する。この実施形態では、周回機構８４が、外周面に４個のワイピングブレード８１を等間隔に装着されたブレード保持ベルト１０５（ブレード保持部材）と、ブレード保持ベルト１０５が掛け渡された上側の一対の従動プーリ１０６および下側の駆動プーリ１０７と、各プーリ１０６、１０７およびブレード保持ベルト１０５を介してワイピングブレード８１を周回運動させるモータ１０２と、モータ１０２の駆動力を駆動プーリ１０７およびブレードクリーナー８３に伝達する減速伝達部１０３（動力伝達機構）と、から構成されている。
【００６４】
一対の従動プーリ１０６は、機能液滴吐出ヘッド１７の真下に位置して、昇降プレート１１３に立設した支柱（図示せず）に回転自在に軸支される一方、駆動プーリ１０７は、洗浄液槽８２内に配設されており、一対の従動プーリ１０６は、水平方向に離間して配設され、従動プーリ１０６と駆動プーリ１０７とは鉛直方向に十分に離間して配設されている。自由回転する従動プーリ１０６と共に、駆動プーリ１０７は、減速伝達部１０３から伝達された回転動力により洗浄液に浸漬しているワイピングブレード８１を周回運動させる。各プーリ１０６、１０７の離間寸法は洗浄液槽８２の設置スペースを考慮して設定される。この場合、ブレードクリーナー８３の代わりに洗浄液吹付け装置８９を備えても良いし、ブレードクリーナー８３および洗浄液吹付け装置８９を共に備えても良い。また、ワイピングブレード８１とブレード保持ベルト１０５とを一体に成形してもよい。
【００６５】
このように構成されたワイピング装置６２は、ワイピングブレード８１の初期位置は、２個は洗浄液内に、残りの２個は最上部にそれぞれ待機している。この状態からワイプ指令が発令されるとブレード保持ベルト１０５を１／２周ごとに送り出して、２個のワイピングブレード８１で第１実施形態と同様にワイピング処理を連続的に行うと共に残りの２個のワイピングブレード８１で洗浄処理が同時併行的に行われる。
【００６６】
なお、機能液滴吐出ヘッド１７を停止させた状態でワイピングブレード８１を連続的に周回運動させてもよい。この場合には、昇降プレート１１３が上昇端位置に固定され、ワイピングブレード８１の先端部が、ノズル面５３をワイピング処理できる高さに達した状態で、ワイピング処理を連続的に行う。そして、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面５３の長さに対応して両従動プーリ１０６，１０６間の距離が決定される。
【００６７】
以上説明したとおり、このワイピング装置６２によれば、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面５３をワイピング処理すると共に、ワイピング処理後のワイピングブレード８１を洗浄処理することができ、高いワイピング性能を維持したままワイピング処理を行うことができ、かつワイピングブレード８１を繰り返し使用できるため消耗品を削減することができる。また、簡易な構成であるため装置の小型化を実現することが可能である。
【００６８】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、さらにこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、および薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板をいう。
【００６９】
まず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図１１は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１２は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図１２（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【００７０】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図１２（ｂ）に示すように、基板５０１およびブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図１２（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド１７により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【００７１】
以上のブラックマトリクス形成工程およびバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置のばらつきを自動補正できる。
【００７２】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図１２（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド１７によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００７３】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図１２（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【００７４】
図１２は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図１２に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００７５】
この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、および、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【００７６】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図１２において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【００７７】
液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００７８】
通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【００７９】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。
【００８０】
図１３は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【００８１】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。
【００８２】
液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００８３】
図１５は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【００８４】
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。
【００８５】
対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１および信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【００８６】
また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【００８７】
なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【００８８】
次に、図１６は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。
【００８９】
この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３および陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されると共に、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【００９０】
回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。
【００９１】
また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。
【００９２】
そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。
【００９３】
このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。
【００９４】
上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３および機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、および、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。
【００９５】
バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。
【００９６】
上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層をさらに形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成することも可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【００９７】
発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、または青色（Ｂ）のいずれかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。
【００９８】
そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【００９９】
陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１００】
次に、上記の表示装置６００の製造工程を図１７〜図２５を参照して説明する。
この表示装置６００は、図１７に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、および対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１０１】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図１８に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図１９に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。
【０１０２】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理および撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａおよび画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓおよび有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば四フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１０３】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図２に示した液滴吐出装置１のセットテーブル２２に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）および発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【０１０４】
図２０に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド１７から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図２１に示すように、乾燥処理および熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入／輸送層６１７ａを形成する。
【０１０５】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒並びに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。
【０１０６】
そして次に、図２２に示すように、各色のうちのいずれか（図２２の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。
【０１０７】
その後、乾燥工程等を行うことにより、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２３に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。
【０１０８】
同様に、機能液滴吐出ヘッド１７を用い、図２４に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決めることも可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１０９】
以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【０１１０】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図２５に示すように、発光層６１７ｂおよび有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１１１】
このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。
【０１１２】
次に、図２６は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、およびこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１１３】
第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。
【０１１４】
放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。
【０１１５】
第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、およびＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１１６】
本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、および蛍光体７０９を、図２に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１のセットテーブル２２に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド１７により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、またはニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１１７】
補充対象となるすべてのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。
【０１１８】
ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１および蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド１７から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。
【０１１９】
次に、図２７は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、およびこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。
【０１２０】
第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１２１】
第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１２２】
そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１２３】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１２４】
第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図２８（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２８（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１２５】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】液滴吐出装置の平面模式図である。
【図２】機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。
【図３】第１実施形態に係るワイピング装置の正面模式図である。
【図４】第１実施形態に係るワイピング装置の側面模式図である。
【図５】（ａ）〜（ｃ）は、ワイピングブレードの断面図である。
【図６】回転体にブレード固定バンドを装着した正面図である。
【図７】第２実施形態に係るワイピング装置の正面模式図である。
【図８】洗浄液吹付け装置を外部に設けた第２実施形態に係るワイピング装置の正面模式図である。
【図９】第３実施形態に係るワイピング装置の正面模式図である。
【図１０】第４実施形態に係るワイピング装置の正面模式図である。
【図１１】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図１２】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図１３】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１４】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１５】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１６】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図１７】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図１８】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１９】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図２０】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２１】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２２】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２３】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２４】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２５】陰極の形成を説明する工程図である。
【図２６】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図２７】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図２８】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１２７】
１…液滴吐出装置 １７…機能液滴吐出ヘッド ５３…ノズル面 ６２…ワイピング装置 ８１…ワイピングブレード ８２…洗浄液槽 ８３…ブレードクリーナー ８４…周回機構 １０１…ブレード固定ドラム（回転ドラム） １０２…モータ（アクチュエータ） １０３…減速伝達部（動力伝達機構） １０５…ブレード保持ベルト（ブレード保持部材） １０６…上段プーリ １０７…下段プーリ １０８…ブレード保持バンド（ブレード保持部材） １０９…回転体 １４１…洗浄液ノズル １４３…送液ポンプ ５０８…着色層 Ｗ（ワーク）…基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
機能液滴吐出ヘッドのノズル面をワイピング処理するワイピングブレードと、
前記ワイピングブレードを洗浄処理する洗浄手段と、
前記ワイピングブレードを、前記ワイピング処理のためのワイピング領域と前記洗浄処理のための洗浄領域との間で、周回運動させる周回機構と、を備えたことを特徴とするワイピング装置。
【請求項２】
前記周回機構は、
外周面に前記ワイピングブレードが設けられ、前記ワイピングブレードを周回運動させる回転ドラムと、
前記回転ドラムの駆動源となるアクチュエータと、
前記アクチュエータの駆動力を前記回転ドラムに伝達する動力伝達機構と、を有していることを特徴とする請求項１に記載のワイピング装置。
【請求項３】
前記ワイピングブレードは、前記回転ドラムの外周面に着脱自在に装着されていることを特徴とする請求項２に記載のワイピング装置。
【請求項４】
前記周回機構は、
外周面に前記ワイピングブレードが設けられたバンド状のブレード保持部材と、
外周面に前記ブレード保持部材が装着され、前記ブレード保持部材を介して前記ワイピングブレードを周回運動させる回転体と、
前記回転体の駆動源となるアクチュエータと、
前記アクチュエータの駆動力を前記回転体に伝達する動力伝達機構と、を有していることを特徴とする請求項１に記載のワイピング装置。
【請求項５】
前記周回機構は、
外周面に前記ワイピングブレードが設けられたベルト状のブレード保持部材と、
前記ブレード保持部材が掛け渡され、前記ブレード保持部材を介して前記ワイピングブレードを周回運動させる一対のプーリと、
前記プーリの駆動源となるアクチュエータと、
前記アクチュエータの駆動力を前記一対のプーリのいずれか一方に伝達する動力伝達機構と、を有していることを特徴とする請求項１に記載のワイピング装置。
【請求項６】
前記ワイピングブレードと前記ブレード保持部材とは、一体に成形されていることを特徴とする請求項４または５に記載のワイピング装置。
【請求項７】
前記洗浄手段は、洗浄液を満たすと共に、前記洗浄領域に移動した前記ワイピングブレードが前記洗浄液に浸漬される洗浄液槽で、構成されていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載のワイピング装置。
【請求項８】
前記洗浄液に浸漬された前記ワイピングブレードに接触し、前記ワイピングブレードを相対的にブラッシング処理するブレードクリーナーを、更に備えたことを特徴とする請求項７に記載のワイピング装置。
【請求項９】
前記洗浄手段は、
前記ワイピングブレードに洗浄液を吹き付ける洗浄液ノズルと、
前記洗浄液槽を供給源として前記洗浄液ノズルに洗浄液を送液する送液手段と、を有していることを特徴とする請求項７または８に記載のワイピング装置。
【請求項１０】
前記ワイピング処理は、前記機能液吐出ヘッドに対し前記ワイピングブレードを相対的に移動させることにより行われ、
少なくとも前記ワイピングブレードの先端部は、前記移動方向に傾いていることを特徴とする請求項１ないし９のいずれかに記載のワイピング装置。
【請求項１１】
前記ワイピング処理は、前記機能液吐出ヘッドに対し前記ワイピングブレードを相対的に移動させることにより行われ、
少なくとも前記ワイピングブレードの先端部は、複数に分岐して形成され、前記移動方向に対して順に並んでいることを特徴とする請求項１ないし９のいずれかに記載のワイピング装置。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれかに記載のワイピング装置と、
ワークに対し、前記機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら機能液滴を吐出して描画を行う描画装置と、を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項１２に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１５】
請求項１３に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１４に記載の電気光学装置を、搭載したことを特徴とする電子機器。
【請求項１】
機能液滴吐出ヘッドのノズル面をワイピング処理するワイピングブレードと、
前記ワイピングブレードを洗浄処理する洗浄手段と、
前記ワイピングブレードを、前記ワイピング処理のためのワイピング領域と前記洗浄処理のための洗浄領域との間で、周回運動させる周回機構と、を備えたことを特徴とするワイピング装置。
【請求項２】
前記周回機構は、
外周面に前記ワイピングブレードが設けられ、前記ワイピングブレードを周回運動させる回転ドラムと、
前記回転ドラムの駆動源となるアクチュエータと、
前記アクチュエータの駆動力を前記回転ドラムに伝達する動力伝達機構と、を有していることを特徴とする請求項１に記載のワイピング装置。
【請求項３】
前記ワイピングブレードは、前記回転ドラムの外周面に着脱自在に装着されていることを特徴とする請求項２に記載のワイピング装置。
【請求項４】
前記周回機構は、
外周面に前記ワイピングブレードが設けられたバンド状のブレード保持部材と、
外周面に前記ブレード保持部材が装着され、前記ブレード保持部材を介して前記ワイピングブレードを周回運動させる回転体と、
前記回転体の駆動源となるアクチュエータと、
前記アクチュエータの駆動力を前記回転体に伝達する動力伝達機構と、を有していることを特徴とする請求項１に記載のワイピング装置。
【請求項５】
前記周回機構は、
外周面に前記ワイピングブレードが設けられたベルト状のブレード保持部材と、
前記ブレード保持部材が掛け渡され、前記ブレード保持部材を介して前記ワイピングブレードを周回運動させる一対のプーリと、
前記プーリの駆動源となるアクチュエータと、
前記アクチュエータの駆動力を前記一対のプーリのいずれか一方に伝達する動力伝達機構と、を有していることを特徴とする請求項１に記載のワイピング装置。
【請求項６】
前記ワイピングブレードと前記ブレード保持部材とは、一体に成形されていることを特徴とする請求項４または５に記載のワイピング装置。
【請求項７】
前記洗浄手段は、洗浄液を満たすと共に、前記洗浄領域に移動した前記ワイピングブレードが前記洗浄液に浸漬される洗浄液槽で、構成されていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載のワイピング装置。
【請求項８】
前記洗浄液に浸漬された前記ワイピングブレードに接触し、前記ワイピングブレードを相対的にブラッシング処理するブレードクリーナーを、更に備えたことを特徴とする請求項７に記載のワイピング装置。
【請求項９】
前記洗浄手段は、
前記ワイピングブレードに洗浄液を吹き付ける洗浄液ノズルと、
前記洗浄液槽を供給源として前記洗浄液ノズルに洗浄液を送液する送液手段と、を有していることを特徴とする請求項７または８に記載のワイピング装置。
【請求項１０】
前記ワイピング処理は、前記機能液吐出ヘッドに対し前記ワイピングブレードを相対的に移動させることにより行われ、
少なくとも前記ワイピングブレードの先端部は、前記移動方向に傾いていることを特徴とする請求項１ないし９のいずれかに記載のワイピング装置。
【請求項１１】
前記ワイピング処理は、前記機能液吐出ヘッドに対し前記ワイピングブレードを相対的に移動させることにより行われ、
少なくとも前記ワイピングブレードの先端部は、複数に分岐して形成され、前記移動方向に対して順に並んでいることを特徴とする請求項１ないし９のいずれかに記載のワイピング装置。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれかに記載のワイピング装置と、
ワークに対し、前記機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら機能液滴を吐出して描画を行う描画装置と、を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項１２に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１５】
請求項１３に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１４に記載の電気光学装置を、搭載したことを特徴とする電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【公開番号】特開２００７−１６３７５１（Ｐ２００７−１６３７５１Ａ）
【公開日】平成１９年６月２８日（２００７．６．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−３５８８９４（Ｐ２００５−３５８８９４）
【出願日】平成１７年１２月１３日（２００５．１２．１３）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年６月２８日（２００７．６．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１２月１３日（２００５．１２．１３）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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