ワークのリフトアップ方法及びワークのセット方法
【課題】エアーの咬み込みを有効に防止することができるワークのセット方法、ワークの損傷および位置ズレを有効に防止することができるワークのリフトアップ方法、リフトアップ装置などを提供することを課題とする。
【解決手段】ワークＷのセット方法は、昇降自在に構成されると共にワークを上反り状に保持可能な保持機構２６１を用い、ワークＷを、その接触部が中間部から両側部に向かって進むようにワークテーブル１４１上に載せ込むようにする。また、ワークＷのリフトアップ方法は、昇降自在に構成されると共にワークＷを上反り状に保持可能な保持機構２６１を用い、ワークＷを、その離間部が両側部から中間部に向かって進むようにワークテーブル１４１から持ち上げるようにする。
【解決手段】ワークＷのセット方法は、昇降自在に構成されると共にワークを上反り状に保持可能な保持機構２６１を用い、ワークＷを、その接触部が中間部から両側部に向かって進むようにワークテーブル１４１上に載せ込むようにする。また、ワークＷのリフトアップ方法は、昇降自在に構成されると共にワークＷを上反り状に保持可能な保持機構２６１を用い、ワークＷを、その離間部が両側部から中間部に向かって進むようにワークテーブル１４１から持ち上げるようにする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、吸着解除状態のワークを吸着テーブル本体にセットするワークのセット方法、吸着テーブル本体からワークを持ち上げるワークのリフトアップ方法、リフトアップ装置、ワーク吸着テーブルおよび液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種のワークのセット方法およびワークのリフトアップ方法として、例えばカラーフィルタの製造装置であるダイコータに適用したものが知られている（例えば、特許文献１参照）。このダイコータには、カラーフィルタの基板（ワーク）を載置するステージ（ワーク吸着テーブル）に、ステージを貫通して出没自在に構成した複数のリフトピンを有するリフトアップ機構が組み込まれている。リフトアップ機構は、それぞれ２本のリフトピンとこれらを同時に昇降させるシリンダとか成る左右２組の機構で構成されている。ステージに基板をセットする場合には、リフトアップ機構のリフトピンをステージから没入した状態とし、これに基板を位置決めし水平にセット（載置）するが、基板をステージから引き離す（持ち上げる）ときには、真空破壊を行った後、左右２組の機構を時間差をもって駆動し、基板の傾けながら持ち上げるようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平９−１９２５６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような従来のセット方法では、ワーク（基板）をワーク吸着テーブル（ステージ）に載せ込んだ瞬間に、ワークの下面とワーク吸着テーブルの上面との間にエアーが咬み込んで、ワークが瞬間的に浮いた状態となる。このため、咬み込んだエアーにより、ワークが側方に位置ズレし易くなると共に、可とう性を有するワークではエアーが残留し易く、この残留エアーによりワークの表面に微妙な凹凸が生ずる問題があった。
また、上記従来のリフトアップ方法では、ワークの左右一方を持ち上げた瞬間に、ワークとワーク吸着テーブルとの間が真空状態となるため、ワークが損傷を受けるおそれがあり、且つエアーの流入によりこの真空状態が解消された瞬間にワークが傾斜方向に位置ズレする問題があった。
【０００５】
本発明は、エアーの咬み込みを有効に防止することができるワークのセット方法、ワークの損傷および位置ズレを有効に防止することができるワークのリフトアップ方法、リフトアップ装置、ワーク吸着テーブルおよび液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のワークのセット方法は、可とう性を有するワークをワークテーブル上にセットするワークのセット方法であって、昇降自在に構成されると共にワークを上反り状に保持可能な保持機構を用い、ワークを、その接触部が中間部から両側部に向かって進むようにワークテーブル上に載せ込むことを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、可とう性のワークは、上反り状の湾曲した状態で、ワークテーブルに対し中間部から接触し、さらにその接触部が中間部から両側部に向かって進むように載せ込まれる。このため、ワークテーブルとワークとの間のエアーは、ワークの接触状態が進むに従って側方に追い出されてゆき、ワークテーブルとワークとの間に残留することがない。
【０００８】
本発明のワークのリフトアップ方法は、可とう性を有するワークをワークテーブルから持ち上げるワークのリフトアップ方法であって、昇降自在に構成されると共にワークを上反り状に保持可能な保持機構を用い、ワークを、その離間部が両側部から中間部に向かって進むようにワークテーブルから持ち上げることを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、ワークテーブルに載置されている可とう性のワークは、その両側部から持ち上げられ上反り状の湾曲してゆき、最終的に中間部がワークテーブルから離間して完全にリフトアップされる。すなわち、ワークがワークテーブルから離れる瞬間においては、ワークの中間部のみがワークテーブルに接触していることになる。このため、剥離面積に比例するとされる剥離帯電による静電気容量は、全体が瞬間的に離れる場合に比して十分に小さいものとすることができる。
【００１０】
本発明のリフトアップ装置は、可とう性を有するワークを吸着セットする吸着テーブル本体と、吸着テーブル本体を複数本の支柱部材を介して支持する支持ベースとから成るワーク吸着テーブルに組み込まれ、吸着解除状態のワークを、吸着テーブル本体上に載るセット位置とその上方の搬入搬出位置との間で昇降させるリフトアップ装置において、吸着テーブル本体に形成した多数の貫通孔に出没自在に遊挿され、ワークを下側から突き上げる多数のリフトアップピンと、吸着テーブル本体と支持ベースとの間隙に配設され、多数のリフトアップピンを立設したピン支持プレートと、ピン支持プレートおよび多数のリフトアップピンを介して、ワークをセット位置と搬入搬出位置との間で昇降させる上下動機構と、上下動機構を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１１】
この場合、制御手段は、上昇するリフトアップピンがワークを突き上げる直前に、リフトアップピンの上昇速度を減速することが、好ましい。
【００１２】
また逆に、制御手段は、下降するリフトアップピンがワークを吸着テーブル本体に置き去る直前に、リフトアップピンの下降速度を減速することが、好ましい。
【００１３】
このような構成によれば、ワークを突き上げるときのリフトアップピンの上昇速度を減速することにより、ワークへの衝撃を小さくすることができると共に、ワークの突き上げにより生ずるワークと吸着テーブル本体との間に生ずる真空状態を緩和することができる。したがって、リフトアップに伴うワークの損傷を防止することができる。
一方、ワークを吸着テーブル本体に載置するときのリフトアップピンの下降速度を減速することにより、吸着テーブル本体とワークとの間のエアーをゆっくり且つ完全に追い出すことができる。したがって、載置したワークと吸着テーブル本体との間にエアーが咬み込むのを防止することができる。
【００１４】
これらの場合、多数のリフトアップピンは、ワークの中間部を突き上げる中間部ピン群と、ワークの両側部を突き上げる一対の側部ピン群とに分割され、ピン支持部材は、中間部ピン群を立設した中間部支持プレートと、各側部ピン群を立設した一対の側部支持プレートとに分割され、上下動機構は、中間部支持プレートおよび一対の側部支持プレートを、相互に独立して昇降可能に構成されていることが、好ましい。
【００１５】
同様に、多数のリフトアップピンは、ワークの中央部を突き上げる中央部ピン群と、ワークの周縁部を突き上げる周縁部ピン群とに分割され、ピン支持部材は、中央部ピン群を立設した中央部支持プレートと、周縁部ピン群を立設した周縁部支持プレートとに分割され、上下動機構は、中央部支持プレートおよび周縁部支持プレートを、相互に独立して昇降可能に構成されていることが、好ましい。
【００１６】
この構成によれば、吸着テーブル本体に対するワークのセット（載置）形態およびリフトアップ形態を自在に選択することができ、ワークのセット時およびリフトアップ時の障害等に対応して変則的なセットおよびリフトアップが可能になる。
【００１７】
上記の場合、上下動機構は、中間部支持プレートを昇降させる中間部上下動機構と、各側部支持プレートを昇降させる一対の側部上下動機構とを有し、制御手段は、中間部上下動機構および一対の側部上下動機構を個別に制御可能に構成されていることが、好ましい。
【００１８】
この構成によれば、ワークのセット形態およびリフトアップ形態を自在に選択可能な上下動機構の構造を単純化することができると共に、その制御も単純化することができる。
【００１９】
この場合、制御手段は、一対の側部上下動機構に先行して中間部上下動機構を駆動し、ワークを搬入搬出位置からセット位置に下降させることが、好ましい。
【００２０】
この構成によれば、ワークは、上反り状の湾曲した状態で、吸着テーブル本体に対し中間部から接触し、さらにその接触部が中間部から両側部に向かって進むように載せ込まれる。このため、吸着テーブル本体とワークとの間のエアーは、ワークの接触状態が進むに従って側方に追い出されてゆき、吸着テーブル本体とワークとの間に残留することがない。
【００２１】
これらの場合、制御手段は、中間部上下動機構に先行して一対の側部上下動機構を駆動し、ワークをセット位置から搬入搬出位置に上昇させることが、好ましい。
【００２２】
この構成によれば、ワークは、その両側部から持ち上げられ上反り状の湾曲してゆき、最終的に中間部が吸着テーブル本体から離間して完全にリフトアップされる。すなわち、ワークが吸着テーブル本体から離れる瞬間においては、ワークの中間部のみが吸着テーブル本体に接触していることになる。このため、剥離面積に比例するとされる剥離帯電による静電気容量は、全体が瞬間的に離れる場合に比して十分に小さいものとすることができる。
【００２３】
これらの場合、中間部ピン群、中間部支持プレートおよび中間部上下動機構は、これらを支持する中間部ベースフレームによりユニット化され、且つ各側部ピン群、各側部支持プレートおよび各側部上下動機構は、これらを支持する側部ベースフレームによりユニット化されていることが、好ましい。
【００２４】
この構成によれば、リフトアップ装置自体が、３つのユニットで構成されることになる。このため、その組立て、取付け、交換およびメンテナンス等を容易に行うことができる。
【００２５】
一方、上記の多数のリフトアップピンは、ワークの中間部に位置するものを短く形成すると共に両側端に向かって次第に長くなるように形成されていることが、好ましい。
【００２６】
この構成によれば、ワークを、上反り状の湾曲した状態で、吸着テーブル本体に対し中間部から接触し、さらにその接触部が中間部から両側部に向かって進むように載せ込むことができる。また、ワークを、その両側部から持ち上げられ上反り状の湾曲してゆき、最終的に中間部が吸着テーブル本体から離間して完全にリフトアップさせることができる。このため、ワークの損傷および位置ズレを有効に防止することができると共に、吸着テーブル本体とワークとの間のエアーの咬み込みを有効に防止することができる。
【００２７】
同様に、多数のリフトアップピンは、ワークの中央部に位置するものを短く形成すると共に周縁に向かって次第に長くなるように形成されていることが、好ましい。
【００２８】
この構成によれば、ワークを、その中央部を窪ませた状態で、吸着テーブル本体に対し中央部から接触し、さらにその接触部が中央部から周縁部に向かって進むように載せ込むことができる。また、ワークを、その周縁部から持ち上げられ中央部が窪むように湾曲してゆき、最終的に中央部が吸着テーブル本体から離間して完全にリフトアップさせることができる。このため、ワークの損傷および位置ズレを有効に防止することができると共に、吸着テーブル本体とワークとの間のエアーの咬み込みを有効に防止することができる。
【００２９】
本発明のワーク吸着テーブルは、上記したリフトアップ装置を組み込んだことを特徴とする。
【００３０】
また、本発明の液滴吐出装置は、上記したワーク吸着テーブルを備え、ワーク吸着テーブルにセットしたワークに対して、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、ワーク上に機能液を吐出して描画を行うことを特徴とする。
【００３１】
これらの構成によれば、吸着テーブル本体とワークとの間のエアーの咬み込みを有効に防止することができるため、ワークを吸着テーブル本体の表面に倣って平坦にセットすることができる。また、ワークの損傷および位置ズレを有効に防止することができ、ワークを適切にリフトアップすることができる。したがって、ワークへの描画を高精度に行うことができると共に、ワークの歩留まりを向上させることができる。
【００３２】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。
【００３３】
また、本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００３４】
これらの構成によれば、ワークへの描画を高精度に行うことができると共に、ワークの歩留まりを向上させることができる液滴吐出装置を用いて製造されるため、信頼性の高い電気光学装置を製造することが可能となる。なお、電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）やＳＥＤ（Surface‐conduction Electron‐Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００３５】
本発明の電子機器は、上記した電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００３６】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明の効果】
【００３７】
本発明のワークのセット方法、リフトアップ方法、リフトアップ装置およびワーク吸着テーブルによれば、ワークの下側へのエアーの咬み込みを有効に防止することができると共に、ワークの損傷および位置ズレを有効に防止することができるため、ワークを適切にセットおよびリフトアップすることができる。
【００３８】
本発明の液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器によれば、ワークへの描画を高精度に行うことができると共に、ワークの歩留まりを向上させることができる。さらにこれにより、信頼性の高い電気光学装置を安定に製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本実施形態にかかる液滴吐出装置全体の外観斜視図である。
【図２】本実施形態にかかる液滴吐出装置の平面図である。
【図３】本実施形態にかかる液滴吐出装置の正面図である。
【図４】本実施形態にかかる液滴吐出装置の右側面図である。
【図５】（第１）ヘッドユニットの平面図である。
【図６】機能液滴吐出ヘッドの説明図であり、（ａ）は機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図、（ｂ）は、機能液滴吐出ヘッドをヘッドプレートに取り付けたときの断面図である。
【図７】メインキャリッジにヘッドユニットを搭載したときの外観斜視図である。
【図８】メインキャリッジにヘッドユニットを搭載したときの右側面図である。
【図９】Ｘ軸テーブル廻りの外観斜視図である。
【図１０】Ｘ軸テーブル廻りの右側面図である。
【図１１】θテーブルの説明図であり、（ａ）は、Ｘ軸エアースライダにθテーブル支持部を支持させたときの平面図、（ｂ）は、Ｘ軸エアースライダにθテーブル支持部を支持させたときの正面図、（ｃ）は、Ｘ軸エアースライダにθテーブルを支持させたときの外観斜視図である。
【図１２】吸着テーブル廻りの説明図であり、テーブル本体を除いた吸着テーブルの外観斜視図である。
【図１３】吸着テーブルの説明図である。
【図１４】３点支持機構のテーブル高さ調整機構の説明図であり、（ａ）は、テーブル高さ調整機構の平面図、（ｂ）は、テーブル高さ調整機構の正面図、（ｃ）は、テーブル高さ調整機構の側面図である。
【図１５】吸着テーブルのテーブル本体の平面図である。
【図１６】Ｙ軸テーブル廻りの外観斜視図である。
【図１７】Ｙ軸テーブル廻りの側面図である。
【図１８】Ｙ軸テーブル廻りの背面図である。
【図１９】第１リフトアップユニットの説明図であり、（ａ）および（ｂ）は、第１リフトアップユニットの外観斜視図、（ｃ）は、第１リフトアップユニットの断面図である。
【図２０】第２リフトアップユニットの説明図であり、（ａ）は、第２リフトアップユニットの外観斜視図、（ｂ）は、第２リフトアップユニットの断面図である。
【図２１】機台廻りの外観斜視図である。
【図２２】機台廻りの平面図である。
【図２３】ワイピングユニットのシート供給ユニットの外観斜視図である。
【図２４】シート供給ユニットの繰り出しリールの説明図であり、（ａ）は、繰り出しリールの平面図、（ｂ）は、繰り出しリールの断面図である。
【図２５】吸着テーブルに配設されたエアー配管部の説明図である。
【図２６】エアー吸引装置の説明図であり、（ａ）は、吸引配管部を模式的に示した系統図であり、（ｂ）は、吸着テーブルの吸引孔および吸引溝と個別エアー吸引チューブの関係を示した図である。
【図２７】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図２８】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図２９】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図３０】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図３１】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図３２】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図３３】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図３４】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図３５】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図３６】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図３７】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図３８】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図３９】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図４０】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図４１】陰極の形成を説明する工程図である。
【図４２】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図４３】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図４４】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明を適用した液滴吐出装置について説明する。この液滴吐出装置は、いわゆるフラットディスプレイの製造ラインに組み込まれるものであり、機能液滴吐出ヘッドを用いた液滴吐出法により、液晶表示装置のカラーフィルタや有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子等を形成するものである。
【００４１】
図１ないし図４に示すように、液滴吐出装置１は、吐出装置本体２と、これに併設したタンクキャビネット３とを、不活性ガスやドライエアーを導入したチャンバ装置４に収容して構成されている。吐出装置本体２は、床上に設置した大型の架台１１と、架台１１上に載置された石定盤１２と、を備えている。これらの図に示すように、架台１１上には、石定盤１２を介して描画装置２１が広く配設され、また、石定盤１２から外れた機台１３上には、描画装置２１に添設するようにメンテナンス装置２２が配設されている。また、吐出装置本体２は、液体供給回収装置２３を備えており、タンクキャビネット３には、描画装置２１に供給する機能液を貯留する液体供給回収装置２３のタンク類が収容されている（詳細は後述する）。さらに、吐出装置本体２には、各装置に圧縮エアー（不活性ガスやドライエアー）を供給するエアー供給装置２４や、ワークＷを吸引セットするためのエアー吸引装置２５、各装置を統括制御する制御装置２６が設けられている他、ワーク認識カメラ２３６やヘッド認識カメラ２２５等、各種付帯装置が配設されている。
【００４２】
この液滴吐出装置１では、液体供給回収装置２３から機能液を供給しながら、エアー吸引装置２５で吸着セットしたワークＷ上に、描画装置２１に搭載された機能液滴吐出ヘッド５１により機能液滴を吐出して描画を行うと共に、メンテナンス装置２２により適宜機能液滴吐出ヘッド５１のメンテナンスを行うようにしている。上述したように、吐出装置本体２は、チャンバ装置４内に収容されており、ワークＷに対する描画処理や機能液滴吐出ヘッド５１のメンテナンス処理等、ほとんどの処理を、これに導入した不活性ガスやドライエアーの雰囲気中で行うようになっている（図１参照）。
【００４３】
ここで、液滴吐出装置１の各装置について簡単に説明する。描画装置２１は、セットテーブル１４１（後述する）にセットしたワークＷに機能液を吐出するための吐出手段３１と、セットテーブル１４１に対してワークＷを除給（着脱）するためのワーク除給手段３２と、を備えている。吐出手段３１は、機能液滴吐出ヘッド５１を有するヘッドユニット４１（サブキャリッジ）と、ヘッドユニット４１を着脱可能に支持するメインキャリッジ４２と、セットテーブル１４１（後述する）にセットしたワークＷに対してヘッドユニット４１を相対的に移動させるＸ・Ｙ移動機構４３と、を有している。
【００４４】
図５に示すように、ヘッドユニット４１は、ヘッド保持部材（図示省略）を介して機能液滴吐出ヘッド５１を搭載したヘッドプレート５２と、メインキャリッジ４２に着脱可能に構成されたヘッド支持部材５３と、を備えている。ヘッドプレート５２の端部には、配管ジョイント５５を有するジョイントユニット５４が配設されており、配管ジョイント５５の一端は、機能液滴吐出ヘッド５１（配管アダプタ６５）からのヘッド側配管部材（図示省略）が接続され、もう一端は機能液滴吐出ヘッド５１に機能液を供給する機能液供給機構（図示省略）からの装置側配管部材（図示省略）が接続される。
【００４５】
ヘッドユニット４１には、ヘッドプレート５２に１２個の機能液滴吐出ヘッド５１および１２個の配管ジョイント５５を搭載した第１ヘッドユニットと、ヘッドプレート５２に２個の機能液滴吐出ヘッド５１および２個の配管ジョイント５５を搭載した第２ヘッドユニットとの２種類のものが用意されており、第１ヘッドユニットおよび第２ヘッドユニットの機能液滴吐出ヘッド５１は、同一の配置パターンに倣って、所定角度傾けた状態でヘッドプレート５２に取り付けられている。なお、第１ヘッドユニットおよび第２ヘッドユニットは、メインキャリッジ４２に対する同一の取付形態を有しており、相互に交換可能に構成されている。ただし、機能液滴吐出ヘッド５１の個数や配列は、上記したものに限られるものではなく任意である。なお、図５、図７および図８は、第１ヘッドユニットを示している。
【００４６】
図６に示すように、機能液滴吐出ヘッド５１は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針６２を有する機能液導入部６１と、機能液導入部６１に連なる２連のヘッド基板６３と、機能液導入部６１の下方に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体６４と、を備えている。各接続針６２は、配管アダプタ６５を介して、ヘッド側配管部材に接続されており、機能液滴吐出ヘッド５１は、各接続針６２から機能液の供給を受けるようになっている。ヘッド本体６４は、キャビティ７１（ピエゾ圧電素子）と、ノズル面７３を有するノズルプレート７２と、で構成されている。ノズル面７３の下面には、多数（１８０個）の吐出ノズル７４からなるノズル列が２列形成されている。機能液滴吐出ヘッド５１では、キャビティ７１のポンプ作用により吐出ノズル７４から機能液を吐出する。
【００４７】
図７および図８に示すように、メインキャリッジ４２は、ヘッドユニット４１（第１ヘッドユニットおよび第２ヘッドユニット）を着脱可能に支持するキャリッジ本体８１と、キャリッジ本体８１を吊設し、Ｙ軸テーブル１２２に支持された吊設部材８２と、を備えており、吊設部材８２には、ヘッドユニット４１をθ軸方向に回動させるヘッド回動機構８３、およびヘッドユニット４１を昇降させるヘッド昇降機構８４が組み込まれている。両図に示すように、吊設部材８２は、Ｙ軸テーブル１２２のブリッジプレート２４１（後述する）に固定される一対のヘッド固定部材９１と、一対のヘッド固定部材９１の上面に架け渡されたヘッド支持プレート９２と、を有しており、ヘッド回動機構８３の上部に連結したヘッド昇降機構８４がヘッド支持プレート９２に支持されている。
【００４８】
ヘッド回動機構８３は、ワークＷに対するヘッドユニット４１の水平面内における角度補正等に用いられるものであり、キャリッジ本体８１を支持するようにその上面に固定されたヘッド回動部１０１と、上側に位置するヘッド昇降機構８４に固定されると共にヘッド回動部１０１をθ軸方向に回動可能に支持するヘッド固定部１０２と、ヘッド回動部１０１を回動させる正逆回転可能なヘッド回動モータ１０３と、を有している。ヘッド回動モータ１０３は、ヘッド回動部１０１とヘッド固定部１０２との間に介設したいわゆるダイレクトモータ（ステッピングモータ）であり、このヘッド回動モータ１０３を駆動すると、ヘッド回動部１０１がθ軸を中心に回動する。これにより、キャリッジ本体８１を介して、ヘッドユニット４１を回動させることができ、水平面内におけるヘッドユニット４１（機能液滴吐出ヘッド５１）の傾き角度を自在に変更させることが可能となる。ヘッド回動機構８３の回動軸となるθ軸は、ヘッドユニット４１の重心を通っており、ヘッドユニット４１を安定した状態で回動できるようになっている。
【００４９】
なお、ヘッド回動部１０１の側部には、セットテーブル１４１の一部を撮像し、セットテーブル１４１の基準値に対する位置ずれを検出する吐出補正用カメラ１０４が固定されており、この検出結果に基づいて、機能液滴吐出ヘッド５１の吐出タイミングを補正するようになっている（図７参照）。
【００５０】
ヘッド昇降機構８４は、ヘッドユニット４１に搭載した機能液滴吐出ヘッド５１のノズル面７３と、Ｘ・Ｙ移動機構４３のセットテーブル１４１（後述する）にセットされたワークＷ表面との間隙、すなわちワークギャップを調整するためのものであり、下部に固定したヘッド回動機構８３およびキャリッジ本体８１を介してヘッドユニット４１を昇降させる。図７および図８に示すように、ヘッド昇降機構８４は、一対のヘッド固定部材９１に昇降自在に支持されるヘッド昇降スライダ１１１と、ヘッド固定部材９１とヘッド昇降スライダ１１１との間に介設され、ヘッド昇降スライダ１１１の昇降移動を案内する４組のヘッド昇降ガイド１１２と、ヘッド支持プレート９２の上面中央に、ヘッド支持プレート９２を貫通させて固定したヘッド昇降モータ１１３（サーボモータまたはステッピングモータ）と、ヘッド昇降モータ１１３により正逆回転するヘッド昇降ボールねじ（図示省略）と、ヘッド昇降ボールねじに螺合すると共に、ヘッド昇降スライダ１１１の正面に固定されたヘッド昇降ブロック１１５と、を備えている。なお、符号１１６は、ヘッド昇降ブロック１１５の下限位置を規制するために、ヘッド昇降ブロック１１５に度当たりする度当り部材であり、度当たり部材１１６は、度当り調整ねじ１１７に螺設されている。
【００５１】
ヘッド昇降モータ１１３を駆動するとヘッド昇降ボールねじが回転し、４組のヘッド昇降ガイド１１２にガイドされながら、ヘッド昇降ブロック１１５を介してヘッド昇降スライダ１１１が昇降する。この結果、ヘッド昇降スライダ１１１に吊設されたヘッド回動機構８３およびキャリッジ本体８１を介してヘッド回動機構８３に支持するヘッドユニット４１が昇降する。この場合、ヘッド昇降モータ１１３の回転軸は、ヘッド回動機構８３のθ軸と一致していると共に、４組のヘッド昇降ガイド１１２およびヘッド昇降ブロック１１５は、θ軸に対して点対称に配設されている。これにより、ヘッド昇降スライダ１１１の水平面内のずれを防止して、ヘッド昇降スライダ１１１を介して、精度よくヘッドユニット４１を昇降させることができるようになっている。
【００５２】
Ｘ・Ｙ移動機構４３は、いわゆるＸ・Ｙロボットであり、Ｘ軸方向に延在してワークＷをＸ軸方向に移動させるＸ軸テーブル１２１と、Ｘ軸テーブル１２１に直交して配設されたＹ軸テーブル１２２と、で構成されている（図２等参照）。なお、Ｙ軸テーブル１２２の図示手前側の領域がワークＷの搬出入が行われるワーク搬出入領域１３１に、またＸ軸テーブル１２１とＹ軸テーブル１２２が交わる領域がワークＷに描画処理を行う描画領域１３２になっている。そして、図示しないが、ワーク搬出入領域１３１に面して、チャンバ装置４には搬出入用開口が形成されており、ワークＷは移載ロボットにより、この搬出入用開口から搬入および搬出されるようになっている。
【００５３】
図３、図９および図１０に示すように、Ｘ軸テーブル１２１は、ワークＷをセットするセットテーブル１４１（ワークテーブル）と、セットテーブル１４１をＸ軸方向にスライド自在に支持するＸ軸エアースライダ１４２と、Ｘ軸方向に延在し、セットテーブル１４１を介してワークＷをＸ軸方向に移動させる左右一対のＸ軸リニアモータ１４３と、Ｘ軸リニアモータ１４３に並設され、Ｘ軸エアースライダ１４２の移動を案内する一対のＸ軸ガイドレール１４４と、を備えており、一対のＸ軸リニアモータ１４３を（同期させて）駆動すると、一対のＸ軸ガイドレール１４４をガイドにしながら、Ｘ軸エアースライダ１４２がＸ軸方向に移動し、セットテーブル１４１にセットされたワークＷがＸ軸方向に移動する。また、一対のＸ軸ガイドレール１４４の間には、Ｘ軸リニアスケール１４５が併設されている。Ｘ軸リニアスケール１４５に基づいて、Ｘ軸テーブル１２１を移動するセットテーブル１４１の刻々の位置を正確に把握し、機能液滴吐出ヘッド５１の吐出タイミング用基準パルスを得ている。なお、図中に示す符号１４６は、各Ｘ軸ガイドレール１４４を上側から覆うように張架された帯状のステンレス製の防液シートであり、これによりＸ軸ガイドレール１４４等に対する機能液の付着が防止される。
【００５４】
図１０に示すように、セットテーブル１４１は、Ｘ軸エアースライダ１４２に支持されたθテーブル１５１に、ワークＷを吸着セットする吸着テーブル１５２を重合させたものである。図１１に示すように、θテーブル１５１は、Ｘ軸エアースライダ１４２に支持されたθテーブル支持部１６１と、吸着テーブル１５２の下面に着脱可能に固定され、θテーブル支持部１６１に対してθ軸方向に回動可能なθテーブル回転部１６２と、を有している。また、θテーブル支持部１６１とθテーブル回転部１６２との間には、θテーブル支持部１６１側のアウタレース１６４およびθテーブル回転部１６２側のインナレース１６５（環状リング）間に多数のボールを有するベアリング状部材１６３が組み込まれている。θテーブル回転部１６２から径方向が外方に延びる作動アーム（図示省略）の先端には、θテーブル回転部１６２を回転（回動）させるθテーブル駆動部１６７が設けられている。
【００５５】
θテーブル駆動部１６７は、モータで構成したアクチュエータ１７１と、アクチュエータ１７１に連結したθボールねじ１７２と、θボールねじ１７２に螺合する雌ねじ（図示省略）を有するθスライダ１７３とを有し、このθスライダ１７３に上記の作動アームが取り付けられている。θスライダ１７３は、作動アームの角度変化および角度変化に伴う延在方向の寸法変化を許容する回動受け部１７５および径方向スライド部１７６を有し、θボールねじ１７２の正逆回転に伴う進退動を、作動アームの回動動作に動力変換する。これにより、ワークＷを吸着テーブル１５２上にセットした後、アクチュエータ１７１を駆動すると、θテーブル回転部１６２がθ軸方向に僅かに回動し、吸着テーブル１５２を介して、θ軸方向におけるワークＷの位置を微調整（補正）できるようになっている。
【００５６】
図１２および図１３に示すように、吸着テーブル１５２は、θテーブル１５１に着脱可能に固定された支持ベース１８１と、支持ベース１８１に立設された３点支持機構１８２と、３点支持機構１８２に支持され、ワークＷを吸着セットするテーブル本体１８３と、を有している。なお、同図に示すように、吸着テーブル１５２には、ワーク除給手段３２のリフトアップ機構２６１（後述する）およびプリアライメント機構２６２（後述する）が組み込まれている。
【００５７】
支持ベース１８１は、方形に形成した板状の石材で構成されており、支持ベース１８１の左右両端部下面には、吸着テーブル１５２の搬出入に用いる一対のテーブル運搬用鋼材１８４が固定されている。支持ベース１８１は、吸着テーブル１５２の重心がθテーブル１５１の回転軸（すなわちθ軸）と略一致するようにθテーブル回転部１６２の上面に固定されている。支持ベース１８１には、θ軸とテーブル本体１８３の重心が一致するように３点支持機構１８２が配設されており、この３点支持機構１８２の３点（後述する３本のテーブル支持部材１９１）は、上記のインナレース１６５のほぼ直上部に且つ周方向に等間隔となるように位置している。また、図１２および図１３に示すように、支持ベース１８１には、３点支持機構１８２によって支持されるテーブル本体１８３の横ブレを規制する４組８個の位置規制部材１８５が設けられている。詳細は後述するが、この他にも支持ベース１８１上には、メンテナンス装置２２の吐出前フラッシングユニット４１１や、ワーク除給手段３２のリフトアップ機構２６１およびプリアライメント機構２６２が配設されていると共に、ワークＷを吸着セットするための吸引配管部５７２（バルブ・配管部）や吸着テーブル１５２廻りの各機構に圧縮エアーを供給するためのエアー配管部５５３（バルブ・配管部）等が設置されている。
【００５８】
３点支持機構１８２は、３点支持により、テーブル本体１８３を安定して支持するものであり、図１３に示すように、３本のテーブル支持部材１９１（支柱部材）で構成されている。３本のテーブル支持部材１９１は、各テーブル支持部材１９１を結んだ三角形が略正三角形となり、かつ各テーブル支持部材１９１に略均等にテーブル本体の重量がかかるよう（すなわち、テーブル本体１８３の重心と各テーブル支持部材１９１を結んだときに形成される三角形の重心を一致させて）配設されている。
【００５９】
各テーブル支持部材１９１は、その上面中央にテーブル本体１８３をねじ止めするための雌ねじが螺設された円柱状のテーブル支持部１９２と、上端にテーブル支持部１９２をフランジ形式で固定したテーブル高さ調整機構１９３と、を有している。
【００６０】
３点支持に対応する３つのテーブル高さ調整機構１９３は、それぞれが上下に微調整されることにより、テーブル本体１８３（のセット面１８３ａ）の水平面に対する平行度を高精度に調整できるようになっている（理論的には３点支持のうち２点が調整できればよい）。図１４を参照して説明すると、各テーブル高さ調整機構１９３は、支持ベース１８１に位置決め固定されたケース状のベースフレーム１９４と、ベースフレーム１９４に対し昇降自在（上下動自在）に支持されたテーブル本体１８３側の昇降ブロック１９５と、昇降ブロック１９５の下面に接触すると共にベースフレーム１９４に対しＸ軸方向に進退自在に支持された支持ベース１８１側の進退ブロック１９６と、ベースフレーム１９４に回動自在に軸支され軸部を進退ブロック１９６に螺合したテーブル高さ調整ねじ１９７と、を有している。
【００６１】
同図に示すように、進退ブロック１９６および昇降ブロック１９５は、相互の接触面が相補的な形状をしており、進退ブロック１９６の上端面（接触面）は、スライド方向に対して僅かに傾斜して形成される一方、昇降ブロック１９５の下端面（接触面）は、進退ブロック１９６のスライド方向に対して、進退ブロック１９６と反対方向に同角度に傾斜して形成されている。したがって、テーブル高さ調整ねじ１９７を正逆回転させると、進退ブロック１９６がＸ軸方向にスライドし、相互の接触面のカム作用により昇降ブロック１９５が昇降する。
【００６２】
進退ブロック１９６および昇降ブロック１９５の両接触面は、スライド方向に直交する断面形状が凹凸を為して接合しており、これらブロック１９５，１９６が相互に横ブレしないようになっている。そして、高さ調整が終了すると、調整した高さが狂わないようにブロック固定ねじ２００でねじ止めする。具体的には、昇降ブロック１９５およびベースフレーム１９４を２個のブロック固定ねじ２００で、高さ調整ねじ１９７と同じ方向にねじ止めし、進退ブロック１９６およびベースフレーム１９４を２個のブロック固定ねじ２００で高さ調整ねじ１９７と直交する方向にねじ止めする。この場合、ベースフレーム１９４の両側板には、ねじ穴１９８が、進退ブロック１９６には、スライド方向に延在する長穴１９９が形成されており、進退ブロック１９６のスライド位置に合わせて、これらをねじ止めできるようになっている（図１４参照）。
【００６３】
テーブル本体１８３は、石材で厚板状に構成された平面視略正方形の石盤である。テーブル本体１８３の一辺の長さは、ワークＷの長辺の長さと一致しており、コストダウンを図るべく最小限の大きさに形成されると共に、縦置きおよび横置きのいずれか任意の向きでワークＷをセット可能となっている。図１５に示すように、テーブル本体１８３には、後述するリフトアップ機構２６１の複数のリフトアップピン２７１を貫通させるための縦４個×横８個、計３２個の貫通孔２０１（挿通孔）が形成されていると共に、３点支持機構１８２にテーブル本体１８３を固定ねじ（図示省略）でねじ止めするための固定穴２０２が３個形成されている。固定穴２０２は、固定ねじの頭部がテーブル本体１８３の表面から突出しないようにざぐり穴２０３を有している。
【００６４】
図１５に示すように、テーブル本体１８３の周縁部には、これに切り込むように後述するプリアライメント機構２６２のＸ軸位置決め機構３３１（後述する）およびＹ軸位置決め機構３６１（後述する）を逃がすための逃がし溝２０４が前後に１箇所ずつ、および左右に２箇所ずつの計６箇所形成されている。また、テーブル本体１８３の下面周縁部には、左右各一対の逃がし溝２０４ｂの外側に位置して、その左右端部に、各一対ずつ計４個の当接溝２０５が形成されている。上記した４組の位置規制部材１８５は、その先端部にばね付きの当接ピン１８６を有しており、２組の位置規制部材１８５が、逃がし溝２０４ａの外側に位置してテーブル本体１８３の前後端面に当接し、残り２組が、左右各一対の当接溝２０５の先端面２０５ａに当接するよう配設されている。すなわち、テーブル本体１８３は、その側端面に４組の位置規制部材１８５の当接ピン１８６を当接させることにより、水平面内における位置規制を受けている。なお、当接溝２０５により、２組の位置規制部材１８５はテーブル本体１８３の輪郭内に納まり、残りの２組の位置規制部材１８５は、テーブル本体１８３に添設した一対のフラッシングボックス（後述する）を含む輪郭内に納まるようになっている。
【００６５】
また、図１５に示すように、テーブル本体１８３の表面（セット面１８３ａ）には、３２個の貫通孔２０１、３個の固定穴２０２、および６個の逃がし溝２０４の他、これらを逃げるように、ワークＷを吸引するための吸引溝２１１が複数形成されている。吸引溝２１１は、ワークＷの主要部を吸引するための主吸引溝２１２と、ワークＷの周縁部を吸引するための副吸引溝２１３と、を有している。主吸引溝２１２は、５本の環状吸引溝で構成されており、テーブル本体１８３の中心から外側に向かって大きくなる（同心状の）五重の正方形にパターニングされている。また、副吸引溝２１３は、Ｘ軸方向に延在する縦吸引溝２１３ａとＹ軸方向に延在する横吸引溝２１３ｂとで構成されており、主吸引溝２１２の外側に形成されている。縦吸引溝２１３ａは、テーブル本体１８３の周縁部の左右各２個の逃がし溝２０４ｂの間に延在する左右２本の吸引溝で構成されており、ワークＷを横置きセットしたときに用いられる。一方、横吸引溝２１３ｂはワークＷを縦置きセットしたときに用いられるものであり、テーブル本体１８３周縁部の前後各１個の逃がし溝２０４ａで分断するように形成した４本の吸引溝で構成されている。
【００６６】
図１５および図２６に示すように、各吸引溝２１２，２１３ａ，２１３ｂには、支持ベース１８１上の吸引配管（図示省略）に連通する吸引孔２１４（個別吸引孔）が２個ずつ形成されている。吸引孔２１４の直径は、吸引溝２１１の幅よりも一回り大きく形成されており、吸引溝２１１を介して十分な吸引力をワークＷに作用させることができるようになっている（実際には、吸引溝２１１：径２ｍｍ、吸引孔２１４：径３ｍｍ）。そして、吸引孔２１４からエアー吸引を行うと、吸引孔２１４および吸引溝２１１からワークＷに対して略均一に吸引力を作用させることができ、ワークＷの平坦度を維持しつつ、テーブル本体１８３に対してワークＷを不動に吸着セットできるようになっている。
【００６７】
なお、テーブル本体１８３には、検査用の小型基板をセットするためのセット箇所２１６が４箇所設けられており、いずれか任意の位置に小型基板をセット可能となっている。４つのセット箇所２１６は、テーブル本体１８３の４隅近傍に設けられており、各セット箇所２１６には、小型基板を吸着セットするための４個の吸引孔２１７が形成されている。
【００６８】
ワークＷに対して精度よく描画処理を行うため、テーブル本体１８３（セット面１８３ａ）の平面度（平坦度）は厳密に調整される。具体的には、装置外において吸着テーブル１５２をθテーブル１５１に取り付ける場合、先ず、支持ベース１８１に固定した３点支持機構１８２のテーブル支持部材１９１にテーブル本体１８３をねじ止めする。このねじ止めによりセット面１８３ａの平面度が微少に狂うため、続いてハンドラップ（セット面１８３ａの表面を僅かに削る）を行い、セット面１８３ａの平面度を出す。次に、これを装置内に運び込み、支持ベース１８１をθテーブル回転部１６２に固定した後、支持ベース１８１の固定により影響を補償するため、テーブル高さ調整機構１９３のテーブル高さ調整ねじ１９７によりテーブル本体１８３の高さ位置を微調整する。これにより、セット面１８３ａに極めて高い平面度を得ることが可能となる。
【００６９】
図３および図１１に示すように、Ｘ軸エアースライダ１４２は、セットテーブル１４１を支持するスライダ本体２２１と、スライダ本体２２１の下部に固定され、一対のＸ軸ガイドレール１４４にガイドされる一対のガイド部２２２と、で構成されている。スライダ本体２２１の上面には、２つの浅溝２２３が形成されており、各浅溝２２３内に防液シート１４６が挿通される。また、スライダ本体２２１には、テーブル本体１８３に形成したカメラ開口２２６に臨み、レンズを上方に（機能液滴吐出ヘッド５１側に）向けた上記のヘッド認識カメラ２２５が設置されている。ヘッド認識カメラ２２５は、ヘッドユニット４１を撮像するものであり、この撮像結果に基づいて、ヘッドユニット４１を介して機能液滴吐出ヘッド５１の位置を微調整するようになっている。ヘッド認識カメラ２２５は、焦点距離を調整するためにカメラ本体２２５ａを昇降させる昇降機構を有しており、ヘッドユニット４１の高さ位置に合わせてカメラ本体２２５ａの高さ位置を調節可能となっている。
【００７０】
ところで、ワークＷは、ガラスや樹脂等で構成されているため、セットするテーブル本体１８３に温度むらが生じていると、その影響を受けて不均一に熱膨張し、描画処理結果に悪影響を及ぼす。そこで、本実施形態では、テーブル本体１８３を、温度むらが生じにくく熱膨張率の小さな石材で構成すると共に、温度むらの原因となるテーブル本体１８３の穴や溝の割合を極力少なくしている。これにより、テーブル本体１８３の表面における温度むらが削減されると共に、ワークＷのテーブル本体１８３に対する接触面積を増すことができ、テーブル本体１８３の温度むらによるワークＷの歪を防止可能である。
【００７１】
具体的には、ワークＷをテーブル本体１８３上にセットしたときに接触する貫通孔２０１および固定穴２０２の直径を可能な限り小さくする（貫通孔２０１：１８ｍｍ、固定穴２０２（ざぐり穴：３３ｍｍ）と共に、吸引溝２１１の溝幅を極力細くしている（吸引溝２１１：２ｍｍ）。また、詳細は後述するが、リフトアップピン２７１の数を極力削減して、貫通孔２０１の数を減らしている。これにより、本実施形態では、ワークＷの９６．５％がテーブル本体１８３の石盤部分（平坦部）に接触する構成となっている。なお、ワークＷとテーブル本体１８３の石盤部分との接触割合は、ワークＷの材質（熱膨張率）等やワークＷに描画処理を行ったときの歩留まり等を考慮して設定可能であるが、少なくとも８０％以上、より好ましくは９０％あるいは９５％以上とすることが効果的である。
【００７２】
一方、テーブル本体１８３と、テーブル高さ調整機構１９３を介してこれを支持する支持ベース１８１とは、相互に固定状態にあるが、いずれも石材で構成されているため、相互間での熱的影響（熱膨張）はきわめて少ない。支持ベース１８１を金属で構成した場合には、テーブル高さ調整機構１９３の下面を支持ベース１８１に非固定状態とするか、あるいは、テーブル本体１８３をテーブル高さ調整機構１９３の上面に対し非固定状態とすることが好ましい。これにより、テーブル本体１８３が支持ベース１８１による熱的影響をほとんど受けることがなく、テーブル本体１８３の平坦度を維持することができる。
【００７３】
もっとも、テーブル高さ調整機構１９３の下面を支持ベース１８１に固定し、テーブル本体１８３の上面をテーブル高さ調整機構１９３に固定する場合であっても、テーブル高さ調整機構１９３を介してテーブル本体１８３および支持ベース１８１相互間の熱収縮差および熱膨張差を吸収することが可能である。具体的には、進退ブロック１９６と昇降ブロック１９５とのねじ止め、および昇降ブロック１９５とベースフレーム１９４とのねじ止めを行わず、昇降ブロック１９５および進退ブロック１９６間を非固定状態とする。すなわち、昇降ブロック１９５に対して進退ブロック１９６をスライド可能とすることにより、テーブル本体１８３および支持ベース１８１相互間のＸ軸方向における熱的影響を吸収できるようになっている。この場合、ベースフレーム１９４とテーブル高さ調整ねじ１９７との間に、テーブル高さ調整ねじ１９７の軸部を進退ブロック１９６のスライド方向に付勢するばね（図示省略）を介設するなどして、テーブル高さ調整ねじ１９７の緩みを防止することが好ましい。なお、Ｙ軸方向における熱的影響は、凹凸に形成された進退ブロック１９６および昇降ブロック１９５の両接触面の寸法交差によって吸収する。
【００７４】
図１６ないし図１８に示すように、Ｙ軸テーブル１２２は、上記した石定盤１２に立設した４本の支柱２３１上に、Ｘ軸テーブル１２１を跨ぐように掛け渡した一対のＹ軸支持部材２３２上に支持されている。４本の支柱２３１は、前後左右２本ずつ並んで配設されており、左右（Ｙ軸方向）に並んだ２本の支柱２３１上に、Ｙ軸方向に延在するブロック状の石材で構成された一対のＹ軸支持部材２３２が架け渡されている。各支柱２３１の上端とＹ軸支持部材２３２との間には、装置の組み立て時に、石材で構成したＹ軸支持部材２３２の高さ調整をするための高さ調整プレート２３３が介設されている。高さ調整プレート２３３は、支柱２３１の上端部に固定されており、Ｙ軸支持部材２３２を非固定状態で支持している。もっとも、高さ調整プレート２３３の両側部には、Ｙ軸支持部材２３２を挟むようにしてその横ブレを規制する一対の規制片２３４が形成されており、これにより非固定状態のＹ軸支持部材２３２が位置規制されている。また、前後（Ｘ軸方向）に並んだ２本の支柱２３１間には、上下中間位置よりもやや下側にこれらを連結する連結部材２３５が架け渡されている。なお、実情に応じて、高さ調整プレート２３３を省いて構成することも可能である。
【００７５】
また、一対のＹ軸支持部材２３２には、その内側に位置して、ワークＷのアライメントを認識するための一対のワーク認識カメラ２３６が描画領域１３２に臨んで配設されている（図１６ないし図１８参照）。一対のワーク認識カメラ２３６は、レンズを下方（ワークＷ側）に向けており、ヘッド認識カメラ２２５と同様、ワークＷの厚みに対応して焦点距離を調節すべく、カメラ本体（図示省略）を昇降させるカメラ昇降機構（図示省略）を有している。さらに、Ｙ軸支持部材２３２とワーク認識カメラ２３６との間には、ワーク認識カメラ２３６をＹ軸方向にスライド移動させるスライド機構（図示省略）が介設されており、ワークＷの種類などに対応させてワーク認識カメラ２３６の位置を調整可能になっている。また、図示後方のＹ軸支持部材２３２には、セットテーブル１４１（のセット箇所２１６）にセットされた検査用の小型基板の位置補正を行うための２眼の検収用カメラ２３７が配設されている。
【００７６】
Ｙ軸テーブル１２２は、メインキャリッジ４２を挿通して固定したブリッジプレート２４１と、ブリッジプレート２４１を両持ちで支持する一対のＹ軸スライダ（図示省略）と、Ｙ軸方向に延在し、一対のＹ軸スライダを介してブリッジプレート２４１をＹ軸方向に移動させる一対のＹ軸リニアモータ２４３と、Ｙ軸リニアモータ２４３に並設され、ブリッジプレート２４１の移動を案内する一対のＹ軸ガイドレール（ＬＭガイド：図示省略）と、メインキャリッジ４２（ヘッドユニット４１）の移動位置を検出するためのＹ軸リニアスケール（図示省略）と、を備えている（図２、図４、図１６ないし図１８等参照）。一対のＹ軸リニアモータ２４３を駆動すると、一対のＹ軸スライダが一対のＹ軸ガイドレールを案内にして同時にＹ軸方向を平行移動し、ブリッジプレート２４１を両持ち状態でＹ軸方向に移動させる。
【００７７】
ブリッジプレート２４１は、その略中間位置にメインキャリッジ４２を挿通させるための開口（図示省略）が形成されており、ブリッジプレート２４１にメインキャリッジ４２のヘッド固定部材９１を上面からねじ止めすると、ヘッド回動機構８３およびヘッドユニット４１が下方に突出した状態で支持される。なお、一対のＹ軸支持部材２３２上には、ブリッジプレート２４１に並んで、ブリッジプレート２４１と独立してＹ軸方向に移動可能なカメラ用ブリッジプレート２４５が架け渡されており、カメラ用ブリッジプレート２４５には、ワークＷに行った描画処理結果を確認するための描画観察カメラ２４６が搭載されている（図１６ないし図１８参照）。描画観察カメラ２４６にも、ワークＷに合わせてカメラ本体を昇降させる昇降機構が組み込まれている。
【００７８】
なお、先に説明したＸ軸テーブル１２１では、一対のＸ軸リニアモータ１４３、一対のＸ軸ガイドレール１４４、Ｘ軸リニアスケール１４５は、上記した石定盤１２上に直接設置されている。一方、Ｙ軸テーブル１２２の各Ｙ軸支持部材２３２は、直方体の石板で構成されており、各Ｙ軸支持部材２３２上には、Ｙ軸リニアモータ２４３、Ｙ軸ガイドレール、Ｙ軸リニアスケールが直接載置されている。このように、Ｘ軸テーブル１２１およびＹ軸テーブル１２２の主要部を、平面度を出し易くかつ熱膨張率の小さい石材上に設置することにより、ワークＷおよびヘッドユニット４１を精度よく移動させることが可能となり、ワークＷに対する描画処理精度を極めて高いものとすることができる。この場合、石定盤１２を架台１１に、Ｙ軸支持部材２３２を支柱２３１（高さ調整プレート２３３）に固定してもよいが、石定盤１２を架台１１に対し非固定状態で載置し、同様にＹ軸支持部材２３２も支柱２３１に対し非固定状態で載置することが好ましい。これにより、いずれも架台および補強プレートの熱膨張の影響を排除し得る。
【００７９】
図３等に示すように、一対のＸ軸リニアモータ１４３は、一対のＸ軸収容ボックス内に収容されている。Ｘ軸収容ボックス２５１内には、Ｘ軸リニアモータ１４３に並設させて、セットテーブル１４１等に接続するチューブやケーブル類を収容したＸ軸ケーブル担持体（ケーブルベア：登録商標）が収容されており、セットテーブル１４１の移動に追従させて、ケーブル類の可動端を移動させる構成となっている。同様に、Ｙ軸リニアモータ２４３、Ｙ軸ガイドレール、およびＹ軸スライダは、ヘッドユニット４１等に接続するチューブやケーブル類を収容したＹ軸ケーブル担持体（ケーブルベア：登録商標）と共に、Ｙ軸支持部材２３２上に設置された一対のＹ軸収容ボックス２５２内に収容されている（図４等参照）。
【００８０】
そして、各Ｙ軸収容ボックス２５２は、Ｙ軸支持部材２３２の側面に外向きに固定した一対のブラケット２４７に支持されている。これにより、Ｙ軸支持部材２３２は、Ｙ軸ガイドレール等を支持する機能を充足すると共に、コストダウンを図るべく、最小限の大きさに形成されている。なお、図中の符号２５５は、各組の支柱２３１の上部間に掛け渡した一対のエアーブロー機構である。各エアーブロー機構２５５は、チャンバ装置４内の温度と同温度のエアーをブローヘッドからＸ軸方向に移動するワークＷ上に吹き付けるものであり、描画後の機能液滴（画素）の溶剤を強制的に気化させる（成膜）。
【００８１】
ここで、描画処理時における吐出手段３１の一連の動作について説明する。先ず、Ｘ・Ｙ移動機構４３により、ヘッドユニット４１およびセットテーブル１４１を描画領域１３２に移動させる。そして、機能液を吐出する前の準備として、ヘッド認識カメラ２２５により、機能液滴吐出ヘッド５１の位置を確認しながら、ヘッド回動機構８３を駆動して、ヘッドユニット４１のθ軸方向の位置補正を行う。続いて、セットテーブル１４１をワーク搬出入領域１３１に移動させ、ワークＷをセットした後、再びセットテーブル１４１を描画領域１３２に移動させる。そして、ワーク認識カメラ２３６に基づいてθテーブル１５１を駆動し、セットテーブル１４１にセットされたワークＷのθ軸方向の位置補正を行う。なお、本実施形態では、描画処理の前段階として、吐出補正用カメラ１０４により、予め機能液滴吐出ヘッド５１の吐出タイミング補正を行うと共に、セットするワークＷに合わせて、ヘッド昇降機構８４によりワークギャップを調整している。但し、ワークギャップに関しては、ワークギャップを検出するギャップ検出センサ等を設け、描画処理毎にギャップ調整を行うようにしてもよい。
【００８２】
次に、Ｘ・Ｙ移動機構４３（Ｘ軸テーブル１２１）が、ワークＷを主走査（Ｘ軸）方向に往動させる。ワークＷの往動と同期して、機能液滴吐出ヘッド５１が選択的に駆動され、ワークＷに対する機能液の選択的な吐出動作が行われる。ワークＷが一往動すると、Ｘ・Ｙ移動機構４３（Ｙ軸テーブル１２２）は、ヘッドユニット４１を副走査（Ｙ軸）方向に移動させる。そして、Ｘ・Ｙ移動機構４３により、ワークＷを復動させると共に、これと同期して機能液滴吐出ヘッド５１の選択的な駆動を行う。ワークＷの一復動が終了すると、Ｘ・Ｙ移動機構４３により、ヘッドユニット４１を副走査させる。そして、ワークＷの主走査方向へ往復動と機能液滴吐出ヘッド５１の駆動と、を繰り返すことにより吐出手段３１は、ワークＷに機能液による描画を行っている。
【００８３】
ワーク除給手段３２は、ワーク搬出入領域１３１に搬入された未処理のワークＷをセットテーブル１４１に適切にセットすると共に、描画処理を行ったワークＷをセットテーブル１４１から適切にリフトアップするためのものであり、セットテーブル１４１に対してワークＷを離接させるリフトアップ機構２６１と、リフトアップ機構２６１によりセットテーブル１４１に載置された未処理のワークＷを位置決めするプリアライメント機構２６２と、ワークＷをセットテーブル１４１から離間させるときにワークＷに生じる剥離帯電を除電するための除電手段２６３と、を備えている。なお、ワークＷをリフトアップさせた状態で、上述の移載ロボットのロボットアーム（図示省略）がこれに下側から臨み、ワークＷの装置外への搬入・搬出が行われる。
【００８４】
リフトアップ機構２６１は、吸着テーブル１５２の支持ベース１８１上に配設されており、吸着テーブル１５２の貫通孔２０１から昇降するリフトアップピン２７１を介し、吸着テーブル１５２に対してワークＷを離接させるものである。図１２に示すように、リフトアップ機構２６１は、Ｘ軸方向を列方向として、１列を８本のリフトアップピン２７１で構成した４列のリフトアップピン列２７２を有している。同図に示すように、４列のリフトアップピン列２７２は、Ｙ軸方向に等間隔に配設されており、リフトアップ機構２６１は、両端に位置する各１列のリフトアップピン列２７２を昇降させる一対の第１リフトアップユニット２７３と、中央２列のリフトアップピンを同時に昇降させる第２リフトアップユニット２７４と、で構成されている。
【００８５】
図１９に示すように、各第１リフトアップユニット２７３は、８本の第１リフトアップピン２７１ａ（側部ピン群）と、これらをＸ軸方向に対して等間隔に立設させた第１リフトアッププレート２８１（側部支持プレート）と、第１リフトアッププレート２８１を昇降させるための第１リフトアップ機構２８２（側部上下動機構）と、第１リフトアップ機構２８２を支持する第１リフトアップベースプレート２８３と、で構成されている。第１リフトアップ機構２８２は、第１リフトアッププレート２８１を昇降させる第１リフトアップモータ２９１（サーボモータ）と、第１リフトアップモータ２９１により正逆回転する（１本の）第１リフトアップボールねじ２９２と、第１リフトアップボールねじ２９２に螺合し、第１リフトアッププレート２８１を昇降自在に支持する第１雌ねじブロック２９３と、第１リフトアッププレート２８１の昇降をガイドする前後一対（２本）の第１リフトアップガイド２９４と、第１リフトアップピン２７１ａの昇降位置を検出する第１昇降位置検出センサ２９５と、を有している。
【００８６】
第１リフトアッププレート２８１の長手方向中間には、第１雌ねじブロック２９３が固定されている。そして、第１リフトアッププレート２８１には、その中心位置に第１リフトアップボールねじ２９２が貫通していると共に、第１リフトアップボールねじ２９２の前後に離間して一対の第１リフトアップガイド２９４が貫通している。第１リフトアップボールねじ２９２は、下端部を第１ベルトボックス２９７内に位置して第１リフトアップベースプレート２８３の中心位置に軸支され、且つ上端部を第１リフトアップベースプレート２８３に立設した第１ボールねじ支持部材２９６に軸支され、この状態で第１雌ねじブロック２９３に螺合している。第１リフトアップモータ２９１は、その出力軸を第１ベルトボックス２９７内に臨ませる下向き姿勢でこれに支持されている。第１リフトアップモータ２９１の出力軸および第１リフトアップボールねじ２９２には、それぞれ第１プーリ２９８が固定され、この両プーリ間には、第１リフトアップモータ２９１の動力を第１リフトアップボールねじ２９２に伝達する第１タイミングベルト２９９が掛け渡されている。
【００８７】
第１リフトアップモータ２９１を駆動すると、第１タイミングベルト２９９を介して第１リフトアップボールねじ２９２が正逆回転し、第１雌ねじブロック２９３を介して、第１リフトアッププレート２８１を昇降させる。これにより、第１リフトアップピン２７１ａが昇降する。なお、第１リフトアップユニット２７３は、第１リフトアップボールねじ２９２を中心として対称に構成されており、第１リフトアッププレート２８１を安定に昇降できるようになっている。
【００８８】
図１９に示すように、第１昇降位置検出センサ２９５は、第１ボールねじ支持部材２９６に取り付けられており、第１リフトアップピン２７１ａの上動端位置（搬入搬出位置）に対応して配設され、第１リフトアッププレート２８１の上限位置を検出する第１上限位置検出センサ３０１（フォトインタラプタ）と、第１リフトアップピン２７１ａの下動端位置に対応して配設され、第１リフトアップピン２７１ａの下限位置を検出する第１下限位置検出センサ３０２（フォトインタラプタ）と、を有している。また、第１下限位置検出センサ３０２の上側には、第１リフトアップピン２７１ａがワークＷに突き当たる状態に対応する第１原点センサ３０３（フォトインタラプタ）が設けられている。そして、第１リフトアッププレート２８１には、第１検出片３０４（透光板）が固定されおり、第１リフトアッププレート２８１と共に昇降する第１検出片３０４を、第１上限位置検出センサ３０１、第１原点センサ３０３および第１下限位置検出センサ３０２で検出することにより、第１リフトアップピン２７１ａの上動端位置、ワーク突当て位置および下動端位置を検出する。この場合、上動端位置は、ワークＷを載せ替えるためのリフトアップ位置（搬入搬出位置）であり、下動端位置は、第１リフトアップピン２７１ａがテーブル本体１８３の貫通孔２０１に没入する位置である。
【００８９】
本実施形態では、第１リフトアップピン２７１ａは、テーブル本体１８３に載置（セット）されているワークＷに対し、下動端位置から上昇を開始するが、ワークＷの突当て位置まではきわめて低速で上昇する。第１リフトアップピン２７１ａがワークＷに突き当たってこれを受け取った後は、高速で上動端位置まで上昇する。また、これと逆の動作で第１リフトアップピン２７１ａの下降動作が行われる。このように、ワークＷをテーブル本体１８３から離間させる前後においてワークＷを低速で上昇させるようにしているため、第１リフトアップピン２７１ａの突き当て時の衝撃を抑え、且つ剥離帯電を抑制することができる。同様に、ワークＷをテーブル本体１８３に載置するときに、ワークＷを低速で下降させるようにしているため、ワークＷをテーブル本体１８３との間にエアー（気泡）がかみ込むのを防止することができる。
【００９０】
図２０に示すように、第２リフトアップユニット２７４は、１６本の第２リフトアップピン２７１ｂ（中間部ピン群）と、これらを２列に二分して立設させた第２リフトアッププレート３１１（中間部支持プレート）と、第２リフトアッププレート３１１を昇降させるための第２リフトアップ機構３１２（中間部上下動機構）と、第２リフトアップ機構３１２を支持する第２リフトアップベースプレート３１３と、第２リフトアップピン２７１ｂの昇降位置を検出する第２昇降位置検出センサ３２０と、を有している。同図に示すように、第２リフトアップ機構３１２は、第２リフトアップボールねじ３１４に螺合する第２雌ねじブロック３１０が第２リフトアッププレート３１１を昇降自在に支持しており、第１リフトアップユニット２７３と略同様に構成されているが、前後一対（２本）の第２リフトアップボールねじ３１４と、前後各一対（４本）の第２リフトアップガイド３１５が設けられていると共に、前後一対の第２ボールねじ支持部材３１６が第２リフトアッププレート３１１を軸支している点で異なっている。第２リフトアップモータ３１７は、第２リフトアッププレート３１１を貫通すると共に、一方の第２リフトアップボールねじ３１４に対峙するように第２リフトアップベースプレート３１３に立設している。また、第２リフトアップモータ３１７は、その出力軸を第２ベルトボックス３１９内に臨ませており、第２リフトアップモータ３１７の出力軸および一対の第２リフトアップボールねじ３１４には、それぞれプーリが固定されている。そして、図２０に示すように、これら３つのプーリ間には、第２タイミングベルト３１８が掛け渡されており、単一の第２リフトアップモータ３１７により、一対の第２リフトアップボールねじ３１４が同期しながら正逆回転する。第２リフトアップモータ３１７を除けば、第２リフトアップ機構３１２は、対称に構成されており、安定して第２リフトアッププレート３１１をリフトアップできるようになっている。
【００９１】
また、第１リフトアップ機構２８２と同様に、第２リフトアップモータ３１７に対峙する第２ボールねじ支持部材３１６には、第２上限位置検出センサ（フォトインタラプタ）および第２下限位置検出センサ（フォトインタラプタ）から成る第２昇降位置検出センサ３２０と、第２リフトアップピン２７１ｂがワークＷに突き当たる状態に対応する第２原点センサ（図示省略）と、が設けられている。一方、第２リフトアッププレート３１１には、第２検出片（図示省略）が取り付けられており、この第２検出片を介して、第２リフトアップピン２７１ｂの上動端位置、下動端位置、および原点位置を検出できるようになっている。
【００９２】
なお、第１リフトアッププレート２８１および第２リフトアッププレート３１１の上限位置および下限位置は、各リフトアッププレート２８１，３１１上のリフトアップピン２７１のピン先の位置により規定されており、各リフトアッププレート２８１，３１１の上限位置は、リフトアップピン２７１が吸着テーブル１５２のセット面１８３ａから約５０ｍｍ程度突出する位置（搬入搬出位置）、各リフトアッププレート２８１，３１１の下限位置は、リフトアップピン２７１が吸着テーブル１５２のセット面１８３ａよりも約１ｍｍ程度低くなる位置となっている。
【００９３】
リフトアップピン２７１は、ワークＷに当接するピン本体２７６と、先端にピン本体２７６を固定すると共に、第１リフトアッププレート２８１または第２リフトアッププレート３１１にねじ止め固定されるピンホルダ２７７と、を有している。ピン本体２７６の先端、すなわちワークＷと接触する部分は、樹脂等のピーク材で構成され、ピン本体２７６の先端以外とピンホルダ２７７はステンレスやスチールのロッド材で構成されている。
【００９４】
ここで、リフトアップ機構２６１の一連の動作について説明する。上述したように、一対の第１リフトアップユニット２７３および第２リフトアップユニット２７４は、それぞれリフトアップモータを有しているため、一対の第１リフトアッププレート２８１および第２リフトアッププレート３１１を独立して昇降させることができる。そこで、これらを異なるタイミングで昇降させることにより、ワークＷを適切に吸着テーブル１５２に載置すると共に、吸着テーブル１５２からワークＷをリフトアップすることができるようになっている。
【００９５】
ワーク搬出入領域１３１に搬入された未処理のワークＷを吸着テーブル１５２に載置する場合、先ず、一対の第１リフトアッププレート２８１および第２リフトアッププレート３１１を上限位置まで上昇させておいて、４列全てのリフトアップピン２７１により、ワーク搬出入領域１３１に臨む吸着テーブル１５２上でワークＷを受け取る。次に、第２リフトアップモータ３１７のみを駆動し、第２リフトアップピン２７１ｂのみを下降させていく。これによりワークＷは自重で歪み、弧状に反る。第２リフトアップモータ３１７の駆動から所定時間経過後、第２リフトアップモータ３１７を駆動したまま、一対の第１リフトアップユニット２７３の各第１リフトアップモータ２９１を同時に駆動し、ワークＷを弧状に反らした状態（上反り状態）で下降させていく。すなわち、第１リフトアップピン２７１ａに先行して、第２リフトアップピン２７１ｂを下降させることにより、先ず、第２リフトアップピン２７１ｂに支持されたワークＷの中央部を吸着テーブル１５２に接触させ、これに追従するようにワークＷの左右両端部を吸着テーブル１５２に接触させている。これにより、ワークＷおよび吸着テーブル１５２間の空気は、ワークＷの中央部から両端部に向けて押し出されるように逃げてゆくため、ワークＷと吸着テーブル１５２との間に空気を残留させることなく、ワークＷを吸着テーブル１５２上に載置することができる。
【００９６】
この場合、リフトアップピン２７１の下降と並行して、テーブル本体１８３のエアー吸引を行うことが好ましい。より好ましくは、上記した副吸引溝２１３によるエアー吸引に先行して、主吸引溝２１２によるエアー吸引を行うといったように、セット面１８３ａの中央部から外側に向かって順次エアー吸引を行うようにする。これにより、ワークＷおよび吸着テーブル１５２間に空気が残留することを効果的に防止できる。なお、リフトアップピン２７１にワークＷを支持させた後の一連の動作は、描画処理のためのワークＷの描画領域１３２への移動と並行して行うことが可能である。
【００９７】
一方、描画処理を終えたワークＷを吸着テーブル１５２から持ち上げる（引き剥がす）ときには、先ず、各第１リフトアップモータ２９１を同時に駆動して、第１リフトアップピン２７１ａを上昇させ、ワークＷの両端部を突き上げるように持ち上げる。各第１リフトアップモータ２９１の駆動から所定時間経過後、各第１リフトアップモータ２９１を駆動したまま、第２リフトアップモータ３１７を駆動する。これにより、ワークＷの両端部がその中央部よりも先行して持ち上げられ、ワークＷは弧状に反った状態で吸着テーブル１５２から引き剥が（離間）される。したがって、ワークＷとテーブル本体１８３との間に、その端から徐々に空気を流入させることができ、ワークＷに無理な力をかけることなくワークＷを吸着テーブル１５２から離間させることができる。また、剥離帯電を抑制することができる。そして、吸着テーブル１５２からワークＷが完全に引き剥がされた後は、一対の第１リフトアップピン２７１ａおよび第２リフトアッププレート３１１がそれぞれ上動端位置まで達するまで、各第１リフトアップモータ２９１および第２リフトアップモータ３１７を駆動する。なお、詳細は後述するが、リフトアップ機構２６１により吸着テーブル１５２からワークＷを引き離すときには、除電手段２６３を同期して駆動させ、剥離帯電によりワークＷの裏面に生じる静電気の除電を行う。
【００９８】
また、上述したようにワークＷを吸着テーブル１５２に離接させる瞬間には、リフトアップピン２７１の昇降速度を抑え、吸着テーブル１５２への離接によってワークＷが受ける衝撃を小さくしている。すなわち、吸着テーブル１５２にワークＷを載置する場合、第２リフトアッププレート３１１を先ず速度Ｖｄ１で下降させてゆき、ワークＷが吸着テーブルに接触するときには速度Ｖｄ２で下降させている（但し、Ｖｄ１＞Ｖｄ２）。一方、吸着テーブル１５２からワークＷを引き剥がす場合には、第１リフトアップピン２７１ａを先ず速度Ｖｕ１で上昇させてゆき、ワークＷが吸着テーブルから完全に離間した後は速度Ｖｕ２で上昇させている（但し、Ｖｄ１＜Ｖｄ２）。このように、吸着テーブル１５２にワークＷを離接させるときの昇降速度を制御することにより、ワークＷの昇降に要するサイクルタイムを削減できる。また、ワークＷの昇降速度およびワークＷを昇降させるときの反らし具合は、ワークＷの材質や厚み、形状等を考慮して個別に設定可能である。
【００９９】
また、本実施形態においては、全てのリフトアップピン２７１を同一の長さで構成し、ワークＷの中間部を支持する（第２リフトアップユニット２７４の）リフトアップピン２７１とその両側端部を支持する（第１リフトアップユニット２７３の）リフトアップピン２７１の昇降タイミングを変えることにより、吸着テーブル１５２に対する離接時にワークＷを弧状に支持するようにしているが、昇降タイミングを同じにして、ワークＷの中間部を支持するリフトアップピン２７１の昇降速度をその両側端部を支持するリフトアップピン２７１の昇降速度よりも低速としても同様の効果を得ることができる。また、ワークＷの中間部に当接するリフトアップピン２７１を短く形成し、両側端に向かってリフトアップピン２７１を長くなるように形成してもよい。また、本実施形態リフトアップ機構２６１は、ワークＷの両端部をリフトアップさせる第１リフトアップピン２７１ａと、ワークＷ中間部をリフトアップさせる第２リフトアップピン２７１ｂと、に分割しているが、ワークＷの中央部を突き上げる中央部ピン群とワークＷの周縁部を突き上げる周縁部ピン群とに分割して構成することも可能である。この場合、中央部ピン群を支持する中央部支持プレートを昇降させる中央部リフトアップ機構、周縁部ピン群を支持する周縁部支持プレートを昇降させる周縁部リフトアップ機構により、中央部支持プレートおよび周縁部支持プレートを独立して昇降可能に構成する。
【０１００】
また、ワークＷをリフトアップピン２７１に支持させると、ワークＷの自重により、リフトアップピン２７１間でワークＷの撓みが生じる。ワークＷには、許容撓み量が予め設定されており、この許容撓み量を満たす範囲内で、リフトアップピン２７１数が最小になるように、各リフトアップピン列２７２間の距離（ピッチ）および１列を構成するリフトアップピン２７１間の距離が設定されている。このように、リフトアップ機構２６１のリフトアップピン２７１数を、許容可能な最小数とすることにより、リフトアップピン２７１を貫通させるための貫通孔２０１数を最小としている。
【０１０１】
図１２に示すように、プリアライメント機構２６２は、リフトアップ機構２６１により吸着テーブル１５２に載置されたワークＷのテーブル本体１８３に対する位置決め（プリアライメント）を行うものであり、一対のＸ挟持部材３３２でワークＷの前後端を挟み込むことにより、ワークＷの前後方向（Ｘ軸方向）の位置決めを行うＸ軸位置決めユニット３２１と、２組のＹ挟持部材３６２でワークＷの左右端を挟み込むことにより、ワークＷの左右方向（Ｙ軸方向）の位置決めを行うＹ軸位置決めユニット３２２と、を備えている。
【０１０２】
同図に示すように、Ｘ軸位置決めユニット３２１は、相互に対峙させて支持ベース１８１上に配設された一対のＸ軸位置決め機構３３１で構成されており、各Ｘ軸位置決め機構３３１は、ワークＷを挟持するためのＸ挟持部材３３２と、Ｘ挟持部材３３２をＸ軸方向およびＺ軸方向に移動可能に支持するＸ挟持部材移動機構３３３と、Ｘ挟持部材移動機構３３３を支持するＸ機構ベース３３４と、を有している。Ｘ機構ベース３３４は、テーブル本体１８３周縁部に形成された各逃がし溝２０４ａの位置に対応して、支持ベース１８１の周縁部に沿って固定されており、Ｘ挟持部材３３２は、通常、テーブル本体１８３の下に潜りこんだ状態で支持されている（待機位置）。Ｘ挟持部材３３２は、ワークＷに当接してこれを挟持するＸ挟持片３４１と、Ｘ挟持片３４１を保持するＸ挟持片ホルダ３４２と、を有している。Ｘ挟持片３４１は、ワークＷの損傷を防止するため、樹脂等の比較的柔軟性の高い材料で構成されている。
【０１０３】
Ｘ挟持部材移動機構３３３は、Ｘ機構ベース３３４に載置固定される第１Ｘ移動機構３５１と、第１Ｘ移動機構３５１に立設した第２Ｘ移動機構３５２と、第２Ｘ移動機構３５２に支持され、Ｘ挟持片ホルダ３４２を介してＸ挟持片３４１をスライド自在に支持する第３Ｘ移動機構３５３と、で構成されており、これら第１〜第３Ｘ移動機構３５１、３５２、３５３は、それぞれ、Ｘエアーシリンダ３５４と、Ｘエアーシリンダ３５４にスライド自在に支持されたＸスライダ３５５と、を有している。
【０１０４】
図１２に示すように、Ｘ挟持部材移動機構３３３は、第１〜第３Ｘ移動機構３５１、３５２、３５３により側面視「コ」字状に構成されている。具体的に説明すると、第１Ｘ移動機構３５１の第１Ｘエアーシリンダ３５４aは、Ｘ機構ベース３３４に固定され、第１Ｘスライダ３５５aをＸ軸方向にスライド自在に支持している。第１Ｘスライダ３５５aには、第２Ｘ移動機構３５２の第２Ｘエアーシリンダ３５４ｂが立設され、第２Ｘエアーシリンダ３５４ｂには、第２Ｘスライダ３５５ｂがＺ軸方向（鉛直方向）にスライド自在に支持されている。また、第２Ｘスライダ３５５ｂの上端部には、第３Ｘ移動機構３５３の第３Ｘエアーシリンダ３５４ｃが支持されており、第３Ｘエアーシリンダ３５４ｃには、Ｘ挟持片ホルダ３４２を固定した第３Ｘスライダ３５５ｃがＸ軸方向にスライド自在に支持されている。
【０１０５】
ワークＷの位置決めを行うときには、第１Ｘ移動機構３５１、第２Ｘ移動機構３５２、第３Ｘ移動機構３５３の順で、一対のＸ挟持部材移動機構３３３を同時に駆動させ、Ｘ挟持部材３３２を逃がし溝２０４ａに臨ませるように、Ｘ挟持部材３３２を「コ」字状に移動させる。すなわち、まず、第１Ｘ移動機構３５１により、Ｘ挟持部材３３２を吸着テーブル１５２から離間する方向にスライド移動させた後、第２Ｘ移動機構３５２により、所定の高さ（セット面１８３ａの高さ程度）までＸ挟持部材３３２を上昇させ、さらに第３Ｘ移動機構３５３により、Ｘ挟持部材３３２をワークＷに突き当てるように挟持移動させる（挟持位置）。もっとも、上述したようにワークＷは縦置きに加え横置きも可能となっており、縦置きの場合には、Ｘ挟持部材３３２をＸ軸方向に比較的短い距離を移動させるだけでワークＷに突き当てさせることができるため、Ｘ軸方向の移動を第１Ｘ軸移動機構（または第３Ｘ軸移動機構）のみで行ってもよい。これにより、ワークＷの前後端をＸ挟持片３４１が挟持するように、ワークＷの前後端面に一対のＸ挟持片３４１が当接し、ワークＷの前後方向の位置決めが為される。ワークＷの位置決め終了後は、位置決めを行うときと逆の手順でＸ挟持部材３３２を移動させ、再びＸ挟持部材３３２をテーブル本体１８３の下（待機位置）に移動させる。なお、Ｘ挟持部材３３２は、通常、テーブル本体１８３の下に収容されており、吸着テーブル１５２にワークＷを載置するときや、描画処理を行うときなどにＸ挟持部材３３２が障害となることがない。
【０１０６】
なお、一対のＸ軸位置決め機構３３１のうち、一方のＸ軸位置決め機構３３１（本実施形態では図示後ろ側）は、他方のＸ軸位置決め機構３３１（Ｘ軸方向における位置決め基準）の受けとなっており、受け側のＸ軸位置決め機構３３１のＸ挟持片３４１とＸ挟持片ホルダ３４２との間には、Ｘ挟持片３４１を挟持方向に付勢する２個のＸばね３５６が介設されている。したがって、一対のＸ挟持片３４１をワークＷに当接させたときの当接力を２個のＸばね３５６で吸収することができ、ワークＷに過剰な力がかかることを防止することができる。
【０１０７】
図１２に示すように、Ｙ軸位置決めユニット３２２は、前後２組（４個）のＹ軸位置決め機構３６１により構成されており、テーブル本体１８３周縁部の左右に形成された各２個の逃がし溝２０４ｂに対応させて支持ベース１８１上に配設されている。各Ｙ軸位置決め機構３６１は、Ｘ軸位置決め機構３３１と略同様に構成されており、ワークＷを挟持するためのＹ挟持部材３６２と、Ｙ挟持部材３６２がセット面１８３ａから突出しないように、テーブル本体１８３の下（待機位置）にＹ挟持部材３６２を支持すると共に、これをＹ軸方向およびＺ軸方向に移動可能に支持するＹ挟持部材移動機構３６３（Ｙ挟持片移動機構）と、Ｙ挟持部材移動機構３６３を支持するＹ機構ベース３６４と、を有している。
【０１０８】
Ｙ挟持部材３６２は、ワークＷに当接する円柱状のＹ挟持ピン３７１（Ｙ挟持片）と、Ｙ挟持ピン３７１を立設したＹ挟持プレート３７２と、を有している。Ｙ挟持ピン３７１のワーク当接部３７１ａは、Ｘ挟持片３４１と同様、樹脂等の比較的柔軟性の高い材料で構成されている。なお、Ｘ軸位置決め機構３３１と同様、各Ｙ軸位置決め機構３６１の一方（本実施形態では図示右側）は、他方（Ｙ軸方向における位置決め基準）の受けとなっており、受け側２つのＹ軸位置決め機構３６１には、Ｙ挟持ピン３７１とＹ挟持プレート３７２との間に介設され、Ｙ挟持ピン３７１を挟持方向に付勢する２個のＹばね３７３を有する逃がし機構３７４が設けられている。
【０１０９】
Ｙ挟持部材移動機構３６３は、Ｙ機構ベース３６４に載置固定された第１Ｙ移動機構３８１と、第１Ｙ移動機構３８１に支持された第２Ｙ移動機構３８２と、第２Ｙ移動機構３８２に立設され、Ｙ挟持プレート３７２を支持する第３Ｙ移動機構３８３と、で構成されている。第１Ｙ移動機構３８１の第１Ｙエアーシリンダ３８４ａは、Ｙ機構ベース３６４に固定され、第１Ｙスライダ３８５ａをＹ軸方向にスライド自在に支持している。第１Ｙスライダ３８５ａには、第２Ｙ移動機構３８２の第２Ｙスライダ３８５ｂをＹ軸方向にスライド自在に支持する第２Ｙエアーシリンダ３８４ｂが支持され、第２Ｙスライダ３８５ｂには、第３Ｙ移動機構３８３の第３Ｙエアーシリンダ３８４ｃが立設されている。そして、第３Ｙエアーシリンダ３８４ｃには、第３Ｙスライダ３８５ｃがＺ軸方向にスライド自在に支持され、第３Ｙスライダ３８５ｃの上端面には、Ｙ挟持プレート３７２が支持されている。
【０１１０】
ワークＷの位置決めを行うときには、４つのＹ挟持部材移動機構３６３を同時に駆動して、Ｘ挟持部材移動機構３３３と同様に、各Ｙ挟持部材３６２（Ｙ挟持ピン３７１）を逃がし溝２０４ｂに臨ませるように、「コ」字状に移動させる。この場合、第１Ｙ移動機構３８１、第３Ｙ移動機構３８３、第２Ｙ移動機構３８２の順に駆動させればよい。これにより、４本のＹ挟持ピン３７１のワーク当接部３７１ａ（の側面）がワークＷの左右両端面に当接し、ワークＷの左右方向（Ｙ軸方向）の位置決めが為される。なお、ワーク当接部３７１ａは断面円形状であるため、ワークＷは各ワーク当接部３７１ａの側面に点で当接する。このため、右側２本、左側２本のＹ挟持ピン３７１を精度よく当接させることができ、ワークＷを精度よく位置決め可能である。なお、Ｘ挟持部材移動機構３３３と同様に、ワークＷの縦置き／横置きに応じて、Ｙ軸方向の移動を第１Ｙ軸移動機構３８１（または第２Ｙ軸移動機構３８２）のみで行ってもよい。
【０１１１】
なお、プリアライメント機構２６２は、吸着テーブル１５２に組み込まれているため、ワークＷを描画領域に移動させながらプリアライメント動作を行うことができ、吸着テーブル１５２に対するワークＷのセットと、ワークＷの描画領域への移動と、をオーバーラップさせて行うことにより、ワーク１枚当たりの描画処理時間を削減可能である。
【０１１２】
除電手段２６３は、リフトアップ機構２６１によりワークＷを吸着テーブル１５２から引き離すときに、ワークＷの裏面に剥離帯電した静電気を軟Ｘ線の照射により除去するものであり、左右一対（２つ）の静電除去装置３９１で構成されている。図１６および図１７に示すように、一対の静電除去装置３９１は、石定盤１２に立設した４本の支柱２３１うち、手前側に配設された左右一対の支柱２３１に固定されており、描画領域１３２に臨む吸着テーブル１５２上のワークＷに対して左右両側から（ワークＷの移動方向と直交する方向から）軟Ｘ線を照射する構成となっている。このように、除電手段２６３は、２つの静電除去装置３９１を有しているので、効率的かつ確実に除電を行うことができる。なお、静電除去装置３９１としては、軟Ｘ線を照射するものの他、静電気を（電気的に）中和させるイオン化エアーをワークＷに送風するイオン送風型のもの（例えばイオナイザ）を用いることも可能である。なお、上記の静電除去装置３９１を用いたワークＷの除電方法については後述する。
【０１１３】
次に、メンテナンス装置２２について説明する。メンテナンス装置２２は、機能液滴吐出ヘッド５１の機能維持（または回復）を目的としたものであり、図２１および図２２に示すように、フラッシングユニット４０１と、吸引ユニット４０２と、ワイピングユニット４０３と、吐出検査ユニット４０４と、重量測定ユニット４０５と、を備えている。両図に示すように、吐出検査ユニット４０４を除き、メンテナンス装置２２の各ユニットは、上記した機台１３上に、Ｘ軸方向にスライド自在に構成された移動テーブル４０６上に配設されている。移動テーブル４０６とヘッドユニット４１のＹ軸方向における移動領域が交わる領域がメンテナンス領域４０７となっており、機能液滴吐出ヘッド５１の保守を行うときには、ヘッドユニット４１をメンテナンス領域４０７に移動させると共に、移動テーブル４０６を適宜移動させ、メンテナンス領域４０７に機能液滴吐出ヘッド５１のメンテナンスに供するユニットを臨ませる。なお、移動テーブル４０６上における各ユニットは、各ユニットの使用頻度およびメンテナンス手順を考慮して配置されている。また、各ユニットは、第１ヘッドユニットに対応して構成されているが、上述したように、第２ヘッドユニットは、第１ヘッドユニットの配置パターンに合わせて機能液滴吐出ヘッド５１を搭載しているため、第１ヘッドユニットとの兼用でこれら各ユニットを利用することが可能である。
【０１１４】
フラッシングユニット４０１は、フラッシング動作、すなわち機能液滴吐出ヘッド５１の予備吐出（捨て吐出）により吐出された機能液を受けるためのものであり、描画処理中において、ワークＷに機能液を吐出させる直前に行う吐出前フラッシングの機能液を受けるための吐出前フラッシングユニット４１１と、ワークＷの交換時のように、ワークＷに対する機能液の吐出が一時的に休止される時に定期的に行われる定期フラッシングの機能液を受けるための定期フラッシングユニット４１２と、を有している。
【０１１５】
図１２に示すように、吐出前フラッシングユニット４１１は、吸着テーブル１５２（テーブル本体１８３）の前後が挟むように配設され、吐出前フラッシングの機能液を受ける一対の吐出前フラッシングボックス４１５と、一対の吐出前フラッシングボックス４１５を昇降自在に支持する一対のボックス昇降機構４１６と、で構成されている。吐出前フラッシングボックス４１５は、平面視長方形の細長い箱状に形成されており、その長辺の長さをテーブル本体１８３の一辺の長さと一致させて構成され、テーブル本体１８３に添設されている。吐出前フラッシングボックス４１５内には、機能液を吸収させる吸収材４１７が敷設されている。各ボックス昇降機構４１６は、テーブル本体１８３から張り出すように支持ベース１８１の周縁部に支持された一対のボックス昇降シリンダ４１８（エアーシリンダ）を有しており、各吐出前フラッシングボックス４１５は、一対（２つ）のボックス昇降シリンダ４１８により両持ちで支持されている。このように、テーブル本体１８３を挟むように一対の吐出前フラッシングボックス４１５を配設しているので、ワークＷをＸ軸方向に往復動すると、機能液滴吐出ヘッド５１は、ワークＷに臨む直前に順次フラッシングボックスに臨んで吐出前フラッシングを行うことができる。すなわち、吐出前フラッシングだけのためにヘッドユニット４１を移動させることが不要となる。
【０１１６】
一対のボックス昇降機構４１６は、非描画処理時には、一対の吐出前フラッシングボックス４１５の上端面が吸着テーブル１５２のセット面１８３ａの高さよりも低くなる位置（待機位置）でこれを支持する。一方、描画処理を行うとき、すなわち吐出前フラッシングを受けるときには、一対のボックス昇降機構４１６は、吐出前フラッシングボックス４１５を上昇させ、その上端面をセットされたワークＷの表面の高さに一致させた状態でこれを支持する。これにより、吐出前フラッシングの機能液を外部に飛び散らせることなく、吐出前フラッシングボックス４１５に受けることができる。なお、吸収材４２３の膨張等を考慮して、上昇時における吐出前フラッシングボックス４１５の上端面の位置を、ワークＷよりも若干低い位置とすることも可能である。
【０１１７】
定期フラッシングユニット４１２は、メンテナンス領域４０７に臨んで配設されており、図２１および図２２に示すように、定期フラッシングの機能液を受ける箱状の定期フラッシングボックス４２１と、定期フラッシングボックス４２１を支持するボックススタンド４２２と、を有している。定期フラッシングボックス４２１は、第１ヘッドユニットに搭載された１２個の機能液滴吐出ヘッド５１を同時に定期フラッシングできるように十分な大きさで構成されている。なお、本実施形態では、第１ヘッドユニットの二分された１２個の機能液滴吐出ヘッド５１に対応して、定期フラッシングボックス４２１には、機能液の吸収材４２３が２列に敷設されているが、定期フラッシングボックス４２１の全体に吸収材４２３を敷設するようにしてもよい。ボックススタンド４２２は、定期フラッシングボックス４２１の上端面が、セットされたワークＷの表面と同じ高さとなるように定期フラッシングボックス４２１を支持している。この場合も、吐出前フラッシングボックス４１５と同様に、定期フラッシングボックス４２１の上端面をワークＷ（表面）よりも僅かに低い位置に支持させるようにしてもよい。
【０１１８】
図２１および図２２に示すように、吸引ユニット４０２は、機能液滴吐出ヘッド５１のノズル詰まりを防止（解消）するために、機能液滴吐出ヘッド５１の吸引を行うものであり、機能液滴吐出ヘッド５１のノズル面７３に密着するキャップ４２６を有するキャップユニット４２５と、密着させたキャップ４２６を介して機能液滴吐出ヘッド５１を吸引する吸引手段（図示省略）と、を有している。キャップユニット４２５も、第１ヘッドユニットに対応して構成されており、キャップユニット４２５は、第１ヘッドユニットに搭載された１２個の機能液滴吐出ヘッド５１の配置パターンと同一パターンでもって、キャップベース４２７に１２個のキャップ４２６を配置させている。図示省略したが、吸引手段は、機能液滴吐出ヘッド５１に吸引力を作用させる単一のエゼクタと、１２個のキャップ４２６とエゼクタとを接続する吸引チューブと、を有している。吸引チューブのキャップ４２６とエゼクタとの間には、後述する機能液回収系４８３の再利用タンク５３１が介設されており、エゼクタと再利用タンク５３１との間には開閉バルブ（図示省略）が介設されている。
【０１１９】
ワイピングユニット４０３は、機能液滴吐出ヘッド５１の吸引（クリーニング）等により機能液が付着して汚れた各機能液滴吐出ヘッド５１のノズル面７３を、ワイピングシートを用いて拭き取るものであり、別個独立に構成されたシート供給ユニット４３１と拭き取りユニット４３２とを備えている。これらシート供給ユニット４３１と拭き取りユニット４３２とは、移動テーブル４０６上に、拭き取りユニット４３２を吸引ユニット側に位置させた状態でＸ軸方向に並べて配置されており、メンテナンス領域４０７に存するヘッドユニット４１に向けて移動テーブル４０６の動きにより拭き取りユニット４３２がシート供給ユニット４３１と一体に払拭方向たるＸ軸方向一方に移動し、ヘッドユニット４１における１２個全ての機能液滴吐出ヘッド５１のノズル面７３を払拭する。
【０１２０】
拭き取りユニット４３２は、Ｙ軸方向両側に立設した一対のスタンド４３３間においてエアーシリンダにより昇降自在に支持される昇降枠４３４と、昇降枠４３４上に両持ちで回転自在に支持される押圧ローラ４３５と、押圧ローラ４３５に送り込まれるワイピングシート（図示省略）に機能液の溶剤から成る洗浄液を供給する洗浄液吐出ヘッド５１とを備えている（図２１および図２２参照）。なお、この場合の押圧ローラ４３５は、周面を弾性体とした自由回転ローラで構成されている。
【０１２１】
図２３に示すように、シート供給ユニット４３１は、Ｙ軸方向両側に立設した一対のフレーム４３９に着脱自在に軸支した上側の繰出しリール４４０および下側の巻取りリール４４１と、巻取りリール４４１を巻取り回転させる巻取りモータ４４２とを備えている。また、両フレームの上側部には、サブフレーム４４３が固定されており、このサブフレーム４４３には、繰出しリール４４０の先方に位置するように速度検出ローラ４４４が支持されている。さらに、これら構成部品の下側には、滴下した洗浄液を受ける洗浄液パン４４５が配設されている。
【０１２２】
繰出しリール４４０には、ロール状のワイピングシート（図示省略）が挿填され、繰出しリール４４０から繰り出されたワイピングシートは、速度検出ローラ４４４を介して拭き取りユニット４３２に送り込まれる。巻取りリール４４１と巻取りモータ４４２との間にはタイミングベルト４４６が掛け渡され、巻取りリール４４１は巻取りモータ４４２により回転してワイピングシートを巻き取るようになっている。この場合、巻取りモータ４４２およびタイミングベルト４４６等の動力源および動力伝達系は、描画装置２１とは逆側に位置しており、ワイピングシートを可能な限り描画装置２１側に寄せて配設できるようになっている。
【０１２３】
繰出しリール４４０は、これの軸端に設けたトルクリミッタ４４７により、巻取りモータ４４２に抗するように制動回転する。速度検出ローラ４４４は、自由回転する上下２つのローラ４４４ａ、４４４ｂから成るグリップローラであり、これの軸端に設けた速度検出器４４８により、巻取りモータ４４２を制御する。すなわち、繰出しリール４４０は、ワイピングシートを張った状態で送り出し、巻取りリール４４１は、ワイピングシートを弛みが生じないように巻き取るようになっている。また、繰出しリール４４０と速度検出ローラ４４４との間のシート走行路部分の下方に光学式のシート検出器４４９が配設されており、繰出しリール４４０から繰り出されるワイピングシートの端末が通過したことをこのシート検出器４４９で検出したとき、繰出しリール４４０および巻取りリール４４１の交換指令を出すようにしている。
【０１２４】
図２３および図２４に示すように、繰出しリール４４０は、中空のリール軸本体４５０と、リール軸本体４５０の両端に設けた左右一対のフランジ４５１Ｒ・４５１Ｌと、図示右側においてトルクリミッタ４４７が固定された右部リール短軸４５２と、図示左側のフランジの外側に延びる左部リール短軸４５３と、を有しており、右部リール短軸４５２および左部リール短軸４５３により、それぞれ軸受けを介して上記一対のフレーム４３９に回転自在に軸支されている。右部リール短軸４５２および右側のフランジ４５１Ｒとの間には筒状継手４５４が介設されている。右側のフランジ４５１Ｒには、テーパ形状の頭部を有する右部軸ピン４５６が貫通しており、右部軸ピン４５６のピン先には、右部リール短軸４５２と同径に形成され、筒状継手４５４に嵌合する円柱部材４５５が固定されている。一方、左側のフランジ４５１Ｌには、左部リール短軸４５３の軸心部分に嵌入係止される左部軸ピン４５７が貫通している。そして、リール軸本体４５０は、右部軸ピン４５６および左部軸ピン４５７を介し、フランジ４５１Ｒ・４５１Ｌに挟持されている。すなわち、右部軸ピン４５６および左部軸ピン４５７の両頭部により、リール軸本体４５０の両端（両小口）が閉塞するように挟持されている。この場合、右側のフランジ４５１Ｒは、筒状継手４５４を介して右部リール短軸４５２に固定される一方、左側のフランジ４５１Ｌは左部リール短軸４５３に固定されている。
【０１２５】
図２４に示すように、筒状継手４５４は、かみ合い形式で係合する右部継手片４５４Ｒおよび左部継手片４５４Ｌとから成り、右部継手片４５４Ｒには右部リール短軸４５２の軸端が嵌合し、左部継手片４５４Ｌには右部軸ピン４５６に固定した円柱部材４５５が嵌合している。そして、右部リール短軸４５２の軸端は、右部継手片４５４Ｒを貫通するように螺合した右部ユリアねじ４５８により右部継手片４５４Ｒに押圧固定され、円柱部材４５５は、左部継手片４５４Ｌを貫通するように螺合した左部ユリアねじ４５９により左部継手片４５４Ｌに押圧固定されている。なお、この２つのユリアねじ４５８・４５９により、筒状継手４５４は自在継手として機能する。
【０１２６】
右部リール短軸４５２は、十分な長さを有しており、例えば右部ユリアねじ４５８を緩め、筒状継手４５４を介して右側のフランジ４５１Ｒ（右部軸ピン４５６）を右側に移動させると、リール軸本体４５０の右端部が右部軸ピン４５６の頭部から離間する。すなわち、やり返し動作により、リール軸本体４５０が両フランジから離脱する。この場合、右部軸ピン４５６のリール軸本体４５０（小口）への挿入深さＬ１よりも筒状継手４５４の移動可能範囲Ｌ２が大きくなっている。なお、右部軸ピン４５６および左部軸ピン４５７の両頭部には、ガイドピン４５６ａ・４５７ａが上方に突出していると共に、リール軸本体４５０の両端部にはガイドピンに嵌合させる一対の長穴が切り込むように形成されている。これにより、リール軸本体４５０の装着をガイドすると共に、ワイピングシートの繰り出し時に装着したリール軸本体４５０が空回転することを防止する。
【０１２７】
また、リール軸本体４５０を右側のフランジ４５１Ｒに固定とし、右部ユリアねじ４５８と共に左部ユリアねじ４５９を緩めることにより、リール軸本体４５０、右部軸ピン４５６、右側のフランジ４５１Ｒ、および円柱部材４５５を一体として離脱させることも可能である。この場合、筒状継手４５４内における円柱部材４５５の挿入深さＬ３よりも筒状継手４５４の移動可能範囲Ｌ２を大きくする。
【０１２８】
ワイピングシートは、リール軸本体４５０にロール状を巻回して外部から運び込まれるが、このようにリール軸本体４５０が、筒状継手４５４を介して径方向に着脱できるようになっているため、ワイピングシートを着脱するためのスペースを左右方向（Ｙ軸方向）に執る必要がなく、且つワイピングシートを簡単に交換することができる。また、着脱のための筒状継手４５４を単純な筒体ではなく、かみ合い形式の継手としているため、繰出しリール４４０自体の回転ブレを防止することができる。なお、巻取りリール４４１も繰出しリール４４０と同様に着脱形式とすることが、好ましい。
【０１２９】
吐出検査ユニット４０４は、ワークＷに対する描画不良を防止するために、機能液滴吐出ヘッド５１から実際に吐出された飛翔中の機能液滴を撮像することにより、機能液滴吐出ヘッド５１から機能液が適切に吐出されているか否かを検査するものである。図９および図１０に示すように、吐出検査ユニット４０４は、ヘッドユニット４１のＹ軸方向における移動領域に臨み、かつＸ軸テーブル１２１から外れた石定盤１２上に配設されており、吐出検査のために吐出された機能液を受ける機能液受け４６１と、機能液受け４６１に対して吐出された飛翔中の機能液滴を撮像する撮像ユニット４６２と、撮像する機能液滴に光を照射する照明ユニット４６３と、を有している。なお、撮像ユニット４６２による撮像結果は、制御装置２６に送信されて画像認識され、この画像認識に基づいて、各機能液滴吐出ヘッド５１の各吐出ノズル７４が正常に機能液を吐出しているか（ノズル詰まりがないか）否かが判断される。
【０１３０】
図２１および図２２に示すように、重量測定ユニット４０５は、機能液滴吐出ヘッド５１から吐出された機能液滴の重量を測定することにより、機能液滴吐出ヘッド５１の吐出不良を検出するためのものであり、検出のための機能液を受ける１２個の受け容器４７２と、１２個の受け容器４７２を１２個の機能液滴吐出ヘッド５１の並びに合わせて載置する受け皿４７１と、吐出された機能液を収容した各受け容器４７２の重量を測定する図外の電子天秤と、を有している。受け皿４７１も、第１ヘッドユニットに対応した構成となっており、受け皿４７１には、第１ヘッドユニットの機能液滴吐出ヘッド５１の配置パターンに倣って、１２個の受け容器４７２を載置するための１２個の浅溝（図示省略）が形成されている。
【０１３１】
次に、液体供給回収装置２３について説明する。液体供給回収装置２３は、ヘッドユニット４１（各機能液滴吐出ヘッド５１）に機能液を供給する機能液供給系４８１と、メンテナンス装置２２のフラッシングユニット４０１からの廃液を回収する廃液回収系４８２と、吸引ユニット４０２で吸引した機能液および吸引ユニット４０２に吐出された機能液を回収する機能液回収系４８３と、ワイピングユニット４０３に機能材料の溶剤を洗浄用として供給する洗浄液供給系４８４と、で構成されている。上記したタンクキャビネット３の上段には、洗浄液供給系４８４の２個の洗浄液タンク５４１が、中段には機能液供給系４８１の３個のメインタンク５０１が、下段には機能液回収系４８３の３個の再利用タンク５３１および廃液回収系４８２の小型の廃液タンク５２１がそれぞれ配設されている（図４参照）。
【０１３２】
機能液供給系４８１は、主に第１ヘッドユニットを用い、大量のワークＷに描画処理を行う場合に対応させた第１機能液供給系４９１と、主に第２ヘッドユニットを用い、少量のワークＷに描画処理を行う場合に対応させた第２機能液供給系４９２と、を有している。第１機能液供給系４９１は、大量（３Ｌ）の機能液を貯留する３個のメインタンク５０１と、対応するメインタンク５０１から送液された機能液を貯留すると共に、各機能液滴吐出ヘッド５１に機能液を供給する３個のサブタンク５０２と、メインタンク５０１からサブタンク５０２を経て機能液滴吐出ヘッド５１に至る給液流路を形成する第１給液配管部５０３と、を有している。
【０１３３】
メインタンク５０１は、エアー供給装置２４から導入される圧縮エアーにより、第１給液配管部５０３を介して機能液を対応するサブタンク５０２に圧送する。３個のサブタンク５０２は、上記したブリッジプレート２４１上に横並びで配設されており、ヘッドユニット４１と共にＹ軸方向を移動する（図１ないし図４等参照）。機能液滴吐出ヘッド５１とサブタンク５０２との水頭差を所定値に維持するために、各サブタンク５０２内は負圧制御されている。これにより、機能液滴吐出ヘッド５１の吐出ノズル７４から機能液が液垂れすることを防止すると共に、圧電素子のポンプ作用により機能液滴が精度良く吐出されるようになっている。図示省略したが、第１給液配管部５０３は、メインタンク５０１およびサブタンク５０２を接続する３本の共通給液チューブと、各サブタンク５０２に４本ずつ繋ぎ込まれ、サブタンク５０２と各機能液滴吐出ヘッド５１とを接続する１２本の個別給液チューブと、各共通給液チューブを開閉するための３個の開閉バルブと、を有している。なお、ブリッジプレート２４１上には、１２本の個別給液チューブ５０５を開閉する１２個のヘッド側開閉バルブ５０８を有するヘッド側バルブユニット５０７が配設されている。
【０１３４】
第２機能液供給系４９２は、機能液を貯留した機能液パック５１１（または小型のインクタンク）と、これを１個ずつ載置する３つのパック載置部材５１２と、３つのパック載置部材５１２を支持するパック支持部材５１３と、機能液パックと機能液滴吐出ヘッド５１とを接続し、機能液を供給するための第２給液配管部（図示省略）と、を有している。パック支持部材５１３は、右後ろに立設した支柱２３１に固定されている。パック支持部材５１３と支柱２３１との間には、パック支持部材５１３を昇降させるパック昇降機構５１５が介設されており、パック昇降機構５１５の調整ねじ５１６を調整することにより、機能液パック５１１の高さ位置を調整できる。これにより、機能液パック５１１（液面）の高さを機能液滴吐出ヘッド５１のノズル面７３よりも僅かに低く調整することできるため、機能液パック５１１と機能液滴吐出ヘッド５１との水頭差を所定値に合わせこむことができる。
【０１３５】
廃液回収系４８２は、フラッシングユニット４０１の両フラッシングボックス４１５、４２１および吐出検査ユニット４０４の機能液受け４６１で受けられた機能液を回収するためのもので、回収した機能液を貯留する廃液タンク５２１と、両フラッシングボックス４１５、４２１、および機能液受け４６１の排出口（図示省略）に接続され、これらに吐出された機能液を廃液タンク５２１に導く廃液チューブ（図示省略）と、を有している。廃液チューブには、廃液ポンプ（図示省略）が介設されており、廃液ポンプを介して機能液が廃液タンク５２１に回収される。
【０１３６】
機能液回収系４８３は、吸引ユニット４０２のキャップ４２６を介して吸引した機能液をメインタンク５０１毎に個別に回収するためのものであり、回収した機能液を貯留する３個の再利用タンク５３１を有している。上述したように、再利用タンク５３１は、キャップ４２６とエゼクタとの間に設けられており、エゼクタにより吸引された機能液を貯留する。
【０１３７】
洗浄液供給系４８４は、ワイピングユニット４０３のワイピングシート（図示省略）に滴下する洗浄液を洗浄液ヘッド４３６に供給するためのもので、洗浄液を貯留する２個の洗浄液タンク５４１と、洗浄液タンク５４１と洗浄液ヘッド４３６を接続する洗浄液供給チューブ（図示省略）と、を有している。洗浄液タンク５４１は、エアー供給装置２４に接続されており、エアー供給装置２４から洗浄液タンク５４１に圧縮エアーを導入することにより、洗浄液タンク５４１から洗浄液が加圧送液されるようになっている。なお、洗浄液には、比較的揮発性の高い機能液の溶剤が用いられており、機能液滴吐出ヘッド５１のノズル面７３に付着する機能液を効率的に除去できるようになっている。
【０１３８】
次に、エアー供給装置２４について説明する。エアー供給装置２４は、圧縮エアーを各部に供給するためものであり、主に架台１１上に載置された各装置に圧縮エアーを供給する第１エアー供給ユニット５５１と、主に機台１３に載置されたメンテナンス装置２２に圧縮エアーを供給する第２エアー供給ユニット（図示省略）と、を備えている。図示省略したが、両エアー供給ユニットには、エアーを圧縮するエアーポンプ５５０（コンプレッサー）と、エアーポンプ５５０からの圧縮エアーを供給先に応じて一定圧力に保つレギュレータと、エアーポンプ５５０と各部とを配管接続するエアー配管部５５３と、がそれぞれ備えられている。エアー配管部５５３は、エアー供給チューブ５５５およびこれを開閉するエアー開閉バルブ５５６から成る給気側配管部５５４と、給気（供給）したエアーを回収するエアー回収チューブ５５８を有する排気側配管部５５７と、で構成されている。
【０１３９】
本実施形態では、エアー配管部５５３の構成を単純化するため、圧縮エアーの供給を受ける各装置（または機構）を集約的に配置させている。吸着テーブル１５２に配設されたエアー配管部５５３を例に説明する。図１２および図２５に示すように、吸着テーブル１５２の支持ベース１８１には、エアーシリンダを有するプリアライメント機構２６２および吐出前フラッシングユニット４１１と共に、これらの各エアーシリンダに接続する複数本の個別エアー供給チューブ５６１と、各エアーシリンダに接続された複数本の個別エアー回収チューブ５６２と、エアーポンプに接続した共通エアー供給チューブ（図示省略）および複数本の個別エアー供給チューブ５６１を接続すると共に、複数本の個別エアー回収チューブ５６２を合流させ、まとめて排気させるためのエアーマニホールド５６３（分岐マニホールド）と、が配設されている。そして、支持ベース１８１に配設された複数のエアーシリンダを左右に略二分してエアーを供給するように、支持ベース１８１には、２個のエアーマニホールド５６３が配設されている。エアーマニホールド５６３内には、複数のエアー開閉バルブ５５６（電磁バルブ：制御バルブ）が設けられており、各エアー開閉バルブ５５６は、対応する個別エアー供給チューブ５６１および個別エアー回収チューブ５６２に接続されている。
【０１４０】
このように、支持ベース１８１上に複数のエアーシリンダを集約配置しているので、エアー供給チューブ５５５およびエアー回収チューブ５５８を分岐・合流させるエアーマニホールド５６３を用いることにより、外部から支持ベース１８１に接続されるエアー配管部５５３（エアー供給チューブ数およびエアー回収チューブ数）を削減することができ、エアー配管部５５３の引き回しを単純にすることができる。なお、本実施形態では、吸着テーブル１５２がＸ軸方向に移動する構成であるが、外部から支持ベース１８１に接続されるエアー配管部５５３を削減することにより、吸着テーブル１５２の移動に対するエアー配管部５５３の影響を抑えることができ、精度よく吸着テーブル１５２の移動を行わせることが可能となる。また、支持ベース１８１には、２個のエアーマニホールド５６３が吸着テーブル１５２の中心（重心）に対して点対称に配設されており、外部から接続されるエアー配管部５５３により、吸着テーブル１５２に不均一な力がかかることを防止し、吸着テーブル１５２を安定して移動させることができるようになっている。
【０１４１】
本実施形態では、ヘッド認識カメラ２２５をＸ軸エアースライダ１４２に支持させているが、支持ベース１８１に支持するようにしてもよい。この場合、支持ベース１８１に固定され、支持ベース１８１から側方に延びるブラケット（すし省略）にヘッド認識カメラ２２５を支持させ、テーブル本体１８３のカメラ開口２２６にヘッド認識カメラ２２５のカメラ本体２２５ａを臨ませる。また、支持ベース１８１上に、ヘッド認識カメラ２２５と略同一構成のノズル観察カメラ（図示省略）を配設してもよい。ノズル観察カメラは、機能液滴吐出ヘッド５１のノズル詰まりを観察するためのものであり、テーブル本体１８３に形成した開口からレンズを臨ませ、各吐出ノズル７４を撮像する。これらの場合、カメラ本体を昇降させる昇降機構をエアーシリンダで構成すれば、エアーマニホールド５６３を介して昇降機構に圧縮エアーを供給することができる。
【０１４２】
次に、エアー吸引装置２５は、エアー吸引を行う真空ポンプ５７１と、吸着テーブル１５２の吸引孔２１４と真空ポンプ５７１とを配管接続する吸引配管部５７２と、を有しており、エアー吸引により、吸着テーブル１５２に載置されたワークＷを不動に吸着セットするものである。図２６に示すように、吸引配管部５７２は、上記した主吸引溝２１２、副吸引溝２１３の縦吸引溝２１３a、横吸引溝２１３ｂの吸引孔２１４にそれぞれ連通する３本の個別エアー吸引チューブ５７３と、各個別エアー吸引チューブ５７３を開閉する３個の吸引用開閉バルブ５７４と、３本の個別エアー吸引チューブ５７３を真空ポンプ５７１に接続するためのエアー吸引マニホールド５７５と、を有しており、ワークＷのセット方向に応じてエアー吸引を行うようになっている。また、各個別エアー吸引チューブ５７３には、ワークＷの吸引圧力を検出するための圧力センサ５７６が介設されている。
【０１４３】
ワークＷを横置きしたときには横吸引溝２１３ｂの吸引孔２１４に接続する個別エアー吸引チューブ５７３が吸引用開閉バルブ５７４により閉塞され、ワークＷを縦置きしたときには縦吸引溝２１３ａの吸引孔２１４に接続する個別エアー吸引チューブ５７３が閉塞される。すなわち、ワークＷに接触する副吸引溝２１３のみから、エアー吸引が為されるようになっている。なお、ワークＷの吸着セットを解除する場合には、各個別エアー吸引チューブ５７３を介して、エアー供給装置２４（第１エアー供給ユニット５５１）から圧縮エアーを供給して真空破壊を行う構成となっており、各個別エアー吸引チューブ５７３には、切替え用の開閉バルブ５７７が介設されたエアー供給チューブ５５５が接続されている。
【０１４４】
制御装置２６は、パソコン等で構成されている。図示省略したが、制御装置２６は、一時的に記憶可能な記憶領域を有し、制御処理のための作業領域として使用されるＲＡＭと、各種記憶領域を有し、制御プログラムや各種データを記憶するハードディスクと、ハードディスクに記憶されたプログラム等に基づいて、各種データを演算処理するＣＰＵと、これらを相互に接続するバスと、を備えており、液滴吐出装置１全体を相互に関連付けながら、統括的に制御している。
【０１４５】
例えば、ワークＷに生じる剥離帯電を効果的に除去するために、描画処理を行ったワークＷを吸着テーブル１５２から持ち上げるときには、制御装置２６は、上記したリフトアップ機構２６１、Ｘ軸テーブル１２１、および除電手段２６３を同期して駆動させている。ワークＷを吸着テーブル１５２から持ち上げるときの除電方法について具体的に説明する。吸着テーブル１５２からのワークＷの持ち上げに先立ち、先ず、Ｘ軸テーブル１２１を駆動して、吸着テーブル１５２をワーク搬出入領域１３１に移動させる。そして、エアー吸引装置２５の駆動を停止させると共に、開閉バルブ５０６を開弁して、各個別エアー吸引チューブ５７３にエアー供給チューブ５５５を連通させ、ワークＷの吸着セットを解除する。（ここでの順序は問わない）
【０１４６】
次に、一対の静電除去装置３９１を駆動させて軟Ｘ線の照射を行う。軟Ｘ線の照射を行ったまま、リフトアップ機構２６１の一対の第１リフトアップ機構２８２を同期させて駆動し、ワークＷを左右両端部から徐々に持ち上げていく。そして、ワークＷの中央部が吸着テーブル１５２のセット面１８３ａに接触させたまま、左右両端の高さが所定の高さ（イオン化する空気層が十分となる高さであり、ここでは５ｃｍとする）に達すると、この状態で、Ｘ軸テーブル１２１を駆動し、ワークＷを描画領域１３２の方へ往動させていく。この場合、一対の静電除去装置３９１による光軸とＸ軸方向は直交している。これにより、吸着テーブル１５２と上反り状態のワークＷとの間の空気層がイオン化され、ワークＷの裏面（およびセット面１８３ａ）における静電気を除電することができる。この場合、ワークＷの移動速度は、イオン化した空気によりワークＷの両端部が十分に除電されるよう、描画処理時の移動速度に比して低速度に設定される。
【０１４７】
ワークＷの往動が終了してワーク両端部の除電が終了した後、軟Ｘ線を照射したまま、Ｘ軸テーブル１２１を駆動してワークＷを復動させ、ワークＷの左右辺の中心を一対の静電除去装置３９１に臨ませる。続いて、第２リフトアップ機構３１２を駆動させ、ワークＷの中心部を吸着テーブル１５２から引き離す。そして、ワークＷが吸着テーブル１５２から完全に引き剥がされた後、一対の静電除去装置３９１の駆動を停止させる。このように、ワークＷを吸着テーブル１５２から引き剥がす一連の動作において、常に軟Ｘ線を照射する構成とすることにより、ワークＷの静電気を効果的に除電することが可能となる。
【０１４８】
また、本実施形態では、ワークＷを左右両端部のみを持ち上げた状態で除電作業を行っているが、ワークＷの材質やワークＷのリフトアップ方法に起因して、ワークＷをリフトアップさせたときの帯電量が少ない場合には、ワークＷ全体を持ち上げた状態から、除電作業を開始してもよい。例えば、一対の第１リフトアップ機構２８２の駆動に続き、第２リフトアップ機構３１２を駆動させ、ワークＷを吸着テーブル１５２から完全に離間させる。そして、Ｘ軸テーブル１２１を駆動して、軟Ｘ線を照射する一対の静電除去装置３９１にワークＷを臨ませるように、ワークＷの往復動を行い、ワークＷ全体の除電を行うようにする。
【０１４９】
なお当然のことながら、この除電手段２６３は、吸着テーブル１５２にワークＷを載置したときにも用いることができる。この場合、ワークＷを吸着テーブル１５２に載置した後、一対の静電除去装置３９１を駆動し、さらにＸ軸テーブル１２１を駆動する。これにより、ワークＷ表面における静電気が中和される。したがって、描画処理の前準備としてワークＷの除電を行うことにより、描画処理時におけるワークＷの静電気の影響を抑えることができる。
【０１５０】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、更にこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。
【０１５１】
先ず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図２７は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図２８は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ６００（フィルタ基体６００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１１）では、図２８（ａ）に示すように、基板（Ｗ）６０１上にブラックマトリクス６０２を形成する。ブラックマトリクス６０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【０１５２】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１２）において、ブラックマトリクス６０２上に重畳する状態でバンク６０３を形成する。即ち、まず図２８（ｂ）に示すように、基板６０１及びブラックマトリクス６０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層６０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム６０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図２８（ｃ）に示すように、レジスト層６０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層６０４をパターニングして、バンク６０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク６０３とその下のブラックマトリクス６０２は、各画素領域６０７ａを区画する区画壁部６０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド５１により着色層（成膜部）６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【０１５３】
以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体６００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク６０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）６０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク６０３（区画壁部６０７ｂ）に囲まれた各画素領域６０７ａ内への液滴の着弾位置精度が向上する。
【０１５４】
次に、着色層形成工程（Ｓ１３）では、図２８（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド５１によって機能液滴を吐出して区画壁部６０７ｂで囲まれた各画素領域６０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド５１を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１５５】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する。着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１４）に移り、図２８（ｅ）に示すように、基板６０１、区画壁部６０７ｂ、および着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂの上面を覆うように保護膜６０９を形成する。
即ち、基板６０１の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜６０９が形成される。
そして、保護膜６０９を形成した後、カラーフィルタ６００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【０１５６】
図２９は、上記のカラーフィルタ６００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置６２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ６００は図２８に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【０１５７】
この液晶装置６２０は、カラーフィルタ６００、ガラス基板等からなる対向基板６２１、及び、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層６２２により概略構成されており、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板６２１およびカラーフィルタ６００の外面（液晶層６２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板６２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【０１５８】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層側）には、図２９において左右方向に長尺な短冊状の第１電極６２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６２３のカラーフィルタ６００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜６２４が形成されている。
一方、対向基板６２１におけるカラーフィルタ６００と対向する面には、カラーフィルタ６００の第１電極６２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極６２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極６２６の液晶層６２２側の面を覆うように第２配向膜６２７が形成されている。これらの第１電極６２３および第２電極６２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【０１５９】
液晶層６２２内に設けられたスペーサ６２８は、液晶層６２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材６２９は液晶層６２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極６２３の一端部は引き回し配線６２３ａとしてシール材６２９の外側まで延在している。
そして、第１電極６２３と第２電極６２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１６０】
通常の製造工程では、カラーフィルタ６００に、第１電極６２３のパターニングおよび第１配向膜６２４の塗布を行ってカラーフィルタ６００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板６２１に、第２電極６２６のパターニングおよび第２配向膜６２７の塗布を行って対向基板６２１側の部分を作成する。その後、対向基板６２１側の部分にスペーサ６２８およびシール材６２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材６２９の注入口から液晶層６２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【０１６１】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板６２１側の部分にカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる前に、シール材６２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材６２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド５１で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜６２４，６２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド５１で行うことも可能である。
【０１６２】
図３０は、本実施形態において製造したカラーフィルタ６００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置６３０が上記液晶装置６２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ６００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置６３０は、カラーフィルタ６００とガラス基板等からなる対向基板６３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層６３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板６３１およびカラーフィルタ６００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【０１６３】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層６３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極６３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６３３の液晶層６３２側の面を覆うように第１配向膜６３４が形成されている。
対向基板６３１のカラーフィルタ６００と対向する面上には、カラーフィルタ６００側の第１電極６３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極６３６が所定の間隔で形成され、この第２電極６３６の液晶層６３２側の面を覆うように第２配向膜６３７が形成されている。
【０１６４】
液晶層６３２には、この液晶層６３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ６３８と、液晶層６３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材６３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置６２０と同様に、第１電極６３３と第２電極６３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１６５】
図３１は、本発明を適用したカラーフィルタ６００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【０１６６】
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００と、これに対向するように配置された対向基板６５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ６００の上面側（観測者側）に配置された偏光板６５５と、対向基板６５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ６００の保護膜６０９の表面（対向基板６５１側の面）には液晶駆動用の電極６５６が形成されている。この電極６５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極６６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極６５６の画素電極６６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜６５７が設けられている。
【０１６７】
対向基板６５１のカラーフィルタ６００と対向する面には絶縁層６５８が形成されており、この絶縁層６５８上には、走査線６６１及び信号線６６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた領域内には画素電極６６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極６６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【０１６８】
また、画素電極６６０の切欠部と走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ６６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線６６１と信号線６６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ６６３をオン・オフして画素電極６６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【０１６９】
なお、上記の各例の液晶装置６２０，６３０，６５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【０１７０】
次に、図３２は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置７００と称する）の要部断面図である。
【０１７１】
この表示装置７００は、基板（Ｗ）７０１上に、回路素子部７０２、発光素子部７０３及び陰極７０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置７００においては、発光素子部７０３から基板７０１側に発した光が、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部７０３から基板７０１の反対側に発した光が陰極７０４により反射された後、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【０１７２】
回路素子部７０２と基板７０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜７０６が形成され、この下地保護膜７０６上（発光素子部７０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜７０７が形成されている。この半導体膜７０７の左右の領域には、ソース領域７０７ａ及びドレイン領域７０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域７０７ｃとなっている。
【０１７３】
また、回路素子部７０２には、下地保護膜７０６及び半導体膜７０７を覆う透明なゲート絶縁膜７０８が形成され、このゲート絶縁膜７０８上の半導体膜７０７のチャネル領域７０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極７０９が形成されている。このゲート電極７０９及びゲート絶縁膜７０８上には、透明な第１層間絶縁膜７１１ａと第２層間絶縁膜７１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜７１１ａ、７１１ｂを貫通して、半導体膜７０７のソース領域７０７ａ、ドレイン領域７０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール７１２ａ，７１２ｂが形成されている。
【０１７４】
そして、第２層間絶縁膜７１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極７１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極７１３は、コンタクトホール７１２ａを通じてソース領域７０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜７１１ａ上には電源線７１４が配設されており、この電源線７１４は、コンタクトホール７１２ｂを通じてドレイン領域７０７ｂに接続されている。
【０１７５】
このように、回路素子部７０２には、各画素電極７１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ７１５がそれぞれ形成されている。
【０１７６】
上記発光素子部７０３は、複数の画素電極７１３上の各々に積層された機能層７１７と、各画素電極７１３及び機能層７１７の間に備えられて各機能層７１７を区画するバンク部７１８とにより概略構成されている。
これら画素電極７１３、機能層７１７、及び、機能層７１７上に配設された陰極７０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極７１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極７１３の間にバンク部７１８が形成されている。
【０１７７】
バンク部７１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層７１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層７１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層７１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部７１８の一部は、画素電極７１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部７１８の間には、画素電極７１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部７１９が形成されている。
【０１７８】
上記機能層７１７は、開口部７１９内において画素電極７１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層７１７ａと、この正孔注入／輸送層７１７ａ上に形成された発光層７１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層７１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入／輸送層７１７ａは、画素電極７１３側から正孔を輸送して発光層７１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層７１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【０１７９】
発光層７１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、又は青色（Ｂ）の何れかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層７１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層７１７ａを再溶解させることなく発光層７１７ｂを形成することができる。
【０１８０】
そして、発光層７１７ｂでは、正孔注入／輸送層７１７ａから注入された正孔と、陰極７０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【０１８１】
陰極７０４は、発光素子部７０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極７１３と対になって機能層７１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極７０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１８２】
次に、上記の表示装置７００の製造工程を図３３〜図４１を参照して説明する。
この表示装置７００は、図３３に示すように、バンク部形成工程（Ｓ２１）、表面処理工程（Ｓ２２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ２３）、発光層形成工程（Ｓ２４）、及び対向電極形成工程（Ｓ２５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１８３】
まず、バンク部形成工程（Ｓ２１）では、図３４に示すように、第２層間絶縁膜７１１ｂ上に無機物バンク層７１８ａを形成する。この無機物バンク層７１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層７１８ａの一部は画素電極７１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層７１８ａを形成したならば、図３５に示すように、無機物バンク層７１８ａ上に有機物バンク層７１８ｂを形成する。この有機物バンク層７１８ｂも無機物バンク層７１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部７１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部７１８間には、画素電極７１３に対して上方に開口した開口部７１９が形成される。この開口部７１９は、画素領域を規定する。
【０１８４】
表面処理工程（Ｓ２２）では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層７１８ａの第１積層部７１８ａａ及び画素電極７１３の電極面７１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極７１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層７１８ｂの壁面７１８ｓ及び有機物バンク層７１８ｂの上面７１８ｔに施され、例えば４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド５１を用いて機能層７１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部７１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１８５】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体７００Ａが得られる。この表示装置基体７００Ａは、図１に示した液滴吐出装置１のセットテーブル１４１に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ２３）及び発光層形成工程（Ｓ２４）が行われる。
【０１８６】
図３６に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ２３）では、機能液滴吐出ヘッド５１から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部７１９内に吐出する。その後、図３７に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面７１３ａ）７１３上に正孔注入／輸送層７１７ａを形成する。
【０１８７】
次に発光層形成工程（Ｓ２４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層７１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層７１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層７１７ａと発光層７１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層７１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層７１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層７１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層７１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａに均一に塗布することができる。
【０１８８】
そして次に、図３８に示すように、各色のうちの何れか（図３８の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部７１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層７１７ａ上に広がって開口部７１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部７１８の上面７１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面７１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部７１９内に転がり込み易くなっている。
【０１８９】
その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図３９に示すように、正孔注入／輸送層７１７ａ上に発光層７１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂが形成されている。
【０１９０】
同様に、機能液滴吐出ヘッド５１を用い、図４０に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ））に対応する発光層７１７ｂを形成する。なお、発光層７１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１９１】
以上のようにして、画素電極７１３上に機能層７１７、即ち、正孔注入／輸送層７１７ａ及び発光層７１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ２５）に移行する。
【０１９２】
対向電極形成工程（Ｓ２５）では、図４１に示すように、発光層７１７ｂ及び有機物バンク層７１８ｂの全面に陰極７０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極７０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極７０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１９３】
このようにして陰極７０４を形成した後、この陰極７０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置７００が得られる。
【０１９４】
次に、図４２は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置８００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、及びこれらの間に形成される放電表示部８０３を含んで概略構成される。放電表示部８０３は、複数の放電室８０５により構成されている。これらの複数の放電室８０５のうち、赤色放電室８０５Ｒ、緑色放電室８０５Ｇ、青色放電室８０５Ｂの３つの放電室８０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１９５】
第１基板８０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極８０６が形成され、このアドレス電極８０６と第１基板８０１の上面とを覆うように誘電体層８０７が形成されている。誘電体層８０７上には、各アドレス電極８０６の間に位置し、且つ各アドレス電極８０６に沿うように隔壁８０８が立設されている。この隔壁８０８は、図示するようにアドレス電極８０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極８０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁８０８によって仕切られた領域が放電室８０５となっている。
【０１９６】
放電室８０５内には蛍光体８０９が配置されている。蛍光体８０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室８０５Ｒの底部には赤色蛍光体８０９Ｒが、緑色放電室８０５Ｇの底部には緑色蛍光体８０９Ｇが、青色放電室８０５Ｂの底部には青色蛍光体８０９Ｂが各々配置されている。
【０１９７】
第２基板８０２の図中下側の面には、上記アドレス電極８０６と直交する方向に複数の表示電極８１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層８１２、及びＭｇＯなどからなる保護膜８１３が形成されている。
第１基板８０１と第２基板８０２とは、アドレス電極８０６と表示電極８１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極８０６と表示電極８１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極８０６，８１１に通電することにより、放電表示部８０３において蛍光体８０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１９８】
本実施形態においては、上記アドレス電極８０６、表示電極８１１、及び蛍光体８０９を、図１に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板８０１におけるアドレス電極８０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板８０１を液滴吐出装置１のセットテーブル１４１に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド５１により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１９９】
補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極８０６が形成される。
【０２００】
ところで、上記においてはアドレス電極８０６の形成を例示したが、上記表示電極８１１及び蛍光体８０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極８１１の形成の場合、アドレス電極８０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体８０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド５１から液滴として吐出し、対応する色の放電室８０５内に着弾させる。
【０２０１】
次に、図４３は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置９００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置９００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置９００は、互いに対向して配置された第１基板９０１、第２基板９０２、及びこれらの間に形成される電界放出表示部９０３を含んで概略構成される。電界放出表示部９０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部９０５により構成されている。
【０２０２】
第１基板９０１の上面には、カソード電極９０６を構成する第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ９０８を形成した導電性膜９０７が形成されている。すなわち、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７により複数の電子放出部９０５が構成されている。導電性膜９０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ９０８は、導電性膜９０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０２０３】
第２基板９０２の下面には、カソード電極９０６に対峙するアノード電極９０９が形成されている。アノード電極９０９の下面には、格子状のバンク部９１１が形成され、このバンク部９１１で囲まれた下向きの各開口部９１２に、電子放出部９０５に対応するように蛍光体９１３が配置されている。蛍光体９１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部９１２には、赤色蛍光体９１３Ｒ、緑色蛍光体９１３Ｇおよび青色蛍光体９１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０２０４】
そして、このように構成した第１基板９０１と第２基板９０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置９００では、導電性膜（ギャップ９０８）９０７を介して、陰極である第１素子電極９０６ａまたは第２素子電極９０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極９０９に形成した蛍光体９１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０２０５】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂ、導電性膜９０７およびアノード電極９０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体９１３Ｒ，９１３Ｇ，９１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０２０６】
第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７は、図４４（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図４４（ｂ）に示すように、予め第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜９０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜９０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板９０１および第２基板９０２に対する親液化処理や、バンク部９１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０２０７】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【符号の説明】
【０２０８】
１ 液滴吐出装置 ５１ 機能液滴吐出ヘッド
２６ 制御装置 １４１ セットテーブル
１５２ 吸着テーブル １８１ 支持ベース
１８３ テーブル本体 １９１ テーブル支持部材
２０１ 貫通孔 ２６１ リフトアップ機構
２７１ リフトアップピン ２７１ａ 第１リフトアップピン
２７１ｂ 第２リフトアップピン ２８１ 第１リフトアッププレート
２８２ 第１リフトアップ機構 ２８３ 第１リフトアップベースプレート
３１１ 第２リフトアッププレート
３１２ 第２リフトアップ機構
３１３ 第２リフトアップベースプレート。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、吸着解除状態のワークを吸着テーブル本体にセットするワークのセット方法、吸着テーブル本体からワークを持ち上げるワークのリフトアップ方法、リフトアップ装置、ワーク吸着テーブルおよび液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種のワークのセット方法およびワークのリフトアップ方法として、例えばカラーフィルタの製造装置であるダイコータに適用したものが知られている（例えば、特許文献１参照）。このダイコータには、カラーフィルタの基板（ワーク）を載置するステージ（ワーク吸着テーブル）に、ステージを貫通して出没自在に構成した複数のリフトピンを有するリフトアップ機構が組み込まれている。リフトアップ機構は、それぞれ２本のリフトピンとこれらを同時に昇降させるシリンダとか成る左右２組の機構で構成されている。ステージに基板をセットする場合には、リフトアップ機構のリフトピンをステージから没入した状態とし、これに基板を位置決めし水平にセット（載置）するが、基板をステージから引き離す（持ち上げる）ときには、真空破壊を行った後、左右２組の機構を時間差をもって駆動し、基板の傾けながら持ち上げるようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平９−１９２５６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような従来のセット方法では、ワーク（基板）をワーク吸着テーブル（ステージ）に載せ込んだ瞬間に、ワークの下面とワーク吸着テーブルの上面との間にエアーが咬み込んで、ワークが瞬間的に浮いた状態となる。このため、咬み込んだエアーにより、ワークが側方に位置ズレし易くなると共に、可とう性を有するワークではエアーが残留し易く、この残留エアーによりワークの表面に微妙な凹凸が生ずる問題があった。
また、上記従来のリフトアップ方法では、ワークの左右一方を持ち上げた瞬間に、ワークとワーク吸着テーブルとの間が真空状態となるため、ワークが損傷を受けるおそれがあり、且つエアーの流入によりこの真空状態が解消された瞬間にワークが傾斜方向に位置ズレする問題があった。
【０００５】
本発明は、エアーの咬み込みを有効に防止することができるワークのセット方法、ワークの損傷および位置ズレを有効に防止することができるワークのリフトアップ方法、リフトアップ装置、ワーク吸着テーブルおよび液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のワークのセット方法は、可とう性を有するワークをワークテーブル上にセットするワークのセット方法であって、昇降自在に構成されると共にワークを上反り状に保持可能な保持機構を用い、ワークを、その接触部が中間部から両側部に向かって進むようにワークテーブル上に載せ込むことを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、可とう性のワークは、上反り状の湾曲した状態で、ワークテーブルに対し中間部から接触し、さらにその接触部が中間部から両側部に向かって進むように載せ込まれる。このため、ワークテーブルとワークとの間のエアーは、ワークの接触状態が進むに従って側方に追い出されてゆき、ワークテーブルとワークとの間に残留することがない。
【０００８】
本発明のワークのリフトアップ方法は、可とう性を有するワークをワークテーブルから持ち上げるワークのリフトアップ方法であって、昇降自在に構成されると共にワークを上反り状に保持可能な保持機構を用い、ワークを、その離間部が両側部から中間部に向かって進むようにワークテーブルから持ち上げることを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、ワークテーブルに載置されている可とう性のワークは、その両側部から持ち上げられ上反り状の湾曲してゆき、最終的に中間部がワークテーブルから離間して完全にリフトアップされる。すなわち、ワークがワークテーブルから離れる瞬間においては、ワークの中間部のみがワークテーブルに接触していることになる。このため、剥離面積に比例するとされる剥離帯電による静電気容量は、全体が瞬間的に離れる場合に比して十分に小さいものとすることができる。
【００１０】
本発明のリフトアップ装置は、可とう性を有するワークを吸着セットする吸着テーブル本体と、吸着テーブル本体を複数本の支柱部材を介して支持する支持ベースとから成るワーク吸着テーブルに組み込まれ、吸着解除状態のワークを、吸着テーブル本体上に載るセット位置とその上方の搬入搬出位置との間で昇降させるリフトアップ装置において、吸着テーブル本体に形成した多数の貫通孔に出没自在に遊挿され、ワークを下側から突き上げる多数のリフトアップピンと、吸着テーブル本体と支持ベースとの間隙に配設され、多数のリフトアップピンを立設したピン支持プレートと、ピン支持プレートおよび多数のリフトアップピンを介して、ワークをセット位置と搬入搬出位置との間で昇降させる上下動機構と、上下動機構を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１１】
この場合、制御手段は、上昇するリフトアップピンがワークを突き上げる直前に、リフトアップピンの上昇速度を減速することが、好ましい。
【００１２】
また逆に、制御手段は、下降するリフトアップピンがワークを吸着テーブル本体に置き去る直前に、リフトアップピンの下降速度を減速することが、好ましい。
【００１３】
このような構成によれば、ワークを突き上げるときのリフトアップピンの上昇速度を減速することにより、ワークへの衝撃を小さくすることができると共に、ワークの突き上げにより生ずるワークと吸着テーブル本体との間に生ずる真空状態を緩和することができる。したがって、リフトアップに伴うワークの損傷を防止することができる。
一方、ワークを吸着テーブル本体に載置するときのリフトアップピンの下降速度を減速することにより、吸着テーブル本体とワークとの間のエアーをゆっくり且つ完全に追い出すことができる。したがって、載置したワークと吸着テーブル本体との間にエアーが咬み込むのを防止することができる。
【００１４】
これらの場合、多数のリフトアップピンは、ワークの中間部を突き上げる中間部ピン群と、ワークの両側部を突き上げる一対の側部ピン群とに分割され、ピン支持部材は、中間部ピン群を立設した中間部支持プレートと、各側部ピン群を立設した一対の側部支持プレートとに分割され、上下動機構は、中間部支持プレートおよび一対の側部支持プレートを、相互に独立して昇降可能に構成されていることが、好ましい。
【００１５】
同様に、多数のリフトアップピンは、ワークの中央部を突き上げる中央部ピン群と、ワークの周縁部を突き上げる周縁部ピン群とに分割され、ピン支持部材は、中央部ピン群を立設した中央部支持プレートと、周縁部ピン群を立設した周縁部支持プレートとに分割され、上下動機構は、中央部支持プレートおよび周縁部支持プレートを、相互に独立して昇降可能に構成されていることが、好ましい。
【００１６】
この構成によれば、吸着テーブル本体に対するワークのセット（載置）形態およびリフトアップ形態を自在に選択することができ、ワークのセット時およびリフトアップ時の障害等に対応して変則的なセットおよびリフトアップが可能になる。
【００１７】
上記の場合、上下動機構は、中間部支持プレートを昇降させる中間部上下動機構と、各側部支持プレートを昇降させる一対の側部上下動機構とを有し、制御手段は、中間部上下動機構および一対の側部上下動機構を個別に制御可能に構成されていることが、好ましい。
【００１８】
この構成によれば、ワークのセット形態およびリフトアップ形態を自在に選択可能な上下動機構の構造を単純化することができると共に、その制御も単純化することができる。
【００１９】
この場合、制御手段は、一対の側部上下動機構に先行して中間部上下動機構を駆動し、ワークを搬入搬出位置からセット位置に下降させることが、好ましい。
【００２０】
この構成によれば、ワークは、上反り状の湾曲した状態で、吸着テーブル本体に対し中間部から接触し、さらにその接触部が中間部から両側部に向かって進むように載せ込まれる。このため、吸着テーブル本体とワークとの間のエアーは、ワークの接触状態が進むに従って側方に追い出されてゆき、吸着テーブル本体とワークとの間に残留することがない。
【００２１】
これらの場合、制御手段は、中間部上下動機構に先行して一対の側部上下動機構を駆動し、ワークをセット位置から搬入搬出位置に上昇させることが、好ましい。
【００２２】
この構成によれば、ワークは、その両側部から持ち上げられ上反り状の湾曲してゆき、最終的に中間部が吸着テーブル本体から離間して完全にリフトアップされる。すなわち、ワークが吸着テーブル本体から離れる瞬間においては、ワークの中間部のみが吸着テーブル本体に接触していることになる。このため、剥離面積に比例するとされる剥離帯電による静電気容量は、全体が瞬間的に離れる場合に比して十分に小さいものとすることができる。
【００２３】
これらの場合、中間部ピン群、中間部支持プレートおよび中間部上下動機構は、これらを支持する中間部ベースフレームによりユニット化され、且つ各側部ピン群、各側部支持プレートおよび各側部上下動機構は、これらを支持する側部ベースフレームによりユニット化されていることが、好ましい。
【００２４】
この構成によれば、リフトアップ装置自体が、３つのユニットで構成されることになる。このため、その組立て、取付け、交換およびメンテナンス等を容易に行うことができる。
【００２５】
一方、上記の多数のリフトアップピンは、ワークの中間部に位置するものを短く形成すると共に両側端に向かって次第に長くなるように形成されていることが、好ましい。
【００２６】
この構成によれば、ワークを、上反り状の湾曲した状態で、吸着テーブル本体に対し中間部から接触し、さらにその接触部が中間部から両側部に向かって進むように載せ込むことができる。また、ワークを、その両側部から持ち上げられ上反り状の湾曲してゆき、最終的に中間部が吸着テーブル本体から離間して完全にリフトアップさせることができる。このため、ワークの損傷および位置ズレを有効に防止することができると共に、吸着テーブル本体とワークとの間のエアーの咬み込みを有効に防止することができる。
【００２７】
同様に、多数のリフトアップピンは、ワークの中央部に位置するものを短く形成すると共に周縁に向かって次第に長くなるように形成されていることが、好ましい。
【００２８】
この構成によれば、ワークを、その中央部を窪ませた状態で、吸着テーブル本体に対し中央部から接触し、さらにその接触部が中央部から周縁部に向かって進むように載せ込むことができる。また、ワークを、その周縁部から持ち上げられ中央部が窪むように湾曲してゆき、最終的に中央部が吸着テーブル本体から離間して完全にリフトアップさせることができる。このため、ワークの損傷および位置ズレを有効に防止することができると共に、吸着テーブル本体とワークとの間のエアーの咬み込みを有効に防止することができる。
【００２９】
本発明のワーク吸着テーブルは、上記したリフトアップ装置を組み込んだことを特徴とする。
【００３０】
また、本発明の液滴吐出装置は、上記したワーク吸着テーブルを備え、ワーク吸着テーブルにセットしたワークに対して、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、ワーク上に機能液を吐出して描画を行うことを特徴とする。
【００３１】
これらの構成によれば、吸着テーブル本体とワークとの間のエアーの咬み込みを有効に防止することができるため、ワークを吸着テーブル本体の表面に倣って平坦にセットすることができる。また、ワークの損傷および位置ズレを有効に防止することができ、ワークを適切にリフトアップすることができる。したがって、ワークへの描画を高精度に行うことができると共に、ワークの歩留まりを向上させることができる。
【００３２】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。
【００３３】
また、本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００３４】
これらの構成によれば、ワークへの描画を高精度に行うことができると共に、ワークの歩留まりを向上させることができる液滴吐出装置を用いて製造されるため、信頼性の高い電気光学装置を製造することが可能となる。なお、電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）やＳＥＤ（Surface‐conduction Electron‐Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００３５】
本発明の電子機器は、上記した電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００３６】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明の効果】
【００３７】
本発明のワークのセット方法、リフトアップ方法、リフトアップ装置およびワーク吸着テーブルによれば、ワークの下側へのエアーの咬み込みを有効に防止することができると共に、ワークの損傷および位置ズレを有効に防止することができるため、ワークを適切にセットおよびリフトアップすることができる。
【００３８】
本発明の液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器によれば、ワークへの描画を高精度に行うことができると共に、ワークの歩留まりを向上させることができる。さらにこれにより、信頼性の高い電気光学装置を安定に製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本実施形態にかかる液滴吐出装置全体の外観斜視図である。
【図２】本実施形態にかかる液滴吐出装置の平面図である。
【図３】本実施形態にかかる液滴吐出装置の正面図である。
【図４】本実施形態にかかる液滴吐出装置の右側面図である。
【図５】（第１）ヘッドユニットの平面図である。
【図６】機能液滴吐出ヘッドの説明図であり、（ａ）は機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図、（ｂ）は、機能液滴吐出ヘッドをヘッドプレートに取り付けたときの断面図である。
【図７】メインキャリッジにヘッドユニットを搭載したときの外観斜視図である。
【図８】メインキャリッジにヘッドユニットを搭載したときの右側面図である。
【図９】Ｘ軸テーブル廻りの外観斜視図である。
【図１０】Ｘ軸テーブル廻りの右側面図である。
【図１１】θテーブルの説明図であり、（ａ）は、Ｘ軸エアースライダにθテーブル支持部を支持させたときの平面図、（ｂ）は、Ｘ軸エアースライダにθテーブル支持部を支持させたときの正面図、（ｃ）は、Ｘ軸エアースライダにθテーブルを支持させたときの外観斜視図である。
【図１２】吸着テーブル廻りの説明図であり、テーブル本体を除いた吸着テーブルの外観斜視図である。
【図１３】吸着テーブルの説明図である。
【図１４】３点支持機構のテーブル高さ調整機構の説明図であり、（ａ）は、テーブル高さ調整機構の平面図、（ｂ）は、テーブル高さ調整機構の正面図、（ｃ）は、テーブル高さ調整機構の側面図である。
【図１５】吸着テーブルのテーブル本体の平面図である。
【図１６】Ｙ軸テーブル廻りの外観斜視図である。
【図１７】Ｙ軸テーブル廻りの側面図である。
【図１８】Ｙ軸テーブル廻りの背面図である。
【図１９】第１リフトアップユニットの説明図であり、（ａ）および（ｂ）は、第１リフトアップユニットの外観斜視図、（ｃ）は、第１リフトアップユニットの断面図である。
【図２０】第２リフトアップユニットの説明図であり、（ａ）は、第２リフトアップユニットの外観斜視図、（ｂ）は、第２リフトアップユニットの断面図である。
【図２１】機台廻りの外観斜視図である。
【図２２】機台廻りの平面図である。
【図２３】ワイピングユニットのシート供給ユニットの外観斜視図である。
【図２４】シート供給ユニットの繰り出しリールの説明図であり、（ａ）は、繰り出しリールの平面図、（ｂ）は、繰り出しリールの断面図である。
【図２５】吸着テーブルに配設されたエアー配管部の説明図である。
【図２６】エアー吸引装置の説明図であり、（ａ）は、吸引配管部を模式的に示した系統図であり、（ｂ）は、吸着テーブルの吸引孔および吸引溝と個別エアー吸引チューブの関係を示した図である。
【図２７】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図２８】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図２９】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図３０】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図３１】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図３２】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図３３】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図３４】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図３５】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図３６】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図３７】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図３８】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図３９】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図４０】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図４１】陰極の形成を説明する工程図である。
【図４２】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図４３】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図４４】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明を適用した液滴吐出装置について説明する。この液滴吐出装置は、いわゆるフラットディスプレイの製造ラインに組み込まれるものであり、機能液滴吐出ヘッドを用いた液滴吐出法により、液晶表示装置のカラーフィルタや有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子等を形成するものである。
【００４１】
図１ないし図４に示すように、液滴吐出装置１は、吐出装置本体２と、これに併設したタンクキャビネット３とを、不活性ガスやドライエアーを導入したチャンバ装置４に収容して構成されている。吐出装置本体２は、床上に設置した大型の架台１１と、架台１１上に載置された石定盤１２と、を備えている。これらの図に示すように、架台１１上には、石定盤１２を介して描画装置２１が広く配設され、また、石定盤１２から外れた機台１３上には、描画装置２１に添設するようにメンテナンス装置２２が配設されている。また、吐出装置本体２は、液体供給回収装置２３を備えており、タンクキャビネット３には、描画装置２１に供給する機能液を貯留する液体供給回収装置２３のタンク類が収容されている（詳細は後述する）。さらに、吐出装置本体２には、各装置に圧縮エアー（不活性ガスやドライエアー）を供給するエアー供給装置２４や、ワークＷを吸引セットするためのエアー吸引装置２５、各装置を統括制御する制御装置２６が設けられている他、ワーク認識カメラ２３６やヘッド認識カメラ２２５等、各種付帯装置が配設されている。
【００４２】
この液滴吐出装置１では、液体供給回収装置２３から機能液を供給しながら、エアー吸引装置２５で吸着セットしたワークＷ上に、描画装置２１に搭載された機能液滴吐出ヘッド５１により機能液滴を吐出して描画を行うと共に、メンテナンス装置２２により適宜機能液滴吐出ヘッド５１のメンテナンスを行うようにしている。上述したように、吐出装置本体２は、チャンバ装置４内に収容されており、ワークＷに対する描画処理や機能液滴吐出ヘッド５１のメンテナンス処理等、ほとんどの処理を、これに導入した不活性ガスやドライエアーの雰囲気中で行うようになっている（図１参照）。
【００４３】
ここで、液滴吐出装置１の各装置について簡単に説明する。描画装置２１は、セットテーブル１４１（後述する）にセットしたワークＷに機能液を吐出するための吐出手段３１と、セットテーブル１４１に対してワークＷを除給（着脱）するためのワーク除給手段３２と、を備えている。吐出手段３１は、機能液滴吐出ヘッド５１を有するヘッドユニット４１（サブキャリッジ）と、ヘッドユニット４１を着脱可能に支持するメインキャリッジ４２と、セットテーブル１４１（後述する）にセットしたワークＷに対してヘッドユニット４１を相対的に移動させるＸ・Ｙ移動機構４３と、を有している。
【００４４】
図５に示すように、ヘッドユニット４１は、ヘッド保持部材（図示省略）を介して機能液滴吐出ヘッド５１を搭載したヘッドプレート５２と、メインキャリッジ４２に着脱可能に構成されたヘッド支持部材５３と、を備えている。ヘッドプレート５２の端部には、配管ジョイント５５を有するジョイントユニット５４が配設されており、配管ジョイント５５の一端は、機能液滴吐出ヘッド５１（配管アダプタ６５）からのヘッド側配管部材（図示省略）が接続され、もう一端は機能液滴吐出ヘッド５１に機能液を供給する機能液供給機構（図示省略）からの装置側配管部材（図示省略）が接続される。
【００４５】
ヘッドユニット４１には、ヘッドプレート５２に１２個の機能液滴吐出ヘッド５１および１２個の配管ジョイント５５を搭載した第１ヘッドユニットと、ヘッドプレート５２に２個の機能液滴吐出ヘッド５１および２個の配管ジョイント５５を搭載した第２ヘッドユニットとの２種類のものが用意されており、第１ヘッドユニットおよび第２ヘッドユニットの機能液滴吐出ヘッド５１は、同一の配置パターンに倣って、所定角度傾けた状態でヘッドプレート５２に取り付けられている。なお、第１ヘッドユニットおよび第２ヘッドユニットは、メインキャリッジ４２に対する同一の取付形態を有しており、相互に交換可能に構成されている。ただし、機能液滴吐出ヘッド５１の個数や配列は、上記したものに限られるものではなく任意である。なお、図５、図７および図８は、第１ヘッドユニットを示している。
【００４６】
図６に示すように、機能液滴吐出ヘッド５１は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針６２を有する機能液導入部６１と、機能液導入部６１に連なる２連のヘッド基板６３と、機能液導入部６１の下方に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体６４と、を備えている。各接続針６２は、配管アダプタ６５を介して、ヘッド側配管部材に接続されており、機能液滴吐出ヘッド５１は、各接続針６２から機能液の供給を受けるようになっている。ヘッド本体６４は、キャビティ７１（ピエゾ圧電素子）と、ノズル面７３を有するノズルプレート７２と、で構成されている。ノズル面７３の下面には、多数（１８０個）の吐出ノズル７４からなるノズル列が２列形成されている。機能液滴吐出ヘッド５１では、キャビティ７１のポンプ作用により吐出ノズル７４から機能液を吐出する。
【００４７】
図７および図８に示すように、メインキャリッジ４２は、ヘッドユニット４１（第１ヘッドユニットおよび第２ヘッドユニット）を着脱可能に支持するキャリッジ本体８１と、キャリッジ本体８１を吊設し、Ｙ軸テーブル１２２に支持された吊設部材８２と、を備えており、吊設部材８２には、ヘッドユニット４１をθ軸方向に回動させるヘッド回動機構８３、およびヘッドユニット４１を昇降させるヘッド昇降機構８４が組み込まれている。両図に示すように、吊設部材８２は、Ｙ軸テーブル１２２のブリッジプレート２４１（後述する）に固定される一対のヘッド固定部材９１と、一対のヘッド固定部材９１の上面に架け渡されたヘッド支持プレート９２と、を有しており、ヘッド回動機構８３の上部に連結したヘッド昇降機構８４がヘッド支持プレート９２に支持されている。
【００４８】
ヘッド回動機構８３は、ワークＷに対するヘッドユニット４１の水平面内における角度補正等に用いられるものであり、キャリッジ本体８１を支持するようにその上面に固定されたヘッド回動部１０１と、上側に位置するヘッド昇降機構８４に固定されると共にヘッド回動部１０１をθ軸方向に回動可能に支持するヘッド固定部１０２と、ヘッド回動部１０１を回動させる正逆回転可能なヘッド回動モータ１０３と、を有している。ヘッド回動モータ１０３は、ヘッド回動部１０１とヘッド固定部１０２との間に介設したいわゆるダイレクトモータ（ステッピングモータ）であり、このヘッド回動モータ１０３を駆動すると、ヘッド回動部１０１がθ軸を中心に回動する。これにより、キャリッジ本体８１を介して、ヘッドユニット４１を回動させることができ、水平面内におけるヘッドユニット４１（機能液滴吐出ヘッド５１）の傾き角度を自在に変更させることが可能となる。ヘッド回動機構８３の回動軸となるθ軸は、ヘッドユニット４１の重心を通っており、ヘッドユニット４１を安定した状態で回動できるようになっている。
【００４９】
なお、ヘッド回動部１０１の側部には、セットテーブル１４１の一部を撮像し、セットテーブル１４１の基準値に対する位置ずれを検出する吐出補正用カメラ１０４が固定されており、この検出結果に基づいて、機能液滴吐出ヘッド５１の吐出タイミングを補正するようになっている（図７参照）。
【００５０】
ヘッド昇降機構８４は、ヘッドユニット４１に搭載した機能液滴吐出ヘッド５１のノズル面７３と、Ｘ・Ｙ移動機構４３のセットテーブル１４１（後述する）にセットされたワークＷ表面との間隙、すなわちワークギャップを調整するためのものであり、下部に固定したヘッド回動機構８３およびキャリッジ本体８１を介してヘッドユニット４１を昇降させる。図７および図８に示すように、ヘッド昇降機構８４は、一対のヘッド固定部材９１に昇降自在に支持されるヘッド昇降スライダ１１１と、ヘッド固定部材９１とヘッド昇降スライダ１１１との間に介設され、ヘッド昇降スライダ１１１の昇降移動を案内する４組のヘッド昇降ガイド１１２と、ヘッド支持プレート９２の上面中央に、ヘッド支持プレート９２を貫通させて固定したヘッド昇降モータ１１３（サーボモータまたはステッピングモータ）と、ヘッド昇降モータ１１３により正逆回転するヘッド昇降ボールねじ（図示省略）と、ヘッド昇降ボールねじに螺合すると共に、ヘッド昇降スライダ１１１の正面に固定されたヘッド昇降ブロック１１５と、を備えている。なお、符号１１６は、ヘッド昇降ブロック１１５の下限位置を規制するために、ヘッド昇降ブロック１１５に度当たりする度当り部材であり、度当たり部材１１６は、度当り調整ねじ１１７に螺設されている。
【００５１】
ヘッド昇降モータ１１３を駆動するとヘッド昇降ボールねじが回転し、４組のヘッド昇降ガイド１１２にガイドされながら、ヘッド昇降ブロック１１５を介してヘッド昇降スライダ１１１が昇降する。この結果、ヘッド昇降スライダ１１１に吊設されたヘッド回動機構８３およびキャリッジ本体８１を介してヘッド回動機構８３に支持するヘッドユニット４１が昇降する。この場合、ヘッド昇降モータ１１３の回転軸は、ヘッド回動機構８３のθ軸と一致していると共に、４組のヘッド昇降ガイド１１２およびヘッド昇降ブロック１１５は、θ軸に対して点対称に配設されている。これにより、ヘッド昇降スライダ１１１の水平面内のずれを防止して、ヘッド昇降スライダ１１１を介して、精度よくヘッドユニット４１を昇降させることができるようになっている。
【００５２】
Ｘ・Ｙ移動機構４３は、いわゆるＸ・Ｙロボットであり、Ｘ軸方向に延在してワークＷをＸ軸方向に移動させるＸ軸テーブル１２１と、Ｘ軸テーブル１２１に直交して配設されたＹ軸テーブル１２２と、で構成されている（図２等参照）。なお、Ｙ軸テーブル１２２の図示手前側の領域がワークＷの搬出入が行われるワーク搬出入領域１３１に、またＸ軸テーブル１２１とＹ軸テーブル１２２が交わる領域がワークＷに描画処理を行う描画領域１３２になっている。そして、図示しないが、ワーク搬出入領域１３１に面して、チャンバ装置４には搬出入用開口が形成されており、ワークＷは移載ロボットにより、この搬出入用開口から搬入および搬出されるようになっている。
【００５３】
図３、図９および図１０に示すように、Ｘ軸テーブル１２１は、ワークＷをセットするセットテーブル１４１（ワークテーブル）と、セットテーブル１４１をＸ軸方向にスライド自在に支持するＸ軸エアースライダ１４２と、Ｘ軸方向に延在し、セットテーブル１４１を介してワークＷをＸ軸方向に移動させる左右一対のＸ軸リニアモータ１４３と、Ｘ軸リニアモータ１４３に並設され、Ｘ軸エアースライダ１４２の移動を案内する一対のＸ軸ガイドレール１４４と、を備えており、一対のＸ軸リニアモータ１４３を（同期させて）駆動すると、一対のＸ軸ガイドレール１４４をガイドにしながら、Ｘ軸エアースライダ１４２がＸ軸方向に移動し、セットテーブル１４１にセットされたワークＷがＸ軸方向に移動する。また、一対のＸ軸ガイドレール１４４の間には、Ｘ軸リニアスケール１４５が併設されている。Ｘ軸リニアスケール１４５に基づいて、Ｘ軸テーブル１２１を移動するセットテーブル１４１の刻々の位置を正確に把握し、機能液滴吐出ヘッド５１の吐出タイミング用基準パルスを得ている。なお、図中に示す符号１４６は、各Ｘ軸ガイドレール１４４を上側から覆うように張架された帯状のステンレス製の防液シートであり、これによりＸ軸ガイドレール１４４等に対する機能液の付着が防止される。
【００５４】
図１０に示すように、セットテーブル１４１は、Ｘ軸エアースライダ１４２に支持されたθテーブル１５１に、ワークＷを吸着セットする吸着テーブル１５２を重合させたものである。図１１に示すように、θテーブル１５１は、Ｘ軸エアースライダ１４２に支持されたθテーブル支持部１６１と、吸着テーブル１５２の下面に着脱可能に固定され、θテーブル支持部１６１に対してθ軸方向に回動可能なθテーブル回転部１６２と、を有している。また、θテーブル支持部１６１とθテーブル回転部１６２との間には、θテーブル支持部１６１側のアウタレース１６４およびθテーブル回転部１６２側のインナレース１６５（環状リング）間に多数のボールを有するベアリング状部材１６３が組み込まれている。θテーブル回転部１６２から径方向が外方に延びる作動アーム（図示省略）の先端には、θテーブル回転部１６２を回転（回動）させるθテーブル駆動部１６７が設けられている。
【００５５】
θテーブル駆動部１６７は、モータで構成したアクチュエータ１７１と、アクチュエータ１７１に連結したθボールねじ１７２と、θボールねじ１７２に螺合する雌ねじ（図示省略）を有するθスライダ１７３とを有し、このθスライダ１７３に上記の作動アームが取り付けられている。θスライダ１７３は、作動アームの角度変化および角度変化に伴う延在方向の寸法変化を許容する回動受け部１７５および径方向スライド部１７６を有し、θボールねじ１７２の正逆回転に伴う進退動を、作動アームの回動動作に動力変換する。これにより、ワークＷを吸着テーブル１５２上にセットした後、アクチュエータ１７１を駆動すると、θテーブル回転部１６２がθ軸方向に僅かに回動し、吸着テーブル１５２を介して、θ軸方向におけるワークＷの位置を微調整（補正）できるようになっている。
【００５６】
図１２および図１３に示すように、吸着テーブル１５２は、θテーブル１５１に着脱可能に固定された支持ベース１８１と、支持ベース１８１に立設された３点支持機構１８２と、３点支持機構１８２に支持され、ワークＷを吸着セットするテーブル本体１８３と、を有している。なお、同図に示すように、吸着テーブル１５２には、ワーク除給手段３２のリフトアップ機構２６１（後述する）およびプリアライメント機構２６２（後述する）が組み込まれている。
【００５７】
支持ベース１８１は、方形に形成した板状の石材で構成されており、支持ベース１８１の左右両端部下面には、吸着テーブル１５２の搬出入に用いる一対のテーブル運搬用鋼材１８４が固定されている。支持ベース１８１は、吸着テーブル１５２の重心がθテーブル１５１の回転軸（すなわちθ軸）と略一致するようにθテーブル回転部１６２の上面に固定されている。支持ベース１８１には、θ軸とテーブル本体１８３の重心が一致するように３点支持機構１８２が配設されており、この３点支持機構１８２の３点（後述する３本のテーブル支持部材１９１）は、上記のインナレース１６５のほぼ直上部に且つ周方向に等間隔となるように位置している。また、図１２および図１３に示すように、支持ベース１８１には、３点支持機構１８２によって支持されるテーブル本体１８３の横ブレを規制する４組８個の位置規制部材１８５が設けられている。詳細は後述するが、この他にも支持ベース１８１上には、メンテナンス装置２２の吐出前フラッシングユニット４１１や、ワーク除給手段３２のリフトアップ機構２６１およびプリアライメント機構２６２が配設されていると共に、ワークＷを吸着セットするための吸引配管部５７２（バルブ・配管部）や吸着テーブル１５２廻りの各機構に圧縮エアーを供給するためのエアー配管部５５３（バルブ・配管部）等が設置されている。
【００５８】
３点支持機構１８２は、３点支持により、テーブル本体１８３を安定して支持するものであり、図１３に示すように、３本のテーブル支持部材１９１（支柱部材）で構成されている。３本のテーブル支持部材１９１は、各テーブル支持部材１９１を結んだ三角形が略正三角形となり、かつ各テーブル支持部材１９１に略均等にテーブル本体の重量がかかるよう（すなわち、テーブル本体１８３の重心と各テーブル支持部材１９１を結んだときに形成される三角形の重心を一致させて）配設されている。
【００５９】
各テーブル支持部材１９１は、その上面中央にテーブル本体１８３をねじ止めするための雌ねじが螺設された円柱状のテーブル支持部１９２と、上端にテーブル支持部１９２をフランジ形式で固定したテーブル高さ調整機構１９３と、を有している。
【００６０】
３点支持に対応する３つのテーブル高さ調整機構１９３は、それぞれが上下に微調整されることにより、テーブル本体１８３（のセット面１８３ａ）の水平面に対する平行度を高精度に調整できるようになっている（理論的には３点支持のうち２点が調整できればよい）。図１４を参照して説明すると、各テーブル高さ調整機構１９３は、支持ベース１８１に位置決め固定されたケース状のベースフレーム１９４と、ベースフレーム１９４に対し昇降自在（上下動自在）に支持されたテーブル本体１８３側の昇降ブロック１９５と、昇降ブロック１９５の下面に接触すると共にベースフレーム１９４に対しＸ軸方向に進退自在に支持された支持ベース１８１側の進退ブロック１９６と、ベースフレーム１９４に回動自在に軸支され軸部を進退ブロック１９６に螺合したテーブル高さ調整ねじ１９７と、を有している。
【００６１】
同図に示すように、進退ブロック１９６および昇降ブロック１９５は、相互の接触面が相補的な形状をしており、進退ブロック１９６の上端面（接触面）は、スライド方向に対して僅かに傾斜して形成される一方、昇降ブロック１９５の下端面（接触面）は、進退ブロック１９６のスライド方向に対して、進退ブロック１９６と反対方向に同角度に傾斜して形成されている。したがって、テーブル高さ調整ねじ１９７を正逆回転させると、進退ブロック１９６がＸ軸方向にスライドし、相互の接触面のカム作用により昇降ブロック１９５が昇降する。
【００６２】
進退ブロック１９６および昇降ブロック１９５の両接触面は、スライド方向に直交する断面形状が凹凸を為して接合しており、これらブロック１９５，１９６が相互に横ブレしないようになっている。そして、高さ調整が終了すると、調整した高さが狂わないようにブロック固定ねじ２００でねじ止めする。具体的には、昇降ブロック１９５およびベースフレーム１９４を２個のブロック固定ねじ２００で、高さ調整ねじ１９７と同じ方向にねじ止めし、進退ブロック１９６およびベースフレーム１９４を２個のブロック固定ねじ２００で高さ調整ねじ１９７と直交する方向にねじ止めする。この場合、ベースフレーム１９４の両側板には、ねじ穴１９８が、進退ブロック１９６には、スライド方向に延在する長穴１９９が形成されており、進退ブロック１９６のスライド位置に合わせて、これらをねじ止めできるようになっている（図１４参照）。
【００６３】
テーブル本体１８３は、石材で厚板状に構成された平面視略正方形の石盤である。テーブル本体１８３の一辺の長さは、ワークＷの長辺の長さと一致しており、コストダウンを図るべく最小限の大きさに形成されると共に、縦置きおよび横置きのいずれか任意の向きでワークＷをセット可能となっている。図１５に示すように、テーブル本体１８３には、後述するリフトアップ機構２６１の複数のリフトアップピン２７１を貫通させるための縦４個×横８個、計３２個の貫通孔２０１（挿通孔）が形成されていると共に、３点支持機構１８２にテーブル本体１８３を固定ねじ（図示省略）でねじ止めするための固定穴２０２が３個形成されている。固定穴２０２は、固定ねじの頭部がテーブル本体１８３の表面から突出しないようにざぐり穴２０３を有している。
【００６４】
図１５に示すように、テーブル本体１８３の周縁部には、これに切り込むように後述するプリアライメント機構２６２のＸ軸位置決め機構３３１（後述する）およびＹ軸位置決め機構３６１（後述する）を逃がすための逃がし溝２０４が前後に１箇所ずつ、および左右に２箇所ずつの計６箇所形成されている。また、テーブル本体１８３の下面周縁部には、左右各一対の逃がし溝２０４ｂの外側に位置して、その左右端部に、各一対ずつ計４個の当接溝２０５が形成されている。上記した４組の位置規制部材１８５は、その先端部にばね付きの当接ピン１８６を有しており、２組の位置規制部材１８５が、逃がし溝２０４ａの外側に位置してテーブル本体１８３の前後端面に当接し、残り２組が、左右各一対の当接溝２０５の先端面２０５ａに当接するよう配設されている。すなわち、テーブル本体１８３は、その側端面に４組の位置規制部材１８５の当接ピン１８６を当接させることにより、水平面内における位置規制を受けている。なお、当接溝２０５により、２組の位置規制部材１８５はテーブル本体１８３の輪郭内に納まり、残りの２組の位置規制部材１８５は、テーブル本体１８３に添設した一対のフラッシングボックス（後述する）を含む輪郭内に納まるようになっている。
【００６５】
また、図１５に示すように、テーブル本体１８３の表面（セット面１８３ａ）には、３２個の貫通孔２０１、３個の固定穴２０２、および６個の逃がし溝２０４の他、これらを逃げるように、ワークＷを吸引するための吸引溝２１１が複数形成されている。吸引溝２１１は、ワークＷの主要部を吸引するための主吸引溝２１２と、ワークＷの周縁部を吸引するための副吸引溝２１３と、を有している。主吸引溝２１２は、５本の環状吸引溝で構成されており、テーブル本体１８３の中心から外側に向かって大きくなる（同心状の）五重の正方形にパターニングされている。また、副吸引溝２１３は、Ｘ軸方向に延在する縦吸引溝２１３ａとＹ軸方向に延在する横吸引溝２１３ｂとで構成されており、主吸引溝２１２の外側に形成されている。縦吸引溝２１３ａは、テーブル本体１８３の周縁部の左右各２個の逃がし溝２０４ｂの間に延在する左右２本の吸引溝で構成されており、ワークＷを横置きセットしたときに用いられる。一方、横吸引溝２１３ｂはワークＷを縦置きセットしたときに用いられるものであり、テーブル本体１８３周縁部の前後各１個の逃がし溝２０４ａで分断するように形成した４本の吸引溝で構成されている。
【００６６】
図１５および図２６に示すように、各吸引溝２１２，２１３ａ，２１３ｂには、支持ベース１８１上の吸引配管（図示省略）に連通する吸引孔２１４（個別吸引孔）が２個ずつ形成されている。吸引孔２１４の直径は、吸引溝２１１の幅よりも一回り大きく形成されており、吸引溝２１１を介して十分な吸引力をワークＷに作用させることができるようになっている（実際には、吸引溝２１１：径２ｍｍ、吸引孔２１４：径３ｍｍ）。そして、吸引孔２１４からエアー吸引を行うと、吸引孔２１４および吸引溝２１１からワークＷに対して略均一に吸引力を作用させることができ、ワークＷの平坦度を維持しつつ、テーブル本体１８３に対してワークＷを不動に吸着セットできるようになっている。
【００６７】
なお、テーブル本体１８３には、検査用の小型基板をセットするためのセット箇所２１６が４箇所設けられており、いずれか任意の位置に小型基板をセット可能となっている。４つのセット箇所２１６は、テーブル本体１８３の４隅近傍に設けられており、各セット箇所２１６には、小型基板を吸着セットするための４個の吸引孔２１７が形成されている。
【００６８】
ワークＷに対して精度よく描画処理を行うため、テーブル本体１８３（セット面１８３ａ）の平面度（平坦度）は厳密に調整される。具体的には、装置外において吸着テーブル１５２をθテーブル１５１に取り付ける場合、先ず、支持ベース１８１に固定した３点支持機構１８２のテーブル支持部材１９１にテーブル本体１８３をねじ止めする。このねじ止めによりセット面１８３ａの平面度が微少に狂うため、続いてハンドラップ（セット面１８３ａの表面を僅かに削る）を行い、セット面１８３ａの平面度を出す。次に、これを装置内に運び込み、支持ベース１８１をθテーブル回転部１６２に固定した後、支持ベース１８１の固定により影響を補償するため、テーブル高さ調整機構１９３のテーブル高さ調整ねじ１９７によりテーブル本体１８３の高さ位置を微調整する。これにより、セット面１８３ａに極めて高い平面度を得ることが可能となる。
【００６９】
図３および図１１に示すように、Ｘ軸エアースライダ１４２は、セットテーブル１４１を支持するスライダ本体２２１と、スライダ本体２２１の下部に固定され、一対のＸ軸ガイドレール１４４にガイドされる一対のガイド部２２２と、で構成されている。スライダ本体２２１の上面には、２つの浅溝２２３が形成されており、各浅溝２２３内に防液シート１４６が挿通される。また、スライダ本体２２１には、テーブル本体１８３に形成したカメラ開口２２６に臨み、レンズを上方に（機能液滴吐出ヘッド５１側に）向けた上記のヘッド認識カメラ２２５が設置されている。ヘッド認識カメラ２２５は、ヘッドユニット４１を撮像するものであり、この撮像結果に基づいて、ヘッドユニット４１を介して機能液滴吐出ヘッド５１の位置を微調整するようになっている。ヘッド認識カメラ２２５は、焦点距離を調整するためにカメラ本体２２５ａを昇降させる昇降機構を有しており、ヘッドユニット４１の高さ位置に合わせてカメラ本体２２５ａの高さ位置を調節可能となっている。
【００７０】
ところで、ワークＷは、ガラスや樹脂等で構成されているため、セットするテーブル本体１８３に温度むらが生じていると、その影響を受けて不均一に熱膨張し、描画処理結果に悪影響を及ぼす。そこで、本実施形態では、テーブル本体１８３を、温度むらが生じにくく熱膨張率の小さな石材で構成すると共に、温度むらの原因となるテーブル本体１８３の穴や溝の割合を極力少なくしている。これにより、テーブル本体１８３の表面における温度むらが削減されると共に、ワークＷのテーブル本体１８３に対する接触面積を増すことができ、テーブル本体１８３の温度むらによるワークＷの歪を防止可能である。
【００７１】
具体的には、ワークＷをテーブル本体１８３上にセットしたときに接触する貫通孔２０１および固定穴２０２の直径を可能な限り小さくする（貫通孔２０１：１８ｍｍ、固定穴２０２（ざぐり穴：３３ｍｍ）と共に、吸引溝２１１の溝幅を極力細くしている（吸引溝２１１：２ｍｍ）。また、詳細は後述するが、リフトアップピン２７１の数を極力削減して、貫通孔２０１の数を減らしている。これにより、本実施形態では、ワークＷの９６．５％がテーブル本体１８３の石盤部分（平坦部）に接触する構成となっている。なお、ワークＷとテーブル本体１８３の石盤部分との接触割合は、ワークＷの材質（熱膨張率）等やワークＷに描画処理を行ったときの歩留まり等を考慮して設定可能であるが、少なくとも８０％以上、より好ましくは９０％あるいは９５％以上とすることが効果的である。
【００７２】
一方、テーブル本体１８３と、テーブル高さ調整機構１９３を介してこれを支持する支持ベース１８１とは、相互に固定状態にあるが、いずれも石材で構成されているため、相互間での熱的影響（熱膨張）はきわめて少ない。支持ベース１８１を金属で構成した場合には、テーブル高さ調整機構１９３の下面を支持ベース１８１に非固定状態とするか、あるいは、テーブル本体１８３をテーブル高さ調整機構１９３の上面に対し非固定状態とすることが好ましい。これにより、テーブル本体１８３が支持ベース１８１による熱的影響をほとんど受けることがなく、テーブル本体１８３の平坦度を維持することができる。
【００７３】
もっとも、テーブル高さ調整機構１９３の下面を支持ベース１８１に固定し、テーブル本体１８３の上面をテーブル高さ調整機構１９３に固定する場合であっても、テーブル高さ調整機構１９３を介してテーブル本体１８３および支持ベース１８１相互間の熱収縮差および熱膨張差を吸収することが可能である。具体的には、進退ブロック１９６と昇降ブロック１９５とのねじ止め、および昇降ブロック１９５とベースフレーム１９４とのねじ止めを行わず、昇降ブロック１９５および進退ブロック１９６間を非固定状態とする。すなわち、昇降ブロック１９５に対して進退ブロック１９６をスライド可能とすることにより、テーブル本体１８３および支持ベース１８１相互間のＸ軸方向における熱的影響を吸収できるようになっている。この場合、ベースフレーム１９４とテーブル高さ調整ねじ１９７との間に、テーブル高さ調整ねじ１９７の軸部を進退ブロック１９６のスライド方向に付勢するばね（図示省略）を介設するなどして、テーブル高さ調整ねじ１９７の緩みを防止することが好ましい。なお、Ｙ軸方向における熱的影響は、凹凸に形成された進退ブロック１９６および昇降ブロック１９５の両接触面の寸法交差によって吸収する。
【００７４】
図１６ないし図１８に示すように、Ｙ軸テーブル１２２は、上記した石定盤１２に立設した４本の支柱２３１上に、Ｘ軸テーブル１２１を跨ぐように掛け渡した一対のＹ軸支持部材２３２上に支持されている。４本の支柱２３１は、前後左右２本ずつ並んで配設されており、左右（Ｙ軸方向）に並んだ２本の支柱２３１上に、Ｙ軸方向に延在するブロック状の石材で構成された一対のＹ軸支持部材２３２が架け渡されている。各支柱２３１の上端とＹ軸支持部材２３２との間には、装置の組み立て時に、石材で構成したＹ軸支持部材２３２の高さ調整をするための高さ調整プレート２３３が介設されている。高さ調整プレート２３３は、支柱２３１の上端部に固定されており、Ｙ軸支持部材２３２を非固定状態で支持している。もっとも、高さ調整プレート２３３の両側部には、Ｙ軸支持部材２３２を挟むようにしてその横ブレを規制する一対の規制片２３４が形成されており、これにより非固定状態のＹ軸支持部材２３２が位置規制されている。また、前後（Ｘ軸方向）に並んだ２本の支柱２３１間には、上下中間位置よりもやや下側にこれらを連結する連結部材２３５が架け渡されている。なお、実情に応じて、高さ調整プレート２３３を省いて構成することも可能である。
【００７５】
また、一対のＹ軸支持部材２３２には、その内側に位置して、ワークＷのアライメントを認識するための一対のワーク認識カメラ２３６が描画領域１３２に臨んで配設されている（図１６ないし図１８参照）。一対のワーク認識カメラ２３６は、レンズを下方（ワークＷ側）に向けており、ヘッド認識カメラ２２５と同様、ワークＷの厚みに対応して焦点距離を調節すべく、カメラ本体（図示省略）を昇降させるカメラ昇降機構（図示省略）を有している。さらに、Ｙ軸支持部材２３２とワーク認識カメラ２３６との間には、ワーク認識カメラ２３６をＹ軸方向にスライド移動させるスライド機構（図示省略）が介設されており、ワークＷの種類などに対応させてワーク認識カメラ２３６の位置を調整可能になっている。また、図示後方のＹ軸支持部材２３２には、セットテーブル１４１（のセット箇所２１６）にセットされた検査用の小型基板の位置補正を行うための２眼の検収用カメラ２３７が配設されている。
【００７６】
Ｙ軸テーブル１２２は、メインキャリッジ４２を挿通して固定したブリッジプレート２４１と、ブリッジプレート２４１を両持ちで支持する一対のＹ軸スライダ（図示省略）と、Ｙ軸方向に延在し、一対のＹ軸スライダを介してブリッジプレート２４１をＹ軸方向に移動させる一対のＹ軸リニアモータ２４３と、Ｙ軸リニアモータ２４３に並設され、ブリッジプレート２４１の移動を案内する一対のＹ軸ガイドレール（ＬＭガイド：図示省略）と、メインキャリッジ４２（ヘッドユニット４１）の移動位置を検出するためのＹ軸リニアスケール（図示省略）と、を備えている（図２、図４、図１６ないし図１８等参照）。一対のＹ軸リニアモータ２４３を駆動すると、一対のＹ軸スライダが一対のＹ軸ガイドレールを案内にして同時にＹ軸方向を平行移動し、ブリッジプレート２４１を両持ち状態でＹ軸方向に移動させる。
【００７７】
ブリッジプレート２４１は、その略中間位置にメインキャリッジ４２を挿通させるための開口（図示省略）が形成されており、ブリッジプレート２４１にメインキャリッジ４２のヘッド固定部材９１を上面からねじ止めすると、ヘッド回動機構８３およびヘッドユニット４１が下方に突出した状態で支持される。なお、一対のＹ軸支持部材２３２上には、ブリッジプレート２４１に並んで、ブリッジプレート２４１と独立してＹ軸方向に移動可能なカメラ用ブリッジプレート２４５が架け渡されており、カメラ用ブリッジプレート２４５には、ワークＷに行った描画処理結果を確認するための描画観察カメラ２４６が搭載されている（図１６ないし図１８参照）。描画観察カメラ２４６にも、ワークＷに合わせてカメラ本体を昇降させる昇降機構が組み込まれている。
【００７８】
なお、先に説明したＸ軸テーブル１２１では、一対のＸ軸リニアモータ１４３、一対のＸ軸ガイドレール１４４、Ｘ軸リニアスケール１４５は、上記した石定盤１２上に直接設置されている。一方、Ｙ軸テーブル１２２の各Ｙ軸支持部材２３２は、直方体の石板で構成されており、各Ｙ軸支持部材２３２上には、Ｙ軸リニアモータ２４３、Ｙ軸ガイドレール、Ｙ軸リニアスケールが直接載置されている。このように、Ｘ軸テーブル１２１およびＹ軸テーブル１２２の主要部を、平面度を出し易くかつ熱膨張率の小さい石材上に設置することにより、ワークＷおよびヘッドユニット４１を精度よく移動させることが可能となり、ワークＷに対する描画処理精度を極めて高いものとすることができる。この場合、石定盤１２を架台１１に、Ｙ軸支持部材２３２を支柱２３１（高さ調整プレート２３３）に固定してもよいが、石定盤１２を架台１１に対し非固定状態で載置し、同様にＹ軸支持部材２３２も支柱２３１に対し非固定状態で載置することが好ましい。これにより、いずれも架台および補強プレートの熱膨張の影響を排除し得る。
【００７９】
図３等に示すように、一対のＸ軸リニアモータ１４３は、一対のＸ軸収容ボックス内に収容されている。Ｘ軸収容ボックス２５１内には、Ｘ軸リニアモータ１４３に並設させて、セットテーブル１４１等に接続するチューブやケーブル類を収容したＸ軸ケーブル担持体（ケーブルベア：登録商標）が収容されており、セットテーブル１４１の移動に追従させて、ケーブル類の可動端を移動させる構成となっている。同様に、Ｙ軸リニアモータ２４３、Ｙ軸ガイドレール、およびＹ軸スライダは、ヘッドユニット４１等に接続するチューブやケーブル類を収容したＹ軸ケーブル担持体（ケーブルベア：登録商標）と共に、Ｙ軸支持部材２３２上に設置された一対のＹ軸収容ボックス２５２内に収容されている（図４等参照）。
【００８０】
そして、各Ｙ軸収容ボックス２５２は、Ｙ軸支持部材２３２の側面に外向きに固定した一対のブラケット２４７に支持されている。これにより、Ｙ軸支持部材２３２は、Ｙ軸ガイドレール等を支持する機能を充足すると共に、コストダウンを図るべく、最小限の大きさに形成されている。なお、図中の符号２５５は、各組の支柱２３１の上部間に掛け渡した一対のエアーブロー機構である。各エアーブロー機構２５５は、チャンバ装置４内の温度と同温度のエアーをブローヘッドからＸ軸方向に移動するワークＷ上に吹き付けるものであり、描画後の機能液滴（画素）の溶剤を強制的に気化させる（成膜）。
【００８１】
ここで、描画処理時における吐出手段３１の一連の動作について説明する。先ず、Ｘ・Ｙ移動機構４３により、ヘッドユニット４１およびセットテーブル１４１を描画領域１３２に移動させる。そして、機能液を吐出する前の準備として、ヘッド認識カメラ２２５により、機能液滴吐出ヘッド５１の位置を確認しながら、ヘッド回動機構８３を駆動して、ヘッドユニット４１のθ軸方向の位置補正を行う。続いて、セットテーブル１４１をワーク搬出入領域１３１に移動させ、ワークＷをセットした後、再びセットテーブル１４１を描画領域１３２に移動させる。そして、ワーク認識カメラ２３６に基づいてθテーブル１５１を駆動し、セットテーブル１４１にセットされたワークＷのθ軸方向の位置補正を行う。なお、本実施形態では、描画処理の前段階として、吐出補正用カメラ１０４により、予め機能液滴吐出ヘッド５１の吐出タイミング補正を行うと共に、セットするワークＷに合わせて、ヘッド昇降機構８４によりワークギャップを調整している。但し、ワークギャップに関しては、ワークギャップを検出するギャップ検出センサ等を設け、描画処理毎にギャップ調整を行うようにしてもよい。
【００８２】
次に、Ｘ・Ｙ移動機構４３（Ｘ軸テーブル１２１）が、ワークＷを主走査（Ｘ軸）方向に往動させる。ワークＷの往動と同期して、機能液滴吐出ヘッド５１が選択的に駆動され、ワークＷに対する機能液の選択的な吐出動作が行われる。ワークＷが一往動すると、Ｘ・Ｙ移動機構４３（Ｙ軸テーブル１２２）は、ヘッドユニット４１を副走査（Ｙ軸）方向に移動させる。そして、Ｘ・Ｙ移動機構４３により、ワークＷを復動させると共に、これと同期して機能液滴吐出ヘッド５１の選択的な駆動を行う。ワークＷの一復動が終了すると、Ｘ・Ｙ移動機構４３により、ヘッドユニット４１を副走査させる。そして、ワークＷの主走査方向へ往復動と機能液滴吐出ヘッド５１の駆動と、を繰り返すことにより吐出手段３１は、ワークＷに機能液による描画を行っている。
【００８３】
ワーク除給手段３２は、ワーク搬出入領域１３１に搬入された未処理のワークＷをセットテーブル１４１に適切にセットすると共に、描画処理を行ったワークＷをセットテーブル１４１から適切にリフトアップするためのものであり、セットテーブル１４１に対してワークＷを離接させるリフトアップ機構２６１と、リフトアップ機構２６１によりセットテーブル１４１に載置された未処理のワークＷを位置決めするプリアライメント機構２６２と、ワークＷをセットテーブル１４１から離間させるときにワークＷに生じる剥離帯電を除電するための除電手段２６３と、を備えている。なお、ワークＷをリフトアップさせた状態で、上述の移載ロボットのロボットアーム（図示省略）がこれに下側から臨み、ワークＷの装置外への搬入・搬出が行われる。
【００８４】
リフトアップ機構２６１は、吸着テーブル１５２の支持ベース１８１上に配設されており、吸着テーブル１５２の貫通孔２０１から昇降するリフトアップピン２７１を介し、吸着テーブル１５２に対してワークＷを離接させるものである。図１２に示すように、リフトアップ機構２６１は、Ｘ軸方向を列方向として、１列を８本のリフトアップピン２７１で構成した４列のリフトアップピン列２７２を有している。同図に示すように、４列のリフトアップピン列２７２は、Ｙ軸方向に等間隔に配設されており、リフトアップ機構２６１は、両端に位置する各１列のリフトアップピン列２７２を昇降させる一対の第１リフトアップユニット２７３と、中央２列のリフトアップピンを同時に昇降させる第２リフトアップユニット２７４と、で構成されている。
【００８５】
図１９に示すように、各第１リフトアップユニット２７３は、８本の第１リフトアップピン２７１ａ（側部ピン群）と、これらをＸ軸方向に対して等間隔に立設させた第１リフトアッププレート２８１（側部支持プレート）と、第１リフトアッププレート２８１を昇降させるための第１リフトアップ機構２８２（側部上下動機構）と、第１リフトアップ機構２８２を支持する第１リフトアップベースプレート２８３と、で構成されている。第１リフトアップ機構２８２は、第１リフトアッププレート２８１を昇降させる第１リフトアップモータ２９１（サーボモータ）と、第１リフトアップモータ２９１により正逆回転する（１本の）第１リフトアップボールねじ２９２と、第１リフトアップボールねじ２９２に螺合し、第１リフトアッププレート２８１を昇降自在に支持する第１雌ねじブロック２９３と、第１リフトアッププレート２８１の昇降をガイドする前後一対（２本）の第１リフトアップガイド２９４と、第１リフトアップピン２７１ａの昇降位置を検出する第１昇降位置検出センサ２９５と、を有している。
【００８６】
第１リフトアッププレート２８１の長手方向中間には、第１雌ねじブロック２９３が固定されている。そして、第１リフトアッププレート２８１には、その中心位置に第１リフトアップボールねじ２９２が貫通していると共に、第１リフトアップボールねじ２９２の前後に離間して一対の第１リフトアップガイド２９４が貫通している。第１リフトアップボールねじ２９２は、下端部を第１ベルトボックス２９７内に位置して第１リフトアップベースプレート２８３の中心位置に軸支され、且つ上端部を第１リフトアップベースプレート２８３に立設した第１ボールねじ支持部材２９６に軸支され、この状態で第１雌ねじブロック２９３に螺合している。第１リフトアップモータ２９１は、その出力軸を第１ベルトボックス２９７内に臨ませる下向き姿勢でこれに支持されている。第１リフトアップモータ２９１の出力軸および第１リフトアップボールねじ２９２には、それぞれ第１プーリ２９８が固定され、この両プーリ間には、第１リフトアップモータ２９１の動力を第１リフトアップボールねじ２９２に伝達する第１タイミングベルト２９９が掛け渡されている。
【００８７】
第１リフトアップモータ２９１を駆動すると、第１タイミングベルト２９９を介して第１リフトアップボールねじ２９２が正逆回転し、第１雌ねじブロック２９３を介して、第１リフトアッププレート２８１を昇降させる。これにより、第１リフトアップピン２７１ａが昇降する。なお、第１リフトアップユニット２７３は、第１リフトアップボールねじ２９２を中心として対称に構成されており、第１リフトアッププレート２８１を安定に昇降できるようになっている。
【００８８】
図１９に示すように、第１昇降位置検出センサ２９５は、第１ボールねじ支持部材２９６に取り付けられており、第１リフトアップピン２７１ａの上動端位置（搬入搬出位置）に対応して配設され、第１リフトアッププレート２８１の上限位置を検出する第１上限位置検出センサ３０１（フォトインタラプタ）と、第１リフトアップピン２７１ａの下動端位置に対応して配設され、第１リフトアップピン２７１ａの下限位置を検出する第１下限位置検出センサ３０２（フォトインタラプタ）と、を有している。また、第１下限位置検出センサ３０２の上側には、第１リフトアップピン２７１ａがワークＷに突き当たる状態に対応する第１原点センサ３０３（フォトインタラプタ）が設けられている。そして、第１リフトアッププレート２８１には、第１検出片３０４（透光板）が固定されおり、第１リフトアッププレート２８１と共に昇降する第１検出片３０４を、第１上限位置検出センサ３０１、第１原点センサ３０３および第１下限位置検出センサ３０２で検出することにより、第１リフトアップピン２７１ａの上動端位置、ワーク突当て位置および下動端位置を検出する。この場合、上動端位置は、ワークＷを載せ替えるためのリフトアップ位置（搬入搬出位置）であり、下動端位置は、第１リフトアップピン２７１ａがテーブル本体１８３の貫通孔２０１に没入する位置である。
【００８９】
本実施形態では、第１リフトアップピン２７１ａは、テーブル本体１８３に載置（セット）されているワークＷに対し、下動端位置から上昇を開始するが、ワークＷの突当て位置まではきわめて低速で上昇する。第１リフトアップピン２７１ａがワークＷに突き当たってこれを受け取った後は、高速で上動端位置まで上昇する。また、これと逆の動作で第１リフトアップピン２７１ａの下降動作が行われる。このように、ワークＷをテーブル本体１８３から離間させる前後においてワークＷを低速で上昇させるようにしているため、第１リフトアップピン２７１ａの突き当て時の衝撃を抑え、且つ剥離帯電を抑制することができる。同様に、ワークＷをテーブル本体１８３に載置するときに、ワークＷを低速で下降させるようにしているため、ワークＷをテーブル本体１８３との間にエアー（気泡）がかみ込むのを防止することができる。
【００９０】
図２０に示すように、第２リフトアップユニット２７４は、１６本の第２リフトアップピン２７１ｂ（中間部ピン群）と、これらを２列に二分して立設させた第２リフトアッププレート３１１（中間部支持プレート）と、第２リフトアッププレート３１１を昇降させるための第２リフトアップ機構３１２（中間部上下動機構）と、第２リフトアップ機構３１２を支持する第２リフトアップベースプレート３１３と、第２リフトアップピン２７１ｂの昇降位置を検出する第２昇降位置検出センサ３２０と、を有している。同図に示すように、第２リフトアップ機構３１２は、第２リフトアップボールねじ３１４に螺合する第２雌ねじブロック３１０が第２リフトアッププレート３１１を昇降自在に支持しており、第１リフトアップユニット２７３と略同様に構成されているが、前後一対（２本）の第２リフトアップボールねじ３１４と、前後各一対（４本）の第２リフトアップガイド３１５が設けられていると共に、前後一対の第２ボールねじ支持部材３１６が第２リフトアッププレート３１１を軸支している点で異なっている。第２リフトアップモータ３１７は、第２リフトアッププレート３１１を貫通すると共に、一方の第２リフトアップボールねじ３１４に対峙するように第２リフトアップベースプレート３１３に立設している。また、第２リフトアップモータ３１７は、その出力軸を第２ベルトボックス３１９内に臨ませており、第２リフトアップモータ３１７の出力軸および一対の第２リフトアップボールねじ３１４には、それぞれプーリが固定されている。そして、図２０に示すように、これら３つのプーリ間には、第２タイミングベルト３１８が掛け渡されており、単一の第２リフトアップモータ３１７により、一対の第２リフトアップボールねじ３１４が同期しながら正逆回転する。第２リフトアップモータ３１７を除けば、第２リフトアップ機構３１２は、対称に構成されており、安定して第２リフトアッププレート３１１をリフトアップできるようになっている。
【００９１】
また、第１リフトアップ機構２８２と同様に、第２リフトアップモータ３１７に対峙する第２ボールねじ支持部材３１６には、第２上限位置検出センサ（フォトインタラプタ）および第２下限位置検出センサ（フォトインタラプタ）から成る第２昇降位置検出センサ３２０と、第２リフトアップピン２７１ｂがワークＷに突き当たる状態に対応する第２原点センサ（図示省略）と、が設けられている。一方、第２リフトアッププレート３１１には、第２検出片（図示省略）が取り付けられており、この第２検出片を介して、第２リフトアップピン２７１ｂの上動端位置、下動端位置、および原点位置を検出できるようになっている。
【００９２】
なお、第１リフトアッププレート２８１および第２リフトアッププレート３１１の上限位置および下限位置は、各リフトアッププレート２８１，３１１上のリフトアップピン２７１のピン先の位置により規定されており、各リフトアッププレート２８１，３１１の上限位置は、リフトアップピン２７１が吸着テーブル１５２のセット面１８３ａから約５０ｍｍ程度突出する位置（搬入搬出位置）、各リフトアッププレート２８１，３１１の下限位置は、リフトアップピン２７１が吸着テーブル１５２のセット面１８３ａよりも約１ｍｍ程度低くなる位置となっている。
【００９３】
リフトアップピン２７１は、ワークＷに当接するピン本体２７６と、先端にピン本体２７６を固定すると共に、第１リフトアッププレート２８１または第２リフトアッププレート３１１にねじ止め固定されるピンホルダ２７７と、を有している。ピン本体２７６の先端、すなわちワークＷと接触する部分は、樹脂等のピーク材で構成され、ピン本体２７６の先端以外とピンホルダ２７７はステンレスやスチールのロッド材で構成されている。
【００９４】
ここで、リフトアップ機構２６１の一連の動作について説明する。上述したように、一対の第１リフトアップユニット２７３および第２リフトアップユニット２７４は、それぞれリフトアップモータを有しているため、一対の第１リフトアッププレート２８１および第２リフトアッププレート３１１を独立して昇降させることができる。そこで、これらを異なるタイミングで昇降させることにより、ワークＷを適切に吸着テーブル１５２に載置すると共に、吸着テーブル１５２からワークＷをリフトアップすることができるようになっている。
【００９５】
ワーク搬出入領域１３１に搬入された未処理のワークＷを吸着テーブル１５２に載置する場合、先ず、一対の第１リフトアッププレート２８１および第２リフトアッププレート３１１を上限位置まで上昇させておいて、４列全てのリフトアップピン２７１により、ワーク搬出入領域１３１に臨む吸着テーブル１５２上でワークＷを受け取る。次に、第２リフトアップモータ３１７のみを駆動し、第２リフトアップピン２７１ｂのみを下降させていく。これによりワークＷは自重で歪み、弧状に反る。第２リフトアップモータ３１７の駆動から所定時間経過後、第２リフトアップモータ３１７を駆動したまま、一対の第１リフトアップユニット２７３の各第１リフトアップモータ２９１を同時に駆動し、ワークＷを弧状に反らした状態（上反り状態）で下降させていく。すなわち、第１リフトアップピン２７１ａに先行して、第２リフトアップピン２７１ｂを下降させることにより、先ず、第２リフトアップピン２７１ｂに支持されたワークＷの中央部を吸着テーブル１５２に接触させ、これに追従するようにワークＷの左右両端部を吸着テーブル１５２に接触させている。これにより、ワークＷおよび吸着テーブル１５２間の空気は、ワークＷの中央部から両端部に向けて押し出されるように逃げてゆくため、ワークＷと吸着テーブル１５２との間に空気を残留させることなく、ワークＷを吸着テーブル１５２上に載置することができる。
【００９６】
この場合、リフトアップピン２７１の下降と並行して、テーブル本体１８３のエアー吸引を行うことが好ましい。より好ましくは、上記した副吸引溝２１３によるエアー吸引に先行して、主吸引溝２１２によるエアー吸引を行うといったように、セット面１８３ａの中央部から外側に向かって順次エアー吸引を行うようにする。これにより、ワークＷおよび吸着テーブル１５２間に空気が残留することを効果的に防止できる。なお、リフトアップピン２７１にワークＷを支持させた後の一連の動作は、描画処理のためのワークＷの描画領域１３２への移動と並行して行うことが可能である。
【００９７】
一方、描画処理を終えたワークＷを吸着テーブル１５２から持ち上げる（引き剥がす）ときには、先ず、各第１リフトアップモータ２９１を同時に駆動して、第１リフトアップピン２７１ａを上昇させ、ワークＷの両端部を突き上げるように持ち上げる。各第１リフトアップモータ２９１の駆動から所定時間経過後、各第１リフトアップモータ２９１を駆動したまま、第２リフトアップモータ３１７を駆動する。これにより、ワークＷの両端部がその中央部よりも先行して持ち上げられ、ワークＷは弧状に反った状態で吸着テーブル１５２から引き剥が（離間）される。したがって、ワークＷとテーブル本体１８３との間に、その端から徐々に空気を流入させることができ、ワークＷに無理な力をかけることなくワークＷを吸着テーブル１５２から離間させることができる。また、剥離帯電を抑制することができる。そして、吸着テーブル１５２からワークＷが完全に引き剥がされた後は、一対の第１リフトアップピン２７１ａおよび第２リフトアッププレート３１１がそれぞれ上動端位置まで達するまで、各第１リフトアップモータ２９１および第２リフトアップモータ３１７を駆動する。なお、詳細は後述するが、リフトアップ機構２６１により吸着テーブル１５２からワークＷを引き離すときには、除電手段２６３を同期して駆動させ、剥離帯電によりワークＷの裏面に生じる静電気の除電を行う。
【００９８】
また、上述したようにワークＷを吸着テーブル１５２に離接させる瞬間には、リフトアップピン２７１の昇降速度を抑え、吸着テーブル１５２への離接によってワークＷが受ける衝撃を小さくしている。すなわち、吸着テーブル１５２にワークＷを載置する場合、第２リフトアッププレート３１１を先ず速度Ｖｄ１で下降させてゆき、ワークＷが吸着テーブルに接触するときには速度Ｖｄ２で下降させている（但し、Ｖｄ１＞Ｖｄ２）。一方、吸着テーブル１５２からワークＷを引き剥がす場合には、第１リフトアップピン２７１ａを先ず速度Ｖｕ１で上昇させてゆき、ワークＷが吸着テーブルから完全に離間した後は速度Ｖｕ２で上昇させている（但し、Ｖｄ１＜Ｖｄ２）。このように、吸着テーブル１５２にワークＷを離接させるときの昇降速度を制御することにより、ワークＷの昇降に要するサイクルタイムを削減できる。また、ワークＷの昇降速度およびワークＷを昇降させるときの反らし具合は、ワークＷの材質や厚み、形状等を考慮して個別に設定可能である。
【００９９】
また、本実施形態においては、全てのリフトアップピン２７１を同一の長さで構成し、ワークＷの中間部を支持する（第２リフトアップユニット２７４の）リフトアップピン２７１とその両側端部を支持する（第１リフトアップユニット２７３の）リフトアップピン２７１の昇降タイミングを変えることにより、吸着テーブル１５２に対する離接時にワークＷを弧状に支持するようにしているが、昇降タイミングを同じにして、ワークＷの中間部を支持するリフトアップピン２７１の昇降速度をその両側端部を支持するリフトアップピン２７１の昇降速度よりも低速としても同様の効果を得ることができる。また、ワークＷの中間部に当接するリフトアップピン２７１を短く形成し、両側端に向かってリフトアップピン２７１を長くなるように形成してもよい。また、本実施形態リフトアップ機構２６１は、ワークＷの両端部をリフトアップさせる第１リフトアップピン２７１ａと、ワークＷ中間部をリフトアップさせる第２リフトアップピン２７１ｂと、に分割しているが、ワークＷの中央部を突き上げる中央部ピン群とワークＷの周縁部を突き上げる周縁部ピン群とに分割して構成することも可能である。この場合、中央部ピン群を支持する中央部支持プレートを昇降させる中央部リフトアップ機構、周縁部ピン群を支持する周縁部支持プレートを昇降させる周縁部リフトアップ機構により、中央部支持プレートおよび周縁部支持プレートを独立して昇降可能に構成する。
【０１００】
また、ワークＷをリフトアップピン２７１に支持させると、ワークＷの自重により、リフトアップピン２７１間でワークＷの撓みが生じる。ワークＷには、許容撓み量が予め設定されており、この許容撓み量を満たす範囲内で、リフトアップピン２７１数が最小になるように、各リフトアップピン列２７２間の距離（ピッチ）および１列を構成するリフトアップピン２７１間の距離が設定されている。このように、リフトアップ機構２６１のリフトアップピン２７１数を、許容可能な最小数とすることにより、リフトアップピン２７１を貫通させるための貫通孔２０１数を最小としている。
【０１０１】
図１２に示すように、プリアライメント機構２６２は、リフトアップ機構２６１により吸着テーブル１５２に載置されたワークＷのテーブル本体１８３に対する位置決め（プリアライメント）を行うものであり、一対のＸ挟持部材３３２でワークＷの前後端を挟み込むことにより、ワークＷの前後方向（Ｘ軸方向）の位置決めを行うＸ軸位置決めユニット３２１と、２組のＹ挟持部材３６２でワークＷの左右端を挟み込むことにより、ワークＷの左右方向（Ｙ軸方向）の位置決めを行うＹ軸位置決めユニット３２２と、を備えている。
【０１０２】
同図に示すように、Ｘ軸位置決めユニット３２１は、相互に対峙させて支持ベース１８１上に配設された一対のＸ軸位置決め機構３３１で構成されており、各Ｘ軸位置決め機構３３１は、ワークＷを挟持するためのＸ挟持部材３３２と、Ｘ挟持部材３３２をＸ軸方向およびＺ軸方向に移動可能に支持するＸ挟持部材移動機構３３３と、Ｘ挟持部材移動機構３３３を支持するＸ機構ベース３３４と、を有している。Ｘ機構ベース３３４は、テーブル本体１８３周縁部に形成された各逃がし溝２０４ａの位置に対応して、支持ベース１８１の周縁部に沿って固定されており、Ｘ挟持部材３３２は、通常、テーブル本体１８３の下に潜りこんだ状態で支持されている（待機位置）。Ｘ挟持部材３３２は、ワークＷに当接してこれを挟持するＸ挟持片３４１と、Ｘ挟持片３４１を保持するＸ挟持片ホルダ３４２と、を有している。Ｘ挟持片３４１は、ワークＷの損傷を防止するため、樹脂等の比較的柔軟性の高い材料で構成されている。
【０１０３】
Ｘ挟持部材移動機構３３３は、Ｘ機構ベース３３４に載置固定される第１Ｘ移動機構３５１と、第１Ｘ移動機構３５１に立設した第２Ｘ移動機構３５２と、第２Ｘ移動機構３５２に支持され、Ｘ挟持片ホルダ３４２を介してＸ挟持片３４１をスライド自在に支持する第３Ｘ移動機構３５３と、で構成されており、これら第１〜第３Ｘ移動機構３５１、３５２、３５３は、それぞれ、Ｘエアーシリンダ３５４と、Ｘエアーシリンダ３５４にスライド自在に支持されたＸスライダ３５５と、を有している。
【０１０４】
図１２に示すように、Ｘ挟持部材移動機構３３３は、第１〜第３Ｘ移動機構３５１、３５２、３５３により側面視「コ」字状に構成されている。具体的に説明すると、第１Ｘ移動機構３５１の第１Ｘエアーシリンダ３５４aは、Ｘ機構ベース３３４に固定され、第１Ｘスライダ３５５aをＸ軸方向にスライド自在に支持している。第１Ｘスライダ３５５aには、第２Ｘ移動機構３５２の第２Ｘエアーシリンダ３５４ｂが立設され、第２Ｘエアーシリンダ３５４ｂには、第２Ｘスライダ３５５ｂがＺ軸方向（鉛直方向）にスライド自在に支持されている。また、第２Ｘスライダ３５５ｂの上端部には、第３Ｘ移動機構３５３の第３Ｘエアーシリンダ３５４ｃが支持されており、第３Ｘエアーシリンダ３５４ｃには、Ｘ挟持片ホルダ３４２を固定した第３Ｘスライダ３５５ｃがＸ軸方向にスライド自在に支持されている。
【０１０５】
ワークＷの位置決めを行うときには、第１Ｘ移動機構３５１、第２Ｘ移動機構３５２、第３Ｘ移動機構３５３の順で、一対のＸ挟持部材移動機構３３３を同時に駆動させ、Ｘ挟持部材３３２を逃がし溝２０４ａに臨ませるように、Ｘ挟持部材３３２を「コ」字状に移動させる。すなわち、まず、第１Ｘ移動機構３５１により、Ｘ挟持部材３３２を吸着テーブル１５２から離間する方向にスライド移動させた後、第２Ｘ移動機構３５２により、所定の高さ（セット面１８３ａの高さ程度）までＸ挟持部材３３２を上昇させ、さらに第３Ｘ移動機構３５３により、Ｘ挟持部材３３２をワークＷに突き当てるように挟持移動させる（挟持位置）。もっとも、上述したようにワークＷは縦置きに加え横置きも可能となっており、縦置きの場合には、Ｘ挟持部材３３２をＸ軸方向に比較的短い距離を移動させるだけでワークＷに突き当てさせることができるため、Ｘ軸方向の移動を第１Ｘ軸移動機構（または第３Ｘ軸移動機構）のみで行ってもよい。これにより、ワークＷの前後端をＸ挟持片３４１が挟持するように、ワークＷの前後端面に一対のＸ挟持片３４１が当接し、ワークＷの前後方向の位置決めが為される。ワークＷの位置決め終了後は、位置決めを行うときと逆の手順でＸ挟持部材３３２を移動させ、再びＸ挟持部材３３２をテーブル本体１８３の下（待機位置）に移動させる。なお、Ｘ挟持部材３３２は、通常、テーブル本体１８３の下に収容されており、吸着テーブル１５２にワークＷを載置するときや、描画処理を行うときなどにＸ挟持部材３３２が障害となることがない。
【０１０６】
なお、一対のＸ軸位置決め機構３３１のうち、一方のＸ軸位置決め機構３３１（本実施形態では図示後ろ側）は、他方のＸ軸位置決め機構３３１（Ｘ軸方向における位置決め基準）の受けとなっており、受け側のＸ軸位置決め機構３３１のＸ挟持片３４１とＸ挟持片ホルダ３４２との間には、Ｘ挟持片３４１を挟持方向に付勢する２個のＸばね３５６が介設されている。したがって、一対のＸ挟持片３４１をワークＷに当接させたときの当接力を２個のＸばね３５６で吸収することができ、ワークＷに過剰な力がかかることを防止することができる。
【０１０７】
図１２に示すように、Ｙ軸位置決めユニット３２２は、前後２組（４個）のＹ軸位置決め機構３６１により構成されており、テーブル本体１８３周縁部の左右に形成された各２個の逃がし溝２０４ｂに対応させて支持ベース１８１上に配設されている。各Ｙ軸位置決め機構３６１は、Ｘ軸位置決め機構３３１と略同様に構成されており、ワークＷを挟持するためのＹ挟持部材３６２と、Ｙ挟持部材３６２がセット面１８３ａから突出しないように、テーブル本体１８３の下（待機位置）にＹ挟持部材３６２を支持すると共に、これをＹ軸方向およびＺ軸方向に移動可能に支持するＹ挟持部材移動機構３６３（Ｙ挟持片移動機構）と、Ｙ挟持部材移動機構３６３を支持するＹ機構ベース３６４と、を有している。
【０１０８】
Ｙ挟持部材３６２は、ワークＷに当接する円柱状のＹ挟持ピン３７１（Ｙ挟持片）と、Ｙ挟持ピン３７１を立設したＹ挟持プレート３７２と、を有している。Ｙ挟持ピン３７１のワーク当接部３７１ａは、Ｘ挟持片３４１と同様、樹脂等の比較的柔軟性の高い材料で構成されている。なお、Ｘ軸位置決め機構３３１と同様、各Ｙ軸位置決め機構３６１の一方（本実施形態では図示右側）は、他方（Ｙ軸方向における位置決め基準）の受けとなっており、受け側２つのＹ軸位置決め機構３６１には、Ｙ挟持ピン３７１とＹ挟持プレート３７２との間に介設され、Ｙ挟持ピン３７１を挟持方向に付勢する２個のＹばね３７３を有する逃がし機構３７４が設けられている。
【０１０９】
Ｙ挟持部材移動機構３６３は、Ｙ機構ベース３６４に載置固定された第１Ｙ移動機構３８１と、第１Ｙ移動機構３８１に支持された第２Ｙ移動機構３８２と、第２Ｙ移動機構３８２に立設され、Ｙ挟持プレート３７２を支持する第３Ｙ移動機構３８３と、で構成されている。第１Ｙ移動機構３８１の第１Ｙエアーシリンダ３８４ａは、Ｙ機構ベース３６４に固定され、第１Ｙスライダ３８５ａをＹ軸方向にスライド自在に支持している。第１Ｙスライダ３８５ａには、第２Ｙ移動機構３８２の第２Ｙスライダ３８５ｂをＹ軸方向にスライド自在に支持する第２Ｙエアーシリンダ３８４ｂが支持され、第２Ｙスライダ３８５ｂには、第３Ｙ移動機構３８３の第３Ｙエアーシリンダ３８４ｃが立設されている。そして、第３Ｙエアーシリンダ３８４ｃには、第３Ｙスライダ３８５ｃがＺ軸方向にスライド自在に支持され、第３Ｙスライダ３８５ｃの上端面には、Ｙ挟持プレート３７２が支持されている。
【０１１０】
ワークＷの位置決めを行うときには、４つのＹ挟持部材移動機構３６３を同時に駆動して、Ｘ挟持部材移動機構３３３と同様に、各Ｙ挟持部材３６２（Ｙ挟持ピン３７１）を逃がし溝２０４ｂに臨ませるように、「コ」字状に移動させる。この場合、第１Ｙ移動機構３８１、第３Ｙ移動機構３８３、第２Ｙ移動機構３８２の順に駆動させればよい。これにより、４本のＹ挟持ピン３７１のワーク当接部３７１ａ（の側面）がワークＷの左右両端面に当接し、ワークＷの左右方向（Ｙ軸方向）の位置決めが為される。なお、ワーク当接部３７１ａは断面円形状であるため、ワークＷは各ワーク当接部３７１ａの側面に点で当接する。このため、右側２本、左側２本のＹ挟持ピン３７１を精度よく当接させることができ、ワークＷを精度よく位置決め可能である。なお、Ｘ挟持部材移動機構３３３と同様に、ワークＷの縦置き／横置きに応じて、Ｙ軸方向の移動を第１Ｙ軸移動機構３８１（または第２Ｙ軸移動機構３８２）のみで行ってもよい。
【０１１１】
なお、プリアライメント機構２６２は、吸着テーブル１５２に組み込まれているため、ワークＷを描画領域に移動させながらプリアライメント動作を行うことができ、吸着テーブル１５２に対するワークＷのセットと、ワークＷの描画領域への移動と、をオーバーラップさせて行うことにより、ワーク１枚当たりの描画処理時間を削減可能である。
【０１１２】
除電手段２６３は、リフトアップ機構２６１によりワークＷを吸着テーブル１５２から引き離すときに、ワークＷの裏面に剥離帯電した静電気を軟Ｘ線の照射により除去するものであり、左右一対（２つ）の静電除去装置３９１で構成されている。図１６および図１７に示すように、一対の静電除去装置３９１は、石定盤１２に立設した４本の支柱２３１うち、手前側に配設された左右一対の支柱２３１に固定されており、描画領域１３２に臨む吸着テーブル１５２上のワークＷに対して左右両側から（ワークＷの移動方向と直交する方向から）軟Ｘ線を照射する構成となっている。このように、除電手段２６３は、２つの静電除去装置３９１を有しているので、効率的かつ確実に除電を行うことができる。なお、静電除去装置３９１としては、軟Ｘ線を照射するものの他、静電気を（電気的に）中和させるイオン化エアーをワークＷに送風するイオン送風型のもの（例えばイオナイザ）を用いることも可能である。なお、上記の静電除去装置３９１を用いたワークＷの除電方法については後述する。
【０１１３】
次に、メンテナンス装置２２について説明する。メンテナンス装置２２は、機能液滴吐出ヘッド５１の機能維持（または回復）を目的としたものであり、図２１および図２２に示すように、フラッシングユニット４０１と、吸引ユニット４０２と、ワイピングユニット４０３と、吐出検査ユニット４０４と、重量測定ユニット４０５と、を備えている。両図に示すように、吐出検査ユニット４０４を除き、メンテナンス装置２２の各ユニットは、上記した機台１３上に、Ｘ軸方向にスライド自在に構成された移動テーブル４０６上に配設されている。移動テーブル４０６とヘッドユニット４１のＹ軸方向における移動領域が交わる領域がメンテナンス領域４０７となっており、機能液滴吐出ヘッド５１の保守を行うときには、ヘッドユニット４１をメンテナンス領域４０７に移動させると共に、移動テーブル４０６を適宜移動させ、メンテナンス領域４０７に機能液滴吐出ヘッド５１のメンテナンスに供するユニットを臨ませる。なお、移動テーブル４０６上における各ユニットは、各ユニットの使用頻度およびメンテナンス手順を考慮して配置されている。また、各ユニットは、第１ヘッドユニットに対応して構成されているが、上述したように、第２ヘッドユニットは、第１ヘッドユニットの配置パターンに合わせて機能液滴吐出ヘッド５１を搭載しているため、第１ヘッドユニットとの兼用でこれら各ユニットを利用することが可能である。
【０１１４】
フラッシングユニット４０１は、フラッシング動作、すなわち機能液滴吐出ヘッド５１の予備吐出（捨て吐出）により吐出された機能液を受けるためのものであり、描画処理中において、ワークＷに機能液を吐出させる直前に行う吐出前フラッシングの機能液を受けるための吐出前フラッシングユニット４１１と、ワークＷの交換時のように、ワークＷに対する機能液の吐出が一時的に休止される時に定期的に行われる定期フラッシングの機能液を受けるための定期フラッシングユニット４１２と、を有している。
【０１１５】
図１２に示すように、吐出前フラッシングユニット４１１は、吸着テーブル１５２（テーブル本体１８３）の前後が挟むように配設され、吐出前フラッシングの機能液を受ける一対の吐出前フラッシングボックス４１５と、一対の吐出前フラッシングボックス４１５を昇降自在に支持する一対のボックス昇降機構４１６と、で構成されている。吐出前フラッシングボックス４１５は、平面視長方形の細長い箱状に形成されており、その長辺の長さをテーブル本体１８３の一辺の長さと一致させて構成され、テーブル本体１８３に添設されている。吐出前フラッシングボックス４１５内には、機能液を吸収させる吸収材４１７が敷設されている。各ボックス昇降機構４１６は、テーブル本体１８３から張り出すように支持ベース１８１の周縁部に支持された一対のボックス昇降シリンダ４１８（エアーシリンダ）を有しており、各吐出前フラッシングボックス４１５は、一対（２つ）のボックス昇降シリンダ４１８により両持ちで支持されている。このように、テーブル本体１８３を挟むように一対の吐出前フラッシングボックス４１５を配設しているので、ワークＷをＸ軸方向に往復動すると、機能液滴吐出ヘッド５１は、ワークＷに臨む直前に順次フラッシングボックスに臨んで吐出前フラッシングを行うことができる。すなわち、吐出前フラッシングだけのためにヘッドユニット４１を移動させることが不要となる。
【０１１６】
一対のボックス昇降機構４１６は、非描画処理時には、一対の吐出前フラッシングボックス４１５の上端面が吸着テーブル１５２のセット面１８３ａの高さよりも低くなる位置（待機位置）でこれを支持する。一方、描画処理を行うとき、すなわち吐出前フラッシングを受けるときには、一対のボックス昇降機構４１６は、吐出前フラッシングボックス４１５を上昇させ、その上端面をセットされたワークＷの表面の高さに一致させた状態でこれを支持する。これにより、吐出前フラッシングの機能液を外部に飛び散らせることなく、吐出前フラッシングボックス４１５に受けることができる。なお、吸収材４２３の膨張等を考慮して、上昇時における吐出前フラッシングボックス４１５の上端面の位置を、ワークＷよりも若干低い位置とすることも可能である。
【０１１７】
定期フラッシングユニット４１２は、メンテナンス領域４０７に臨んで配設されており、図２１および図２２に示すように、定期フラッシングの機能液を受ける箱状の定期フラッシングボックス４２１と、定期フラッシングボックス４２１を支持するボックススタンド４２２と、を有している。定期フラッシングボックス４２１は、第１ヘッドユニットに搭載された１２個の機能液滴吐出ヘッド５１を同時に定期フラッシングできるように十分な大きさで構成されている。なお、本実施形態では、第１ヘッドユニットの二分された１２個の機能液滴吐出ヘッド５１に対応して、定期フラッシングボックス４２１には、機能液の吸収材４２３が２列に敷設されているが、定期フラッシングボックス４２１の全体に吸収材４２３を敷設するようにしてもよい。ボックススタンド４２２は、定期フラッシングボックス４２１の上端面が、セットされたワークＷの表面と同じ高さとなるように定期フラッシングボックス４２１を支持している。この場合も、吐出前フラッシングボックス４１５と同様に、定期フラッシングボックス４２１の上端面をワークＷ（表面）よりも僅かに低い位置に支持させるようにしてもよい。
【０１１８】
図２１および図２２に示すように、吸引ユニット４０２は、機能液滴吐出ヘッド５１のノズル詰まりを防止（解消）するために、機能液滴吐出ヘッド５１の吸引を行うものであり、機能液滴吐出ヘッド５１のノズル面７３に密着するキャップ４２６を有するキャップユニット４２５と、密着させたキャップ４２６を介して機能液滴吐出ヘッド５１を吸引する吸引手段（図示省略）と、を有している。キャップユニット４２５も、第１ヘッドユニットに対応して構成されており、キャップユニット４２５は、第１ヘッドユニットに搭載された１２個の機能液滴吐出ヘッド５１の配置パターンと同一パターンでもって、キャップベース４２７に１２個のキャップ４２６を配置させている。図示省略したが、吸引手段は、機能液滴吐出ヘッド５１に吸引力を作用させる単一のエゼクタと、１２個のキャップ４２６とエゼクタとを接続する吸引チューブと、を有している。吸引チューブのキャップ４２６とエゼクタとの間には、後述する機能液回収系４８３の再利用タンク５３１が介設されており、エゼクタと再利用タンク５３１との間には開閉バルブ（図示省略）が介設されている。
【０１１９】
ワイピングユニット４０３は、機能液滴吐出ヘッド５１の吸引（クリーニング）等により機能液が付着して汚れた各機能液滴吐出ヘッド５１のノズル面７３を、ワイピングシートを用いて拭き取るものであり、別個独立に構成されたシート供給ユニット４３１と拭き取りユニット４３２とを備えている。これらシート供給ユニット４３１と拭き取りユニット４３２とは、移動テーブル４０６上に、拭き取りユニット４３２を吸引ユニット側に位置させた状態でＸ軸方向に並べて配置されており、メンテナンス領域４０７に存するヘッドユニット４１に向けて移動テーブル４０６の動きにより拭き取りユニット４３２がシート供給ユニット４３１と一体に払拭方向たるＸ軸方向一方に移動し、ヘッドユニット４１における１２個全ての機能液滴吐出ヘッド５１のノズル面７３を払拭する。
【０１２０】
拭き取りユニット４３２は、Ｙ軸方向両側に立設した一対のスタンド４３３間においてエアーシリンダにより昇降自在に支持される昇降枠４３４と、昇降枠４３４上に両持ちで回転自在に支持される押圧ローラ４３５と、押圧ローラ４３５に送り込まれるワイピングシート（図示省略）に機能液の溶剤から成る洗浄液を供給する洗浄液吐出ヘッド５１とを備えている（図２１および図２２参照）。なお、この場合の押圧ローラ４３５は、周面を弾性体とした自由回転ローラで構成されている。
【０１２１】
図２３に示すように、シート供給ユニット４３１は、Ｙ軸方向両側に立設した一対のフレーム４３９に着脱自在に軸支した上側の繰出しリール４４０および下側の巻取りリール４４１と、巻取りリール４４１を巻取り回転させる巻取りモータ４４２とを備えている。また、両フレームの上側部には、サブフレーム４４３が固定されており、このサブフレーム４４３には、繰出しリール４４０の先方に位置するように速度検出ローラ４４４が支持されている。さらに、これら構成部品の下側には、滴下した洗浄液を受ける洗浄液パン４４５が配設されている。
【０１２２】
繰出しリール４４０には、ロール状のワイピングシート（図示省略）が挿填され、繰出しリール４４０から繰り出されたワイピングシートは、速度検出ローラ４４４を介して拭き取りユニット４３２に送り込まれる。巻取りリール４４１と巻取りモータ４４２との間にはタイミングベルト４４６が掛け渡され、巻取りリール４４１は巻取りモータ４４２により回転してワイピングシートを巻き取るようになっている。この場合、巻取りモータ４４２およびタイミングベルト４４６等の動力源および動力伝達系は、描画装置２１とは逆側に位置しており、ワイピングシートを可能な限り描画装置２１側に寄せて配設できるようになっている。
【０１２３】
繰出しリール４４０は、これの軸端に設けたトルクリミッタ４４７により、巻取りモータ４４２に抗するように制動回転する。速度検出ローラ４４４は、自由回転する上下２つのローラ４４４ａ、４４４ｂから成るグリップローラであり、これの軸端に設けた速度検出器４４８により、巻取りモータ４４２を制御する。すなわち、繰出しリール４４０は、ワイピングシートを張った状態で送り出し、巻取りリール４４１は、ワイピングシートを弛みが生じないように巻き取るようになっている。また、繰出しリール４４０と速度検出ローラ４４４との間のシート走行路部分の下方に光学式のシート検出器４４９が配設されており、繰出しリール４４０から繰り出されるワイピングシートの端末が通過したことをこのシート検出器４４９で検出したとき、繰出しリール４４０および巻取りリール４４１の交換指令を出すようにしている。
【０１２４】
図２３および図２４に示すように、繰出しリール４４０は、中空のリール軸本体４５０と、リール軸本体４５０の両端に設けた左右一対のフランジ４５１Ｒ・４５１Ｌと、図示右側においてトルクリミッタ４４７が固定された右部リール短軸４５２と、図示左側のフランジの外側に延びる左部リール短軸４５３と、を有しており、右部リール短軸４５２および左部リール短軸４５３により、それぞれ軸受けを介して上記一対のフレーム４３９に回転自在に軸支されている。右部リール短軸４５２および右側のフランジ４５１Ｒとの間には筒状継手４５４が介設されている。右側のフランジ４５１Ｒには、テーパ形状の頭部を有する右部軸ピン４５６が貫通しており、右部軸ピン４５６のピン先には、右部リール短軸４５２と同径に形成され、筒状継手４５４に嵌合する円柱部材４５５が固定されている。一方、左側のフランジ４５１Ｌには、左部リール短軸４５３の軸心部分に嵌入係止される左部軸ピン４５７が貫通している。そして、リール軸本体４５０は、右部軸ピン４５６および左部軸ピン４５７を介し、フランジ４５１Ｒ・４５１Ｌに挟持されている。すなわち、右部軸ピン４５６および左部軸ピン４５７の両頭部により、リール軸本体４５０の両端（両小口）が閉塞するように挟持されている。この場合、右側のフランジ４５１Ｒは、筒状継手４５４を介して右部リール短軸４５２に固定される一方、左側のフランジ４５１Ｌは左部リール短軸４５３に固定されている。
【０１２５】
図２４に示すように、筒状継手４５４は、かみ合い形式で係合する右部継手片４５４Ｒおよび左部継手片４５４Ｌとから成り、右部継手片４５４Ｒには右部リール短軸４５２の軸端が嵌合し、左部継手片４５４Ｌには右部軸ピン４５６に固定した円柱部材４５５が嵌合している。そして、右部リール短軸４５２の軸端は、右部継手片４５４Ｒを貫通するように螺合した右部ユリアねじ４５８により右部継手片４５４Ｒに押圧固定され、円柱部材４５５は、左部継手片４５４Ｌを貫通するように螺合した左部ユリアねじ４５９により左部継手片４５４Ｌに押圧固定されている。なお、この２つのユリアねじ４５８・４５９により、筒状継手４５４は自在継手として機能する。
【０１２６】
右部リール短軸４５２は、十分な長さを有しており、例えば右部ユリアねじ４５８を緩め、筒状継手４５４を介して右側のフランジ４５１Ｒ（右部軸ピン４５６）を右側に移動させると、リール軸本体４５０の右端部が右部軸ピン４５６の頭部から離間する。すなわち、やり返し動作により、リール軸本体４５０が両フランジから離脱する。この場合、右部軸ピン４５６のリール軸本体４５０（小口）への挿入深さＬ１よりも筒状継手４５４の移動可能範囲Ｌ２が大きくなっている。なお、右部軸ピン４５６および左部軸ピン４５７の両頭部には、ガイドピン４５６ａ・４５７ａが上方に突出していると共に、リール軸本体４５０の両端部にはガイドピンに嵌合させる一対の長穴が切り込むように形成されている。これにより、リール軸本体４５０の装着をガイドすると共に、ワイピングシートの繰り出し時に装着したリール軸本体４５０が空回転することを防止する。
【０１２７】
また、リール軸本体４５０を右側のフランジ４５１Ｒに固定とし、右部ユリアねじ４５８と共に左部ユリアねじ４５９を緩めることにより、リール軸本体４５０、右部軸ピン４５６、右側のフランジ４５１Ｒ、および円柱部材４５５を一体として離脱させることも可能である。この場合、筒状継手４５４内における円柱部材４５５の挿入深さＬ３よりも筒状継手４５４の移動可能範囲Ｌ２を大きくする。
【０１２８】
ワイピングシートは、リール軸本体４５０にロール状を巻回して外部から運び込まれるが、このようにリール軸本体４５０が、筒状継手４５４を介して径方向に着脱できるようになっているため、ワイピングシートを着脱するためのスペースを左右方向（Ｙ軸方向）に執る必要がなく、且つワイピングシートを簡単に交換することができる。また、着脱のための筒状継手４５４を単純な筒体ではなく、かみ合い形式の継手としているため、繰出しリール４４０自体の回転ブレを防止することができる。なお、巻取りリール４４１も繰出しリール４４０と同様に着脱形式とすることが、好ましい。
【０１２９】
吐出検査ユニット４０４は、ワークＷに対する描画不良を防止するために、機能液滴吐出ヘッド５１から実際に吐出された飛翔中の機能液滴を撮像することにより、機能液滴吐出ヘッド５１から機能液が適切に吐出されているか否かを検査するものである。図９および図１０に示すように、吐出検査ユニット４０４は、ヘッドユニット４１のＹ軸方向における移動領域に臨み、かつＸ軸テーブル１２１から外れた石定盤１２上に配設されており、吐出検査のために吐出された機能液を受ける機能液受け４６１と、機能液受け４６１に対して吐出された飛翔中の機能液滴を撮像する撮像ユニット４６２と、撮像する機能液滴に光を照射する照明ユニット４６３と、を有している。なお、撮像ユニット４６２による撮像結果は、制御装置２６に送信されて画像認識され、この画像認識に基づいて、各機能液滴吐出ヘッド５１の各吐出ノズル７４が正常に機能液を吐出しているか（ノズル詰まりがないか）否かが判断される。
【０１３０】
図２１および図２２に示すように、重量測定ユニット４０５は、機能液滴吐出ヘッド５１から吐出された機能液滴の重量を測定することにより、機能液滴吐出ヘッド５１の吐出不良を検出するためのものであり、検出のための機能液を受ける１２個の受け容器４７２と、１２個の受け容器４７２を１２個の機能液滴吐出ヘッド５１の並びに合わせて載置する受け皿４７１と、吐出された機能液を収容した各受け容器４７２の重量を測定する図外の電子天秤と、を有している。受け皿４７１も、第１ヘッドユニットに対応した構成となっており、受け皿４７１には、第１ヘッドユニットの機能液滴吐出ヘッド５１の配置パターンに倣って、１２個の受け容器４７２を載置するための１２個の浅溝（図示省略）が形成されている。
【０１３１】
次に、液体供給回収装置２３について説明する。液体供給回収装置２３は、ヘッドユニット４１（各機能液滴吐出ヘッド５１）に機能液を供給する機能液供給系４８１と、メンテナンス装置２２のフラッシングユニット４０１からの廃液を回収する廃液回収系４８２と、吸引ユニット４０２で吸引した機能液および吸引ユニット４０２に吐出された機能液を回収する機能液回収系４８３と、ワイピングユニット４０３に機能材料の溶剤を洗浄用として供給する洗浄液供給系４８４と、で構成されている。上記したタンクキャビネット３の上段には、洗浄液供給系４８４の２個の洗浄液タンク５４１が、中段には機能液供給系４８１の３個のメインタンク５０１が、下段には機能液回収系４８３の３個の再利用タンク５３１および廃液回収系４８２の小型の廃液タンク５２１がそれぞれ配設されている（図４参照）。
【０１３２】
機能液供給系４８１は、主に第１ヘッドユニットを用い、大量のワークＷに描画処理を行う場合に対応させた第１機能液供給系４９１と、主に第２ヘッドユニットを用い、少量のワークＷに描画処理を行う場合に対応させた第２機能液供給系４９２と、を有している。第１機能液供給系４９１は、大量（３Ｌ）の機能液を貯留する３個のメインタンク５０１と、対応するメインタンク５０１から送液された機能液を貯留すると共に、各機能液滴吐出ヘッド５１に機能液を供給する３個のサブタンク５０２と、メインタンク５０１からサブタンク５０２を経て機能液滴吐出ヘッド５１に至る給液流路を形成する第１給液配管部５０３と、を有している。
【０１３３】
メインタンク５０１は、エアー供給装置２４から導入される圧縮エアーにより、第１給液配管部５０３を介して機能液を対応するサブタンク５０２に圧送する。３個のサブタンク５０２は、上記したブリッジプレート２４１上に横並びで配設されており、ヘッドユニット４１と共にＹ軸方向を移動する（図１ないし図４等参照）。機能液滴吐出ヘッド５１とサブタンク５０２との水頭差を所定値に維持するために、各サブタンク５０２内は負圧制御されている。これにより、機能液滴吐出ヘッド５１の吐出ノズル７４から機能液が液垂れすることを防止すると共に、圧電素子のポンプ作用により機能液滴が精度良く吐出されるようになっている。図示省略したが、第１給液配管部５０３は、メインタンク５０１およびサブタンク５０２を接続する３本の共通給液チューブと、各サブタンク５０２に４本ずつ繋ぎ込まれ、サブタンク５０２と各機能液滴吐出ヘッド５１とを接続する１２本の個別給液チューブと、各共通給液チューブを開閉するための３個の開閉バルブと、を有している。なお、ブリッジプレート２４１上には、１２本の個別給液チューブ５０５を開閉する１２個のヘッド側開閉バルブ５０８を有するヘッド側バルブユニット５０７が配設されている。
【０１３４】
第２機能液供給系４９２は、機能液を貯留した機能液パック５１１（または小型のインクタンク）と、これを１個ずつ載置する３つのパック載置部材５１２と、３つのパック載置部材５１２を支持するパック支持部材５１３と、機能液パックと機能液滴吐出ヘッド５１とを接続し、機能液を供給するための第２給液配管部（図示省略）と、を有している。パック支持部材５１３は、右後ろに立設した支柱２３１に固定されている。パック支持部材５１３と支柱２３１との間には、パック支持部材５１３を昇降させるパック昇降機構５１５が介設されており、パック昇降機構５１５の調整ねじ５１６を調整することにより、機能液パック５１１の高さ位置を調整できる。これにより、機能液パック５１１（液面）の高さを機能液滴吐出ヘッド５１のノズル面７３よりも僅かに低く調整することできるため、機能液パック５１１と機能液滴吐出ヘッド５１との水頭差を所定値に合わせこむことができる。
【０１３５】
廃液回収系４８２は、フラッシングユニット４０１の両フラッシングボックス４１５、４２１および吐出検査ユニット４０４の機能液受け４６１で受けられた機能液を回収するためのもので、回収した機能液を貯留する廃液タンク５２１と、両フラッシングボックス４１５、４２１、および機能液受け４６１の排出口（図示省略）に接続され、これらに吐出された機能液を廃液タンク５２１に導く廃液チューブ（図示省略）と、を有している。廃液チューブには、廃液ポンプ（図示省略）が介設されており、廃液ポンプを介して機能液が廃液タンク５２１に回収される。
【０１３６】
機能液回収系４８３は、吸引ユニット４０２のキャップ４２６を介して吸引した機能液をメインタンク５０１毎に個別に回収するためのものであり、回収した機能液を貯留する３個の再利用タンク５３１を有している。上述したように、再利用タンク５３１は、キャップ４２６とエゼクタとの間に設けられており、エゼクタにより吸引された機能液を貯留する。
【０１３７】
洗浄液供給系４８４は、ワイピングユニット４０３のワイピングシート（図示省略）に滴下する洗浄液を洗浄液ヘッド４３６に供給するためのもので、洗浄液を貯留する２個の洗浄液タンク５４１と、洗浄液タンク５４１と洗浄液ヘッド４３６を接続する洗浄液供給チューブ（図示省略）と、を有している。洗浄液タンク５４１は、エアー供給装置２４に接続されており、エアー供給装置２４から洗浄液タンク５４１に圧縮エアーを導入することにより、洗浄液タンク５４１から洗浄液が加圧送液されるようになっている。なお、洗浄液には、比較的揮発性の高い機能液の溶剤が用いられており、機能液滴吐出ヘッド５１のノズル面７３に付着する機能液を効率的に除去できるようになっている。
【０１３８】
次に、エアー供給装置２４について説明する。エアー供給装置２４は、圧縮エアーを各部に供給するためものであり、主に架台１１上に載置された各装置に圧縮エアーを供給する第１エアー供給ユニット５５１と、主に機台１３に載置されたメンテナンス装置２２に圧縮エアーを供給する第２エアー供給ユニット（図示省略）と、を備えている。図示省略したが、両エアー供給ユニットには、エアーを圧縮するエアーポンプ５５０（コンプレッサー）と、エアーポンプ５５０からの圧縮エアーを供給先に応じて一定圧力に保つレギュレータと、エアーポンプ５５０と各部とを配管接続するエアー配管部５５３と、がそれぞれ備えられている。エアー配管部５５３は、エアー供給チューブ５５５およびこれを開閉するエアー開閉バルブ５５６から成る給気側配管部５５４と、給気（供給）したエアーを回収するエアー回収チューブ５５８を有する排気側配管部５５７と、で構成されている。
【０１３９】
本実施形態では、エアー配管部５５３の構成を単純化するため、圧縮エアーの供給を受ける各装置（または機構）を集約的に配置させている。吸着テーブル１５２に配設されたエアー配管部５５３を例に説明する。図１２および図２５に示すように、吸着テーブル１５２の支持ベース１８１には、エアーシリンダを有するプリアライメント機構２６２および吐出前フラッシングユニット４１１と共に、これらの各エアーシリンダに接続する複数本の個別エアー供給チューブ５６１と、各エアーシリンダに接続された複数本の個別エアー回収チューブ５６２と、エアーポンプに接続した共通エアー供給チューブ（図示省略）および複数本の個別エアー供給チューブ５６１を接続すると共に、複数本の個別エアー回収チューブ５６２を合流させ、まとめて排気させるためのエアーマニホールド５６３（分岐マニホールド）と、が配設されている。そして、支持ベース１８１に配設された複数のエアーシリンダを左右に略二分してエアーを供給するように、支持ベース１８１には、２個のエアーマニホールド５６３が配設されている。エアーマニホールド５６３内には、複数のエアー開閉バルブ５５６（電磁バルブ：制御バルブ）が設けられており、各エアー開閉バルブ５５６は、対応する個別エアー供給チューブ５６１および個別エアー回収チューブ５６２に接続されている。
【０１４０】
このように、支持ベース１８１上に複数のエアーシリンダを集約配置しているので、エアー供給チューブ５５５およびエアー回収チューブ５５８を分岐・合流させるエアーマニホールド５６３を用いることにより、外部から支持ベース１８１に接続されるエアー配管部５５３（エアー供給チューブ数およびエアー回収チューブ数）を削減することができ、エアー配管部５５３の引き回しを単純にすることができる。なお、本実施形態では、吸着テーブル１５２がＸ軸方向に移動する構成であるが、外部から支持ベース１８１に接続されるエアー配管部５５３を削減することにより、吸着テーブル１５２の移動に対するエアー配管部５５３の影響を抑えることができ、精度よく吸着テーブル１５２の移動を行わせることが可能となる。また、支持ベース１８１には、２個のエアーマニホールド５６３が吸着テーブル１５２の中心（重心）に対して点対称に配設されており、外部から接続されるエアー配管部５５３により、吸着テーブル１５２に不均一な力がかかることを防止し、吸着テーブル１５２を安定して移動させることができるようになっている。
【０１４１】
本実施形態では、ヘッド認識カメラ２２５をＸ軸エアースライダ１４２に支持させているが、支持ベース１８１に支持するようにしてもよい。この場合、支持ベース１８１に固定され、支持ベース１８１から側方に延びるブラケット（すし省略）にヘッド認識カメラ２２５を支持させ、テーブル本体１８３のカメラ開口２２６にヘッド認識カメラ２２５のカメラ本体２２５ａを臨ませる。また、支持ベース１８１上に、ヘッド認識カメラ２２５と略同一構成のノズル観察カメラ（図示省略）を配設してもよい。ノズル観察カメラは、機能液滴吐出ヘッド５１のノズル詰まりを観察するためのものであり、テーブル本体１８３に形成した開口からレンズを臨ませ、各吐出ノズル７４を撮像する。これらの場合、カメラ本体を昇降させる昇降機構をエアーシリンダで構成すれば、エアーマニホールド５６３を介して昇降機構に圧縮エアーを供給することができる。
【０１４２】
次に、エアー吸引装置２５は、エアー吸引を行う真空ポンプ５７１と、吸着テーブル１５２の吸引孔２１４と真空ポンプ５７１とを配管接続する吸引配管部５７２と、を有しており、エアー吸引により、吸着テーブル１５２に載置されたワークＷを不動に吸着セットするものである。図２６に示すように、吸引配管部５７２は、上記した主吸引溝２１２、副吸引溝２１３の縦吸引溝２１３a、横吸引溝２１３ｂの吸引孔２１４にそれぞれ連通する３本の個別エアー吸引チューブ５７３と、各個別エアー吸引チューブ５７３を開閉する３個の吸引用開閉バルブ５７４と、３本の個別エアー吸引チューブ５７３を真空ポンプ５７１に接続するためのエアー吸引マニホールド５７５と、を有しており、ワークＷのセット方向に応じてエアー吸引を行うようになっている。また、各個別エアー吸引チューブ５７３には、ワークＷの吸引圧力を検出するための圧力センサ５７６が介設されている。
【０１４３】
ワークＷを横置きしたときには横吸引溝２１３ｂの吸引孔２１４に接続する個別エアー吸引チューブ５７３が吸引用開閉バルブ５７４により閉塞され、ワークＷを縦置きしたときには縦吸引溝２１３ａの吸引孔２１４に接続する個別エアー吸引チューブ５７３が閉塞される。すなわち、ワークＷに接触する副吸引溝２１３のみから、エアー吸引が為されるようになっている。なお、ワークＷの吸着セットを解除する場合には、各個別エアー吸引チューブ５７３を介して、エアー供給装置２４（第１エアー供給ユニット５５１）から圧縮エアーを供給して真空破壊を行う構成となっており、各個別エアー吸引チューブ５７３には、切替え用の開閉バルブ５７７が介設されたエアー供給チューブ５５５が接続されている。
【０１４４】
制御装置２６は、パソコン等で構成されている。図示省略したが、制御装置２６は、一時的に記憶可能な記憶領域を有し、制御処理のための作業領域として使用されるＲＡＭと、各種記憶領域を有し、制御プログラムや各種データを記憶するハードディスクと、ハードディスクに記憶されたプログラム等に基づいて、各種データを演算処理するＣＰＵと、これらを相互に接続するバスと、を備えており、液滴吐出装置１全体を相互に関連付けながら、統括的に制御している。
【０１４５】
例えば、ワークＷに生じる剥離帯電を効果的に除去するために、描画処理を行ったワークＷを吸着テーブル１５２から持ち上げるときには、制御装置２６は、上記したリフトアップ機構２６１、Ｘ軸テーブル１２１、および除電手段２６３を同期して駆動させている。ワークＷを吸着テーブル１５２から持ち上げるときの除電方法について具体的に説明する。吸着テーブル１５２からのワークＷの持ち上げに先立ち、先ず、Ｘ軸テーブル１２１を駆動して、吸着テーブル１５２をワーク搬出入領域１３１に移動させる。そして、エアー吸引装置２５の駆動を停止させると共に、開閉バルブ５０６を開弁して、各個別エアー吸引チューブ５７３にエアー供給チューブ５５５を連通させ、ワークＷの吸着セットを解除する。（ここでの順序は問わない）
【０１４６】
次に、一対の静電除去装置３９１を駆動させて軟Ｘ線の照射を行う。軟Ｘ線の照射を行ったまま、リフトアップ機構２６１の一対の第１リフトアップ機構２８２を同期させて駆動し、ワークＷを左右両端部から徐々に持ち上げていく。そして、ワークＷの中央部が吸着テーブル１５２のセット面１８３ａに接触させたまま、左右両端の高さが所定の高さ（イオン化する空気層が十分となる高さであり、ここでは５ｃｍとする）に達すると、この状態で、Ｘ軸テーブル１２１を駆動し、ワークＷを描画領域１３２の方へ往動させていく。この場合、一対の静電除去装置３９１による光軸とＸ軸方向は直交している。これにより、吸着テーブル１５２と上反り状態のワークＷとの間の空気層がイオン化され、ワークＷの裏面（およびセット面１８３ａ）における静電気を除電することができる。この場合、ワークＷの移動速度は、イオン化した空気によりワークＷの両端部が十分に除電されるよう、描画処理時の移動速度に比して低速度に設定される。
【０１４７】
ワークＷの往動が終了してワーク両端部の除電が終了した後、軟Ｘ線を照射したまま、Ｘ軸テーブル１２１を駆動してワークＷを復動させ、ワークＷの左右辺の中心を一対の静電除去装置３９１に臨ませる。続いて、第２リフトアップ機構３１２を駆動させ、ワークＷの中心部を吸着テーブル１５２から引き離す。そして、ワークＷが吸着テーブル１５２から完全に引き剥がされた後、一対の静電除去装置３９１の駆動を停止させる。このように、ワークＷを吸着テーブル１５２から引き剥がす一連の動作において、常に軟Ｘ線を照射する構成とすることにより、ワークＷの静電気を効果的に除電することが可能となる。
【０１４８】
また、本実施形態では、ワークＷを左右両端部のみを持ち上げた状態で除電作業を行っているが、ワークＷの材質やワークＷのリフトアップ方法に起因して、ワークＷをリフトアップさせたときの帯電量が少ない場合には、ワークＷ全体を持ち上げた状態から、除電作業を開始してもよい。例えば、一対の第１リフトアップ機構２８２の駆動に続き、第２リフトアップ機構３１２を駆動させ、ワークＷを吸着テーブル１５２から完全に離間させる。そして、Ｘ軸テーブル１２１を駆動して、軟Ｘ線を照射する一対の静電除去装置３９１にワークＷを臨ませるように、ワークＷの往復動を行い、ワークＷ全体の除電を行うようにする。
【０１４９】
なお当然のことながら、この除電手段２６３は、吸着テーブル１５２にワークＷを載置したときにも用いることができる。この場合、ワークＷを吸着テーブル１５２に載置した後、一対の静電除去装置３９１を駆動し、さらにＸ軸テーブル１２１を駆動する。これにより、ワークＷ表面における静電気が中和される。したがって、描画処理の前準備としてワークＷの除電を行うことにより、描画処理時におけるワークＷの静電気の影響を抑えることができる。
【０１５０】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、更にこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。
【０１５１】
先ず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図２７は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図２８は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ６００（フィルタ基体６００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１１）では、図２８（ａ）に示すように、基板（Ｗ）６０１上にブラックマトリクス６０２を形成する。ブラックマトリクス６０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【０１５２】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１２）において、ブラックマトリクス６０２上に重畳する状態でバンク６０３を形成する。即ち、まず図２８（ｂ）に示すように、基板６０１及びブラックマトリクス６０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層６０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム６０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図２８（ｃ）に示すように、レジスト層６０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層６０４をパターニングして、バンク６０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク６０３とその下のブラックマトリクス６０２は、各画素領域６０７ａを区画する区画壁部６０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド５１により着色層（成膜部）６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【０１５３】
以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体６００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク６０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）６０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク６０３（区画壁部６０７ｂ）に囲まれた各画素領域６０７ａ内への液滴の着弾位置精度が向上する。
【０１５４】
次に、着色層形成工程（Ｓ１３）では、図２８（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド５１によって機能液滴を吐出して区画壁部６０７ｂで囲まれた各画素領域６０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド５１を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１５５】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する。着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１４）に移り、図２８（ｅ）に示すように、基板６０１、区画壁部６０７ｂ、および着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂの上面を覆うように保護膜６０９を形成する。
即ち、基板６０１の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜６０９が形成される。
そして、保護膜６０９を形成した後、カラーフィルタ６００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【０１５６】
図２９は、上記のカラーフィルタ６００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置６２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ６００は図２８に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【０１５７】
この液晶装置６２０は、カラーフィルタ６００、ガラス基板等からなる対向基板６２１、及び、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層６２２により概略構成されており、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板６２１およびカラーフィルタ６００の外面（液晶層６２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板６２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【０１５８】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層側）には、図２９において左右方向に長尺な短冊状の第１電極６２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６２３のカラーフィルタ６００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜６２４が形成されている。
一方、対向基板６２１におけるカラーフィルタ６００と対向する面には、カラーフィルタ６００の第１電極６２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極６２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極６２６の液晶層６２２側の面を覆うように第２配向膜６２７が形成されている。これらの第１電極６２３および第２電極６２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【０１５９】
液晶層６２２内に設けられたスペーサ６２８は、液晶層６２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材６２９は液晶層６２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極６２３の一端部は引き回し配線６２３ａとしてシール材６２９の外側まで延在している。
そして、第１電極６２３と第２電極６２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１６０】
通常の製造工程では、カラーフィルタ６００に、第１電極６２３のパターニングおよび第１配向膜６２４の塗布を行ってカラーフィルタ６００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板６２１に、第２電極６２６のパターニングおよび第２配向膜６２７の塗布を行って対向基板６２１側の部分を作成する。その後、対向基板６２１側の部分にスペーサ６２８およびシール材６２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材６２９の注入口から液晶層６２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【０１６１】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板６２１側の部分にカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる前に、シール材６２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材６２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド５１で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜６２４，６２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド５１で行うことも可能である。
【０１６２】
図３０は、本実施形態において製造したカラーフィルタ６００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置６３０が上記液晶装置６２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ６００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置６３０は、カラーフィルタ６００とガラス基板等からなる対向基板６３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層６３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板６３１およびカラーフィルタ６００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【０１６３】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層６３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極６３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６３３の液晶層６３２側の面を覆うように第１配向膜６３４が形成されている。
対向基板６３１のカラーフィルタ６００と対向する面上には、カラーフィルタ６００側の第１電極６３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極６３６が所定の間隔で形成され、この第２電極６３６の液晶層６３２側の面を覆うように第２配向膜６３７が形成されている。
【０１６４】
液晶層６３２には、この液晶層６３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ６３８と、液晶層６３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材６３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置６２０と同様に、第１電極６３３と第２電極６３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１６５】
図３１は、本発明を適用したカラーフィルタ６００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【０１６６】
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００と、これに対向するように配置された対向基板６５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ６００の上面側（観測者側）に配置された偏光板６５５と、対向基板６５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ６００の保護膜６０９の表面（対向基板６５１側の面）には液晶駆動用の電極６５６が形成されている。この電極６５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極６６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極６５６の画素電極６６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜６５７が設けられている。
【０１６７】
対向基板６５１のカラーフィルタ６００と対向する面には絶縁層６５８が形成されており、この絶縁層６５８上には、走査線６６１及び信号線６６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた領域内には画素電極６６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極６６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【０１６８】
また、画素電極６６０の切欠部と走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ６６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線６６１と信号線６６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ６６３をオン・オフして画素電極６６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【０１６９】
なお、上記の各例の液晶装置６２０，６３０，６５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【０１７０】
次に、図３２は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置７００と称する）の要部断面図である。
【０１７１】
この表示装置７００は、基板（Ｗ）７０１上に、回路素子部７０２、発光素子部７０３及び陰極７０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置７００においては、発光素子部７０３から基板７０１側に発した光が、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部７０３から基板７０１の反対側に発した光が陰極７０４により反射された後、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【０１７２】
回路素子部７０２と基板７０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜７０６が形成され、この下地保護膜７０６上（発光素子部７０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜７０７が形成されている。この半導体膜７０７の左右の領域には、ソース領域７０７ａ及びドレイン領域７０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域７０７ｃとなっている。
【０１７３】
また、回路素子部７０２には、下地保護膜７０６及び半導体膜７０７を覆う透明なゲート絶縁膜７０８が形成され、このゲート絶縁膜７０８上の半導体膜７０７のチャネル領域７０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極７０９が形成されている。このゲート電極７０９及びゲート絶縁膜７０８上には、透明な第１層間絶縁膜７１１ａと第２層間絶縁膜７１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜７１１ａ、７１１ｂを貫通して、半導体膜７０７のソース領域７０７ａ、ドレイン領域７０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール７１２ａ，７１２ｂが形成されている。
【０１７４】
そして、第２層間絶縁膜７１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極７１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極７１３は、コンタクトホール７１２ａを通じてソース領域７０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜７１１ａ上には電源線７１４が配設されており、この電源線７１４は、コンタクトホール７１２ｂを通じてドレイン領域７０７ｂに接続されている。
【０１７５】
このように、回路素子部７０２には、各画素電極７１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ７１５がそれぞれ形成されている。
【０１７６】
上記発光素子部７０３は、複数の画素電極７１３上の各々に積層された機能層７１７と、各画素電極７１３及び機能層７１７の間に備えられて各機能層７１７を区画するバンク部７１８とにより概略構成されている。
これら画素電極７１３、機能層７１７、及び、機能層７１７上に配設された陰極７０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極７１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極７１３の間にバンク部７１８が形成されている。
【０１７７】
バンク部７１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層７１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層７１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層７１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部７１８の一部は、画素電極７１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部７１８の間には、画素電極７１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部７１９が形成されている。
【０１７８】
上記機能層７１７は、開口部７１９内において画素電極７１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層７１７ａと、この正孔注入／輸送層７１７ａ上に形成された発光層７１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層７１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入／輸送層７１７ａは、画素電極７１３側から正孔を輸送して発光層７１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層７１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【０１７９】
発光層７１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、又は青色（Ｂ）の何れかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層７１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層７１７ａを再溶解させることなく発光層７１７ｂを形成することができる。
【０１８０】
そして、発光層７１７ｂでは、正孔注入／輸送層７１７ａから注入された正孔と、陰極７０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【０１８１】
陰極７０４は、発光素子部７０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極７１３と対になって機能層７１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極７０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１８２】
次に、上記の表示装置７００の製造工程を図３３〜図４１を参照して説明する。
この表示装置７００は、図３３に示すように、バンク部形成工程（Ｓ２１）、表面処理工程（Ｓ２２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ２３）、発光層形成工程（Ｓ２４）、及び対向電極形成工程（Ｓ２５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１８３】
まず、バンク部形成工程（Ｓ２１）では、図３４に示すように、第２層間絶縁膜７１１ｂ上に無機物バンク層７１８ａを形成する。この無機物バンク層７１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層７１８ａの一部は画素電極７１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層７１８ａを形成したならば、図３５に示すように、無機物バンク層７１８ａ上に有機物バンク層７１８ｂを形成する。この有機物バンク層７１８ｂも無機物バンク層７１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部７１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部７１８間には、画素電極７１３に対して上方に開口した開口部７１９が形成される。この開口部７１９は、画素領域を規定する。
【０１８４】
表面処理工程（Ｓ２２）では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層７１８ａの第１積層部７１８ａａ及び画素電極７１３の電極面７１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極７１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層７１８ｂの壁面７１８ｓ及び有機物バンク層７１８ｂの上面７１８ｔに施され、例えば４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド５１を用いて機能層７１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部７１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１８５】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体７００Ａが得られる。この表示装置基体７００Ａは、図１に示した液滴吐出装置１のセットテーブル１４１に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ２３）及び発光層形成工程（Ｓ２４）が行われる。
【０１８６】
図３６に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ２３）では、機能液滴吐出ヘッド５１から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部７１９内に吐出する。その後、図３７に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面７１３ａ）７１３上に正孔注入／輸送層７１７ａを形成する。
【０１８７】
次に発光層形成工程（Ｓ２４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層７１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層７１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層７１７ａと発光層７１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層７１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層７１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層７１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層７１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａに均一に塗布することができる。
【０１８８】
そして次に、図３８に示すように、各色のうちの何れか（図３８の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部７１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層７１７ａ上に広がって開口部７１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部７１８の上面７１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面７１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部７１９内に転がり込み易くなっている。
【０１８９】
その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図３９に示すように、正孔注入／輸送層７１７ａ上に発光層７１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂが形成されている。
【０１９０】
同様に、機能液滴吐出ヘッド５１を用い、図４０に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ））に対応する発光層７１７ｂを形成する。なお、発光層７１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１９１】
以上のようにして、画素電極７１３上に機能層７１７、即ち、正孔注入／輸送層７１７ａ及び発光層７１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ２５）に移行する。
【０１９２】
対向電極形成工程（Ｓ２５）では、図４１に示すように、発光層７１７ｂ及び有機物バンク層７１８ｂの全面に陰極７０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極７０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極７０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１９３】
このようにして陰極７０４を形成した後、この陰極７０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置７００が得られる。
【０１９４】
次に、図４２は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置８００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、及びこれらの間に形成される放電表示部８０３を含んで概略構成される。放電表示部８０３は、複数の放電室８０５により構成されている。これらの複数の放電室８０５のうち、赤色放電室８０５Ｒ、緑色放電室８０５Ｇ、青色放電室８０５Ｂの３つの放電室８０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１９５】
第１基板８０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極８０６が形成され、このアドレス電極８０６と第１基板８０１の上面とを覆うように誘電体層８０７が形成されている。誘電体層８０７上には、各アドレス電極８０６の間に位置し、且つ各アドレス電極８０６に沿うように隔壁８０８が立設されている。この隔壁８０８は、図示するようにアドレス電極８０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極８０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁８０８によって仕切られた領域が放電室８０５となっている。
【０１９６】
放電室８０５内には蛍光体８０９が配置されている。蛍光体８０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室８０５Ｒの底部には赤色蛍光体８０９Ｒが、緑色放電室８０５Ｇの底部には緑色蛍光体８０９Ｇが、青色放電室８０５Ｂの底部には青色蛍光体８０９Ｂが各々配置されている。
【０１９７】
第２基板８０２の図中下側の面には、上記アドレス電極８０６と直交する方向に複数の表示電極８１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層８１２、及びＭｇＯなどからなる保護膜８１３が形成されている。
第１基板８０１と第２基板８０２とは、アドレス電極８０６と表示電極８１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極８０６と表示電極８１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極８０６，８１１に通電することにより、放電表示部８０３において蛍光体８０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１９８】
本実施形態においては、上記アドレス電極８０６、表示電極８１１、及び蛍光体８０９を、図１に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板８０１におけるアドレス電極８０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板８０１を液滴吐出装置１のセットテーブル１４１に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド５１により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１９９】
補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極８０６が形成される。
【０２００】
ところで、上記においてはアドレス電極８０６の形成を例示したが、上記表示電極８１１及び蛍光体８０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極８１１の形成の場合、アドレス電極８０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体８０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド５１から液滴として吐出し、対応する色の放電室８０５内に着弾させる。
【０２０１】
次に、図４３は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置９００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置９００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置９００は、互いに対向して配置された第１基板９０１、第２基板９０２、及びこれらの間に形成される電界放出表示部９０３を含んで概略構成される。電界放出表示部９０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部９０５により構成されている。
【０２０２】
第１基板９０１の上面には、カソード電極９０６を構成する第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ９０８を形成した導電性膜９０７が形成されている。すなわち、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７により複数の電子放出部９０５が構成されている。導電性膜９０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ９０８は、導電性膜９０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０２０３】
第２基板９０２の下面には、カソード電極９０６に対峙するアノード電極９０９が形成されている。アノード電極９０９の下面には、格子状のバンク部９１１が形成され、このバンク部９１１で囲まれた下向きの各開口部９１２に、電子放出部９０５に対応するように蛍光体９１３が配置されている。蛍光体９１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部９１２には、赤色蛍光体９１３Ｒ、緑色蛍光体９１３Ｇおよび青色蛍光体９１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０２０４】
そして、このように構成した第１基板９０１と第２基板９０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置９００では、導電性膜（ギャップ９０８）９０７を介して、陰極である第１素子電極９０６ａまたは第２素子電極９０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極９０９に形成した蛍光体９１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０２０５】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂ、導電性膜９０７およびアノード電極９０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体９１３Ｒ，９１３Ｇ，９１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０２０６】
第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７は、図４４（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図４４（ｂ）に示すように、予め第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜９０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜９０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板９０１および第２基板９０２に対する親液化処理や、バンク部９１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０２０７】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【符号の説明】
【０２０８】
１ 液滴吐出装置 ５１ 機能液滴吐出ヘッド
２６ 制御装置 １４１ セットテーブル
１５２ 吸着テーブル １８１ 支持ベース
１８３ テーブル本体 １９１ テーブル支持部材
２０１ 貫通孔 ２６１ リフトアップ機構
２７１ リフトアップピン ２７１ａ 第１リフトアップピン
２７１ｂ 第２リフトアップピン ２８１ 第１リフトアッププレート
２８２ 第１リフトアップ機構 ２８３ 第１リフトアップベースプレート
３１１ 第２リフトアッププレート
３１２ 第２リフトアップ機構
３１３ 第２リフトアップベースプレート。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可とう性を有するワークをワークテーブル上にセットするワークのセット方法であって、
昇降自在に構成されると共に前記ワークを上反り状に保持可能な保持機構を用い、
前記ワークを、その接触部が中間部から両側部に向かって進むように前記ワークテーブル上に載せ込むことを特徴とするワークのセット方法。
【請求項２】
可とう性を有するワークをワークテーブルから持ち上げるワークのリフトアップ方法であって、
昇降自在に構成されると共に前記ワークを上反り状に保持可能な保持機構を用い、
前記ワークを、その離間部が両側部から中間部に向かって進むように前記ワークテーブルから持ち上げることを特徴とするワークのリフトアップ方法。
【請求項３】
可とう性を有するワークを吸着セットする吸着テーブル本体と、前記吸着テーブル本体を複数本の支柱部材を介して支持する支持ベースとから成るワーク吸着テーブルに組み込まれ、
吸着解除状態の前記ワークを、前記吸着テーブル本体上に載るセット位置とその上方の搬入搬出位置との間で昇降させるリフトアップ装置において、
前記吸着テーブル本体に形成した多数の貫通孔に出没自在に遊挿され、前記ワークを下側から突き上げる多数のリフトアップピンと、
前記吸着テーブル本体と前記支持ベースとの間隙に配設され、前記多数のリフトアップピンを立設したピン支持プレートと、
前記ピン支持プレートおよび前記多数のリフトアップピンを介して、前記ワークを前記セット位置と前記搬入搬出位置との間で昇降させる上下動機構と、
前記上下動機構を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とするリフトアップ装置。
【請求項４】
前記制御手段は、上昇する前記リフトアップピンが前記ワークを突き上げる直前に、前記リフトアップピンの上昇速度を減速することを特徴とする請求項３に記載のリフトアップ装置。
【請求項５】
前記制御手段は、下降する前記リフトアップピンが前記ワークを前記吸着テーブル本体に置き去る直前に、前記リフトアップピンの下降速度を減速することを特徴とする請求項３または４に記載のリフトアップ装置。
【請求項６】
多数のリフトアップピンは、前記ワークの中間部を突き上げる中間部ピン群と、前記ワークの両側部を突き上げる一対の側部ピン群とに分割され、
前記ピン支持部材は、前記中間部ピン群を立設した中間部支持プレートと、前記各側部ピン群を立設した一対の側部支持プレートとに分割され、
前記上下動機構は、前記中間部支持プレートおよび前記一対の側部支持プレートを、相互に独立して昇降可能に構成されていることを特徴とする請求項３ないし５のいずれかに記載のリフトアップ装置。
【請求項７】
多数のリフトアップピンは、前記ワークの中央部を突き上げる中央部ピン群と、前記ワークの周縁部を突き上げる周縁部ピン群とに分割され、
前記ピン支持部材は、前記中央部ピン群を立設した中央部支持プレートと、前記周縁部ピン群を立設した周縁部支持プレートとに分割され、
前記上下動機構は、前記中央部支持プレートおよび前記周縁部支持プレートを、相互に独立して昇降可能に構成されていることを特徴とする請求項３ないし５のいずれかに記載のリフトアップ装置。
【請求項８】
前記上下動機構は、前記中間部支持プレートを昇降させる中間部上下動機構と、前記各側部支持プレートを昇降させる一対の側部上下動機構とを有し、
前記制御手段は、前記中間部上下動機構および前記一対の側部上下動機構を個別に制御可能に構成されていることを特徴とする請求項６に記載のリフトアップ装置。
【請求項９】
前記制御手段は、前記一対の側部上下動機構に先行して前記中間部上下動機構を駆動し、前記ワークを前記搬入搬出位置から前記セット位置に下降させることを特徴とする請求項８に記載のリフトアップ装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、前記中間部上下動機構に先行して前記一対の側部上下動機構を駆動し、前記ワークを前記セット位置から前記搬入搬出位置に上昇させることを特徴とする請求項８または９に記載のリフトアップ装置。
【請求項１１】
前記中間部ピン群、前記中間部支持プレートおよび前記中間部上下動機構は、これらを支持する中間部ベースフレームによりユニット化され、
且つ前記各側部ピン群、前記各側部支持プレートおよび前記各側部上下動機構は、これらを支持する側部ベースフレームによりユニット化されていることを特徴とする請求項６、８、９または１０に記載のリフトアップ装置。
【請求項１２】
多数のリフトアップピンは、前記ワークの中間部に位置するものを短く形成すると共に両側端に向かって次第に長くなるように形成されていることを特徴とする請求項３に記載のリフトアップ装置。
【請求項１３】
多数のリフトアップピンは、前記ワークの中央部に位置するものを短く形成すると共に周縁に向かって次第に長くなるように形成されていることを特徴とする請求項３に記載のリフトアップ装置。
【請求項１４】
請求項３ないし１３のいずれかに記載のリフトアップ装置を組み込んだことを特徴とするワーク吸着テーブル。
【請求項１５】
請求項１４に記載のワーク吸着テーブルを備え、
前記ワーク吸着テーブルにセットしたワークに対して、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、前記ワーク上に機能液を吐出して描画を行うことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１７】
請求項１５に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１８】
請求項１６に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１７に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【請求項１】
可とう性を有するワークをワークテーブル上にセットするワークのセット方法であって、
昇降自在に構成されると共に前記ワークを上反り状に保持可能な保持機構を用い、
前記ワークを、その接触部が中間部から両側部に向かって進むように前記ワークテーブル上に載せ込むことを特徴とするワークのセット方法。
【請求項２】
可とう性を有するワークをワークテーブルから持ち上げるワークのリフトアップ方法であって、
昇降自在に構成されると共に前記ワークを上反り状に保持可能な保持機構を用い、
前記ワークを、その離間部が両側部から中間部に向かって進むように前記ワークテーブルから持ち上げることを特徴とするワークのリフトアップ方法。
【請求項３】
可とう性を有するワークを吸着セットする吸着テーブル本体と、前記吸着テーブル本体を複数本の支柱部材を介して支持する支持ベースとから成るワーク吸着テーブルに組み込まれ、
吸着解除状態の前記ワークを、前記吸着テーブル本体上に載るセット位置とその上方の搬入搬出位置との間で昇降させるリフトアップ装置において、
前記吸着テーブル本体に形成した多数の貫通孔に出没自在に遊挿され、前記ワークを下側から突き上げる多数のリフトアップピンと、
前記吸着テーブル本体と前記支持ベースとの間隙に配設され、前記多数のリフトアップピンを立設したピン支持プレートと、
前記ピン支持プレートおよび前記多数のリフトアップピンを介して、前記ワークを前記セット位置と前記搬入搬出位置との間で昇降させる上下動機構と、
前記上下動機構を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とするリフトアップ装置。
【請求項４】
前記制御手段は、上昇する前記リフトアップピンが前記ワークを突き上げる直前に、前記リフトアップピンの上昇速度を減速することを特徴とする請求項３に記載のリフトアップ装置。
【請求項５】
前記制御手段は、下降する前記リフトアップピンが前記ワークを前記吸着テーブル本体に置き去る直前に、前記リフトアップピンの下降速度を減速することを特徴とする請求項３または４に記載のリフトアップ装置。
【請求項６】
多数のリフトアップピンは、前記ワークの中間部を突き上げる中間部ピン群と、前記ワークの両側部を突き上げる一対の側部ピン群とに分割され、
前記ピン支持部材は、前記中間部ピン群を立設した中間部支持プレートと、前記各側部ピン群を立設した一対の側部支持プレートとに分割され、
前記上下動機構は、前記中間部支持プレートおよび前記一対の側部支持プレートを、相互に独立して昇降可能に構成されていることを特徴とする請求項３ないし５のいずれかに記載のリフトアップ装置。
【請求項７】
多数のリフトアップピンは、前記ワークの中央部を突き上げる中央部ピン群と、前記ワークの周縁部を突き上げる周縁部ピン群とに分割され、
前記ピン支持部材は、前記中央部ピン群を立設した中央部支持プレートと、前記周縁部ピン群を立設した周縁部支持プレートとに分割され、
前記上下動機構は、前記中央部支持プレートおよび前記周縁部支持プレートを、相互に独立して昇降可能に構成されていることを特徴とする請求項３ないし５のいずれかに記載のリフトアップ装置。
【請求項８】
前記上下動機構は、前記中間部支持プレートを昇降させる中間部上下動機構と、前記各側部支持プレートを昇降させる一対の側部上下動機構とを有し、
前記制御手段は、前記中間部上下動機構および前記一対の側部上下動機構を個別に制御可能に構成されていることを特徴とする請求項６に記載のリフトアップ装置。
【請求項９】
前記制御手段は、前記一対の側部上下動機構に先行して前記中間部上下動機構を駆動し、前記ワークを前記搬入搬出位置から前記セット位置に下降させることを特徴とする請求項８に記載のリフトアップ装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、前記中間部上下動機構に先行して前記一対の側部上下動機構を駆動し、前記ワークを前記セット位置から前記搬入搬出位置に上昇させることを特徴とする請求項８または９に記載のリフトアップ装置。
【請求項１１】
前記中間部ピン群、前記中間部支持プレートおよび前記中間部上下動機構は、これらを支持する中間部ベースフレームによりユニット化され、
且つ前記各側部ピン群、前記各側部支持プレートおよび前記各側部上下動機構は、これらを支持する側部ベースフレームによりユニット化されていることを特徴とする請求項６、８、９または１０に記載のリフトアップ装置。
【請求項１２】
多数のリフトアップピンは、前記ワークの中間部に位置するものを短く形成すると共に両側端に向かって次第に長くなるように形成されていることを特徴とする請求項３に記載のリフトアップ装置。
【請求項１３】
多数のリフトアップピンは、前記ワークの中央部に位置するものを短く形成すると共に周縁に向かって次第に長くなるように形成されていることを特徴とする請求項３に記載のリフトアップ装置。
【請求項１４】
請求項３ないし１３のいずれかに記載のリフトアップ装置を組み込んだことを特徴とするワーク吸着テーブル。
【請求項１５】
請求項１４に記載のワーク吸着テーブルを備え、
前記ワーク吸着テーブルにセットしたワークに対して、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、前記ワーク上に機能液を吐出して描画を行うことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１７】
請求項１５に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１８】
請求項１６に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１７に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【図３６】
【図３７】
【図３８】
【図３９】
【図４０】
【図４１】
【図４２】
【図４３】
【図４４】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【図３６】
【図３７】
【図３８】
【図３９】
【図４０】
【図４１】
【図４２】
【図４３】
【図４４】
【公開番号】特開２０１０−１５１７４（Ｐ２０１０−１５１７４Ａ）
【公開日】平成２２年１月２１日（２０１０．１．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２３４９１３（Ｐ２００９−２３４９１３）
【出願日】平成２１年１０月９日（２００９．１０．９）
【分割の表示】特願２００３−３００６０６（Ｐ２００３−３００６０６）の分割
【原出願日】平成１５年８月２５日（２００３．８．２５）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１月２１日（２０１０．１．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１０月９日（２００９．１０．９）
【分割の表示】特願２００３−３００６０６（Ｐ２００３−３００６０６）の分割
【原出願日】平成１５年８月２５日（２００３．８．２５）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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