説明

測定装置の受光ユニット、姿勢検出センサの受光ユニット及びその製造方法

【課題】投光ユニット及び受光ユニットの設置スペースに対して従来よりも広い検出領域を確保すること、投光ユニットと受光ユニットとの対向方向に並ぶ複数の検出対象物を個別に測定対象とすることのうち少なくとも1つを達成することが可能な測定装置ないし姿勢検出センサの受光ユニットを提供する。
【解決手段】測定装置50の受光ユニット70は、検出領域Eを介して投光ユニット60に対向配置される測定装置の受光ユニットであって、受光レンズ81及び受光手段85は、ケーシング71内において対向面70Bに沿った対向面方向に並んで配置され、対向面の垂直方向に対する斜め方向Kから受光窓72に進入した光Lを、対向面方向に反射させて受光レンズ及び受光手段に入光させる反射手段74を備える。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、測定装置の受光ユニット、姿勢検出センサの受光ユニットに関する。
【背景技術】
【0002】
従来より、検出対象物の位置や大きさを光学的に測定する測定装置がある(特許文献1参照)。これは、検出対象物が配される検出領域に対向配置される投光ユニットと受光ユニットとを備える。投光ユニットは、投光素子と、その投光素子からの光を平行光にする投光レンズとを備える。一方、受光ユニットは、投光ユニットからの光を収束させる受光レンズと、その受光レンズからの光を受ける一次元イメージセンサと、その一次元イメージセンサから得られる電気信号を処理することにより、検出対象物の外形寸法を求める信号処理部とを備える。
【特許文献1】特開2002−116013公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
ところが、従来の測定装置の受光ユニットは、受光レンズ及び一次元イメージセンサが投光ユニットとの対向方向に沿って並んだ構成になっていた。従って、受光ユニットのケーシングは、上記対向方向において少なくとも受光レンズ及び一次元イメージセンサを覆う程度の幅寸法が必要となるため、限られた設置スペース内において検出領域を十分に確保できない場合が生じ得る。
【0004】
また、複数の検出対象物が投光ユニットと受光ユニットとの対向方向に沿って配列している場合、従来の測定装置では投光ユニットと受光ユニットとの間に形成される光軸が上記対向方向に平行であったため、それらの複数の検出対象物の位置等を個別に測定できなかった。
【0005】
本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、その目的は、投光ユニット及び受光ユニットの設置スペースに対して従来よりも広い検出領域を確保すること、投光ユニットと受光ユニットとの対向方向に並ぶ複数の検出対象物を個別に測定対象とすることのうち少なくとも1つを達成することが可能な測定装置の受光ユニット、姿勢検出センサの受光ユニット及びその製造方法を提供するところにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記の目的を達成するための手段として、請求項1の発明に係る測定装置の受光ユニットは、検出領域を介して投光ユニットに対向配置される測定装置の受光ユニットであって、前記検出領域側に向けられる対向面に受光窓を有するケーシングと、前記投光ユニットから出射され受光窓に進入した光を収束させる受光レンズと、受光レンズからの光を受光する受光手段と、前記検出領域における検出対象物の位置や形状に応じて変化する、前記受光手段での受光状態に応じた検出信号を出力する信号読出手段と、前記対向面の垂直方向に対する斜め方向から前記受光窓に進入した光を、前記対向面に沿った反射方向に反射させる反射手段とを備え、前記受光手段は、前記反射手段での光の反射方向に沿って当該反射手段と並んで配置されている。
【0007】
本発明によれば、反射手段及び受光手段を、ケーシング内において対向面(検出領域側に向けられる面)に沿った対向面に沿った方向に並べて配置し、ケーシングの受光窓から進入した光を反射手段によって上記対向面に沿った反射方向に反射させて受光手段に入光させる構成である。従って、受光窓及び受光手段を対向面の垂直方向に沿って並べた構成に比べて、同じ検出領域を確保しつつ投光ユニットと受光ユニットとの間の設置スペースを狭めることができる。
また、反射手段は、ケーシングの対向面(検出領域側に向けられる面)の直交方向に対して斜め方向から進入した光を、対向面に沿った反射方向に反射させて受光手段に入光させる。従って、複数の検出対象物が上記対向面の垂直方向に沿って並ぶ場合、投光ユニットと受光ユニットとの間の光軸に検出対象物を1つずつ進入させて検出対象とすることができる。
【0008】
第2の発明は、第1の発明の測定装置の受光ユニットであって、前記反射手段は、反射部材と、その反射部材の反射面の向きを、前記対向面に平行な第1軸及び直交する第2軸の少なくともいずれか一方の軸を中心に変更させる変更機構とを備える。
本発明によれば、受光ユニットのケーシングを動かすことなく、反射部材の向きを変えるだけで投光ユニットとの間の光軸調整ができる。
【0009】
第3の発明は、第1または第2の発明の測定装置の受光ユニットであって、前記受光レンズは、前記反射手段と前記受光手段との間に配置されている。
本発明によれば、受光レンズを受光窓と反射手段との間に配置する構成に比べて、投光ユニットとの対向方向における受光ユニットの大型化を抑制できる。
【0010】
第4の発明は、第1から第3のいずれか一つの発明の測定装置の受光ユニットであって、前記受光窓は透光性部材で封止され、且つ、当該透光性部材は、前記投光ユニットから受光窓に進入した光の進入方向に対して直交するように配置されている。
本発明によれば、透光性部材は、投光ユニットから受光窓に進入した光の進入方向に対して直交するように受光窓に配置されている。従って、その光が透光性部材を透過する際に屈曲することで受光手段に向かう光の光路が変更されてしまうことを抑制できる。
【0011】
第5の発明は、第1から第4のいずれか一の発明の測定装置の受光ユニットであって、前記受光窓から前記反射手段に入射した光の入射方向と、前記反射方向とがなす角度は鋭角である。
本発明によれば、受光窓から反射手段に入射した光の入射方向と、反射方向とがなす角度が鈍角である構成に比べて、測定装置の配置スペースを狭くできる。
【0012】
第6の発明に係る姿勢検出センサの受光ユニットは、吸着ヘッドにて吸着された状態で搬送される部品の搬送経路上に検出領域を有し、当該部品の姿勢に応じた位置検出信号を出力する姿勢検出センサの受光ユニットであって、当該受光ユニットは、前記検出領域を介して投光ユニットに対向配置され、且つ、前記検出領域側に向けられる対向面に受光窓を有するケーシングと、前記投光ユニットから出射され前記受光窓に進入した光を収束させる受光レンズと、複数の受光素子が前記対向面に平行に一列状に配列された受光ラインが1又は複数本配置された受光面を有し、当該受光面に前記受光レンズからの光を受ける受光手段と、前記検出領域における検出対象物の位置や形状に応じて変化する前記受光ライン上の各受光素子の入光・遮光状態に応じた位置検出信号を出力する信号読出手段と、前記対向面の垂直方向に対する斜め方向から前記受光窓に進入した光を、前記対向面に沿った反射方向に反射させる反射手段とを備え、前記受光手段は、前記反射手段での光の反射方向に沿って当該反射手段と並んで配置されている。
【0013】
第7の発明に係る測定装置の受光ユニットの製造方法は、検出領域側に向けられる対向面に受光窓を有するケーシングと、投光ユニットから出射され受光窓に進入した光を前記対向面に沿った反射方向に反射させる反射部材と、前記反射部材の反射面の向きを変更させる変更機構と、前記反射部材からの光を収束させる受光レンズと、前記受光レンズからの光を受光する受光手段と、前記検出領域における検出対象物の位置や大きさに応じて変化する、前記受光手段での受光状態に応じた検出信号を出力する信号読出手段と、を備える測定装置の受光ユニットの製造方法であって、前記変更機構によって前記反射部材の反射面の向きを所定の向きに調整する調整工程と、前記調整工程により調整された向きに前記反射部材を保持する保持工程と、を含む。
【発明の効果】
【0014】
本発明によれば、投光ユニット及び受光ユニットの設置スペースに対して従来よりも広い検出領域を確保しつつ、投光ユニットと受光ユニットとの対向方向に並ぶ複数の検出対象物を個別に測定対象とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0015】
本発明の一実施形態を図1ないし図17によって説明する。
本実施形態は、本発明に係る測定装置50を部品実装機10に搭載したものである。以下の説明では、図1において紙面下側が部品実装機10の前側(符号F)であり、紙面上側が後側(符号B)であり、紙面左側・右側が部品実装機10の左側・右側(符合RL)であるものとする。
【0016】
1.部品実装機
部品実装機10は基台11の中央に基板搬送用のコンベア15(搬送方向は図1の紙面左右方向)を設けており、実装対像の基板17を基台11上に搬入させた後、基台11中央寄りの作業位置にて停止させるようになっている。
【0017】
そして、作業位置の前側には部品供給部16が設けられている。係る部品供給部16にはフィーダ40が多数個横並び状に設置されている。フィーダ40は基板17に実装される部品W(検出対象物の一例)を供給する機能を担うものである。
【0018】
また、基台11の左右両側には作業位置を間に挟んで、一対のガイドレール21が設置されるとともに、同ガイドレール21を左右に架設してヘッド支持体22が設置されている。係るヘッド支持体22は左右のガイドレール21に沿って前後方向に移動可能な構成となっている。
【0019】
そして、上記ヘッド支持体22には、ヘッドユニット30が装着されている。ヘッドユニット30は、ヘッド支持体22の長手方向(左右方向)に移動可能な構成とされる。これにより、ヘッド支持体22をガイドレール21に沿って前後方向に移動させつつ、ヘッド支持体22に沿ってヘッドユニット30を左右方向に移動させることで、基台11上の任意の位置にヘッドユニット30を水平移動させることができる構成となっている。
【0020】
そして、ヘッドユニット30の下面部は、下方(図1の紙面奥側)に突出するようにして吸着ヘッド31が複数個(図2では3つのみ図示)、左右方向に沿って配列された状態で取り付けられている(図1中は省略、図2参照)。各吸着ヘッド31はヘッドユニット30に対して昇降可能な構成とされ、先端には吸着ノズル35を設けている。そして、吸着ノズル35には図外の負圧手段から負圧が供給され、ヘッド先端に吸引力を生じさせる構成となっている。
【0021】
上記の如く構成することで、フィーダ40上の部品Wを以下の要領で取り出すことができる。まず、ヘッドユニット30をフィーダ40上に移動させ、フィーダ40の上方にて停止させる(図1に示す(A)の位置)。
【0022】
その後、複数の吸着ヘッド31を下降させつつ、下降タイミングに合わせて各吸着ヘッド31に負圧を供給する。これにより、フィーダ40を通じて供給される各部品Wを各吸着ヘッド31にて吸着保持できる。
【0023】
あとは、下降状態にある複数の吸着ヘッド31を上昇させてやれば、吸着保持された部品Wは吸着ヘッド31とともに上昇する。これにて、フィーダ40より部品Wが取り出される。
【0024】
そして、部品Wの取り出し作業が完了したら、次に、基板17上に部品を実装するべく、フィーダ40上方に位置するヘッドユニット30を作業位置に停止する基板17の上方に向けて移動させる処理が行われる。
【0025】
これにより、図1の例では、複数の部品Wを保持したヘッドユニット30は基台11後側に移動することとなるが、本実施形態のものは、係る移動過程で後に説明する測定装置50の検出光軸Lを各吸着ヘッド31の先端に吸着保持された部品Wが1つずつ横切ることで(図2参照)、吸着ヘッド31に吸着保持された部品Wの姿勢が個別に検査(以下、検出ともいう)される構成となっている。
【0026】
そして、検査の結果、部品姿勢に異常がなければ、ヘッドユニット30による部品の実装処理が進められ、作業位置に停止する基板17上に部品Wが実装される。
【0027】
2.測定装置
次に、測定装置(姿勢検出センサ)50について説明する。
測定装置50は検出光を出射する投光ユニット60と、出射された検出光を受ける受光ユニット70とから構成されている。両ユニット60、70は共にケーシング61、71内に各種装置を内蔵させたものである。
【0028】
(1)受光ユニットの構造
図3はケーシング71が装着された受光ユニット70を斜め後方から見た斜視図であり、図4はその受光ユニット70の平断面図である。図5はケーシング71の一部が外された受光ユニット70を斜め後方から見た斜視図であり、図6はケーシング71の一部が外された受光ユニット70を斜め前方から見た斜視図である。また、図7はケーシング71の一部が外された受光ユニット70の上面図である。なお、各図中の符号U・Dは部品実装機10の上側・下側を意味する。
【0029】
受光ユニット70のケーシング71は、図1、3等に示すように部品Wの搬送方向(部品実装機10の前後方向)に沿った方向に長い箱形を有する。図3に示すように、受光ユニット70のうち、上記部品Wが搬送される検出領域E(投光ユニット60と受光ユニット70との間の領域)に向けられる左側面70B(対向面の一例)の後端側には、受光窓72が開口形成されている。また、同左側面70Bの中央寄りの位置には、カバー73が開閉可能に設けられている。このカバー73を空けると、後述するコネクタ155及び切り替えスイッチ120が露出する。なお、受光ユニット70の下部の前端及び後端には、貫通穴70Aがそれぞれ形成されており、ここに図示しないネジを通して上記基台11に螺着することで、受光ユニット70を基台11上に固定できる。
【0030】
ケーシング71内には、その長手方向(反射方向の一例)に沿って後側から順に、ミラー部材74(反射部材の一例)、受光レンズ81及びイメージセンサ85(受光手段の一例)が並んで設けられている。ミラー部材74は、例えば蒸着ガラスで形成されたミラー75、及び、例えばアルミ製のミラーホルダ76を有し、受光窓72の近傍に設けられている。ミラー部材74は、左側面70Bに直交した方向(左右方向)に対して斜め方向(以下、進入方向の一例 光軸方向Kという)から当該受光窓72に進入した検出光Lを、ミラー75により受光レンズ81及びイメージセンサ85側に反射させる(図4の符号L参照)。
【0031】
図4に示すように、受光窓72は、ミラー部材74の真左から前方にずれた位置において、上記光軸方向Kに沿った方向に向けて開口しており、当該光軸方向Kに略直交するように配された透光性部材77(例えばガラス)で封止されている。これにより、受光窓72に進入した検出光Lが透光性部材77にて屈曲されて、イメージセンサ85への受光位置がずれてしまうことを防止できる。受光レンズ81は、レンズ中心軸を前後方向に沿わせるように配置され、ミラー部材74からの反射光Lを収束させてイメージセンサ85の受光面86上に集光させる集光レンズの役割を果たす。
【0032】
図5から図7の受光ユニット70は、ミラー部材74を覆うケーシング部分71A、及び、左側面から前面、右側面側のケーシング部分71Bが取り外されている。なお、各ケーシング部分71A,71BはネジN(図3参照)を抜くことで取り外すことができる。
【0033】
ミラー部材74は、直交2方向(本実施形態では上下方向・左右方向)それぞれの回転軸を中心に回動して反射面の向きを変更させることができるようになっている。具体的には、図5に示すように、ミラーホルダ76の上部には、ミラー75に直交するように矩形状の平坦部76Aが一体的に設けられている。この平坦部76Aの中央には円筒形の突部76Bが設けられるとともに、その突部76Bを中心とする同心円上に複数(本実施形態では4つ)のネジ穴(図示せず)が対称配置されている。
【0034】
ミラー部材74には、例えばアルミ製のL字部材78が装着されている。L字部材78の一辺部78Aは、ミラーホルダ76の平坦部76Aに対応した形状をなし、当該平坦部76A上に配される。一辺部78Aは、略中央に平坦部76A上の突部76Bが挿入される挿入穴83が形成されるとともに、平坦部76Aの各ネジ穴に対応した位置に貫通穴79が形成されている。各貫通穴79は、ネジ82のヘッド部よりも径小であり、且つ、ネジ82のネジ部よりも径大になっている。
【0035】
これにより、各ネジ82をある程度緩めた状態でミラー部材74を上下方向の回転軸を中心に各貫通穴79の大きさに応じた範囲で回動でき、各ネジ82を本締めすることによりミラー部材74を所定の向きに位置決め固定できるようになっている。なお、平坦部76Aと一辺部78Aとには、それぞれ切り欠き部76C、78Cが形成されており、これらに工具の先端を挿入させれば比較的容易にミラー部材74を回動させることができる。
【0036】
L字部材78の右側には、例えばアルミ製のミラーベース壁89が設けられており、このミラーベース壁89の内面(左面)にL字部材78の他辺部78Bが面接触している。そして、その他辺部78Bには、上記平坦部76Aと同様の突出部78D(図4参照)及びネジ穴(図示せず)が形成され、ミラーベース壁89には、上記一辺部78Aと同様の挿入穴89D(図4参照)及び貫通穴(図示せず)が形成されている。
【0037】
これにより、各ネジをある程度緩めた状態でミラー部材74を左右方向の回転軸を中心に各貫通穴の大きさに応じた範囲で回動でき、各ネジを本締めすることによりミラー部材74を所定の向きに位置決め固定できるようになっている。なお、ミラーベース壁89及び他辺部78Bにも、平坦部76A及び一辺部78Aと同様、それぞれ切り欠き部89C、78Cが形成されており、これらに工具の先端を挿入させれば比較的容易にミラー部材74を回動させることができる。以上のように、平坦部76A、L字部材78及びミラーベース壁89によって変更機構が構成されている。
【0038】
また、図4に示すように、受光レンズ81は、円筒形のレンズホルダ87に保持されている。一方、受光ユニット70内には、ミラー部材74とイメージセンサ85との間に経路93が形成されており、この経路93内において上記レンズホルダ87が前後方向にスライド可能に設けられている。受光ユニット70には、上面から上記経路93に達する治具用穴88が形成されている一方で、図7に示すように、その治具用穴88から望めるレンズホルダ87の外周面には凹凸部87Aが形成されている。
【0039】
作業者は、この治具用穴88からマイナスドライバなどの治具を挿入して先端を凹凸部87Aに引っ掛けることで、レンズホルダ87を前後方向にスライドさせることができ、これにより、ミラー部材74からの反射光の焦点が例えばイメージセンサ85の受光面86上に結ぶようにピント合わせができる。また、図4に示すように、受光ユニット70には右側面から上記経路93に達するネジ穴91が形成されており、ここに螺合されるネジ92の先端がレンズホルダ87の周面に当接することにより、上記経路93内の任意の位置にレンズホルダ87を位置決め固定できる。
【0040】
(2)電気的構成
図8は測定装置50の電気的構成を示すブロック図である。投光ユニット60は、レーザダイオード等の投光素子62、及び、その投光素子62からの光を略平行光としての検出光に変換し検出光Lとして出射させる投光レンズ63とを備える。係る投光ユニット60は、受光ユニット70と電気的に連なっており、受光ユニット70側の制御回路110より発せられる投光指令に従って、投光素子62をドライブして検出光を出射する構成となっている。
【0041】
受光ユニット70は、投光ユニット60から出射された検出光を受ける受光部80を備えている。受光部80は既述の反射部材74、受光レンズ81及びイメージセンサ85を備える。
【0042】
イメージセンサ85は図8に示すように、受光素子(以下、画素とも言う)Pを行列状に配置して受光面86を形成した二次元のものであり、本実施形態のものは、各受光素子Pに増幅素子を組み込んだCMOS(シーモス)ディバイス構造のCMOSイメージセンサを使用している。
【0043】
尚、CMOSイメージセンサは受光面を構成する複数の受光素子Pの中から、ある受光素子Pを選択して受光信号(信号電荷を内部で増幅して信号電圧にしたもの)を読み出すことが可能なランダムアクセスタイプのディバイスとして知られている。そして、本実施形態に適用のCMOSイメージセンサ85は受光信号の読み出しが垂直ラインV(受光ラインの一例)ごとに行われる形式となっており、また、読み出し対像となる垂直ラインV1〜V16を任意選択できる。
【0044】
また、受光ユニット70には、ユニット全体を制御統括する制御回路110、信号読出回路90(信号読出手段の一例)、測定回路100が設けられている。
【0045】
信号読出回路90は制御回路110より与えられる読出指令に従って、CMOSイメージセンサ85から受光信号の読み出しを行うものである。測定回路100は読み出された受光信号のレベルを、予め設定されたレベルと比較することで、読み出しの対像となった受光素子Pが入光レベルにあるか、遮光レベルにあるかを判別するものである。そして、測定回路100により測定された結果(位置検出信号)は、受光ユニット70とは別に設けられた姿勢検出装置180に信号線を介して出力される構成となっている。
【0046】
また、制御回路110には、切り替えスイッチ120、設定部130、記憶部140、入出力部150が電気的に連なっている。
【0047】
切り替えスイッチ120は、複数のスライドスイッチを備え、例えばモードの切り替え等を行う機能を担うものである。本実施形態では、準備モードと測定モードの2種のモードが設定可能とされており、切り替えスイッチ120により、いずれかのモードを選択できる構成となっている。
【0048】
入出力部150はいわゆるインターフェースであって、そこには、ノート型パーソナルコンピュータ(以下、単にパソコン)200を外部接続できる構成となっている。このようにパソコン200を外部接続するのは、準備モードにおいて行う各種設定作業をパソコン200の機能を借りて行うためである。
【0049】
パソコン200の構成は図8、図10に示す通りであり演算機能、制御機能を有するCPU210、表示装置220、ユーザインターフェース(キーボード、タッチパット等)240、入出力部250などから構成されている。尚、パソコン200は、受光ユニット70に設けられるコネクタ155に接続ケーブルUを介して外部接続される構成となっており、必要に応じて、簡単に取り外せる。
【0050】
設定部130はパソコン200の指示の下、検出ライン(後に詳しく説明する)Vを設定、変更する機能を担うものである。また、記憶部140は不揮発性とされ、例えばEEPROM、NVRAMより構成される。
【0051】
3.光軸調整作業
以下、両ユニット60、70の取り付け作業が完了した後、部品Wの検出が行われるまでの一連の流れについて説明する。
【0052】
投光ユニット60、受光ユニット70を図1に示すように大まか対向配置できたら、続いて光軸調整作業を行う必要がある。なお、光軸調整作業は受光ユニット70の製造段階でも擬似的に行われ、その際、以下の説明と同様に表示装置220の表示を視認しながら、上述した受光レンズ81のピント合わせや、ミラー部材74の向き調整を行い、その後、各ネジを本締めして出荷する。
【0053】
それには、まず切り替えスイッチ120を操作して準備モードを選択するとともに、接続ケーブルUを介して受光ユニット70にパソコン200を外部接続させる。そして、投光ユニット60より検出光Lを出射させ、これを受光ユニット70により受光させる作業を行う。
【0054】
本実施形態では、準備モードが選択されている場合には、制御回路110が信号読出回路90に全垂直ラインV1〜V16(すなわち、1フレーム)の受光信号を読み出す旨の読出指令を与える。
【0055】
これにより、信号読出回路90は各垂直ラインVごとに受光信号を順に読み出してゆく。そして、読み出された受光信号は制御回路110の指令の下、読み出し元となった受光素子Pの位置情報と共に、入出力部150を通じてパソコン200に送られる。尚、ここでいう、受光素子Pの位置情報というのは、受光素子Pの列アドレス、行アドレスのことである。
【0056】
一方、パソコン200では受光素子Pの位置情報、受光信号を受けると、CPU210の指令の下、表示制御がなされて表示装置220の表示画面230上に、COMSイメージセンサ85上に入光した検出光の受光像Zを表示させる。これにより、受光ユニット70にパソコン200を接続し、受光像をパソコン200上に表示させながら光軸調整ができる。また、このパソコン200の接続には、パソコン200の接続ケーブルUをコネクタ155に装着するだけでよく、このコネクタ155はカバー73で覆うことができるので、不使用時にはカバー73によって埃等の侵入を防止でき、使用時にはカバー73を外すだけで簡単にパソコン200との接続ができる。
【0057】
より具体的に説明すると、本実施形態のものは図11に示すように、表示装置220の表示画面230は第一表示領域231と、第二表示領域235に区分されており、図11に示す左側の第一表示領域231中に受光像Zが表示される。
【0058】
尚、このとき、検出光がイメージセンサ85の受光面86に対して受光面中央から外れた位置に入光している場合には、それに対応して受光像Zは第一表示領域231の中央から外れた位置に表示される。
【0059】
従って、第一表示領域231中に表示される受光像Zの位置を参照することで、投光ユニット60より出射された検出光Lが、CMOSイメージセンサ85の中央部分に正しく入光しているか、どうか簡単に視認により判別できる。
【0060】
図11の例では、受光像Zが第一表示領域231の中心から左に外れているから、このような場合には、投光ユニット60の設置角度や、受光ユニット70のミラー部材74の向きを、表示画面を参照しつつ調整することで、図12に示すように、投光ユニット60より出射された検出光Lが、CMOSイメージセンサ85の中央部分に正しく入光するように、検出光軸Lの向きを簡単に調整できる。
【0061】
尚、第一表示領域231の表示内容が図11の表示内容から図12の表示内容に更新されるのは、準備モード中、受光ユニット70が定期的に受光信号の読み出しを行い、これをパソコン200に送信しているからである。すなわち、受光ユニット70では、制御回路110の指令の下、全垂直ラインV1〜V16(すなわち、1フレーム)の受光信号を読み出す処理を定期的に行なっており、信号の読み出し処理を行う都度、読み出し元となった受光素子Pの位置情報と受光信号とをパソコン200に送信している。そして、受光素子Pの位置情報、受光信号を受けると、パソコン200側ではCPU210の指令の下、表示内容を更新する処理が行なわれる結果、準備モード中、第一表示領域231の表示内容が常に更新される構成となっている。
【0062】
4.検出ラインVの設定
さて、ここまで述べてきたように、準備モードにおいては、CMOSイメージセンサ85を二次元的に使用して、検出光がCMOSイメージセンサ85上に入光して出来る受光像を2次元的な平面画像として表示させた。
【0063】
これに対して、後に説明する測定モードにおいては、CMOSイメージセンサ85を一次元的に使用、すなわち一の垂直ラインVだけ使用し、他のラインについては使用しない構成をとっている。
【0064】
そのため、図12に示すように、出射された検出光LがCMOSイメージセンサ85の中央部分に正しく入光するように光軸調整することができたら、測定モードにて使用する垂直ライン、すなわち検出ラインVを設定する必要がある。
【0065】
本実施形態では、受光ユニット70の設定部130が、検出ラインVの設定を管轄しており、検出ラインVの位置情報を記憶保管しているが、これをパソコン200にて変更操作できるようになっている。
【0066】
具体的に説明すると、ユーザインターフェース240を用いて第二表示領域235の下部側に表示されている「ライン表示」のパネルを選択すると、CPU210の表示制御の下、第一表示領域231上に、受光像Zと検出ラインVが同時表示される設定となっている(図13参照)。すなわち、第一表示領域231のうち、その時点において設定されている検出ラインVに対応する一列が、色付きのラインなどで表示される。
【0067】
そして、検出ラインVが第一表示領域231上に表示されている状態で、ユーザインターフェース240を用いて所定操作(例えば、左右キーを押す)を行うと、係る操作をパソコン200のCPU210が読み取って、検出ラインVの位置を操作方向に変更させる指示を受光ユニット70に送る。
【0068】
CPU250より送られた変更指示は、受光ユニット70の設定部130に入力される。これにより、設定部130では検出ラインVの位置を操作方向に変更する処理が行われる。すなわち、記憶保管されている検出ラインVの位置情報が書き換えられる。
【0069】
そして、検出ラインVの位置情報が設定部130により書き換えられると、制御回路110の指令の下、書き換えられた検出ラインVの位置情報を記憶部140にバックアップさせる処理が行われる。
【0070】
上記処理が終了すると、今度は、制御回路110の指令の下、受光ユニット70側からパソコン200側に変更された最新の検出ラインVについての位置情報が送信される。尚、このとき、信号読出回路90により読み出された全垂直ラインV1〜V16の受光信号についても、読み出し元の受光素子Pの位置情報と共にパソコン200に同時に送信される。
【0071】
その後、パソコン200では、CPU210の指令の下、送信されてきた検出ラインVの位置情報、受光信号についての各情報に基づいて、第一表示領域231上の表示内容を更新する。
【0072】
かくして、検出ラインVを変更するべくユーザインターフェース240に対して行った操作が第一表示領域231中に反映される。すなわち、検出ラインVを左に移動させる操作を行った場合であれば、第一表示領域231内に表示される検出ラインVの位置が左に移動する。尚、このとき、第一表示領域231内には受光像Zも無論同時表示され、互いの相対的な位置関係を確認することができるようになっている。
【0073】
従って、上記変更操作を繰り返し行うことで、図13に示すように受光像Zの中心から外れた状態にある検出ラインVを、図14に示すように受光像Zの中心に簡単に位置合わせできる。
【0074】
これにて、準備モードにて必要な設定作業は全て完了する。あとは、接続ケーブルUを受光ユニット70のコネクタ155から外してやれば、パソコン200を受光ユニット70から取り外せる。
【0075】
そして、本実施形態では、パソコン200の取り外し作業を行うと、受光ユニット70の設定部130にアクセスする術がなくなり、再びパソコン200を外部接続しない限り検出ラインVの設定を変更できないようになっている。このようにしておけば、検出ラインVの位置が意に反して勝手に変更されてしまうことを、未然に防止できる。
【0076】
尚、本実施形態では、上記した検出ラインVの設定操作の過程で、第二表示領域235の下部に表示される「画素指定」のパネルを選択すると、検出ラインV上に一列状に並ぶ全受光素子Pの中から、一部の受光素子Pを検出対像として指定することができる。
【0077】
例えば、図15に示すように、検出ラインとしてV10のラインを選択し、更に、同ラインV10に並ぶ全受光素子P1〜P14のうち、中央部分のP4〜P11の受光素子を検出対像として指定できる。
【0078】
このような構成としておけば、図16に示すように受光像(受光スポット)Zの大きさに合わせて検出ラインVを設定できる。言い換えれば、検出ラインV上の画素を絞り込むことで、検出対像の画素数を減らすことができから、受光信号の読み出しに必要な時間、その他読み出された信号を処理するのに必要な時間を短縮でき、検出処理を高速で行なうことが可能となる。
【0079】
そして、「画素指定」のパネルを選択して操作を行った情報は、検出ラインVの位置情報と共に、受光ユニット70の設定部130により記憶保管され、また記憶部140にバックアップされる構成となっている。
【0080】
5.検査処理
さて、ここからは、測定装置50、姿勢検出装置180により行われる部品姿勢の検査処理を具体的に説明してゆく。検査処理を開始するには、切り替えスイッチ120を操作してモードを準備モードから測定モードに切り替えてやればよく、これを行うと、制御回路110は設定部130から検出ラインVに関する情報を読み出し、信号読出回路90に検出ラインVの受光信号のみを読み出す旨の読出指令を与える。
【0081】
これにより、CMOSイメージセンサ85は準備モードの二次元的な使用状態から、一ラインのみ使用する一次元的な使用状態に自動的に切り替わる。
【0082】
あとは、部品実装機10側の制御回路(不図示)から、吸着ヘッド31の移動タイミングを知らせるタイミング信号Srが入力されると、以下の要領で測定が自動的に開始される。
【0083】
順に説明してゆくと、制御回路110は上記タイミング信号Srを受けると、吸着ヘッド31に吸着保持された各部品Wが検出光軸Lを横切るタイミングに合わせて投光ユニット60に投光指令を与えて投光素子62をパルス点灯させる。
【0084】
すると、投光素子62より出射された検出光Lは、受光レンズ81により集光されつつ、CMOSイメージセンサ85の受光面86上に入光する。このとき、検出光Lの一部が吸着ヘッド31及び、それに吸着保持された部品Wに遮られる。従って、CMOSイメージセンサ85の受光面86には、図17に示すように遮られた部分(同図においてハッチングで示す)だけ信号レベルが低い、部分欠けの受光像Zができる。
【0085】
そして、受光像Zの形成に合わせて、信号読出回路90は検出ラインV上の受光素子Pから受光信号を順に読み出してゆく。その後、読み出された受光信号は測定回路100に入力される。
【0086】
測定回路100では、読み出された各受光信号のレベルが入光レベルにあるか、遮光レベルにあるかを検出する処理が行なわれ、検出ラインV上において受光信号のレベルが入光レベルから遮光レベル、或いは遮光レベルから入光レベルに切り替わる入遮光位置が測定される。
【0087】
本例であれば、部品下面より上側は遮光状態となるのに対して、部品下面より下側は入光状態となる。
【0088】
従って、吸着ヘッド31に部品Wが正しく保持された図17の(1)の場合には、入遮光位置は(c)の位置となる。一方、吸着ヘッド31に部品Wが立った姿勢で保持された図17の(2)の場合には、(d)の位置が入遮光位置となる。
【0089】
そして、入遮光位置のデータは測定回路100から姿勢検出装置180に出力され、姿勢検出装置180にて入遮光位置のデータに応じた処理が行われる。
【0090】
すなわち、姿勢検出装置180は入遮光位置は(c)の位置であるとするデータを受け取った場合、「正常保持」と判定し、部品実装処理を進める旨の制御信号を部品実装機10に送る。これにより、部品実装機10の主導の下、作業位置に停止する基板17に部品Wを実装する実装処理が進められることとなる。
【0091】
一方、姿勢検出装置180は入遮光位置は(d)の位置であるとするデータを受け取った場合、「保持エラー」と判定し、エラー信号を部品実装機10に送る。これにより、部品実装機10においてエラー処理が行われることとなる。
【0092】
そして、上記要領で部品Wの姿勢検出、部品Wの実装処理が繰り返し行われることで、基板17に対する部品Wの実装処理が進められることとなる。
【0093】
6.本実施形態の効果
(1)本実施形態によれば、受光レンズ81及びイメージセンサ85を、ケーシング71内において左側面70Bに沿った対向面方向(前後方向)に並べて配置し、ケーシング71の受光窓72から進入した検出光Lをミラー部材74によって前方向に反射させて受光レンズ81及びイメージセンサ85に入光させる構成(サイドビュー)である。従って、受光レンズ81及びイメージセンサ85を対向面の垂直方向(左右方向)に沿って並べた構成に比べて、同じ検出領域Eを確保しつつ投光ユニット60と受光ユニット70との間の設置スペースを狭めることができる。逆に言えば、本実施形態の構成であれば、同じ設置スペースにおいて検出領域Eを従来のものよりも広く確保できる。
【0094】
(2)また、ミラー部材74は、上記光軸方向Kから進入した光を前方向に反射させて受光レンズ81及びイメージセンサ85に入光させる。従って、図2に示すように、複数の部品Wが左右方向に沿って並ぶ場合、検出光Lの光軸に部品Wを1つずつ進入させて検査対象とすることができる。
【0095】
(3)また、受光ユニット70には、図8に示すように様々な装置が内蔵されており、投光ユニット60に比べてケーシング71のサイズが大きく、重量も大きくなる。このため、光軸調整においてこのケーシング71を移動させるのは大変である。これに対して、本実施形態では、ミラー部材74の向きを変えるだけで投光ユニット60との間の光軸調整ができる。
【0096】
(4)仮に、受光窓72からの検出光Lを、受光レンズ81、ミラー部材74、イメージセンサ85の順で受ける構成とすると、受光レンズ81が介在する分だけ、受光窓72とミラー部材74との間が長くなり、ケーシング71が左右方向に幅広になってしまう。これに対して、本実施形態では、受光窓72からの検出光Lを、ミラー部材74、受光レンズ81、イメージセンサ85の順で受ける構成であるから、受光窓72とミラー部材74との距離を狭めることができ、ケーシング71を左右方向において幅狭にできる。
【0097】
<他の実施形態>
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
(1)上記実施形態では、ミラー部材74は直交2方向それぞれの回転軸(第1軸及び第2軸の一例)を中心に回動できる構成であったが、これに限らず、そのうちの一方向だけの回転軸を中心に回動できる構成であってもよい。
【0098】
(2)上記実施形態において、投光ユニット60もサイドビュータイプとしてもよい。
【0099】
(3)「反射手段」は、上記実施形態ではミラー部材74を回動可能に備える構成であったが、これに限らず、例えばケーシング71に固定されたものであってもよい。
【0100】
(4)上記実施形態では、受光窓72からミラー部材74に入射した検出光Lの入射方向と、当該ミラー部材74での反射方向とは鋭角をなす(図4参照)構成であったが、これに限らず、鈍角をなす構成であってもよい。但し、後者の構成では、投光ユニット60を受光ユニット70よりも後方側に配置する必要があり、測定装置50全体としてより広い配置スペースが必要となる。また、受光ユニット70について、受光窓72をミラー部材74よりも後方側に配置する必要があり、受光ユニット70単体として大型化してしまう。従って、上記実施形態の方が好ましい。
【図面の簡単な説明】
【0101】
【図1】本実施形態に適用された部品実装機の平面図
【図2】吸着ヘッドに保持された部品が検出光軸を横切る状態を示す斜視図
【図3】ケーシングが装着された受光ユニットを斜め後方から見た斜視図
【図4】受光ユニットの平断面図
【図5】ケーシングの一部が外された受光ユニットを斜め後方から見た斜視図
【図6】ケーシングの一部が外された受光ユニットを斜め前方から見た斜視図
【図7】受光ユニットの上面図
【図8】測定装置の電気的構成を示すブロック図
【図9】CMOSイメージセンサの受光面を示す図
【図10】受光ユニットにパソコンを接続した状態を示す図
【図11】パソコンの表示画面を示す図
【図12】パソコンの表示画面を示す図
【図13】パソコンの表示画面を示す図
【図14】パソコンの表示画面を示す図
【図15】検出ラインの中から一部の画素を指定した様子を示す図
【図16】パソコンの表示画面を示す図
【図17】部品の姿勢と入射光位置の関係を示す図
【符号の説明】
【0102】
50…測定装置
60…投光ユニット
71…ケーシング
70…受光ユニット
72…受光窓
74…ミラー部材(反射部材)
70B…左側面(対向面)
81…受光レンズ
85…CMOSイメージセンサ(受光手段)
90…信号読出回路(信号読出手段)
E…検出領域
L…検出光
V1〜V16…垂直ライン(受光ライン)
W…部品(検出対象物)

【特許請求の範囲】
【請求項1】
検出領域を介して投光ユニットに対向配置される測定装置の受光ユニットであって、
前記検出領域側に向けられる対向面に受光窓を有するケーシングと、
前記投光ユニットから出射され受光窓に進入した光を収束させる受光レンズと、
前記受光レンズからの光を受光する受光手段と、
前記検出領域における検出対象物の位置や形状に応じて変化する、前記受光手段での受光状態に応じた検出信号を出力する信号読出手段と、
前記対向面の垂直方向に対する斜め方向から前記受光窓に進入した光を、前記対向面に沿った反射方向に反射させる反射手段とを備え、
前記受光手段は、前記反射手段での光の反射方向に沿って当該反射手段と並んで配置されている測定装置の受光ユニット。
【請求項2】
請求項1記載の測定装置の受光ユニットであって、
前記反射手段は、反射部材と、その反射部材の反射面の向きを、前記対向面に平行な第1軸及び直交する第2軸の少なくともいずれか一方の軸を中心に変更させる変更機構とを備える。
【請求項3】
請求項1または請求項2に記載の測定装置の受光ユニットであって、
前記受光レンズは、前記反射手段と前記受光手段との間に配置されている。
【請求項4】
請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の測定装置の受光ユニットであって、
前記受光窓は透光性部材で封止され、且つ、当該透光性部材は、前記投光ユニットから前記受光窓に進入した光の進入方向に対して直交するように配置されている。
【請求項5】
請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の測定装置の受光ユニットであって、
前記受光窓から前記反射手段に入射した光の入射方向と、前記反射方向とがなす角度は鋭角である。
【請求項6】
吸着ヘッドにて吸着された状態で搬送される部品の搬送経路上に検出領域を有し、当該部品の姿勢に応じた位置検出信号を出力する姿勢検出センサの受光ユニットであって、
当該受光ユニットは、前記検出領域を介して投光ユニットに対向配置され、且つ、
前記検出領域側に向けられる対向面に受光窓を有するケーシングと、
前記投光ユニットから出射され前記受光窓に進入した光を収束させる受光レンズと、
複数の受光素子が前記対向面に平行に一列状に配列された受光ラインが1又は複数本配置された受光面を有し、当該受光面に前記受光レンズからの光を受ける受光手段と、
前記検出領域における検出対象物の位置や形状に応じて変化する、前記受光ライン上の各受光素子の入光・遮光状態に応じた位置検出信号を出力する信号読出手段と、
前記対向面の垂直方向に対する斜め方向から前記受光窓に進入した光を、前記対向面に沿った反射方向に反射させる反射手段とを備え、
前記受光手段は、前記反射手段での光の反射方向に沿って当該反射手段と並んで配置されている姿勢検出センサの受光ユニット。
【請求項7】
検出領域側に向けられる対向面に受光窓を有するケーシングと、
投光ユニットから出射され受光窓に進入した光を前記対向面に沿った反射方向に反射させる反射部材と、
前記反射部材の反射面の向きを変更させる変更機構と、
前記反射部材からの光を収束させる受光レンズと、
前記受光レンズからの光を受光する受光手段と、
前記検出領域における検出対象物の位置や大きさに応じて変化する、前記受光手段での受光状態に応じた検出信号を出力する信号読出手段と、を備える測定装置の受光ユニットの製造方法であって、
前記変更機構によって前記反射部材の反射面の向きを所定の向きに調整する調整工程と、
前記調整工程により調整された向きに前記反射部材を保持する保持工程と、を含む測定装置の受光ユニットの製造方法。

【図1】
image rotate

【図2】
image rotate

【図3】
image rotate

【図4】
image rotate

【図5】
image rotate

【図6】
image rotate

【図7】
image rotate

【図8】
image rotate

【図9】
image rotate

【図10】
image rotate

【図11】
image rotate

【図12】
image rotate

【図13】
image rotate

【図14】
image rotate

【図15】
image rotate

【図16】
image rotate

【図17】
image rotate


【公開番号】特開2009−244175(P2009−244175A)
【公開日】平成21年10月22日(2009.10.22)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−92608(P2008−92608)
【出願日】平成20年3月31日(2008.3.31)
【出願人】(000106221)サンクス株式会社 (578)
【Fターム(参考)】