積層体の製造方法
【課題】組成物を塗布して得られる１の塗膜から２以上の層を形成できる積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体を提供する。
【解決手段】基材と、その上に多層構造を有する積層体の製造方法であって、 前記基材上又は基材上に形成された層の上に、下記成分（Ａ）〜（Ｄ）を含む紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、 この１の塗膜から溶媒を蒸発させることにより、２以上の層を形成することを特徴とする積層体の製造方法。［紫外線硬化性樹脂組成物］ （Ａ）金属酸化物粒子 （Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体 （Ｃ）（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が高い溶剤 （Ｄ）（Ａ）金属酸化物粒子に対する分散安定性が高く、かつ、（Ｃ）の溶剤と相溶性である溶剤 かつ、（Ｃ）の溶剤の相対蒸発速度が、（Ｄ）の溶剤の相対蒸発速度よりも大きい。
【解決手段】基材と、その上に多層構造を有する積層体の製造方法であって、 前記基材上又は基材上に形成された層の上に、下記成分（Ａ）〜（Ｄ）を含む紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、 この１の塗膜から溶媒を蒸発させることにより、２以上の層を形成することを特徴とする積層体の製造方法。［紫外線硬化性樹脂組成物］ （Ａ）金属酸化物粒子 （Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体 （Ｃ）（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が高い溶剤 （Ｄ）（Ａ）金属酸化物粒子に対する分散安定性が高く、かつ、（Ｃ）の溶剤と相溶性である溶剤 かつ、（Ｃ）の溶剤の相対蒸発速度が、（Ｄ）の溶剤の相対蒸発速度よりも大きい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体に関し、特に、２以上の層を１の塗膜から形成することができる積層体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、マルチメディアの発達に伴い、各種の表示装置（ディスプレイ装置）において種々の発展が見られている。そして、各種の表示装置のうち、特に、携帯用を中心に屋外で使用されるものでは、その視認性の向上がますます重要となってきており、大型表示装置においても、より見易くすることが需要者に要求されており、この事項がそのまま技術課題となっている。
【０００３】
従来、表示装置の視認性を向上させるための一手段として、低屈折率材料から構成される反射防止膜を、表示装置の基板に被覆することが行われており、反射防止膜を形成する方法としては、例えば、フッ素化合物の薄膜を蒸着法により形成する方法が知られている。然るに、近年では、液晶表示装置を中心として、低いコストで、しかも大型の表示装置に対しても、反射防止膜を形成することのできる技術が求められている。しかしながら、蒸着法による場合には、大面積の基板に対して、高い効率で均一な反射防止膜を形成することが困難であり、しかも真空装置を必要とするために、コストを低くすることが困難である。
【０００４】
このような事情から、屈折率の低いフッ素系重合体を有機溶剤に溶解して液状の組成物を調製し、これを基板の表面に塗布することによって反射防止膜を形成する方法が検討されている。例えば、基板の表面にフッ素化アルキルシランを塗布することが提案されている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。また、特定の構造を有するフッ素系重合体を塗布する方法が提案されている（例えば、特許文献３参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開昭６１−４０８４５号公報
【特許文献２】特公平６−９８７０３号公報
【特許文献３】特開平６−１１５０２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
これら従来の反射防止膜は、基材上に、異なった屈折率の層、帯電防止層、ハードコート層等が形成された積層体であることが多い。従来の製造方法では、基材上に、各層をそれぞれ塗布する工程を繰り返していた。
本発明は、以上のような状況を背景としてなされたものであって、その目的は、組成物を塗布して得られる１の塗膜から２以上の層を形成できる積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体を提供することにある。また、本発明の他の目的は、良好な反射防止効果を有する積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体を提供することにある。さらに、本発明の他の目的は、基材に対する密着性に優れ、耐擦傷性が高い積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によれば、以下の積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体を提供できる。
１．基材と、その上に多層構造を有する積層体の製造方法であって、
前記基材上又は基材上に形成された層の上に、下記成分（Ａ）〜（Ｄ）を含む紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、
この１の塗膜から溶媒を蒸発させることにより、２以上の層を形成することを特徴とする積層体の製造方法。
［紫外線硬化性樹脂組成物］
（Ａ）金属酸化物粒子
（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体
（Ｃ）（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が高い溶剤
（Ｄ）（Ａ）金属酸化物粒子に対する分散安定性が高く、かつ、（Ｃ）の溶剤と相溶性である溶剤
かつ、（Ｃ）の溶剤の相対蒸発速度が、（Ｄ）の溶剤の相対蒸発速度よりも大きい
２．前記２以上の層の各層が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層又は金属酸化物粒子が実質的に存在しない層であって、少なくとも１層は金属酸化物粒子が高密度に存在する層であることを特徴とする１に記載の積層体の製造方法。
３．前記２以上の層が、２層であることを特徴とする２に記載の積層体の製造方法。
４．さらに、前記２以上の層を放射線照射することにより硬化させることを特徴とする１〜３のいずれかに記載の積層体の製造方法。
５．積層体が光学用部品であることを特徴とする１〜４のいずれかに記載の積層体の製造方法。
６．積層体が反射防止膜であることを特徴とする１〜４のいずれかに記載の積層体の製造方法。
７．前記積層体が、基材上に、少なくとも、高屈折率層及び低屈折率層が、基材に近い側からこの順に積層されている反射防止膜であり、３に記載の２層が、
高屈折率層及び
低屈折率層からなる
ことを特徴とする３に記載の積層体の製造方法。
８．低屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．２０〜１．５５であり、
高屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．５０〜２．２０であって、低屈折率層の屈折率より高いことを特徴とする７に記載の積層体の製造方法。
９．前記積層体が、基材上に、少なくとも、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層が、基材に近い側からこの順に積層されている反射防止膜であり、３に記載の２層が
高屈折率層及び
低屈折率層からなる
ことを特徴とする３に記載の積層体の製造方法。
１０．低屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．２０〜１．５５であり、
中屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．５０〜１．９０であって、低屈折率層の屈折率より高く、
高屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．５１〜２．２０であって、中屈折率層の屈折率より高いことを特徴とする９に記載の積層体の製造方法。
１１．さらに、基材上に、ハードコート層及び／又は帯電防止層を形成することを特徴とする７〜１０のいずれかに記載の積層体の製造方法。
１２．前記（Ａ）金属酸化物粒子が、導電性を有する粒子であることを特徴とする１〜１１のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
１３．前記（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体が、１個のイソシアネート基と、少なくとも１個のエチレン性不飽和基とを含有する化合物（Ｂ−１）と、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）と、を反応させて得られることを特徴とする１〜１２のいずれかに記載の積層体の製造方法。
１４．前記水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）が、下記構造単位（ａ）２０〜７０モル％、（ｂ）１０〜７０モル％及び（ｃ）５〜７０モル％を含んでなり、かつ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算数平均分子量が５，０００〜５００，０００である１３に記載の積層体の製造方法。
（ａ）下記一般式（１）で表される構造単位。
（ｂ）下記一般式（２）で表される構造単位。
（ｃ）下記一般式（３）で表される構造単位。
【化７】
［式中、Ｒ1 はフッ素原子、フルオロアルキル基、又は−ＯＲ2 で表される基（Ｒ2 はアルキル基、又はフルオロアルキル基を示す）を示す］
【化８】
［式中、Ｒ3 は水素原子又はメチル基を、Ｒ4 はアルキル基、−(ＣＨ2)x−ＯＲ5
若しくは−ＯＣＯＲ5 で表される基（Ｒ5 はアルキル基、又はグリシジル基を、ｘは０又は１の数を示す）、カルボキシル基、又はアルコキシカルボニル基を示す］
【化９】
［式中、Ｒ6 は水素原子、又はメチル基を、Ｒ7 は水素原子、又はヒドロキシアルキル基を、ｖは０又は１の数を示す］
１５．さらに、前記水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）が、アゾ基含有ポリシロキサン化合物に由来する下記構造単位（ｄ）０．１〜１０モル％を含む１３又は１４に記載の積層体の製造方法。
（ｄ）下記一般式（４）で表される構造単位。
【化１０】
［式中、Ｒ8 及びＲ9 は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はアリール基を示す］
１６．前記水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）が、前記構造単位（ｄ）を下記構造単位（ｅ）の一部として含むことを特徴とする１５に記載の積層体の製造方法。
（ｅ）下記一般式（５）で表される構造単位。
【化１１】
［式中、Ｒ10 〜Ｒ13 は水素原子、アルキル基、又はシアノ基を示し、Ｒ14 〜Ｒ17
は水素原子又はアルキル基を示し、ｐ、ｑは１〜６の数、ｓ、ｔは０〜６の数、ｙは１〜２００の数を示す。］
１７．さらに、前記水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）が、下記構造単位（ｆ）０．１〜５モル％を含む１３〜１６のいずれかに記載の積層体の製造方法。
（ｆ）下記一般式（６）で表される構造単位。
【化１２】
［式中、Ｒ18 は乳化作用を有する基を示す］
１８．前記化合物（Ｂ−１）が、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネートである１３〜１７のいずれかに記載の積層体の製造方法。
１９．紫外線硬化性樹脂組成物の（Ｃ）の溶剤は、（Ａ）金属酸化物粒子に対する分散安定性が低い溶剤であり、（Ｄ）の溶剤は、（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が低い溶剤であることを特徴とする１〜１８のいずれかに記載の積層体の製造方法。
２０．紫外線硬化性樹脂組成物が、さらに、成分（Ｅ）少なくとも２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する多官能（メタ）アクリレート化合物及び／又は少なくとも１個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する含フッ素（メタ）アクリレート化合物を含有することを特徴とする１〜１９のいずれかに記載の積層体の製造方法。
２１．紫外線硬化性樹脂組成物が、さらに、成分（Ｆ）光ラジカル重合開始剤を含むことを特徴とする１〜２０のいずれかに記載の積層体の製造方法。
２２．１〜２１のいずれかに記載された積層体の製造方法により、製造された積層体。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の積層体の製造方法は、組成物を塗布して得られる１の塗膜から、２以上の層を形成することができるため、多層構造を有する積層体の製造工程を簡略化できる。従って、本発明の積層体の製造方法は、特に、反射防止膜、光学フィルタ等の光学材料の形成に有利に用いることができる。また、本発明の積層体は、フッ素含量が高いことを利用して、耐候性が要求される基材に対する塗料、耐候フィルム、コーティング、その他として好適に使用することができる。しかも、当該積層体は、最外層（基材から最も遠い層）に低屈折率層を設けることにより良好な反射防止効果を付与する。また、本発明によれば、基材に対する密着性に優れ、耐擦傷性が高く、帯電防止性を有する積層体が得られる。これらのことから、本発明の積層体は反射防止膜として極めて有用であり、各種の表示装置に適用することにより、その視認性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明は、基材と、その上に２層以上の多層構造を有する積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体である。具体的には、本発明の製造方法では、基材上又は基材上に形成された層の上に、後述する所定の紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して得られる１の塗膜から溶媒を蒸発させる（以下、溶媒を蒸発させることを「乾燥」と言うこともある。）ことにより、２以上の層を形成する。なお、乾燥後は溶媒が完全に無くなった状態でなくてもよく、硬化膜としての特性が得られる範囲で溶媒が残存していてもよい。また、本発明では、１の塗膜から２以上の層の形成を、２回以上実施することができる。
【００１０】
特定の紫外線硬化性樹脂組成物を通常の方法で塗布し、その後乾燥させると、２以上の層に分離する。ここで、２以上の層とは、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層」と、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層」を共に含む２以上の層である場合もあり、また、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層」だけからなる２以上の層である場合もある。
以下、図面を用いて「２以上の層の各層が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層又は金属酸化物粒子が実質的に存在しない層であって、少なくとも１層は金属酸化物粒子が高密度に存在する層」について説明する。図１Ａは、２以上の層が、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層１」と、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層３」の２層である場合を示す。図１Ｂは、２以上の層が、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層１，１ａ」の２層である場合を示す。図１Ｃは、２以上の層が、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層１，１ａ」と、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層３」の３層である場合を示す。図１Ｄは、２以上の層が、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層１，１ａ」と、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層３」の３層である場合を示す。図１Ｅは、２以上の層が、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層１ｂ」と、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層３」の２層である場合を示す。
紫外線硬化性樹脂組成物が２種以上の金属酸化物粒子を含むときは、図１Ｂ，１Ｃ，１Ｄに示すように、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層」が２種類以上形成され得る。
【００１１】
さらに、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層」の「金属酸化物粒子」は、少なくとも１種、即ち、１種又は２種以上の「金属酸化物粒子」を意味する。紫外線硬化性樹脂組成物が２種以上の金属酸化物粒子を含む場合、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層」が、２種以上の金属酸化物粒子から構成されていてよい（例えば、図１Ｅ）。図１Ｅでは、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層１ｂ」が、粒子Ｘと粒子Ｙから構成されている。粒子Ｙが、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層１ｂ」の厚さより大きいため、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層３」に突出しているが、この突出部分も「金属酸化物粒子が高密度に存在する層１ｂ」に含まれる。
【００１２】
尚、図１Ａ〜１Ｅでは、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層３」には通常金属酸化物粒子が存在していないが、本発明の効果を損なわない範囲で若干含まれていてもよい。また、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層１，１ａ，１ｂ」も同様に金属酸化物粒子以外の他の物質が含まれていてもよい。
【００１３】
紫外線硬化性樹脂組成物の塗布法としては、公知の塗布方法を使用することができ、特に、ディップ法、コーター法、印刷法等各種の方法を適用することができる。
乾燥は、通常、室温から１００℃程度の加熱で、１〜６０分程度実施される。
具体的な硬化条件は後述する。
【００１４】
本発明では、紫外線硬化性樹脂組成物を溶液状で各種の基材に塗布し、得られた塗膜を乾燥／硬化させて積層体を得ることができる。例えば、基材が透明基材の場合には、最外層に低屈折率層を設けることにより優れた反射防止膜が形成される。
反射防止膜の具体的構造は、通常、基材及び低屈折率膜、又は基材、高屈折率膜及び低屈折率膜をこの順に積層したものである。この他、基材、高屈折率膜及び低屈折率膜の間に、他の層を介在させてもよく、例えば、ハードコート層、帯電防止層、中屈折率層、低屈折率層、高屈折率層の組み合わせ等の層を設けることができる。
【００１５】
図２〜１０は本発明の実施形態である反射防止膜を示す。
図２は、基材１０上に、高屈折率層４０及び低屈折率層５０が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層４０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層５０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本実施形態によれば、高屈折率層４０と低屈折率層５０を、１の塗膜から、形成できる。
【００１６】
図３は、基材１０上に、ハードコート層２０、帯電防止層３０、高屈折率層４０及び低屈折率層５０が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層４０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層５０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本実施形態によれば、高屈折率層４０と低屈折率層５０を、１の塗膜から、形成できる。
【００１７】
図４は、基材１０上に、帯電防止層３０、ハードコート層２０、高屈折率層４０及び低屈折率層５０が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層４０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層５０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本実施形態によれば、高屈折率層４０と低屈折率層５０を、１の塗膜から、形成できる。
【００１８】
図５は、基材１０上に、ハードコート層２０、帯電防止層３０、中屈折率層６０、高屈折率層４０及び低屈折率層５０が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層４０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層５０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。或いは、中屈折率層６０、及び高屈折率層４０が何れも金属酸化物粒子が高密度に存在する層に相当するか、または、中屈折率層６０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、高屈折率層４０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本実施形態によれば、中屈折率層６０と高屈折率層４０、又は、高屈折率層４０と低屈折率層５０を、１の塗膜から、形成できる。好ましくは、高屈折率層４０と低屈折率層５０を１の塗膜から形成する。
【００１９】
図６は、基材１０上に、帯電防止層３０、ハードコート層２０、中屈折率層６０、高屈折率層４０及び低屈折率層５０が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層４０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層５０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。或いは、中屈折率層６０、及び高屈折率層４０が何れも金属酸化物粒子が高密度に存在する層に相当するか、または、中屈折率層６０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、高屈折率層４０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本実施形態によれば、中屈折率層６０と高屈折率層４０、又は、高屈折率層４０と低屈折率層５０を、１の塗膜から、形成できる。好ましくは、高屈折率層４０と低屈折率層５０を１の塗膜から形成する。
【００２０】
図７は、基材１０上に、ハードコート層２０、高屈折率層４０及び低屈折率層５０が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層４０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層５０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本実施形態によれば、高屈折率層４０と低屈折率層５０を、１の塗膜から、形成できる。
【００２１】
図８は、基材１０上に、ハードコート層２０、中屈折率層６０、高屈折率層４０及び低屈折率層５０が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層４０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層５０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。或いは、中屈折率層６０、及び高屈折率層４０が何れも金属酸化物粒子が高密度に存在する層に相当するか、または、中屈折率層６０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、高屈折率層４０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本実施形態によれば、中屈折率層６０と高屈折率層４０、又は、高屈折率層４０と低屈折率層５０を、１の塗膜から、形成できる。好ましくは、高屈折率層４０と低屈折率層５０を１の塗膜から形成する。
【００２２】
図９は、基材１０上に、帯電防止層３０、高屈折率層４０及び低屈折率層５０が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層４０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層５０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本実施形態によれば、高屈折率層４０と低屈折率層５０を、１の塗膜から、形成できる。
【００２３】
図１０は、基材１０上に、帯電防止層３０、中屈折率層６０、高屈折率層４０及び低屈折率層５０が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層４０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層５０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。或いは、中屈折率層６０、及び高屈折率層４０が何れも金属酸化物粒子が高密度に存在する層に相当するか、または、中屈折率層６０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、高屈折率層４０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本実施形態によれば、中屈折率層６０と高屈折率層４０、又は、高屈折率層４０と低屈折率層５０を、１の塗膜から、形成できる。好ましくは、高屈折率層４０と低屈折率層５０を１の塗膜から形成する。
【００２４】
尚、上記の反射防止膜において、使用する紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる金属酸化物として、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）粒子、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子等の導電性粒子を添加すれば、得られる金属酸化物を高密度に含む層が帯電防止性を有する膜となる。従って、例えば、高屈折率層又は中屈折率層を、このような帯電防止性を有する金属物を高密度に含む層として形成すれば、高屈折率層又は中屈折率層は帯電防止性を兼ねた膜とすることができる。この場合、帯電防止膜の形成を省略できる。
【００２５】
次に、上記の反射防止膜の各層について説明する。
（１）基材
本発明の反射防止膜に用いる基材の種類は特に制限されるものではないが、基材の具体例としては、例えば、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート樹脂（東レ（株）製ルミラー等）、ガラス、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、スチリル樹脂、アリレート樹脂、ノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ（株）製アートン、日本ゼオン（株）製ゼオネックス等）、メチルメタクリレート／スチレン共重合体樹脂、ポリオレフィン樹脂等の各種透明プラスチック板、フィルム等を挙げることができる。好ましくは、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート樹脂（東レ（株）製ルミラー等）、ノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ（株）製アートン等）等が挙げられる。
【００２６】
（２）低屈折率層
低屈折率層とは、波長５８９ｎｍの光の屈折率が１．２０〜１．５５である層である。
低屈折率層に使用される材料としては、目的とする特性が得られれば特に限定されるものではないが、例えば、含フッ素重合体を含有する硬化性組成物、アクリルモノマー、含フッ素アクリルモノマー、エポキシ基含有化合物、含フッ素エポキシ基含有化合物等の硬化物を挙げることがでる。また、低屈折率層の強度を上げるために、シリカ微粒子等を配合することもできる。
【００２７】
（３）高屈折率層
高屈折率層とは、波長５８９ｎｍの光の屈折率が１．５０〜２．２０であって、低屈折率層より高い屈折率を有する層である。
高屈折率層を形成するために、高屈折率の無機粒子、例えば金属酸化物粒子を配合することができる。
金属酸化物粒子の具体例としては、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）粒子、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子、ＺｎＯ粒子、アンチモンドープＺｎＯ、ＡｌドープＺｎＯ粒子、ＺｒＯ２粒子、ＴｉＯ２粒子、シリカ被覆ＴｉＯ２粒子、Ａｌ２Ｏ３/ＺｒＯ２被覆ＴｉＯ２粒子、ＣｅＯ２粒子等を挙げることができる。好ましくは、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）粒子、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子、ＡｌドープＺｎＯ粒子、Ａｌ２Ｏ３/ＺｒＯ２被覆ＴｉＯ２粒子である。これらの金属酸化物粒子は、一種単独又は二種以上の組み合わせで使用することができる。
また、高屈折率層にハードコート層や帯電防止層の機能を持たせることもできる。
【００２８】
（４）中屈折率層
３種以上の屈折率を有する層を組み合わせる場合に、波長５８９ｎｍの光の屈折率が１．５０〜１．９０であって、低屈折率層より高く、高屈折率層より低い屈折率を有する層を中屈折率層である。中屈折率層の屈折率は、好ましくは、１．５０〜１．８０、より好ましくは、１．５０〜１．７５である。
中屈折率層を形成するために、高屈折率の無機粒子、例えば金属酸化物粒子を配合することができる。
金属酸化物粒子の具体例としては、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）粒子、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子、ＺｎＯ粒子、アンチモンドープＺｎＯ、ＡｌドープＺｎＯ粒子、ＺｒＯ２粒子、ＴｉＯ２粒子、シリカ被覆ＴｉＯ２粒子、Ａｌ２Ｏ３/ＺｒＯ２被覆ＴｉＯ２粒子、ＣｅＯ２粒子等を挙げることができる。好ましくは、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）粒子、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子、ＡｌドープＺｎＯ粒子、ＺｒＯ２粒子である。これらの金属酸化物粒子は、一種単独又は二種以上の組み合わせで使用することができる。
また、中屈折率層にハードコート層や帯電防止層の機能を持たせることもできる。
【００２９】
低屈折率層と高屈折率層を組み合わせることにより反射率を低くすることができ、さらに、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層を組み合わせることにより、反射率を低くすることができるとともに色目を減らすことができる。
【００３０】
（５）ハードコート層
ハードコート層の具体例としては、ＳｉＯ２、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂等の材料から構成するのが好ましい。また、これらの樹脂にシリカ粒子を配合しても良い。
ハードコート層は積層体の機械的強度を高める効果がある。
【００３１】
（６）帯電防止層
帯電防止層の具体例としては、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）粒子、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子、ＡｌドープＺｎＯ粒子等の導電性を有する金属酸化物粒子、あるいは有機、又は無機の導電性化合物を添加した硬化性膜、前記金属酸化物を蒸着あるいはスパッタリングすることで得られる金属酸化物膜、導電性有機高分子からなる膜を挙げることができる。導電性有機高分子としては、ポリアセチレン系導電性高分子、ポリアニリン系導電性高分子、ポリチオフェン系導電性高分子、ポリピロール系導電性高分子、ポリフェニレンビニレン系導電性高分子等を例示することができる。尚、上述したように、本発明で使用する紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる金属酸化物として、ＡＴＯ粒子、ＩＴＯ粒子、アンチモンドープＺｎＯ、ＡｌドープＺｎＯ粒子等の導電性粒子を添加すれば、得られる金属酸化物を高密度に含む層が帯電防止性を有する膜となる。この場合、別途帯電防止膜の形成を省略できる。
帯電防止層は、積層体に導電性を付与し、静電気が生じて埃等が付着するのを防止する。
【００３２】
これらの層は一層のみ形成してもよく、また、異なる層を二層以上形成してもよい。
また、低、中、高屈折率層の膜厚は、それぞれ通常６０〜１５０ｎｍ、帯電防止層の膜厚は通常０．０５〜３μｍ、ハードコート層の膜厚は通常１〜２０μｍである。
【００３３】
本発明では、積層体の任意の連続する２以上の層を本発明の製造方法で形成できるが、本発明の製造方法によらない層の製造方法は、公知の塗布と硬化、蒸着、スパッタリング等の方法により製造できる。
【００３４】
また、本発明による紫外線硬化性樹脂組成物からなる層は、硬化させて優れた光学特性と耐久性を有する硬化膜を形成させるために、特に、加熱による熱履歴を与えることが好ましい。もちろん、常温で放置した場合にも、時間の経過と共に硬化反応が進み、目的とする硬化膜が形成されるが、実際上は、加熱して硬化させることが、所要時間を短縮する上で効果的である。また、熱酸発生剤を硬化触媒として添加しておくことにより、さらに硬化反応を促進させることができる。この硬化触媒としては特に制限は無く、一般のウレア樹脂、メラミン樹脂等のための硬化剤として使用されている各種酸類やその塩類を利用することができ、特に、アンモニウム塩を好ましく用いることができる。硬化反応のための加熱条件は適宜選択することができるが、加熱温度は、塗布の対象である基材の耐熱限界温度以下であることが必要である。
【００３５】
本発明によれば、１の塗膜から、２以上の層を形成することができるため、積層体の製造工程が簡略化できる。
また、金属酸化物粒子を偏在化させることによって、積層体の耐擦傷性を向上することができる。
本発明の積層体は、反射防止膜の他にも、例えば、レンズ、選択透過膜フィルタ等の光学用部品に使用できる。
【００３６】
次に、本発明で使用する紫外線硬化性樹脂組成物について説明する。
紫外線硬化性樹脂組成物は、（Ａ）金属酸化物粒子、（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体と、（Ｃ）（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が高い溶剤（速揮発溶剤）と、（Ｄ）（Ａ）金属酸化物粒子に対する分散安定性が高く、かつ、（Ｃ）の溶剤と相溶性である溶剤（遅揮発溶剤）とを含有することを特徴とする。
【００３７】
１．紫外線硬化性樹脂組成物の各構成成分について具体的に説明する。
（Ａ）金属酸化物粒子
金属酸化物粒子（Ａ）としては、例えば、酸化チタン、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化アンチモン、酸化セリウム等の粒子を挙げることができる。中でも、シリカ、アルミナ、ジルコニア、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）及び酸化アンチモンの粒子が好ましい。また、ジルコニウムやチタニウム等の酸化物粒子を用いることにより高屈折率の硬化被膜を得ることができるし、酸化亜鉛、ＡＴＯ、ＩＴＯ等の粒子を用いることにより、硬化被膜に導電性を付与することもできる。高屈折率の硬化被膜を得るためには、波長５９８ｎｍにおける屈折率が１．５以上の金属酸化物粒子（Ａ）が好ましい。このため、このような目的のためには、シリカ（屈折率約１．４５）粒子は好ましくない。
【００３８】
これらの金属酸化物粒子（Ａ）は１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。さらには、金属酸化物粒子（Ａ）は、粉体状又は分散液であることが好ましい。分散液である場合、他の成分との相溶性、分散性の観点から、分散媒は、有機溶剤が好ましい。このような有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルフォルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。中でも、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレンが好ましい。
【００３９】
金属酸化物粒子（Ａ）の数平均粒子径は、電子顕微鏡法による測定で、０．００１μｍ〜２μｍが好ましく、０．００１μｍ〜０．２μｍがさらに好ましく、０．００１μｍ〜０．１μｍが特に好ましい。数平均粒子径が２μｍを越えると、硬化物としたときの透明性が低下したり、被膜としたときの表面状態が悪化したりする傾向がある。また、粒子の分散性を改良するために各種の界面活性剤やアミン類を添加してもよい。粒子形状が棒状（アスペクト比が１を超えて１０以下の形状を言う）の場合には、短径を粒子径とした。
【００４０】
シリカ粒子の市販品としては、例えば、コロイダルシリカとして、日産化学工業（株）製 商品名：メタノールシリカゾル、ＩＰＡ−ＳＴ、ＭＥＫ−ＳＴ、ＮＢＡ−ＳＴ、ＸＢＡ−ＳＴ、ＤＭＡＣ−ＳＴ、ＳＴ−ＵＰ、ＳＴ−ＯＵＰ、ＳＴ−２０、ＳＴ−４０、ＳＴ−Ｃ、ＳＴ−Ｎ、ＳＴ−Ｏ、ＳＴ−５０、ＳＴ−ＯＬ等を挙げることができる。また粉体シリカとしては、日本アエロジル（株）製 商品名：アエロジル１３０、アエロジル３００、アエロジル３８０、アエロジルＴＴ６００、アエロジルＯＸ５０、旭硝子（株）製 商品名：シルデックスＨ３１、Ｈ３２、Ｈ５１、Ｈ５２、Ｈ１２１、Ｈ１２２、日本シリカ工業（株）製 商品名：Ｅ２２０Ａ、Ｅ２２０、富士シリシア（株）製 商品名：ＳＹＬＹＳＩＡ４７０、日本板硝子（株）製 商品名：ＳＧフレーク等を挙げることができる。
【００４１】
また、アルミナの水分散品としては、日産化学工業（株）製 商品名：アルミナゾル−１００、−２００、−５２０；アルミナのイソプロパノール分散品としては、住友大阪セメント（株）製 商品名：ＡＳ−１５０Ｉ；アルミナのトルエン分散品としては、住友大阪セメント（株）製 商品名：ＡＳ−１５０Ｔ；ジルコニアのトルエン分散品としては、住友大阪セメント（株）製 商品名：ＨＸＵ−１１０ＪＣ；アンチモン酸亜鉛粉末の水分散品としては、日産化学工業（株）製 商品名：セルナックス；アルミナ、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛等の粉末及び溶剤分散品としては、シーアイ化成（株）製 商品名：ナノテック；アンチモンドープ酸化スズの水分散ゾルとしては、石原産業（株）製 商品名：ＳＮ−１００Ｄ；ＩＴＯ粉末としては、三菱マテリアル（株）製の製品、富士化学（株）製 商品名：ＮＩＤ−２０；酸化セリウム水分散液としては、多木化学（株）製 商品名：ニードラール等を挙げることができる。
【００４２】
金属酸化物粒子（Ａ）の形状は球状、中空状、多孔質状、棒状（アスペクト比が１を超えて１０以下の形状を言う）、板状、繊維状、又は不定形状であり、好ましくは、棒状である。金属酸化物粒子（Ａ）の比表面積（窒素を用いたＢＥＴ比表面積測定法による）は、好ましくは、１０〜１０００ｍ２／ｇであり、さらに好ましくは、１００〜５００ｍ２／ｇである。これら金属酸化物粒子（Ａ）の使用形態は、乾燥状態の粉末、又は水もしくは有機溶剤で分散した状態で用いることができる。例えば、分散液として当業界に知られている微粒子状の金属酸化物粒子の分散液を直接用いることができる。特に、硬化物に優れた透明性を要求する用途においては金属酸化物粒子の分散液の利用が好ましい。
【００４３】
金属酸化物粒子（（Ａ）成分）の紫外線硬化性樹脂組成物中における配合（含有）量は、有機溶剤を除く組成物全量を１００質量％として、１０〜９０質量％の範囲内であることが好ましく、２０〜８０質量％の範囲であることがより好ましく、４０〜８０質量％の範囲であることがより好ましい。１０質量％未満であると、硬化膜の硬度が不十分であるか、又は高屈折率のものが得られないことがある。９０質量％を超えると、成膜性が不十分となることがある。尚、金属酸化物粒子（（Ａ）成分）の量は、固形分を意味し、金属酸化物粒子（（Ａ）成分）が分散液の形態で用いられるときは、その配合量には分散媒の量を含まない。
【００４４】
（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体
本発明で用いるエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体は、１個のイソシアネート基と、少なくとも１個のエチレン性不飽和基とを含有する化合物（Ｂ−１）と、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）とを反応させて得られ、イソシアネート基／水酸基のモル比が１．１〜１．９の割合で反応させて得られるものが好ましい。
【００４５】
（Ｂ−１）１個のイソシアネート基と、少なくとも１個のエチレン性不飽和基とを含有する化合物
化合物（Ｂ−１）としては、分子内に、１個のイソシアネート基と、少なくとも１個のエチレン性不飽和基を含有している化合物であれば特に制限されるものではない。尚、イソシアネート基を２個以上含有すると、水酸基含有含フッ素重合体と反応させる際にゲル化を起こす可能性がある。また、上記エチレン性不飽和基としては、紫外線硬化性樹脂組成物をより容易に硬化させることができることから、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。このような化合物としては、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルイソシアネートの一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００４６】
尚、このような化合物は、ジイソシアネート及び水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて合成することもできる。この場合、ジイソシアネートの例としては、２,４−トリレンジイソシアネ−ト、２,６−トリレンジイソシアネ−ト、１,３−キシリレンジイソシアネ−ト、１,４−キシリレンジイソシアネ−ト、１,５−ナフタレンジイソシアネ−ト、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３,３’−ジメチル−４,４’−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト、４,４’−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト、３,３’−ジメチルフェニレンジイソシアネ−ト、４,４’−ビフェニレンジイソシアネ−ト、１，６−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネア−ト）、２,２,４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネ−ト、ビス（２−イソシアネートエチル）フマレート、６−イソプロピル−１,３−フェニルジイソシアネ−ト、４−ジフェニルプロパンジイソシアネ−ト、リジンジイソシアネ−ト、水添ジフェニルメタンジイソシアネ−ト、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、テトラメチルキシリレンジイソシアネ−ト、２，５（又は６）−ビス（イソシアネートメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。これらの中では、２,４−トリレンジイソシアネ−ト、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネア−ト）、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサンが特に好ましい。
【００４７】
また、水酸基含有（メタ）アクリレートの例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、カプロラクトン（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート等一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。これらの中では、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートが特に好ましい。尚、水酸基含有多官能（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、大阪有機化学（株）製
商品名 ＨＥＡ、日本化薬（株）製 商品名 ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、ＰＥＴ−３０、東亞合成（株）製 商品名 アロニックス Ｍ−２１５、Ｍ−２３３、Ｍ−３０５、Ｍ−４００等として入手することができる。
【００４８】
ジイソシアネート及び水酸基含有多官能（メタ）アクリレートから合成する場合には、ジイソシアネート１モルに対し、水酸基含有多官能（メタ）アクリレートの添加量を１〜１．２モルとするのが好ましい。
【００４９】
このような化合物の合成方法としては、ジイソシアネート及び水酸基含有（メタ）アクリレートを一括で仕込んで反応させる方法、水酸基含有（メタ）アクリレート中にジイソシアネートを滴下して反応させる方法等を挙げることができる。
【００５０】
（Ｂ−２）水酸基含有含フッ素重合体
水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）は、下記構造単位（ａ）、（ｂ）、（ｃ）から構成されていることが好ましく、さらに構造単位（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）を含むことがより好ましい。
【００５１】
構造単位（ａ）
構造単位（ａ）は、下記一般式（１）で表される。
【化１３】
［式中、Ｒ1 はフッ素原子、フルオロアルキル基、又は−ＯＲ2 で表される基（Ｒ2 はアルキル基、又はフルオロアルキル基を示す）を示す］
【００５２】
上記一般式（１）において、Ｒ１及びＲ２のフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロシクロヘキシル基等の炭素数１〜６のフルオロアルキル基が挙げられる。また、Ｒ２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等の炭素数１〜６のアルキル基が挙げられる。
【００５３】
構造単位（ａ）は、含フッ素ビニル単量体を重合成分として用いることにより導入することができる。このような含フッ素ビニル単量体としては、少なくとも１個の重合性不飽和二重結合と、少なくとも１個のフッ素原子とを有する化合物であれば特に制限されるものではない。このような例としてはテトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン等のフルオロレフィン類；アルキルパーフルオロビニルエーテル又はアルコキシアルキルパーフルオロビニルエーテル類；パーフルオロ（メチルビニルエーテル）、パーフルオロ（エチルビニルエーテル）、（プロピルビニルエーテル）、パーフルオロ（ブチルビニルエーテル）、パーフルオロ（イソブチルビニルエーテル）等のパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）類；パーフルオロ（プロポキシプロピルビニルエーテル）等のパーフルオロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）類の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。これらの中でも、ヘキサフルオロプロピレンとパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）又はパーフルオロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）がより好ましく、これらを組み合わせて用いることがさらに好ましい。
【００５４】
尚、構造単位（ａ）の含有率は、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量を１００モル％としたときに、２０〜７０モル％である。この理由は、含有率が２０モル％未満になると、本願が意図するところのフッ素含有材料の光学的特徴である、低屈折率の発現が困難となる場合があるためであり、一方、含有率が７０モル％を超えると、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の有機溶剤への溶解性、透明性、又は基材への密着性が低下する場合があるためである。また、このような理由により、構造単位（ａ）の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量に対して、２５〜６５モル％とするのがより好ましく、３０〜６０モル％とするのがさらに好ましい。
【００５５】
構造単位（ｂ）
構造単位（ｂ）は、下記一般式（２）で表される。
【化１４】
［式中、Ｒ3 は水素原子又はメチル基を、Ｒ4 はアルキル基、−(ＣＨ2)x−ＯＲ5 若しくは−ＯＣＯＲ5 で表される基（Ｒ5はアルキル基、又はグリシジル基を、ｘは０又は１の数を示す）、カルボキシル基、又はアルコキシカルボニル基を示す］
【００５６】
一般式（２）において、Ｒ４又はＲ５のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ラウリル基等の炭素数１〜１２のアルキル基が挙げられ、アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられる。
【００５７】
構造単位（ｂ）は、上述の置換基を有するビニル単量体を重合成分として用いることにより導入することができる。このようなビニル単量体の例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ペンチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ｎ−ドデシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテルもしくはシクロアルキルビニルエーテル類；エチルアリルエーテル、ブチルアリルエーテル等のアリルエーテル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、バーサチック酸ビニル、ステアリン酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（ｎ−プロポキシ）エチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類；（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸類等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００５８】
尚、構造単位（ｂ）の含有率は、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量を１００モル％としたときに、１０〜７０モル％である。この理由は、含有率が１０モル％未満になると、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の有機溶剤への溶解性が低下する場合があるためであり、一方、含有率が７０モル％を超えると、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の透明性、及び低反射率性等の光学特性が低下する場合があるためである。また、このような理由により、構造単位（ｂ）の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量に対して、２０〜６０モル％とするのがより好ましく、３０〜６０モル％とするのがさらに好ましい。
【００５９】
構造単位（ｃ）
構造単位（ｃ）は、下記一般式（３）で表される。
【化１５】
［式中、Ｒ6 は水素原子、又はメチル基を、Ｒ7 は水素原子、又はヒドロキシアルキル基を、ｖは０又は１の数を示す］
【００６０】
一般式（３）において、Ｒ７のヒドロキシアルキル基としては、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、５−ヒドロキシペンチル基、６−ヒドロキシヘキシル基が挙げられる。
【００６１】
構造単位（ｃ）は、水酸基含有ビニル単量体を重合成分として用いることにより導入することができる。このような水酸基含有ビニル単量体の例としては、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、３−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、３−ヒドロキシブチルビニルエーテル、５−ヒドロキシペンチルビニルエーテル、６−ヒドロキシヘキシルビニルエーテル等の水酸基含有ビニルエーテル類、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、４−ヒドロキシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリルエーテル等の水酸基含有アリルエーテル類、アリルアルコール等が挙げられる。また、水酸基含有ビニル単量体としては、上記以外にも、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、カプロラクトン（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等を用いることができる。
【００６２】
尚、構造単位（ｃ）の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量を１００モル％としたときに、５〜７０モル％とすることが好ましい。この理由は、含有率が５モル％未満になると、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の有機溶剤への溶解性が低下する場合があるためであり、一方、含有率が７０モル％を超えると、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の透明性、及び低反射率性等の光学特性が低下する場合があるためである。また、このような理由により、構造単位（ｃ）の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量に対して、５〜４０モル％とするのがより好ましく、５〜３０モル％とするのがさらに好ましい。
【００６３】
構造単位（ｄ）及び構造単位（ｅ）
また、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）は、さらに下記構造単位（ｄ）を含んで構成することも好ましい。以下、構造単位（ｄ）について説明する。
構造単位（ｄ）は、下記一般式（４）で表される。
【化１６】
［式中、Ｒ8 及びＲ9 は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はアリール基を示す］
【００６４】
一般式（４）において、Ｒ８又はＲ９のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜３のアルキル基が、ハロゲン化アルキル基としてはトリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基等の炭素数１〜４のフルオロアルキル基等が、アリール基としてはフェニル基、ベンジル基、ナフチル基等がそれぞれ挙げられる。
【００６５】
構造単位（ｄ）は、前記一般式（４）で表されるポリシロキサンセグメントを有するアゾ基含有ポリシロキサン化合物を用いることにより導入することができる。このようなアゾ基含有ポリシロキサン化合物の例としては、下記一般式（７）で表される化合物が挙げられる。
【００６６】
【化１７】
［式中、Ｒ１０〜Ｒ１３、Ｒ１４〜Ｒ１７、ｐ、ｑ、ｓ、ｔ、及びｙは、上記一般式（５）と同じであり、ｚは１〜２０の数である。］
【００６７】
一般式（７）で表される化合物を用いた場合には、構造単位（ｄ）は、下記構造単位（ｅ）の一部として水酸基含有含フッ素重合体に含まれる。
構造単位（ｅ）は、下記一般式（５）で表される。
【化１８】
［式中、Ｒ10 〜Ｒ13 は水素原子、アルキル基、又はシアノ基を示し、Ｒ14 〜Ｒ17 は水素原子又はアルキル基を示し、ｐ、ｑは１〜６の数、ｓ、ｔは０〜６の数、ｙは１〜２００の数を示す。］
【００６８】
一般式（５）において、Ｒ１０〜Ｒ１３のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等の炭素数１〜１２のアルキル基が挙げられ、Ｒ１４〜Ｒ１７のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜３のアルキル基が挙げられる。
【００６９】
本発明において、上記一般式（７）で表されるアゾ基含有ポリシロキサン化合物としては、下記一般式（８）で表される化合物が特に好ましい。
【００７０】
【化１９】
［式中、ｙ及びｚは、上記一般式（７）と同じである。］
【００７１】
尚、構造単位（ｄ）の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量を１００モル％としたときに、０．１〜１０モル％とすることが好ましい。この理由は、含有率が０．１モル％未満になると、硬化後の塗膜の表面滑り性が低下し、塗膜の耐擦傷性が低下する場合があるためであり、一方、含有率が１０モル％を超えると、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の透明性に劣り、コート材として使用する際に、塗布時にハジキ等が発生し易くなる場合があるためである。また、このような理由により、構造単位（ｄ）の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量に対して、０．１〜５モル％とするのがより好ましく、０．１〜３モル％とするのがさらに好ましい。同じ理由により、構造単位（ｅ）の含有率は、その中に含まれる構造単位（ｄ）の含有率を上記範囲にするよう決定することが望ましい。
【００７２】
構造単位（ｆ）
また、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）は、さらに上記構造単位（ｆ）を含んで構成することも好ましい。以下、構造単位（ｆ）について説明する。
【００７３】
構造単位（ｆ）は、下記一般式（６）で表される。
【化２０】
［式中、Ｒ18 は乳化作用を有する基を示す］
【００７４】
一般式（６）において、Ｒ１８の乳化作用を有する基としては、疎水性基及び親水性基の双方を有し、かつ、親水性基がポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド等のポリエーテル構造である基が好ましい。
【００７５】
このような乳化作用を有する基の例としては下記一般式（９）で表される基が挙げられる。
【００７６】
【化２１】
［式中、ｎは１〜２０の数、ｍは０〜４の数、ｕは３〜５０の数を示す］
【００７７】
構造単位（ｆ）は、反応性乳化剤を重合成分として用いることにより導入することができる。このような反応性乳化剤としては、下記一般式（１０）で表される化合物が挙げられる。
【００７８】
【化２２】
［式中、ｎ、ｍ、及びｕは、上記一般式（９）と同様である］
【００７９】
尚、構造単位（ｆ）の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量を１００モル％としたときに、０．１〜５モル％とすることが好ましい。この理由は、含有率が０．１モル％以上になると、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の溶剤への溶解性が向上し、一方、含有率が５モル％以内であれば、紫外線硬化性樹脂組成物の粘着性が過度に増加せず、取り扱いが容易になり、コート材等に用いても耐湿性が低下しないためである。また、このような理由により、構造単位（ｆ）の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量に対して、０．１〜３モル％とするのがより好ましく、０．２〜３モル％とするのがさらに好ましい。
【００８０】
水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の分子量
水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下「ＧＰＣ」という。）で、テトラヒドロフラン（以下「ＴＨＦ」という。）を溶剤として測定したポリスチレン換算数平均分子量が５，０００〜５００，０００であることが好ましい。この理由は、数平均分子量が５，０００未満になると、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の機械的強度が低下する場合があるためであり、一方、数平均分子量が５００，０００を超えると、紫外線硬化性樹脂組成物の粘度が高くなり、薄膜コーティングが困難となる場合がるためである。また、このような理由により、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）のポリスチレン換算数平均分子量を１０，０００〜３００，０００とするのがより好ましく、１０，０００〜１００，０００とするのがさらに好ましい。
【００８１】
化合物（Ｂ−１）と水酸基含有フッ素重合体（Ｂ−２）との反応モル比
本発明で用いるエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体（Ｂ）は、上述した、１個のイソシアネート基と、少なくとも１個のエチレン性不飽和基とを含有する化合物（Ｂ−１）と、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）とを、イソシアネート基／水酸基のモル比が１．１〜１．９の割合で反応させて得られることが好ましい。この理由は、モル比が１．１未満になると耐擦傷性及び耐久性が低下する場合があるためであり、一方、モル比が１．９を超えると、紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜のアルカリ水溶液浸漬後の耐擦傷性が低下する場合があるためである。また、このような理由により、イソシアネート基／水酸基のモル比を、１．１〜１．５とするのがより好ましく、１．２〜１.５とするのがさらに好ましい。
【００８２】
紫外線硬化性樹脂組成物中における（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体の含有量は、有機溶剤を除く組成物全量１００質量％に対して、通常５〜７０質量％である。この理由は、含有量が５質量％未満となると、紫外線硬化性樹脂組成物の硬化塗膜の屈折率が高くなり、十分な反射防止効果が得られない場合があるためであり、一方、添加量が７０質量％を超えると、硬化性樹脂組成物の硬化塗膜の耐擦傷性が得られない場合があるためである。また、このような理由から、（Ｂ）成分の添加量を１０〜５０質量％とするのがより好ましく、１５〜５０質量％の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
【００８３】
（Ｃ）（Ｂ）エチレン性不飽和基含有フッ素重合体に対する溶解性が高い溶剤（速揮発溶剤）
紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる（Ｃ）速揮発溶剤は、上記（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が高い溶剤である。ここで、エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が高いとは、（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体を５０質量％となるよう各溶剤に添加して、室温８時間攪拌したときに、目視で均一な溶液となることをいう。溶解性が低いとは、このとき目視で均一な溶液にならないことをいう。そして、（Ｃ）速揮発溶剤の相対蒸発速度は、後述の（Ｄ）遅揮発溶剤の相対蒸発速度よりも大きいことが必要である。ここで、「相対蒸発速度」とは、酢酸ブチルが９０重量％蒸発するのに要する時間を基準とする蒸発速度の相対値をいい、詳細は、TECHNIQUES OF CHEMISTRY VOL.2 ORGANIC SOLVENTS Physical Properties and methods of purification 4th ed. (Interscience Publishers, Inc. 1986 page 62)に記載されているとおりである。また、（Ｃ）速揮発溶剤は、上記（Ａ）金属酸化物粒子に対する分散安定性が低いことが好ましい。（Ｃ）速揮発溶剤は、相対蒸発速度が（Ｄ）よりも大きく、（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が高いことにより、紫外線硬化性樹脂組成物を、基材に塗布し、溶剤（Ｃ）及び（Ｄ）を蒸発させる過程で、（Ａ）成分の粒子を偏在化させることができる。
【００８４】
本発明で（Ｃ）速揮発溶剤として用いることができる溶剤としては、相対蒸発速度が概ね１．７以上の溶剤であり、具体的には、メチルエチルケトン（ＭＥＫ；相対蒸発速度３．８）、イソプロパノール（ＩＰＡ；１．７）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ；相対蒸発速度１．６）、メチルアミルケトン（ＭＡＫ；０．３）、アセトン、メチルプロピルケトン等が挙げられる。
【００８５】
（Ｄ）（Ａ）金属酸化物粒子に対する分散安定性が高く、かつ、（Ｃ）の溶剤と相溶性である溶剤（遅揮発溶剤）
紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる（Ｄ）遅揮発溶剤は、上記（Ａ）金属酸化物粒子に対する分散安定性が高い溶剤である。ここで、（Ａ）成分の粒子に対する分散安定性が高いとは、（Ａ）成分の粒子のイソプロパノール分散液にガラス板を浸漬して（Ａ）成分の粒子をガラス壁に付着させ、その（Ａ）成分の粒子が付着したガラス板を各溶剤に浸漬した場合に、（Ａ）成分の粒子が該溶剤中に目視で均一に分散することをいう。分散安定性が低いとは、このとき目視で均一に分散しないことをいう。また、（Ｄ）遅揮発溶剤は、上記（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が低いことが好ましい。
【００８６】
本発明で（Ｄ）遅揮発溶剤として用いることができる溶剤としては、メタノール（相対蒸発速度２．１）、イソプロパノール（ＩＰＡ；１．７）、ｎ−ブタノール（ｎ−ＢｕＯＨ；０．５）、ｔｅｒｔ−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ等が挙げられる。
【００８７】
本発明で用いる（Ｃ）速揮発溶剤及び／又は（Ｄ）遅揮発溶剤は、通常、上記（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体の製造に用いた溶剤をそのまま用いることができる。
本発明で用いる（Ｃ）速揮発溶剤と（Ｄ）遅揮発溶剤は、相溶性であることが必要である。相溶性は、組成物の具体的構成において、（Ｃ）速揮発溶剤と（Ｄ）遅揮発溶剤が分離しない程度の相溶性があれば足りる。
ここで、選択された溶剤が、本発明で用いる（Ｃ）速揮発溶剤又は（Ｄ）遅揮発溶剤のいずれに該当するかは、選択された複数の溶剤種の間で相対的に決まるものであり、それ故、相対蒸発速度が１．７のイソプロパノールは、（Ｃ）速揮発溶剤として用いられることもあれば、（Ｄ）遅揮発溶剤として用いられることもある。
【００８８】
紫外線硬化性樹脂組成物中の溶剤（Ｃ）及び（Ｄ）以外の成分総量１００質量部に対し、溶剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）の合計量は、通常３００〜５０００質量部、好ましくは３００〜４０００質量部、より好ましくは３００〜３０００質量部を用いる。溶剤（Ｃ）と溶剤（Ｄ）の配合比は、１：９９〜９９：１の範囲で任意に選択することができる。
【００８９】
（Ｅ）少なくとも２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する多官能（メタ）アクリレート化合物、及び／又は、少なくとも１個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する含フッ素（メタ）アクリレート化合物
少なくとも２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する多官能（メタ）アクリレート化合物（Ｅ−１）は、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物及びそれを用いた反射防止膜の耐擦傷性を高めるために用いられる。
少なくとも１個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する含フッ素（メタ）アクリレート化合物（Ｅ−２）は、紫外線硬化性樹脂組成物の屈折率を低下させるために用いられる。
【００９０】
化合物（Ｅ−１）については、分子内に少なくとも２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物であれば特に制限されるものではない。このような例としては、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、「Ｕ−１５ＨＡ」（商品名、新中村化学社製）等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。尚、これらのうち、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００９１】
化合物（Ｅ−２）については、少なくとも１個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する含フッ素（メタ）アクリレート化合物であれば特に制限されるものではない。このような例として、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００９２】
紫外線硬化性樹脂組成物中における成分（Ｅ）の含有量については、特に制限されるものではないが、有機溶剤を除く組成物全量１００質量％に対して、通常５〜８０質量％である。この理由は、添加量が５質量％未満となると、硬化性樹脂組成物の硬化塗膜の耐擦傷性が得られない場合があるためであり、一方、添加量が８０質量％を超えると、硬化性樹脂組成物の硬化塗膜の屈折率が高くなり、十分な反射防止効果が得られない場合があるためである。また、このような理由から、成分（Ｅ）の添加量を５〜７０質量％とするのがより好ましく、５〜５０質量％の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
【００９３】
（Ｆ）光ラジカル重合開始剤
紫外線硬化性樹脂組成物においては、必要に応じて、放射線（光）照射により活性ラジカル種を発生させる（Ｆ）光ラジカル重合開始剤（放射線（光）重合開始剤）を配合することができる。
【００９４】
放射線（光）重合開始剤としては、光照射により分解してラジカルを発生して重合を開始せしめるものであれば特に制限はなく、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１，４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）等を挙げることができる。
【００９５】
放射線（光）重合開始剤の市販品としては、例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製 商品名：イルガキュア １８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５０、ＣＧ２４−６１、ダロキュア １１１６、１１７３、ＢＡＳＦ社製 商品名：ルシリン ＴＰＯ、ＵＣＢ社製 商品名：ユベクリル Ｐ３６、フラテツリ・ランベルティ社製 商品名：エザキュアー ＫＩＰ１５０、ＫＩＰ６５ＬＴ、ＫＩＰ１００Ｆ、ＫＴ３７、ＫＴ５５、ＫＴＯ４６、ＫＩＰ７５／Ｂ等を挙げることができる。
【００９６】
本発明において必要に応じて用いられる光ラジカル重合開始剤（Ｆ）の配合量は、有機溶剤を除く組成物全量を１００質量％として、０．０１〜１０質量％配合することが好ましく、０．１〜１０質量％が、さらに好ましい。０．０１質量％未満であると、硬化物としたときの硬度が不十分となることがあり、１０質量％を超えると、硬化物としたときに内部（下層）まで硬化しないことがある。
【００９７】
（Ｇ）その他の成分
硬化性組成物には、本発明の効果を損なわない限り、必要に応じて、光増感剤、重合禁止剤、重合開始助剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、無機充填剤、顔料、染料、溶剤（Ｃ）及び（Ｄ）以外の溶剤等を適宜配合できる。
【００９８】
２．紫外線硬化性樹脂組成物の製造方法
組成物は、次のようにして製造できる。
金属酸化物粒子分散液（（Ａ）成分）、エチレン性不飽和基含有フッ素重合体（（Ｂ）成分）、エチレン性不飽和基含有フッ素重合体に対する溶解性が高い溶剤（（Ｃ）溶剤）、及び、金属酸化物粒子に対する分散安定性が高くかつ（Ｃ）の溶剤と相溶性である溶剤（（Ｄ）溶剤）、必要に応じて、多官能(メタ)アクリレート（（Ｅ）成分）、放射線（光）重合開始剤（（Ｆ）成分）等を攪拌機付きの反応容器に入れ３５℃〜４５℃で２時間攪拌し紫外線硬化性樹脂組成物とする。
溶剤を最初の粒子分散液に使用した溶剤(α)と異なる種類の溶剤(β)に置換する場合は、粒子分散液の溶剤（α）の質量に対して１．０倍の溶剤(β)も加え同様の条件で攪拌する。次にこの組成液を、ロータリーエバポレーターを用いて固形分濃度５０％となる質量まで減圧濃縮し組成物とする。
【００９９】
３．紫外線硬化性樹脂組成物の塗布（コーティング）方法
紫外線硬化性樹脂組成物は反射防止膜や被覆材の用途に好適であり、反射防止や被覆の対象となる基材としては、例えば、プラスチック（ポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリオレフィン、エポキシ、メラミン、トリアセチルセルロース、ＡＢＳ、ＡＳ、ノルボルネン系樹脂等）、金属、木材、紙、ガラス、スレート等を挙げることができる。これら基材の形状は板状、フィルム状又は３次元成形体でもよく、コーティング方法は、通常のコーティング方法、例えばディッピングコート、スプレーコート、フローコート、シャワーコート、ロールコート、スピンコート、刷毛塗り等を挙げることができる。これらのコーティングによる塗膜の厚さは、乾燥、硬化後、通常０．１〜４００μｍであり、好ましくは、１〜２００μｍである。
【０１００】
４．紫外線硬化性樹脂組成物の硬化方法
紫外線硬化性樹脂組成物は、放射線（光）によって硬化させることができる。その線源としては、組成物をコーティング後短時間で硬化させることができるものである限り特に制限はないが、例えば、赤外線の線源として、ランプ、抵抗加熱板、レーザー等を、また可視光線の線源として、日光、ランプ、蛍光灯、レーザー等を、また紫外線の線源として、水銀ランプ、ハライドランプ、レーザー等を、また電子線の線源として、市販されているタングステンフィラメントから発生する熱電子を利用する方式、金属に高電圧パルスを通じて発生させる冷陰極方式及びイオン化したガス状分子と金属電極との衝突により発生する２次電子を利用する２次電子方式を挙げることができる。また、アルファ線、ベータ線及びガンマ線の線源として、例えば、Ｃｏ６０等の核分裂物質を挙げることができ、ガンマ線については加速電子を陽極へ衝突させる真空管等を利用することができる。これら放射線は１種単独で又は２種以上を同時に又は一定期間をおいて照射することができる。
【０１０１】
活性エネルギー線を用いた場合、露光量を０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ2 の範囲内の値とするのが好ましい。この理由は、露光量が０．０１Ｊ／ｃｍ2 未満となると、硬化不良が生じる場合があるためであり、一方、露光量が１０Ｊ／ｃｍ2 を超えると、硬化時間が過度に長くなる場合があるためである。また、このような理由により、露光量を０．１〜５Ｊ／ｃｍ2 の範囲内の値とするのがより好ましく、０．３〜３Ｊ／ｃｍ2の範囲内の値とするのがより好ましい。
【０１０２】
紫外線硬化性樹脂組成物の硬化反応は、窒素等の嫌気的条件下において行う必要がある。その理由は酸素によりラジカル重合が阻害される結果、硬化反応が不十分となるからである。
【０１０３】
硬化膜は、上記紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させて得られ、２層以上の多層構造を有することを特徴とする。特に、上記（Ａ）金属酸化物粒子が高密度に存在する１以上の層と、上記（Ａ）成分の粒子が実質的に存在しない１以下の層からなる二層以上の層構造を有していることが好ましい。
【０１０４】
硬化膜は、前記紫外線硬化性樹脂組成物を種々の基材、例えば、プラスチック基材にコーティングして硬化させることにより得ることができる。具体的には、組成物をコーティングし、好ましくは、０〜２００℃で揮発成分を乾燥させた後、上述の、放射線で硬化処理を行うことにより被覆成形体として得ることができる。そのような場合、好ましい紫外線の照射光量は０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ２であり、より好ましくは、０．１〜２Ｊ／ｃｍ２である。また、好ましい電子線の照射条件は、加圧電圧は１０〜３００ＫＶ、電子密度は０．０２〜０．３０ｍＡ／ｃｍ２であり、電子線照射量は１〜１０Ｍｒａｄである。
【０１０５】
紫外線硬化性樹脂組成物を塗布後、組成物中の溶剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）が蒸発して乾燥する過程において、（Ａ）成分の粒子が塗布下地側（隣接層との境界付近）又はその反対側に偏在化する。そのため、硬化膜の一方の界面付近では、（Ａ）成分の粒子が高密度で存在し、硬化膜の他方の界面付近では、（Ａ）成分の粒子が実質的に存在しないため、低屈折率の樹脂層が形成される。従って、紫外線硬化性樹脂組成物からなる一の塗膜を硬化させることにより、実質的に二層以上の層構造を有する硬化膜が得られる。これらの分離して形成される各層は、例えば、得られた膜の断面を電子顕微鏡で観察することにより確認することができる。（Ａ）成分の粒子が高密度に存在する層とは、（Ａ）成分の粒子が集合している部分を指す概念であり、実質的に（Ａ）成分の粒子を主成分として構成された層であるが、層内部に（Ｂ）成分等が共存する場合がある。他方、（Ａ）成分の粒子が実質的に存在しない層とは、（Ａ）成分の粒子が存在しない部分を指す概念であるが、本発明の効果を損なわない範囲で（Ａ）成分の粒子が若干含まれていてもよい。この層は、実質的に（Ｂ）成分と（Ｅ）成分の硬化物等の（Ａ）成分の粒子以外の成分から構成された層である。硬化膜は、多くの場合、（Ａ）成分の粒子が高密度に存在する層と（Ａ）成分の粒子が実質的に存在しない層がそれぞれ連続した層を形成した二層構造を有する。基材にＰＥＴ樹脂（易接着層を有するＰＥＴ樹脂を含む）等を用いた場合、通常は、基材である層、（Ａ）成分の粒子が高密度に存在する層、（Ａ）成分の粒子が実質的に存在しない層が、この順番に隣接して形成される。
【０１０６】
ここで、二層以上の層構造とは、「（Ａ）成分の粒子が高密度に存在する層」と、「（Ａ）成分の粒子が実質的に存在しない層」の両者を共に含む２以上の層からなる場合もあり、また、二以上の「金属酸化物粒子が高密度に存在する層」のみからなる場合がある。
【０１０７】
紫外線硬化性樹脂組成物が２種以上の（Ａ）成分の粒子を含むときは、「（Ａ）成分の粒子が高密度に存在する層」が２以上形成され得る。さらに、「（Ａ）成分の粒子が高密度に存在する層」の「（Ａ）成分の粒子」は、少なくとも１種、即ち、１種又は２種以上の「（Ａ）成分の粒子」を意味する。紫外線硬化性樹脂組成物が２種以上の（Ａ）成分の粒子を含む場合、一つの「（Ａ）成分の粒子が高密度に存在する層」が、２種類以上の（Ａ）成分の粒子から構成されていてもよい。
【０１０８】
紫外線硬化性樹脂組成物中の（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体は、熱硬化性樹脂（例えば、メラミン化合物）に比べて屈折率が低く、反射防止膜の低屈折率層として好ましい光学的特性を有している。そして、（Ａ）金属酸化物粒子として、屈折率の高い金属酸化物粒子を用いることにより、さらに良好な反射防止膜を形成することができる。
【０１０９】
硬化膜は、高硬度であるとともに、耐擦傷性並びに基材及び基材や低屈折率層等の隣接層との密着性に優れた塗膜（被膜）を形成し得る特徴を有している。また、硬化反応に熱を用いないため、熱硬化反応で生じる加水分解反応を伴わないので、得られる硬化膜の耐湿熱性に優れている。従って、硬化膜は、フィルム型液晶素子、タッチパネル、プラスチック光学部品等の反射防止膜等に特に好適に用いられる。
【０１１０】
屈折率の変化の程度は、（Ａ）成分の含有量、種類、（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体の含有量、組成、及び（Ｅ）成分（硬化性化合物）の含有量、種類等により調整できる。
また、硬化膜の低屈折率部分における屈折率は、例えば、１．２０〜１．５５であり、高屈折率部分における屈折率は、１．５０〜２．２０である。
【実施例】
【０１１１】
以下の説明において「部」又は「％」は特記されていない限り「質量部」又は「質量％」を示す。
製造例１
（１）重合性不飽和基を有する有機化合物の合成
攪拌機付きの容器内のメルカプトプロピルトリメトキシシラン２２１部及びジブチルスズジラウレート１部の混合溶液に、イソホロンジイソシアネート２２２部を、乾燥空気中、５０℃で１時間かけて滴下した後、さらに７０℃で３時間攪拌した。
続いて、この反応溶液中に新中村化学製ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ（ペンタエリスリトールトリアクリレート６０質量％とペンタエリスリトールテトラアクリレート４０質量％からなる。このうち、反応に関与するのは、水酸基を有するペンタエリスリトールトリアクリレートのみである。）５４９部を３０℃で１時間かけて滴下した後、さらに６０℃で１０時間攪拌して反応液を得た。
この反応液中の生成物、すなわち、重合性不飽和基を有する有機化合物における残存イソシアネート量をＦＴ−ＩＲで測定したところ、０．１質量％以下であり、各反応がほぼ定量的に行われたことを確認した。生成物の赤外吸収スペクトルは原料中のメルカプト基に特徴的な２５５０カイザ−の吸収ピ−ク及び原料イソシアネ−ト化合物に特徴的な２２６０カイザ−の吸収ピ−クが消失し、新たにウレタン結合及びＳ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−基に特徴的な１６６０カイザ−のピ−ク及びアクリロキシ基に特徴的な１７２０カイザ−のピ−クが観察され、重合性不飽和基としてのアクリロキシ基と−Ｓ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−、ウレタン結合を共に有するアクリロキシ基修飾アルコキシシランが生成していることを示した。以上により、チオウレタン結合と、ウレタン結合と、アルコキシシリル基と、重合性不飽和基とを有する化合物（下記式で示される化合物）７７３部と反応に関与しなかったペンタエリスリトールテトラアクリレート２２０部の組成物（Ａ＃１）を得た。
【化２３】
［式中、「Ａｃｒｙｌ」は、アクリロイル基を示す。「Ｍｅ」はメチル基を示す。］
【０１１２】
製造例２
（２）ウレタンアクリレートの合成
攪拌機付きの容器内のイソホロンジイソシアネート１８．８部と、ジブチル錫ジラウレート０．２部とからなる溶液に対し、新中村化学製ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ（反応に関与するのは、水酸基を有するペンタエリスリトールトリアクリレートのみである。）９３部を、１０℃、１時間の条件で滴下した後、６０℃、６時間の条件で攪拌し、反応液とした。
この反応液中の生成物、即ち、製造例１と同様にして残存イソシアネート量をＦＴ−ＩＲで測定したところ、０．１質量％以下であり、反応がほぼ定量的に行われたことを確認した。また、分子内に、ウレタン結合、及びアクリロイル基（重合性不飽和基）とを含むことを確認した。
以上により、ウレタンヘキサアクリレート化合物が７５部得られたほか、反応に関与しなかったペンタエリスリトールテトラアクリレート３７部が混在している組成物（Ａ＃２）を得た。
【０１１３】
製造例３
［シリカ粒子含有ハードコート層用組成物の調製］
製造例１で製造した重合性不飽和基を含む組成物（Ａ＃１）２．３２部、シリカ粒子ゾル（メチルエチルケトンシリカゾル、日産化学工業（株）製ＭＥＫ−ＳＴ、数平均粒子径０．０２２μｍ、シリカ濃度３０％）９１．３部（シリカ粒子として２７部）、イオン交換水０．１２部、及びｐ−ヒドロキシフェニルモノメチルエーテル０．０１部の混合液を、６０℃、４時間攪拌後、オルト蟻酸メチルエステル１．３６部を添加し、さらに１時間同一温度で加熱攪拌することで粒子（分散液（Ａ＃３））を得た。この分散液（Ａ＃３）をアルミ皿に２ｇ秤量後、１７５℃のホットプレート上で１時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、３０．７％であった。また、分散液（Ａ＃３）を磁性るつぼに２ｇ秤量後、８０℃のホットプレート上で３０分予備乾燥し、７５０℃のマッフル炉中で１時間焼成した後の無機残渣より、固形分中の無機含量を求めたところ、９０％であった。
【０１１４】
この分散液（Ａ＃３）９８．６ｇ、組成物（Ａ＃２）３．４ｇ、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン２．１ｇ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）１．２ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）３３．２ｇ、シクロヘキサノン７ｇを混合攪拌し、シリカ粒子含有ハードコート層用組成物（固形分濃度５０％）を１４５ｇ得た。
【０１１５】
製造例４
［ジルコニア粒子含有組成物の調製］
第一稀元素化学工業（株）製、ＵＥＰ−１００（一次粒径１０〜３０ｎｍ）３００部をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）７００部に添加し、ガラスビーズにて１６８時間分散を行い、ガラスビーズを除去してジルコニア分散ゾル９５０部を得た。ジルコニア分散ゾルをアルミ皿に２ｇ秤量後、１２０℃のホットプレート上で１時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ３０％であった。このジルコニア分散ゾル１００ｇに、製造例１で合成した組成物（Ａ＃１）０．８６ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）１３．４ｇ、ｐ−メトキシフェノール０．０１６ｇ、イオン交換水０．０３３ｇの混合液を６０℃、３時間撹拌後、オルト蟻酸メチルエステル０．３３２ｇを添加してさらに１時間同一温度で加熱撹拌することで、表面変性ジルコニア粒子の分散液１１６ｇを得た。この分散液１１６ｇ、組成物（Ａ＃２）１．３４ｇ、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン１．２６ｇ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）０．７６ｇ、ＭＥＫ２８４６ｇを混合攪拌し、ジルコニア粒子含有組成物（固形分濃度４％）を２９６４ｇ得た。
【０１１６】
製造例５
［水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の製造］
内容積１．５Ｌの電磁攪拌機付きステンレス製オートクレーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル５００ｇ、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）４３．２ｇ、エチルビニルエーテル４１．２ｇ、ヒドロキシエチルビニルエーテル２１．５ｇ、ノニオン性反応性乳化剤として「アデカリアソープＮＥ−３０」（旭電化工業株式会社製）４０．５ｇ、アゾ基含有ポリジメチルシロキサンとして「ＶＰＳ−１００１」（和光純薬工業株式会社製）６．０ｇ及び過酸化ラウロイル１．２５ｇを加え、ドライアイス−メタノールで−５０℃まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。
次いでヘキサフルオロプロピレン９７．４ｇを加え、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が６０℃に達した時点での圧力は５．３×１０５Ｐａを示した。その後、７０℃で２０時間攪拌下に反応を継続し、圧力が１．７×１０５Ｐａに低下した時点でオートクレーブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放出しオートクレーブを開放し、固形分濃度２６．４％のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液をメタノールに投入しポリマーを析出させた後、メタノールにて洗浄し、５０℃にて真空乾燥を行い２２０ｇの含フッ素重合体（Ｂ−２）を得た。
【０１１７】
製造例６
［エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体（Ｂ１）の製造］
電磁攪拌機、ガラス製冷却管及び温度計を備えた容量１リットルのセパラブルフラスコに、製造例９で得られた水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）を５０.０ｇ、重合禁止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチルメチルフェノール０．０１ｇ及びＭＩＢＫ３７４ｇを仕込み、２０℃で水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）がＭＩＢＫに溶解して、溶液が透明、均一になるまで攪拌を行った。次いで、この系に、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート１６．０ｇを添加し、溶液が均一になるまで攪拌した後、ジブチルチンジラウレート０．１ｇを添加して反応を開始し、系の温度を５５〜６５℃に保持し５時間攪拌を継続することにより、エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体（Ｂ１）のＭＩＢＫ溶液を得た。この溶液をアルミ皿に２ｇ秤量後、１５０℃のホットプレート上で５分間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、１５．０％であった。
【０１１８】
製造例７
［紫外線硬化性樹脂組成物１の調製］
ＩＴＯ粒子ゾル１１０ｇ（ＮＩＤ−２０、富士化学製、ＩＴＯ分散液（ＩＰＡ溶液）、粒子として５０．０ｇ）、製造例６で得られたエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体（Ｂ１）２０７．２ｇ（エチレン性不飽和基含有フッ素重合体として３１．０８ｇ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）１６．４６ｇ、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン（イルガキュア３６９、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、光ラジカル重合開始剤）２．４６ｇ、メチルエチルケトン１７８ｇ、メチルイソブチルケトン１１８ｇ、ノルマルブタノール８４ｇ、メチルアミルケトン８４ｇを加え攪拌した。得られた紫外線硬化性樹脂組成物の固形分濃度は１０．６％であった。配合した溶剤比を表２に示す。
【０１１９】
製造例８〜１２
［紫外線硬化性樹脂組成物２〜６の調製］
各成分を表１に示す割合で配合した以外は製造例７と同様にして紫外線硬化性樹脂組成物２〜６を得た。
【０１２０】
実施例１
［積層体の作製］
（１）ハードコート層の作製
製造例３で調製したシリカ粒子含有ハードコート層用組成物（固形分濃度５０％）を、ワイヤーバーコータ（＃１２）を用いて、トリアセチルセルロースフィルム（ＬＯＦＯ製、膜厚８０μｍ）に塗工した後、オーブン中８０℃で１分間乾燥した。続いて、空気下、高圧水銀ランプを用いて、０．６Ｊ／ｃｍ２の光照射条件で紫外線を照射することにより、硬化膜層を形成した。硬化膜層の膜厚を触針式膜厚計にて測定したところ５μｍであった。
【０１２１】
（２）中屈折率層の作製
製造例４で調製したジルコニア粒子含有組成物（固形分濃度４％）を、ワイヤーバーコーター（＃３）を用いて、（１）で作製したハードコート層上に塗工した後、オーブン中８０℃で１分間乾燥した。続いて、窒素雰囲気下、高圧水銀ランプを用いて、０．６Ｊ／ｃｍ２の光照射条件で紫外線を照射することにより、硬化膜層を形成した。硬化膜層の膜厚を反射分光計にて算出したところ６５ｎｍであった。
【０１２２】
（３）高屈折率層と低屈折率層の作製
製造例７〜１２で得られた紫外線硬化性樹脂組成物１〜６を、それぞれ、ワイヤーバーコータ（＃３）を用いて、（２）で作製した中屈折率層上に塗工した後、オーブン中１４０℃で２分間乾燥し、大気下、オーク製作所製コンベア式水銀ランプを用い、０．６Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照射することにより、膜厚が０．２μｍの硬化膜層を形成した。
【０１２３】
実施例２
［積層体の作製］
（１）ハードコート層の作製
実施例１（１）と同様にして作製した。
（２）高屈折率層と低屈折率層の作製
製造例７〜１２で得られた紫外線硬化性樹脂組成物１〜６を、それぞれ、ワイヤーバーコータ（＃３）を用いて、（１）で作製したハードコート層上に塗工した後、オーブン中１４０℃で２分間乾燥し、大気下、オーク製作所製コンベア式水銀ランプを用い、０．６Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照射することにより、膜厚が０．２μｍの硬化膜層を形成した。
【０１２４】
評価例１
［積層体の評価］
実施例１、２で得られた積層体の断面を、透過型電子顕微鏡で観察したところ、何れの積層体においても、低屈折率層と高屈折率層が２層に層分離していることが確認された（ハードコート層側が高屈折率層）。このとき、低屈折率層が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層であり、高屈折率層が金属酸化物粒子が高密度に存在する層であった。
得られた反射防止用積層体の反射防止性を、分光反射率測定装置（大型試料室積分球付属装置１５０−０９０９０を組み込んだ自記分光光度計Ｕ−３４１０、日立製作所（株）製）により、波長５５０ｎｍの反射率を測定して評価した。具体的には、アルミの蒸着膜における反射率を基準（１００％）として、反射防止用積層体（反射防止膜）の反射率を測定した。その結果、何れの積層体も波長５５０ｎｍにおける反射率が１％以下であった。
【０１２５】
【表１】
【０１２６】
表１中の略称等は、下記のものを示す。
ＤＰＰＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレート；ＵＶ硬化性架橋剤（５官能）
イルガキュア３６９：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、光重合開始剤
【０１２７】
【表２】
【産業上の利用可能性】
【０１２８】
本発明の積層体の製造方法は、１の塗膜から、２以上の層を形成することができるため、二層以上の多層構造を有する積層体の製造工程を簡略化できる。従って、本発明の積層体の製造方法は、特に、反射防止膜、レンズ、選択透過膜フィルタ等の光学材料の形成に有利に用いることができる。また、得られる積層体は、フッ素含量が高い層を含むことができることを利用して、耐候性が要求される基材に対する塗料、耐候フィルム、コーティング、その他として好適に使用することができる。しかも、当該積層体は、基材に対する密着性に優れ、耐擦傷性が高く、帯電防止性を有し、良好な反射防止効果を付与することから、反射防止膜として極めて有用であり、各種の表示装置に適用することにより、その視認性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１２９】
【図１Ａ】「１の塗膜から形成される２以上の層」を説明するための図である。
【図１Ｂ】「１の塗膜から形成される２以上の層」を説明するための図である。
【図１Ｃ】「１の塗膜から形成される２以上の層」を説明するための図である。
【図１Ｄ】「１の塗膜から形成される２以上の層」を説明するための図である。
【図１Ｅ】「１の塗膜から形成される２以上の層」を説明するための図である。
【図２】本発明に係る一実施形態である反射防止膜の断面図である。
【図３】本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。
【図４】本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。
【図５】本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。
【図６】本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。
【図７】本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。
【図８】本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。
【図９】本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。
【図１０】本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。
【符号の説明】
【０１３０】
１０ 基材
２０ ハードコート層
３０ 帯電防止層
４０ 高屈折率層
５０ 低屈折率層
６０ 中屈折率層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体に関し、特に、２以上の層を１の塗膜から形成することができる積層体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、マルチメディアの発達に伴い、各種の表示装置（ディスプレイ装置）において種々の発展が見られている。そして、各種の表示装置のうち、特に、携帯用を中心に屋外で使用されるものでは、その視認性の向上がますます重要となってきており、大型表示装置においても、より見易くすることが需要者に要求されており、この事項がそのまま技術課題となっている。
【０００３】
従来、表示装置の視認性を向上させるための一手段として、低屈折率材料から構成される反射防止膜を、表示装置の基板に被覆することが行われており、反射防止膜を形成する方法としては、例えば、フッ素化合物の薄膜を蒸着法により形成する方法が知られている。然るに、近年では、液晶表示装置を中心として、低いコストで、しかも大型の表示装置に対しても、反射防止膜を形成することのできる技術が求められている。しかしながら、蒸着法による場合には、大面積の基板に対して、高い効率で均一な反射防止膜を形成することが困難であり、しかも真空装置を必要とするために、コストを低くすることが困難である。
【０００４】
このような事情から、屈折率の低いフッ素系重合体を有機溶剤に溶解して液状の組成物を調製し、これを基板の表面に塗布することによって反射防止膜を形成する方法が検討されている。例えば、基板の表面にフッ素化アルキルシランを塗布することが提案されている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。また、特定の構造を有するフッ素系重合体を塗布する方法が提案されている（例えば、特許文献３参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開昭６１−４０８４５号公報
【特許文献２】特公平６−９８７０３号公報
【特許文献３】特開平６−１１５０２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
これら従来の反射防止膜は、基材上に、異なった屈折率の層、帯電防止層、ハードコート層等が形成された積層体であることが多い。従来の製造方法では、基材上に、各層をそれぞれ塗布する工程を繰り返していた。
本発明は、以上のような状況を背景としてなされたものであって、その目的は、組成物を塗布して得られる１の塗膜から２以上の層を形成できる積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体を提供することにある。また、本発明の他の目的は、良好な反射防止効果を有する積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体を提供することにある。さらに、本発明の他の目的は、基材に対する密着性に優れ、耐擦傷性が高い積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によれば、以下の積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体を提供できる。
１．基材と、その上に多層構造を有する積層体の製造方法であって、
前記基材上又は基材上に形成された層の上に、下記成分（Ａ）〜（Ｄ）を含む紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、
この１の塗膜から溶媒を蒸発させることにより、２以上の層を形成することを特徴とする積層体の製造方法。
［紫外線硬化性樹脂組成物］
（Ａ）金属酸化物粒子
（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体
（Ｃ）（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が高い溶剤
（Ｄ）（Ａ）金属酸化物粒子に対する分散安定性が高く、かつ、（Ｃ）の溶剤と相溶性である溶剤
かつ、（Ｃ）の溶剤の相対蒸発速度が、（Ｄ）の溶剤の相対蒸発速度よりも大きい
２．前記２以上の層の各層が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層又は金属酸化物粒子が実質的に存在しない層であって、少なくとも１層は金属酸化物粒子が高密度に存在する層であることを特徴とする１に記載の積層体の製造方法。
３．前記２以上の層が、２層であることを特徴とする２に記載の積層体の製造方法。
４．さらに、前記２以上の層を放射線照射することにより硬化させることを特徴とする１〜３のいずれかに記載の積層体の製造方法。
５．積層体が光学用部品であることを特徴とする１〜４のいずれかに記載の積層体の製造方法。
６．積層体が反射防止膜であることを特徴とする１〜４のいずれかに記載の積層体の製造方法。
７．前記積層体が、基材上に、少なくとも、高屈折率層及び低屈折率層が、基材に近い側からこの順に積層されている反射防止膜であり、３に記載の２層が、
高屈折率層及び
低屈折率層からなる
ことを特徴とする３に記載の積層体の製造方法。
８．低屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．２０〜１．５５であり、
高屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．５０〜２．２０であって、低屈折率層の屈折率より高いことを特徴とする７に記載の積層体の製造方法。
９．前記積層体が、基材上に、少なくとも、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層が、基材に近い側からこの順に積層されている反射防止膜であり、３に記載の２層が
高屈折率層及び
低屈折率層からなる
ことを特徴とする３に記載の積層体の製造方法。
１０．低屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．２０〜１．５５であり、
中屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．５０〜１．９０であって、低屈折率層の屈折率より高く、
高屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．５１〜２．２０であって、中屈折率層の屈折率より高いことを特徴とする９に記載の積層体の製造方法。
１１．さらに、基材上に、ハードコート層及び／又は帯電防止層を形成することを特徴とする７〜１０のいずれかに記載の積層体の製造方法。
１２．前記（Ａ）金属酸化物粒子が、導電性を有する粒子であることを特徴とする１〜１１のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
１３．前記（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体が、１個のイソシアネート基と、少なくとも１個のエチレン性不飽和基とを含有する化合物（Ｂ−１）と、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）と、を反応させて得られることを特徴とする１〜１２のいずれかに記載の積層体の製造方法。
１４．前記水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）が、下記構造単位（ａ）２０〜７０モル％、（ｂ）１０〜７０モル％及び（ｃ）５〜７０モル％を含んでなり、かつ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算数平均分子量が５，０００〜５００，０００である１３に記載の積層体の製造方法。
（ａ）下記一般式（１）で表される構造単位。
（ｂ）下記一般式（２）で表される構造単位。
（ｃ）下記一般式（３）で表される構造単位。
【化７】
［式中、Ｒ1 はフッ素原子、フルオロアルキル基、又は−ＯＲ2 で表される基（Ｒ2 はアルキル基、又はフルオロアルキル基を示す）を示す］
【化８】
［式中、Ｒ3 は水素原子又はメチル基を、Ｒ4 はアルキル基、−(ＣＨ2)x−ＯＲ5
若しくは−ＯＣＯＲ5 で表される基（Ｒ5 はアルキル基、又はグリシジル基を、ｘは０又は１の数を示す）、カルボキシル基、又はアルコキシカルボニル基を示す］
【化９】
［式中、Ｒ6 は水素原子、又はメチル基を、Ｒ7 は水素原子、又はヒドロキシアルキル基を、ｖは０又は１の数を示す］
１５．さらに、前記水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）が、アゾ基含有ポリシロキサン化合物に由来する下記構造単位（ｄ）０．１〜１０モル％を含む１３又は１４に記載の積層体の製造方法。
（ｄ）下記一般式（４）で表される構造単位。
【化１０】
［式中、Ｒ8 及びＲ9 は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はアリール基を示す］
１６．前記水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）が、前記構造単位（ｄ）を下記構造単位（ｅ）の一部として含むことを特徴とする１５に記載の積層体の製造方法。
（ｅ）下記一般式（５）で表される構造単位。
【化１１】
［式中、Ｒ10 〜Ｒ13 は水素原子、アルキル基、又はシアノ基を示し、Ｒ14 〜Ｒ17
は水素原子又はアルキル基を示し、ｐ、ｑは１〜６の数、ｓ、ｔは０〜６の数、ｙは１〜２００の数を示す。］
１７．さらに、前記水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）が、下記構造単位（ｆ）０．１〜５モル％を含む１３〜１６のいずれかに記載の積層体の製造方法。
（ｆ）下記一般式（６）で表される構造単位。
【化１２】
［式中、Ｒ18 は乳化作用を有する基を示す］
１８．前記化合物（Ｂ−１）が、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネートである１３〜１７のいずれかに記載の積層体の製造方法。
１９．紫外線硬化性樹脂組成物の（Ｃ）の溶剤は、（Ａ）金属酸化物粒子に対する分散安定性が低い溶剤であり、（Ｄ）の溶剤は、（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が低い溶剤であることを特徴とする１〜１８のいずれかに記載の積層体の製造方法。
２０．紫外線硬化性樹脂組成物が、さらに、成分（Ｅ）少なくとも２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する多官能（メタ）アクリレート化合物及び／又は少なくとも１個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する含フッ素（メタ）アクリレート化合物を含有することを特徴とする１〜１９のいずれかに記載の積層体の製造方法。
２１．紫外線硬化性樹脂組成物が、さらに、成分（Ｆ）光ラジカル重合開始剤を含むことを特徴とする１〜２０のいずれかに記載の積層体の製造方法。
２２．１〜２１のいずれかに記載された積層体の製造方法により、製造された積層体。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の積層体の製造方法は、組成物を塗布して得られる１の塗膜から、２以上の層を形成することができるため、多層構造を有する積層体の製造工程を簡略化できる。従って、本発明の積層体の製造方法は、特に、反射防止膜、光学フィルタ等の光学材料の形成に有利に用いることができる。また、本発明の積層体は、フッ素含量が高いことを利用して、耐候性が要求される基材に対する塗料、耐候フィルム、コーティング、その他として好適に使用することができる。しかも、当該積層体は、最外層（基材から最も遠い層）に低屈折率層を設けることにより良好な反射防止効果を付与する。また、本発明によれば、基材に対する密着性に優れ、耐擦傷性が高く、帯電防止性を有する積層体が得られる。これらのことから、本発明の積層体は反射防止膜として極めて有用であり、各種の表示装置に適用することにより、その視認性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明は、基材と、その上に２層以上の多層構造を有する積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体である。具体的には、本発明の製造方法では、基材上又は基材上に形成された層の上に、後述する所定の紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して得られる１の塗膜から溶媒を蒸発させる（以下、溶媒を蒸発させることを「乾燥」と言うこともある。）ことにより、２以上の層を形成する。なお、乾燥後は溶媒が完全に無くなった状態でなくてもよく、硬化膜としての特性が得られる範囲で溶媒が残存していてもよい。また、本発明では、１の塗膜から２以上の層の形成を、２回以上実施することができる。
【００１０】
特定の紫外線硬化性樹脂組成物を通常の方法で塗布し、その後乾燥させると、２以上の層に分離する。ここで、２以上の層とは、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層」と、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層」を共に含む２以上の層である場合もあり、また、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層」だけからなる２以上の層である場合もある。
以下、図面を用いて「２以上の層の各層が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層又は金属酸化物粒子が実質的に存在しない層であって、少なくとも１層は金属酸化物粒子が高密度に存在する層」について説明する。図１Ａは、２以上の層が、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層１」と、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層３」の２層である場合を示す。図１Ｂは、２以上の層が、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層１，１ａ」の２層である場合を示す。図１Ｃは、２以上の層が、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層１，１ａ」と、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層３」の３層である場合を示す。図１Ｄは、２以上の層が、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層１，１ａ」と、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層３」の３層である場合を示す。図１Ｅは、２以上の層が、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層１ｂ」と、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層３」の２層である場合を示す。
紫外線硬化性樹脂組成物が２種以上の金属酸化物粒子を含むときは、図１Ｂ，１Ｃ，１Ｄに示すように、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層」が２種類以上形成され得る。
【００１１】
さらに、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層」の「金属酸化物粒子」は、少なくとも１種、即ち、１種又は２種以上の「金属酸化物粒子」を意味する。紫外線硬化性樹脂組成物が２種以上の金属酸化物粒子を含む場合、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層」が、２種以上の金属酸化物粒子から構成されていてよい（例えば、図１Ｅ）。図１Ｅでは、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層１ｂ」が、粒子Ｘと粒子Ｙから構成されている。粒子Ｙが、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層１ｂ」の厚さより大きいため、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層３」に突出しているが、この突出部分も「金属酸化物粒子が高密度に存在する層１ｂ」に含まれる。
【００１２】
尚、図１Ａ〜１Ｅでは、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層３」には通常金属酸化物粒子が存在していないが、本発明の効果を損なわない範囲で若干含まれていてもよい。また、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層１，１ａ，１ｂ」も同様に金属酸化物粒子以外の他の物質が含まれていてもよい。
【００１３】
紫外線硬化性樹脂組成物の塗布法としては、公知の塗布方法を使用することができ、特に、ディップ法、コーター法、印刷法等各種の方法を適用することができる。
乾燥は、通常、室温から１００℃程度の加熱で、１〜６０分程度実施される。
具体的な硬化条件は後述する。
【００１４】
本発明では、紫外線硬化性樹脂組成物を溶液状で各種の基材に塗布し、得られた塗膜を乾燥／硬化させて積層体を得ることができる。例えば、基材が透明基材の場合には、最外層に低屈折率層を設けることにより優れた反射防止膜が形成される。
反射防止膜の具体的構造は、通常、基材及び低屈折率膜、又は基材、高屈折率膜及び低屈折率膜をこの順に積層したものである。この他、基材、高屈折率膜及び低屈折率膜の間に、他の層を介在させてもよく、例えば、ハードコート層、帯電防止層、中屈折率層、低屈折率層、高屈折率層の組み合わせ等の層を設けることができる。
【００１５】
図２〜１０は本発明の実施形態である反射防止膜を示す。
図２は、基材１０上に、高屈折率層４０及び低屈折率層５０が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層４０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層５０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本実施形態によれば、高屈折率層４０と低屈折率層５０を、１の塗膜から、形成できる。
【００１６】
図３は、基材１０上に、ハードコート層２０、帯電防止層３０、高屈折率層４０及び低屈折率層５０が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層４０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層５０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本実施形態によれば、高屈折率層４０と低屈折率層５０を、１の塗膜から、形成できる。
【００１７】
図４は、基材１０上に、帯電防止層３０、ハードコート層２０、高屈折率層４０及び低屈折率層５０が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層４０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層５０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本実施形態によれば、高屈折率層４０と低屈折率層５０を、１の塗膜から、形成できる。
【００１８】
図５は、基材１０上に、ハードコート層２０、帯電防止層３０、中屈折率層６０、高屈折率層４０及び低屈折率層５０が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層４０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層５０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。或いは、中屈折率層６０、及び高屈折率層４０が何れも金属酸化物粒子が高密度に存在する層に相当するか、または、中屈折率層６０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、高屈折率層４０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本実施形態によれば、中屈折率層６０と高屈折率層４０、又は、高屈折率層４０と低屈折率層５０を、１の塗膜から、形成できる。好ましくは、高屈折率層４０と低屈折率層５０を１の塗膜から形成する。
【００１９】
図６は、基材１０上に、帯電防止層３０、ハードコート層２０、中屈折率層６０、高屈折率層４０及び低屈折率層５０が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層４０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層５０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。或いは、中屈折率層６０、及び高屈折率層４０が何れも金属酸化物粒子が高密度に存在する層に相当するか、または、中屈折率層６０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、高屈折率層４０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本実施形態によれば、中屈折率層６０と高屈折率層４０、又は、高屈折率層４０と低屈折率層５０を、１の塗膜から、形成できる。好ましくは、高屈折率層４０と低屈折率層５０を１の塗膜から形成する。
【００２０】
図７は、基材１０上に、ハードコート層２０、高屈折率層４０及び低屈折率層５０が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層４０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層５０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本実施形態によれば、高屈折率層４０と低屈折率層５０を、１の塗膜から、形成できる。
【００２１】
図８は、基材１０上に、ハードコート層２０、中屈折率層６０、高屈折率層４０及び低屈折率層５０が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層４０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層５０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。或いは、中屈折率層６０、及び高屈折率層４０が何れも金属酸化物粒子が高密度に存在する層に相当するか、または、中屈折率層６０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、高屈折率層４０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本実施形態によれば、中屈折率層６０と高屈折率層４０、又は、高屈折率層４０と低屈折率層５０を、１の塗膜から、形成できる。好ましくは、高屈折率層４０と低屈折率層５０を１の塗膜から形成する。
【００２２】
図９は、基材１０上に、帯電防止層３０、高屈折率層４０及び低屈折率層５０が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層４０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層５０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本実施形態によれば、高屈折率層４０と低屈折率層５０を、１の塗膜から、形成できる。
【００２３】
図１０は、基材１０上に、帯電防止層３０、中屈折率層６０、高屈折率層４０及び低屈折率層５０が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層４０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層５０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。或いは、中屈折率層６０、及び高屈折率層４０が何れも金属酸化物粒子が高密度に存在する層に相当するか、または、中屈折率層６０が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、高屈折率層４０が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本実施形態によれば、中屈折率層６０と高屈折率層４０、又は、高屈折率層４０と低屈折率層５０を、１の塗膜から、形成できる。好ましくは、高屈折率層４０と低屈折率層５０を１の塗膜から形成する。
【００２４】
尚、上記の反射防止膜において、使用する紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる金属酸化物として、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）粒子、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子等の導電性粒子を添加すれば、得られる金属酸化物を高密度に含む層が帯電防止性を有する膜となる。従って、例えば、高屈折率層又は中屈折率層を、このような帯電防止性を有する金属物を高密度に含む層として形成すれば、高屈折率層又は中屈折率層は帯電防止性を兼ねた膜とすることができる。この場合、帯電防止膜の形成を省略できる。
【００２５】
次に、上記の反射防止膜の各層について説明する。
（１）基材
本発明の反射防止膜に用いる基材の種類は特に制限されるものではないが、基材の具体例としては、例えば、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート樹脂（東レ（株）製ルミラー等）、ガラス、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、スチリル樹脂、アリレート樹脂、ノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ（株）製アートン、日本ゼオン（株）製ゼオネックス等）、メチルメタクリレート／スチレン共重合体樹脂、ポリオレフィン樹脂等の各種透明プラスチック板、フィルム等を挙げることができる。好ましくは、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート樹脂（東レ（株）製ルミラー等）、ノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ（株）製アートン等）等が挙げられる。
【００２６】
（２）低屈折率層
低屈折率層とは、波長５８９ｎｍの光の屈折率が１．２０〜１．５５である層である。
低屈折率層に使用される材料としては、目的とする特性が得られれば特に限定されるものではないが、例えば、含フッ素重合体を含有する硬化性組成物、アクリルモノマー、含フッ素アクリルモノマー、エポキシ基含有化合物、含フッ素エポキシ基含有化合物等の硬化物を挙げることがでる。また、低屈折率層の強度を上げるために、シリカ微粒子等を配合することもできる。
【００２７】
（３）高屈折率層
高屈折率層とは、波長５８９ｎｍの光の屈折率が１．５０〜２．２０であって、低屈折率層より高い屈折率を有する層である。
高屈折率層を形成するために、高屈折率の無機粒子、例えば金属酸化物粒子を配合することができる。
金属酸化物粒子の具体例としては、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）粒子、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子、ＺｎＯ粒子、アンチモンドープＺｎＯ、ＡｌドープＺｎＯ粒子、ＺｒＯ２粒子、ＴｉＯ２粒子、シリカ被覆ＴｉＯ２粒子、Ａｌ２Ｏ３/ＺｒＯ２被覆ＴｉＯ２粒子、ＣｅＯ２粒子等を挙げることができる。好ましくは、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）粒子、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子、ＡｌドープＺｎＯ粒子、Ａｌ２Ｏ３/ＺｒＯ２被覆ＴｉＯ２粒子である。これらの金属酸化物粒子は、一種単独又は二種以上の組み合わせで使用することができる。
また、高屈折率層にハードコート層や帯電防止層の機能を持たせることもできる。
【００２８】
（４）中屈折率層
３種以上の屈折率を有する層を組み合わせる場合に、波長５８９ｎｍの光の屈折率が１．５０〜１．９０であって、低屈折率層より高く、高屈折率層より低い屈折率を有する層を中屈折率層である。中屈折率層の屈折率は、好ましくは、１．５０〜１．８０、より好ましくは、１．５０〜１．７５である。
中屈折率層を形成するために、高屈折率の無機粒子、例えば金属酸化物粒子を配合することができる。
金属酸化物粒子の具体例としては、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）粒子、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子、ＺｎＯ粒子、アンチモンドープＺｎＯ、ＡｌドープＺｎＯ粒子、ＺｒＯ２粒子、ＴｉＯ２粒子、シリカ被覆ＴｉＯ２粒子、Ａｌ２Ｏ３/ＺｒＯ２被覆ＴｉＯ２粒子、ＣｅＯ２粒子等を挙げることができる。好ましくは、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）粒子、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子、ＡｌドープＺｎＯ粒子、ＺｒＯ２粒子である。これらの金属酸化物粒子は、一種単独又は二種以上の組み合わせで使用することができる。
また、中屈折率層にハードコート層や帯電防止層の機能を持たせることもできる。
【００２９】
低屈折率層と高屈折率層を組み合わせることにより反射率を低くすることができ、さらに、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層を組み合わせることにより、反射率を低くすることができるとともに色目を減らすことができる。
【００３０】
（５）ハードコート層
ハードコート層の具体例としては、ＳｉＯ２、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂等の材料から構成するのが好ましい。また、これらの樹脂にシリカ粒子を配合しても良い。
ハードコート層は積層体の機械的強度を高める効果がある。
【００３１】
（６）帯電防止層
帯電防止層の具体例としては、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）粒子、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子、ＡｌドープＺｎＯ粒子等の導電性を有する金属酸化物粒子、あるいは有機、又は無機の導電性化合物を添加した硬化性膜、前記金属酸化物を蒸着あるいはスパッタリングすることで得られる金属酸化物膜、導電性有機高分子からなる膜を挙げることができる。導電性有機高分子としては、ポリアセチレン系導電性高分子、ポリアニリン系導電性高分子、ポリチオフェン系導電性高分子、ポリピロール系導電性高分子、ポリフェニレンビニレン系導電性高分子等を例示することができる。尚、上述したように、本発明で使用する紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる金属酸化物として、ＡＴＯ粒子、ＩＴＯ粒子、アンチモンドープＺｎＯ、ＡｌドープＺｎＯ粒子等の導電性粒子を添加すれば、得られる金属酸化物を高密度に含む層が帯電防止性を有する膜となる。この場合、別途帯電防止膜の形成を省略できる。
帯電防止層は、積層体に導電性を付与し、静電気が生じて埃等が付着するのを防止する。
【００３２】
これらの層は一層のみ形成してもよく、また、異なる層を二層以上形成してもよい。
また、低、中、高屈折率層の膜厚は、それぞれ通常６０〜１５０ｎｍ、帯電防止層の膜厚は通常０．０５〜３μｍ、ハードコート層の膜厚は通常１〜２０μｍである。
【００３３】
本発明では、積層体の任意の連続する２以上の層を本発明の製造方法で形成できるが、本発明の製造方法によらない層の製造方法は、公知の塗布と硬化、蒸着、スパッタリング等の方法により製造できる。
【００３４】
また、本発明による紫外線硬化性樹脂組成物からなる層は、硬化させて優れた光学特性と耐久性を有する硬化膜を形成させるために、特に、加熱による熱履歴を与えることが好ましい。もちろん、常温で放置した場合にも、時間の経過と共に硬化反応が進み、目的とする硬化膜が形成されるが、実際上は、加熱して硬化させることが、所要時間を短縮する上で効果的である。また、熱酸発生剤を硬化触媒として添加しておくことにより、さらに硬化反応を促進させることができる。この硬化触媒としては特に制限は無く、一般のウレア樹脂、メラミン樹脂等のための硬化剤として使用されている各種酸類やその塩類を利用することができ、特に、アンモニウム塩を好ましく用いることができる。硬化反応のための加熱条件は適宜選択することができるが、加熱温度は、塗布の対象である基材の耐熱限界温度以下であることが必要である。
【００３５】
本発明によれば、１の塗膜から、２以上の層を形成することができるため、積層体の製造工程が簡略化できる。
また、金属酸化物粒子を偏在化させることによって、積層体の耐擦傷性を向上することができる。
本発明の積層体は、反射防止膜の他にも、例えば、レンズ、選択透過膜フィルタ等の光学用部品に使用できる。
【００３６】
次に、本発明で使用する紫外線硬化性樹脂組成物について説明する。
紫外線硬化性樹脂組成物は、（Ａ）金属酸化物粒子、（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体と、（Ｃ）（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が高い溶剤（速揮発溶剤）と、（Ｄ）（Ａ）金属酸化物粒子に対する分散安定性が高く、かつ、（Ｃ）の溶剤と相溶性である溶剤（遅揮発溶剤）とを含有することを特徴とする。
【００３７】
１．紫外線硬化性樹脂組成物の各構成成分について具体的に説明する。
（Ａ）金属酸化物粒子
金属酸化物粒子（Ａ）としては、例えば、酸化チタン、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化アンチモン、酸化セリウム等の粒子を挙げることができる。中でも、シリカ、アルミナ、ジルコニア、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）及び酸化アンチモンの粒子が好ましい。また、ジルコニウムやチタニウム等の酸化物粒子を用いることにより高屈折率の硬化被膜を得ることができるし、酸化亜鉛、ＡＴＯ、ＩＴＯ等の粒子を用いることにより、硬化被膜に導電性を付与することもできる。高屈折率の硬化被膜を得るためには、波長５９８ｎｍにおける屈折率が１．５以上の金属酸化物粒子（Ａ）が好ましい。このため、このような目的のためには、シリカ（屈折率約１．４５）粒子は好ましくない。
【００３８】
これらの金属酸化物粒子（Ａ）は１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。さらには、金属酸化物粒子（Ａ）は、粉体状又は分散液であることが好ましい。分散液である場合、他の成分との相溶性、分散性の観点から、分散媒は、有機溶剤が好ましい。このような有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルフォルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。中でも、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレンが好ましい。
【００３９】
金属酸化物粒子（Ａ）の数平均粒子径は、電子顕微鏡法による測定で、０．００１μｍ〜２μｍが好ましく、０．００１μｍ〜０．２μｍがさらに好ましく、０．００１μｍ〜０．１μｍが特に好ましい。数平均粒子径が２μｍを越えると、硬化物としたときの透明性が低下したり、被膜としたときの表面状態が悪化したりする傾向がある。また、粒子の分散性を改良するために各種の界面活性剤やアミン類を添加してもよい。粒子形状が棒状（アスペクト比が１を超えて１０以下の形状を言う）の場合には、短径を粒子径とした。
【００４０】
シリカ粒子の市販品としては、例えば、コロイダルシリカとして、日産化学工業（株）製 商品名：メタノールシリカゾル、ＩＰＡ−ＳＴ、ＭＥＫ−ＳＴ、ＮＢＡ−ＳＴ、ＸＢＡ−ＳＴ、ＤＭＡＣ−ＳＴ、ＳＴ−ＵＰ、ＳＴ−ＯＵＰ、ＳＴ−２０、ＳＴ−４０、ＳＴ−Ｃ、ＳＴ−Ｎ、ＳＴ−Ｏ、ＳＴ−５０、ＳＴ−ＯＬ等を挙げることができる。また粉体シリカとしては、日本アエロジル（株）製 商品名：アエロジル１３０、アエロジル３００、アエロジル３８０、アエロジルＴＴ６００、アエロジルＯＸ５０、旭硝子（株）製 商品名：シルデックスＨ３１、Ｈ３２、Ｈ５１、Ｈ５２、Ｈ１２１、Ｈ１２２、日本シリカ工業（株）製 商品名：Ｅ２２０Ａ、Ｅ２２０、富士シリシア（株）製 商品名：ＳＹＬＹＳＩＡ４７０、日本板硝子（株）製 商品名：ＳＧフレーク等を挙げることができる。
【００４１】
また、アルミナの水分散品としては、日産化学工業（株）製 商品名：アルミナゾル−１００、−２００、−５２０；アルミナのイソプロパノール分散品としては、住友大阪セメント（株）製 商品名：ＡＳ−１５０Ｉ；アルミナのトルエン分散品としては、住友大阪セメント（株）製 商品名：ＡＳ−１５０Ｔ；ジルコニアのトルエン分散品としては、住友大阪セメント（株）製 商品名：ＨＸＵ−１１０ＪＣ；アンチモン酸亜鉛粉末の水分散品としては、日産化学工業（株）製 商品名：セルナックス；アルミナ、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛等の粉末及び溶剤分散品としては、シーアイ化成（株）製 商品名：ナノテック；アンチモンドープ酸化スズの水分散ゾルとしては、石原産業（株）製 商品名：ＳＮ−１００Ｄ；ＩＴＯ粉末としては、三菱マテリアル（株）製の製品、富士化学（株）製 商品名：ＮＩＤ−２０；酸化セリウム水分散液としては、多木化学（株）製 商品名：ニードラール等を挙げることができる。
【００４２】
金属酸化物粒子（Ａ）の形状は球状、中空状、多孔質状、棒状（アスペクト比が１を超えて１０以下の形状を言う）、板状、繊維状、又は不定形状であり、好ましくは、棒状である。金属酸化物粒子（Ａ）の比表面積（窒素を用いたＢＥＴ比表面積測定法による）は、好ましくは、１０〜１０００ｍ２／ｇであり、さらに好ましくは、１００〜５００ｍ２／ｇである。これら金属酸化物粒子（Ａ）の使用形態は、乾燥状態の粉末、又は水もしくは有機溶剤で分散した状態で用いることができる。例えば、分散液として当業界に知られている微粒子状の金属酸化物粒子の分散液を直接用いることができる。特に、硬化物に優れた透明性を要求する用途においては金属酸化物粒子の分散液の利用が好ましい。
【００４３】
金属酸化物粒子（（Ａ）成分）の紫外線硬化性樹脂組成物中における配合（含有）量は、有機溶剤を除く組成物全量を１００質量％として、１０〜９０質量％の範囲内であることが好ましく、２０〜８０質量％の範囲であることがより好ましく、４０〜８０質量％の範囲であることがより好ましい。１０質量％未満であると、硬化膜の硬度が不十分であるか、又は高屈折率のものが得られないことがある。９０質量％を超えると、成膜性が不十分となることがある。尚、金属酸化物粒子（（Ａ）成分）の量は、固形分を意味し、金属酸化物粒子（（Ａ）成分）が分散液の形態で用いられるときは、その配合量には分散媒の量を含まない。
【００４４】
（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体
本発明で用いるエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体は、１個のイソシアネート基と、少なくとも１個のエチレン性不飽和基とを含有する化合物（Ｂ−１）と、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）とを反応させて得られ、イソシアネート基／水酸基のモル比が１．１〜１．９の割合で反応させて得られるものが好ましい。
【００４５】
（Ｂ−１）１個のイソシアネート基と、少なくとも１個のエチレン性不飽和基とを含有する化合物
化合物（Ｂ−１）としては、分子内に、１個のイソシアネート基と、少なくとも１個のエチレン性不飽和基を含有している化合物であれば特に制限されるものではない。尚、イソシアネート基を２個以上含有すると、水酸基含有含フッ素重合体と反応させる際にゲル化を起こす可能性がある。また、上記エチレン性不飽和基としては、紫外線硬化性樹脂組成物をより容易に硬化させることができることから、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。このような化合物としては、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルイソシアネートの一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００４６】
尚、このような化合物は、ジイソシアネート及び水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて合成することもできる。この場合、ジイソシアネートの例としては、２,４−トリレンジイソシアネ−ト、２,６−トリレンジイソシアネ−ト、１,３−キシリレンジイソシアネ−ト、１,４−キシリレンジイソシアネ−ト、１,５−ナフタレンジイソシアネ−ト、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３,３’−ジメチル−４,４’−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト、４,４’−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト、３,３’−ジメチルフェニレンジイソシアネ−ト、４,４’−ビフェニレンジイソシアネ−ト、１，６−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネア−ト）、２,２,４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネ−ト、ビス（２−イソシアネートエチル）フマレート、６−イソプロピル−１,３−フェニルジイソシアネ−ト、４−ジフェニルプロパンジイソシアネ−ト、リジンジイソシアネ−ト、水添ジフェニルメタンジイソシアネ−ト、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、テトラメチルキシリレンジイソシアネ−ト、２，５（又は６）−ビス（イソシアネートメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。これらの中では、２,４−トリレンジイソシアネ−ト、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネア−ト）、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサンが特に好ましい。
【００４７】
また、水酸基含有（メタ）アクリレートの例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、カプロラクトン（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート等一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。これらの中では、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートが特に好ましい。尚、水酸基含有多官能（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、大阪有機化学（株）製
商品名 ＨＥＡ、日本化薬（株）製 商品名 ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、ＰＥＴ−３０、東亞合成（株）製 商品名 アロニックス Ｍ−２１５、Ｍ−２３３、Ｍ−３０５、Ｍ−４００等として入手することができる。
【００４８】
ジイソシアネート及び水酸基含有多官能（メタ）アクリレートから合成する場合には、ジイソシアネート１モルに対し、水酸基含有多官能（メタ）アクリレートの添加量を１〜１．２モルとするのが好ましい。
【００４９】
このような化合物の合成方法としては、ジイソシアネート及び水酸基含有（メタ）アクリレートを一括で仕込んで反応させる方法、水酸基含有（メタ）アクリレート中にジイソシアネートを滴下して反応させる方法等を挙げることができる。
【００５０】
（Ｂ−２）水酸基含有含フッ素重合体
水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）は、下記構造単位（ａ）、（ｂ）、（ｃ）から構成されていることが好ましく、さらに構造単位（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）を含むことがより好ましい。
【００５１】
構造単位（ａ）
構造単位（ａ）は、下記一般式（１）で表される。
【化１３】
［式中、Ｒ1 はフッ素原子、フルオロアルキル基、又は−ＯＲ2 で表される基（Ｒ2 はアルキル基、又はフルオロアルキル基を示す）を示す］
【００５２】
上記一般式（１）において、Ｒ１及びＲ２のフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロシクロヘキシル基等の炭素数１〜６のフルオロアルキル基が挙げられる。また、Ｒ２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等の炭素数１〜６のアルキル基が挙げられる。
【００５３】
構造単位（ａ）は、含フッ素ビニル単量体を重合成分として用いることにより導入することができる。このような含フッ素ビニル単量体としては、少なくとも１個の重合性不飽和二重結合と、少なくとも１個のフッ素原子とを有する化合物であれば特に制限されるものではない。このような例としてはテトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン等のフルオロレフィン類；アルキルパーフルオロビニルエーテル又はアルコキシアルキルパーフルオロビニルエーテル類；パーフルオロ（メチルビニルエーテル）、パーフルオロ（エチルビニルエーテル）、（プロピルビニルエーテル）、パーフルオロ（ブチルビニルエーテル）、パーフルオロ（イソブチルビニルエーテル）等のパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）類；パーフルオロ（プロポキシプロピルビニルエーテル）等のパーフルオロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）類の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。これらの中でも、ヘキサフルオロプロピレンとパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）又はパーフルオロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）がより好ましく、これらを組み合わせて用いることがさらに好ましい。
【００５４】
尚、構造単位（ａ）の含有率は、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量を１００モル％としたときに、２０〜７０モル％である。この理由は、含有率が２０モル％未満になると、本願が意図するところのフッ素含有材料の光学的特徴である、低屈折率の発現が困難となる場合があるためであり、一方、含有率が７０モル％を超えると、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の有機溶剤への溶解性、透明性、又は基材への密着性が低下する場合があるためである。また、このような理由により、構造単位（ａ）の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量に対して、２５〜６５モル％とするのがより好ましく、３０〜６０モル％とするのがさらに好ましい。
【００５５】
構造単位（ｂ）
構造単位（ｂ）は、下記一般式（２）で表される。
【化１４】
［式中、Ｒ3 は水素原子又はメチル基を、Ｒ4 はアルキル基、−(ＣＨ2)x−ＯＲ5 若しくは−ＯＣＯＲ5 で表される基（Ｒ5はアルキル基、又はグリシジル基を、ｘは０又は１の数を示す）、カルボキシル基、又はアルコキシカルボニル基を示す］
【００５６】
一般式（２）において、Ｒ４又はＲ５のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ラウリル基等の炭素数１〜１２のアルキル基が挙げられ、アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられる。
【００５７】
構造単位（ｂ）は、上述の置換基を有するビニル単量体を重合成分として用いることにより導入することができる。このようなビニル単量体の例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ペンチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ｎ−ドデシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテルもしくはシクロアルキルビニルエーテル類；エチルアリルエーテル、ブチルアリルエーテル等のアリルエーテル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、バーサチック酸ビニル、ステアリン酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（ｎ−プロポキシ）エチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類；（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸類等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００５８】
尚、構造単位（ｂ）の含有率は、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量を１００モル％としたときに、１０〜７０モル％である。この理由は、含有率が１０モル％未満になると、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の有機溶剤への溶解性が低下する場合があるためであり、一方、含有率が７０モル％を超えると、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の透明性、及び低反射率性等の光学特性が低下する場合があるためである。また、このような理由により、構造単位（ｂ）の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量に対して、２０〜６０モル％とするのがより好ましく、３０〜６０モル％とするのがさらに好ましい。
【００５９】
構造単位（ｃ）
構造単位（ｃ）は、下記一般式（３）で表される。
【化１５】
［式中、Ｒ6 は水素原子、又はメチル基を、Ｒ7 は水素原子、又はヒドロキシアルキル基を、ｖは０又は１の数を示す］
【００６０】
一般式（３）において、Ｒ７のヒドロキシアルキル基としては、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、５−ヒドロキシペンチル基、６−ヒドロキシヘキシル基が挙げられる。
【００６１】
構造単位（ｃ）は、水酸基含有ビニル単量体を重合成分として用いることにより導入することができる。このような水酸基含有ビニル単量体の例としては、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、３−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、３−ヒドロキシブチルビニルエーテル、５−ヒドロキシペンチルビニルエーテル、６−ヒドロキシヘキシルビニルエーテル等の水酸基含有ビニルエーテル類、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、４−ヒドロキシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリルエーテル等の水酸基含有アリルエーテル類、アリルアルコール等が挙げられる。また、水酸基含有ビニル単量体としては、上記以外にも、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、カプロラクトン（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等を用いることができる。
【００６２】
尚、構造単位（ｃ）の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量を１００モル％としたときに、５〜７０モル％とすることが好ましい。この理由は、含有率が５モル％未満になると、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の有機溶剤への溶解性が低下する場合があるためであり、一方、含有率が７０モル％を超えると、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の透明性、及び低反射率性等の光学特性が低下する場合があるためである。また、このような理由により、構造単位（ｃ）の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量に対して、５〜４０モル％とするのがより好ましく、５〜３０モル％とするのがさらに好ましい。
【００６３】
構造単位（ｄ）及び構造単位（ｅ）
また、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）は、さらに下記構造単位（ｄ）を含んで構成することも好ましい。以下、構造単位（ｄ）について説明する。
構造単位（ｄ）は、下記一般式（４）で表される。
【化１６】
［式中、Ｒ8 及びＲ9 は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はアリール基を示す］
【００６４】
一般式（４）において、Ｒ８又はＲ９のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜３のアルキル基が、ハロゲン化アルキル基としてはトリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基等の炭素数１〜４のフルオロアルキル基等が、アリール基としてはフェニル基、ベンジル基、ナフチル基等がそれぞれ挙げられる。
【００６５】
構造単位（ｄ）は、前記一般式（４）で表されるポリシロキサンセグメントを有するアゾ基含有ポリシロキサン化合物を用いることにより導入することができる。このようなアゾ基含有ポリシロキサン化合物の例としては、下記一般式（７）で表される化合物が挙げられる。
【００６６】
【化１７】
［式中、Ｒ１０〜Ｒ１３、Ｒ１４〜Ｒ１７、ｐ、ｑ、ｓ、ｔ、及びｙは、上記一般式（５）と同じであり、ｚは１〜２０の数である。］
【００６７】
一般式（７）で表される化合物を用いた場合には、構造単位（ｄ）は、下記構造単位（ｅ）の一部として水酸基含有含フッ素重合体に含まれる。
構造単位（ｅ）は、下記一般式（５）で表される。
【化１８】
［式中、Ｒ10 〜Ｒ13 は水素原子、アルキル基、又はシアノ基を示し、Ｒ14 〜Ｒ17 は水素原子又はアルキル基を示し、ｐ、ｑは１〜６の数、ｓ、ｔは０〜６の数、ｙは１〜２００の数を示す。］
【００６８】
一般式（５）において、Ｒ１０〜Ｒ１３のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等の炭素数１〜１２のアルキル基が挙げられ、Ｒ１４〜Ｒ１７のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜３のアルキル基が挙げられる。
【００６９】
本発明において、上記一般式（７）で表されるアゾ基含有ポリシロキサン化合物としては、下記一般式（８）で表される化合物が特に好ましい。
【００７０】
【化１９】
［式中、ｙ及びｚは、上記一般式（７）と同じである。］
【００７１】
尚、構造単位（ｄ）の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量を１００モル％としたときに、０．１〜１０モル％とすることが好ましい。この理由は、含有率が０．１モル％未満になると、硬化後の塗膜の表面滑り性が低下し、塗膜の耐擦傷性が低下する場合があるためであり、一方、含有率が１０モル％を超えると、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の透明性に劣り、コート材として使用する際に、塗布時にハジキ等が発生し易くなる場合があるためである。また、このような理由により、構造単位（ｄ）の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量に対して、０．１〜５モル％とするのがより好ましく、０．１〜３モル％とするのがさらに好ましい。同じ理由により、構造単位（ｅ）の含有率は、その中に含まれる構造単位（ｄ）の含有率を上記範囲にするよう決定することが望ましい。
【００７２】
構造単位（ｆ）
また、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）は、さらに上記構造単位（ｆ）を含んで構成することも好ましい。以下、構造単位（ｆ）について説明する。
【００７３】
構造単位（ｆ）は、下記一般式（６）で表される。
【化２０】
［式中、Ｒ18 は乳化作用を有する基を示す］
【００７４】
一般式（６）において、Ｒ１８の乳化作用を有する基としては、疎水性基及び親水性基の双方を有し、かつ、親水性基がポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド等のポリエーテル構造である基が好ましい。
【００７５】
このような乳化作用を有する基の例としては下記一般式（９）で表される基が挙げられる。
【００７６】
【化２１】
［式中、ｎは１〜２０の数、ｍは０〜４の数、ｕは３〜５０の数を示す］
【００７７】
構造単位（ｆ）は、反応性乳化剤を重合成分として用いることにより導入することができる。このような反応性乳化剤としては、下記一般式（１０）で表される化合物が挙げられる。
【００７８】
【化２２】
［式中、ｎ、ｍ、及びｕは、上記一般式（９）と同様である］
【００７９】
尚、構造単位（ｆ）の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量を１００モル％としたときに、０．１〜５モル％とすることが好ましい。この理由は、含有率が０．１モル％以上になると、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の溶剤への溶解性が向上し、一方、含有率が５モル％以内であれば、紫外線硬化性樹脂組成物の粘着性が過度に増加せず、取り扱いが容易になり、コート材等に用いても耐湿性が低下しないためである。また、このような理由により、構造単位（ｆ）の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の全体量に対して、０．１〜３モル％とするのがより好ましく、０．２〜３モル％とするのがさらに好ましい。
【００８０】
水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の分子量
水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下「ＧＰＣ」という。）で、テトラヒドロフラン（以下「ＴＨＦ」という。）を溶剤として測定したポリスチレン換算数平均分子量が５，０００〜５００，０００であることが好ましい。この理由は、数平均分子量が５，０００未満になると、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の機械的強度が低下する場合があるためであり、一方、数平均分子量が５００，０００を超えると、紫外線硬化性樹脂組成物の粘度が高くなり、薄膜コーティングが困難となる場合がるためである。また、このような理由により、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）のポリスチレン換算数平均分子量を１０，０００〜３００，０００とするのがより好ましく、１０，０００〜１００，０００とするのがさらに好ましい。
【００８１】
化合物（Ｂ−１）と水酸基含有フッ素重合体（Ｂ−２）との反応モル比
本発明で用いるエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体（Ｂ）は、上述した、１個のイソシアネート基と、少なくとも１個のエチレン性不飽和基とを含有する化合物（Ｂ−１）と、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）とを、イソシアネート基／水酸基のモル比が１．１〜１．９の割合で反応させて得られることが好ましい。この理由は、モル比が１．１未満になると耐擦傷性及び耐久性が低下する場合があるためであり、一方、モル比が１．９を超えると、紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜のアルカリ水溶液浸漬後の耐擦傷性が低下する場合があるためである。また、このような理由により、イソシアネート基／水酸基のモル比を、１．１〜１．５とするのがより好ましく、１．２〜１.５とするのがさらに好ましい。
【００８２】
紫外線硬化性樹脂組成物中における（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体の含有量は、有機溶剤を除く組成物全量１００質量％に対して、通常５〜７０質量％である。この理由は、含有量が５質量％未満となると、紫外線硬化性樹脂組成物の硬化塗膜の屈折率が高くなり、十分な反射防止効果が得られない場合があるためであり、一方、添加量が７０質量％を超えると、硬化性樹脂組成物の硬化塗膜の耐擦傷性が得られない場合があるためである。また、このような理由から、（Ｂ）成分の添加量を１０〜５０質量％とするのがより好ましく、１５〜５０質量％の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
【００８３】
（Ｃ）（Ｂ）エチレン性不飽和基含有フッ素重合体に対する溶解性が高い溶剤（速揮発溶剤）
紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる（Ｃ）速揮発溶剤は、上記（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が高い溶剤である。ここで、エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が高いとは、（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体を５０質量％となるよう各溶剤に添加して、室温８時間攪拌したときに、目視で均一な溶液となることをいう。溶解性が低いとは、このとき目視で均一な溶液にならないことをいう。そして、（Ｃ）速揮発溶剤の相対蒸発速度は、後述の（Ｄ）遅揮発溶剤の相対蒸発速度よりも大きいことが必要である。ここで、「相対蒸発速度」とは、酢酸ブチルが９０重量％蒸発するのに要する時間を基準とする蒸発速度の相対値をいい、詳細は、TECHNIQUES OF CHEMISTRY VOL.2 ORGANIC SOLVENTS Physical Properties and methods of purification 4th ed. (Interscience Publishers, Inc. 1986 page 62)に記載されているとおりである。また、（Ｃ）速揮発溶剤は、上記（Ａ）金属酸化物粒子に対する分散安定性が低いことが好ましい。（Ｃ）速揮発溶剤は、相対蒸発速度が（Ｄ）よりも大きく、（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が高いことにより、紫外線硬化性樹脂組成物を、基材に塗布し、溶剤（Ｃ）及び（Ｄ）を蒸発させる過程で、（Ａ）成分の粒子を偏在化させることができる。
【００８４】
本発明で（Ｃ）速揮発溶剤として用いることができる溶剤としては、相対蒸発速度が概ね１．７以上の溶剤であり、具体的には、メチルエチルケトン（ＭＥＫ；相対蒸発速度３．８）、イソプロパノール（ＩＰＡ；１．７）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ；相対蒸発速度１．６）、メチルアミルケトン（ＭＡＫ；０．３）、アセトン、メチルプロピルケトン等が挙げられる。
【００８５】
（Ｄ）（Ａ）金属酸化物粒子に対する分散安定性が高く、かつ、（Ｃ）の溶剤と相溶性である溶剤（遅揮発溶剤）
紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる（Ｄ）遅揮発溶剤は、上記（Ａ）金属酸化物粒子に対する分散安定性が高い溶剤である。ここで、（Ａ）成分の粒子に対する分散安定性が高いとは、（Ａ）成分の粒子のイソプロパノール分散液にガラス板を浸漬して（Ａ）成分の粒子をガラス壁に付着させ、その（Ａ）成分の粒子が付着したガラス板を各溶剤に浸漬した場合に、（Ａ）成分の粒子が該溶剤中に目視で均一に分散することをいう。分散安定性が低いとは、このとき目視で均一に分散しないことをいう。また、（Ｄ）遅揮発溶剤は、上記（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が低いことが好ましい。
【００８６】
本発明で（Ｄ）遅揮発溶剤として用いることができる溶剤としては、メタノール（相対蒸発速度２．１）、イソプロパノール（ＩＰＡ；１．７）、ｎ−ブタノール（ｎ−ＢｕＯＨ；０．５）、ｔｅｒｔ−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ等が挙げられる。
【００８７】
本発明で用いる（Ｃ）速揮発溶剤及び／又は（Ｄ）遅揮発溶剤は、通常、上記（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体の製造に用いた溶剤をそのまま用いることができる。
本発明で用いる（Ｃ）速揮発溶剤と（Ｄ）遅揮発溶剤は、相溶性であることが必要である。相溶性は、組成物の具体的構成において、（Ｃ）速揮発溶剤と（Ｄ）遅揮発溶剤が分離しない程度の相溶性があれば足りる。
ここで、選択された溶剤が、本発明で用いる（Ｃ）速揮発溶剤又は（Ｄ）遅揮発溶剤のいずれに該当するかは、選択された複数の溶剤種の間で相対的に決まるものであり、それ故、相対蒸発速度が１．７のイソプロパノールは、（Ｃ）速揮発溶剤として用いられることもあれば、（Ｄ）遅揮発溶剤として用いられることもある。
【００８８】
紫外線硬化性樹脂組成物中の溶剤（Ｃ）及び（Ｄ）以外の成分総量１００質量部に対し、溶剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）の合計量は、通常３００〜５０００質量部、好ましくは３００〜４０００質量部、より好ましくは３００〜３０００質量部を用いる。溶剤（Ｃ）と溶剤（Ｄ）の配合比は、１：９９〜９９：１の範囲で任意に選択することができる。
【００８９】
（Ｅ）少なくとも２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する多官能（メタ）アクリレート化合物、及び／又は、少なくとも１個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する含フッ素（メタ）アクリレート化合物
少なくとも２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する多官能（メタ）アクリレート化合物（Ｅ−１）は、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物及びそれを用いた反射防止膜の耐擦傷性を高めるために用いられる。
少なくとも１個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する含フッ素（メタ）アクリレート化合物（Ｅ−２）は、紫外線硬化性樹脂組成物の屈折率を低下させるために用いられる。
【００９０】
化合物（Ｅ−１）については、分子内に少なくとも２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物であれば特に制限されるものではない。このような例としては、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、「Ｕ−１５ＨＡ」（商品名、新中村化学社製）等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。尚、これらのうち、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００９１】
化合物（Ｅ−２）については、少なくとも１個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する含フッ素（メタ）アクリレート化合物であれば特に制限されるものではない。このような例として、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００９２】
紫外線硬化性樹脂組成物中における成分（Ｅ）の含有量については、特に制限されるものではないが、有機溶剤を除く組成物全量１００質量％に対して、通常５〜８０質量％である。この理由は、添加量が５質量％未満となると、硬化性樹脂組成物の硬化塗膜の耐擦傷性が得られない場合があるためであり、一方、添加量が８０質量％を超えると、硬化性樹脂組成物の硬化塗膜の屈折率が高くなり、十分な反射防止効果が得られない場合があるためである。また、このような理由から、成分（Ｅ）の添加量を５〜７０質量％とするのがより好ましく、５〜５０質量％の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
【００９３】
（Ｆ）光ラジカル重合開始剤
紫外線硬化性樹脂組成物においては、必要に応じて、放射線（光）照射により活性ラジカル種を発生させる（Ｆ）光ラジカル重合開始剤（放射線（光）重合開始剤）を配合することができる。
【００９４】
放射線（光）重合開始剤としては、光照射により分解してラジカルを発生して重合を開始せしめるものであれば特に制限はなく、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１，４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）等を挙げることができる。
【００９５】
放射線（光）重合開始剤の市販品としては、例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製 商品名：イルガキュア １８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５０、ＣＧ２４−６１、ダロキュア １１１６、１１７３、ＢＡＳＦ社製 商品名：ルシリン ＴＰＯ、ＵＣＢ社製 商品名：ユベクリル Ｐ３６、フラテツリ・ランベルティ社製 商品名：エザキュアー ＫＩＰ１５０、ＫＩＰ６５ＬＴ、ＫＩＰ１００Ｆ、ＫＴ３７、ＫＴ５５、ＫＴＯ４６、ＫＩＰ７５／Ｂ等を挙げることができる。
【００９６】
本発明において必要に応じて用いられる光ラジカル重合開始剤（Ｆ）の配合量は、有機溶剤を除く組成物全量を１００質量％として、０．０１〜１０質量％配合することが好ましく、０．１〜１０質量％が、さらに好ましい。０．０１質量％未満であると、硬化物としたときの硬度が不十分となることがあり、１０質量％を超えると、硬化物としたときに内部（下層）まで硬化しないことがある。
【００９７】
（Ｇ）その他の成分
硬化性組成物には、本発明の効果を損なわない限り、必要に応じて、光増感剤、重合禁止剤、重合開始助剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、無機充填剤、顔料、染料、溶剤（Ｃ）及び（Ｄ）以外の溶剤等を適宜配合できる。
【００９８】
２．紫外線硬化性樹脂組成物の製造方法
組成物は、次のようにして製造できる。
金属酸化物粒子分散液（（Ａ）成分）、エチレン性不飽和基含有フッ素重合体（（Ｂ）成分）、エチレン性不飽和基含有フッ素重合体に対する溶解性が高い溶剤（（Ｃ）溶剤）、及び、金属酸化物粒子に対する分散安定性が高くかつ（Ｃ）の溶剤と相溶性である溶剤（（Ｄ）溶剤）、必要に応じて、多官能(メタ)アクリレート（（Ｅ）成分）、放射線（光）重合開始剤（（Ｆ）成分）等を攪拌機付きの反応容器に入れ３５℃〜４５℃で２時間攪拌し紫外線硬化性樹脂組成物とする。
溶剤を最初の粒子分散液に使用した溶剤(α)と異なる種類の溶剤(β)に置換する場合は、粒子分散液の溶剤（α）の質量に対して１．０倍の溶剤(β)も加え同様の条件で攪拌する。次にこの組成液を、ロータリーエバポレーターを用いて固形分濃度５０％となる質量まで減圧濃縮し組成物とする。
【００９９】
３．紫外線硬化性樹脂組成物の塗布（コーティング）方法
紫外線硬化性樹脂組成物は反射防止膜や被覆材の用途に好適であり、反射防止や被覆の対象となる基材としては、例えば、プラスチック（ポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリオレフィン、エポキシ、メラミン、トリアセチルセルロース、ＡＢＳ、ＡＳ、ノルボルネン系樹脂等）、金属、木材、紙、ガラス、スレート等を挙げることができる。これら基材の形状は板状、フィルム状又は３次元成形体でもよく、コーティング方法は、通常のコーティング方法、例えばディッピングコート、スプレーコート、フローコート、シャワーコート、ロールコート、スピンコート、刷毛塗り等を挙げることができる。これらのコーティングによる塗膜の厚さは、乾燥、硬化後、通常０．１〜４００μｍであり、好ましくは、１〜２００μｍである。
【０１００】
４．紫外線硬化性樹脂組成物の硬化方法
紫外線硬化性樹脂組成物は、放射線（光）によって硬化させることができる。その線源としては、組成物をコーティング後短時間で硬化させることができるものである限り特に制限はないが、例えば、赤外線の線源として、ランプ、抵抗加熱板、レーザー等を、また可視光線の線源として、日光、ランプ、蛍光灯、レーザー等を、また紫外線の線源として、水銀ランプ、ハライドランプ、レーザー等を、また電子線の線源として、市販されているタングステンフィラメントから発生する熱電子を利用する方式、金属に高電圧パルスを通じて発生させる冷陰極方式及びイオン化したガス状分子と金属電極との衝突により発生する２次電子を利用する２次電子方式を挙げることができる。また、アルファ線、ベータ線及びガンマ線の線源として、例えば、Ｃｏ６０等の核分裂物質を挙げることができ、ガンマ線については加速電子を陽極へ衝突させる真空管等を利用することができる。これら放射線は１種単独で又は２種以上を同時に又は一定期間をおいて照射することができる。
【０１０１】
活性エネルギー線を用いた場合、露光量を０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ2 の範囲内の値とするのが好ましい。この理由は、露光量が０．０１Ｊ／ｃｍ2 未満となると、硬化不良が生じる場合があるためであり、一方、露光量が１０Ｊ／ｃｍ2 を超えると、硬化時間が過度に長くなる場合があるためである。また、このような理由により、露光量を０．１〜５Ｊ／ｃｍ2 の範囲内の値とするのがより好ましく、０．３〜３Ｊ／ｃｍ2の範囲内の値とするのがより好ましい。
【０１０２】
紫外線硬化性樹脂組成物の硬化反応は、窒素等の嫌気的条件下において行う必要がある。その理由は酸素によりラジカル重合が阻害される結果、硬化反応が不十分となるからである。
【０１０３】
硬化膜は、上記紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させて得られ、２層以上の多層構造を有することを特徴とする。特に、上記（Ａ）金属酸化物粒子が高密度に存在する１以上の層と、上記（Ａ）成分の粒子が実質的に存在しない１以下の層からなる二層以上の層構造を有していることが好ましい。
【０１０４】
硬化膜は、前記紫外線硬化性樹脂組成物を種々の基材、例えば、プラスチック基材にコーティングして硬化させることにより得ることができる。具体的には、組成物をコーティングし、好ましくは、０〜２００℃で揮発成分を乾燥させた後、上述の、放射線で硬化処理を行うことにより被覆成形体として得ることができる。そのような場合、好ましい紫外線の照射光量は０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ２であり、より好ましくは、０．１〜２Ｊ／ｃｍ２である。また、好ましい電子線の照射条件は、加圧電圧は１０〜３００ＫＶ、電子密度は０．０２〜０．３０ｍＡ／ｃｍ２であり、電子線照射量は１〜１０Ｍｒａｄである。
【０１０５】
紫外線硬化性樹脂組成物を塗布後、組成物中の溶剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）が蒸発して乾燥する過程において、（Ａ）成分の粒子が塗布下地側（隣接層との境界付近）又はその反対側に偏在化する。そのため、硬化膜の一方の界面付近では、（Ａ）成分の粒子が高密度で存在し、硬化膜の他方の界面付近では、（Ａ）成分の粒子が実質的に存在しないため、低屈折率の樹脂層が形成される。従って、紫外線硬化性樹脂組成物からなる一の塗膜を硬化させることにより、実質的に二層以上の層構造を有する硬化膜が得られる。これらの分離して形成される各層は、例えば、得られた膜の断面を電子顕微鏡で観察することにより確認することができる。（Ａ）成分の粒子が高密度に存在する層とは、（Ａ）成分の粒子が集合している部分を指す概念であり、実質的に（Ａ）成分の粒子を主成分として構成された層であるが、層内部に（Ｂ）成分等が共存する場合がある。他方、（Ａ）成分の粒子が実質的に存在しない層とは、（Ａ）成分の粒子が存在しない部分を指す概念であるが、本発明の効果を損なわない範囲で（Ａ）成分の粒子が若干含まれていてもよい。この層は、実質的に（Ｂ）成分と（Ｅ）成分の硬化物等の（Ａ）成分の粒子以外の成分から構成された層である。硬化膜は、多くの場合、（Ａ）成分の粒子が高密度に存在する層と（Ａ）成分の粒子が実質的に存在しない層がそれぞれ連続した層を形成した二層構造を有する。基材にＰＥＴ樹脂（易接着層を有するＰＥＴ樹脂を含む）等を用いた場合、通常は、基材である層、（Ａ）成分の粒子が高密度に存在する層、（Ａ）成分の粒子が実質的に存在しない層が、この順番に隣接して形成される。
【０１０６】
ここで、二層以上の層構造とは、「（Ａ）成分の粒子が高密度に存在する層」と、「（Ａ）成分の粒子が実質的に存在しない層」の両者を共に含む２以上の層からなる場合もあり、また、二以上の「金属酸化物粒子が高密度に存在する層」のみからなる場合がある。
【０１０７】
紫外線硬化性樹脂組成物が２種以上の（Ａ）成分の粒子を含むときは、「（Ａ）成分の粒子が高密度に存在する層」が２以上形成され得る。さらに、「（Ａ）成分の粒子が高密度に存在する層」の「（Ａ）成分の粒子」は、少なくとも１種、即ち、１種又は２種以上の「（Ａ）成分の粒子」を意味する。紫外線硬化性樹脂組成物が２種以上の（Ａ）成分の粒子を含む場合、一つの「（Ａ）成分の粒子が高密度に存在する層」が、２種類以上の（Ａ）成分の粒子から構成されていてもよい。
【０１０８】
紫外線硬化性樹脂組成物中の（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体は、熱硬化性樹脂（例えば、メラミン化合物）に比べて屈折率が低く、反射防止膜の低屈折率層として好ましい光学的特性を有している。そして、（Ａ）金属酸化物粒子として、屈折率の高い金属酸化物粒子を用いることにより、さらに良好な反射防止膜を形成することができる。
【０１０９】
硬化膜は、高硬度であるとともに、耐擦傷性並びに基材及び基材や低屈折率層等の隣接層との密着性に優れた塗膜（被膜）を形成し得る特徴を有している。また、硬化反応に熱を用いないため、熱硬化反応で生じる加水分解反応を伴わないので、得られる硬化膜の耐湿熱性に優れている。従って、硬化膜は、フィルム型液晶素子、タッチパネル、プラスチック光学部品等の反射防止膜等に特に好適に用いられる。
【０１１０】
屈折率の変化の程度は、（Ａ）成分の含有量、種類、（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体の含有量、組成、及び（Ｅ）成分（硬化性化合物）の含有量、種類等により調整できる。
また、硬化膜の低屈折率部分における屈折率は、例えば、１．２０〜１．５５であり、高屈折率部分における屈折率は、１．５０〜２．２０である。
【実施例】
【０１１１】
以下の説明において「部」又は「％」は特記されていない限り「質量部」又は「質量％」を示す。
製造例１
（１）重合性不飽和基を有する有機化合物の合成
攪拌機付きの容器内のメルカプトプロピルトリメトキシシラン２２１部及びジブチルスズジラウレート１部の混合溶液に、イソホロンジイソシアネート２２２部を、乾燥空気中、５０℃で１時間かけて滴下した後、さらに７０℃で３時間攪拌した。
続いて、この反応溶液中に新中村化学製ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ（ペンタエリスリトールトリアクリレート６０質量％とペンタエリスリトールテトラアクリレート４０質量％からなる。このうち、反応に関与するのは、水酸基を有するペンタエリスリトールトリアクリレートのみである。）５４９部を３０℃で１時間かけて滴下した後、さらに６０℃で１０時間攪拌して反応液を得た。
この反応液中の生成物、すなわち、重合性不飽和基を有する有機化合物における残存イソシアネート量をＦＴ−ＩＲで測定したところ、０．１質量％以下であり、各反応がほぼ定量的に行われたことを確認した。生成物の赤外吸収スペクトルは原料中のメルカプト基に特徴的な２５５０カイザ−の吸収ピ−ク及び原料イソシアネ−ト化合物に特徴的な２２６０カイザ−の吸収ピ−クが消失し、新たにウレタン結合及びＳ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−基に特徴的な１６６０カイザ−のピ−ク及びアクリロキシ基に特徴的な１７２０カイザ−のピ−クが観察され、重合性不飽和基としてのアクリロキシ基と−Ｓ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−、ウレタン結合を共に有するアクリロキシ基修飾アルコキシシランが生成していることを示した。以上により、チオウレタン結合と、ウレタン結合と、アルコキシシリル基と、重合性不飽和基とを有する化合物（下記式で示される化合物）７７３部と反応に関与しなかったペンタエリスリトールテトラアクリレート２２０部の組成物（Ａ＃１）を得た。
【化２３】
［式中、「Ａｃｒｙｌ」は、アクリロイル基を示す。「Ｍｅ」はメチル基を示す。］
【０１１２】
製造例２
（２）ウレタンアクリレートの合成
攪拌機付きの容器内のイソホロンジイソシアネート１８．８部と、ジブチル錫ジラウレート０．２部とからなる溶液に対し、新中村化学製ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ（反応に関与するのは、水酸基を有するペンタエリスリトールトリアクリレートのみである。）９３部を、１０℃、１時間の条件で滴下した後、６０℃、６時間の条件で攪拌し、反応液とした。
この反応液中の生成物、即ち、製造例１と同様にして残存イソシアネート量をＦＴ−ＩＲで測定したところ、０．１質量％以下であり、反応がほぼ定量的に行われたことを確認した。また、分子内に、ウレタン結合、及びアクリロイル基（重合性不飽和基）とを含むことを確認した。
以上により、ウレタンヘキサアクリレート化合物が７５部得られたほか、反応に関与しなかったペンタエリスリトールテトラアクリレート３７部が混在している組成物（Ａ＃２）を得た。
【０１１３】
製造例３
［シリカ粒子含有ハードコート層用組成物の調製］
製造例１で製造した重合性不飽和基を含む組成物（Ａ＃１）２．３２部、シリカ粒子ゾル（メチルエチルケトンシリカゾル、日産化学工業（株）製ＭＥＫ−ＳＴ、数平均粒子径０．０２２μｍ、シリカ濃度３０％）９１．３部（シリカ粒子として２７部）、イオン交換水０．１２部、及びｐ−ヒドロキシフェニルモノメチルエーテル０．０１部の混合液を、６０℃、４時間攪拌後、オルト蟻酸メチルエステル１．３６部を添加し、さらに１時間同一温度で加熱攪拌することで粒子（分散液（Ａ＃３））を得た。この分散液（Ａ＃３）をアルミ皿に２ｇ秤量後、１７５℃のホットプレート上で１時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、３０．７％であった。また、分散液（Ａ＃３）を磁性るつぼに２ｇ秤量後、８０℃のホットプレート上で３０分予備乾燥し、７５０℃のマッフル炉中で１時間焼成した後の無機残渣より、固形分中の無機含量を求めたところ、９０％であった。
【０１１４】
この分散液（Ａ＃３）９８．６ｇ、組成物（Ａ＃２）３．４ｇ、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン２．１ｇ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）１．２ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）３３．２ｇ、シクロヘキサノン７ｇを混合攪拌し、シリカ粒子含有ハードコート層用組成物（固形分濃度５０％）を１４５ｇ得た。
【０１１５】
製造例４
［ジルコニア粒子含有組成物の調製］
第一稀元素化学工業（株）製、ＵＥＰ−１００（一次粒径１０〜３０ｎｍ）３００部をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）７００部に添加し、ガラスビーズにて１６８時間分散を行い、ガラスビーズを除去してジルコニア分散ゾル９５０部を得た。ジルコニア分散ゾルをアルミ皿に２ｇ秤量後、１２０℃のホットプレート上で１時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ３０％であった。このジルコニア分散ゾル１００ｇに、製造例１で合成した組成物（Ａ＃１）０．８６ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）１３．４ｇ、ｐ−メトキシフェノール０．０１６ｇ、イオン交換水０．０３３ｇの混合液を６０℃、３時間撹拌後、オルト蟻酸メチルエステル０．３３２ｇを添加してさらに１時間同一温度で加熱撹拌することで、表面変性ジルコニア粒子の分散液１１６ｇを得た。この分散液１１６ｇ、組成物（Ａ＃２）１．３４ｇ、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン１．２６ｇ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）０．７６ｇ、ＭＥＫ２８４６ｇを混合攪拌し、ジルコニア粒子含有組成物（固形分濃度４％）を２９６４ｇ得た。
【０１１６】
製造例５
［水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）の製造］
内容積１．５Ｌの電磁攪拌機付きステンレス製オートクレーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル５００ｇ、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）４３．２ｇ、エチルビニルエーテル４１．２ｇ、ヒドロキシエチルビニルエーテル２１．５ｇ、ノニオン性反応性乳化剤として「アデカリアソープＮＥ−３０」（旭電化工業株式会社製）４０．５ｇ、アゾ基含有ポリジメチルシロキサンとして「ＶＰＳ−１００１」（和光純薬工業株式会社製）６．０ｇ及び過酸化ラウロイル１．２５ｇを加え、ドライアイス−メタノールで−５０℃まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。
次いでヘキサフルオロプロピレン９７．４ｇを加え、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が６０℃に達した時点での圧力は５．３×１０５Ｐａを示した。その後、７０℃で２０時間攪拌下に反応を継続し、圧力が１．７×１０５Ｐａに低下した時点でオートクレーブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放出しオートクレーブを開放し、固形分濃度２６．４％のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液をメタノールに投入しポリマーを析出させた後、メタノールにて洗浄し、５０℃にて真空乾燥を行い２２０ｇの含フッ素重合体（Ｂ−２）を得た。
【０１１７】
製造例６
［エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体（Ｂ１）の製造］
電磁攪拌機、ガラス製冷却管及び温度計を備えた容量１リットルのセパラブルフラスコに、製造例９で得られた水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）を５０.０ｇ、重合禁止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチルメチルフェノール０．０１ｇ及びＭＩＢＫ３７４ｇを仕込み、２０℃で水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）がＭＩＢＫに溶解して、溶液が透明、均一になるまで攪拌を行った。次いで、この系に、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート１６．０ｇを添加し、溶液が均一になるまで攪拌した後、ジブチルチンジラウレート０．１ｇを添加して反応を開始し、系の温度を５５〜６５℃に保持し５時間攪拌を継続することにより、エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体（Ｂ１）のＭＩＢＫ溶液を得た。この溶液をアルミ皿に２ｇ秤量後、１５０℃のホットプレート上で５分間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、１５．０％であった。
【０１１８】
製造例７
［紫外線硬化性樹脂組成物１の調製］
ＩＴＯ粒子ゾル１１０ｇ（ＮＩＤ−２０、富士化学製、ＩＴＯ分散液（ＩＰＡ溶液）、粒子として５０．０ｇ）、製造例６で得られたエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体（Ｂ１）２０７．２ｇ（エチレン性不飽和基含有フッ素重合体として３１．０８ｇ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）１６．４６ｇ、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン（イルガキュア３６９、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、光ラジカル重合開始剤）２．４６ｇ、メチルエチルケトン１７８ｇ、メチルイソブチルケトン１１８ｇ、ノルマルブタノール８４ｇ、メチルアミルケトン８４ｇを加え攪拌した。得られた紫外線硬化性樹脂組成物の固形分濃度は１０．６％であった。配合した溶剤比を表２に示す。
【０１１９】
製造例８〜１２
［紫外線硬化性樹脂組成物２〜６の調製］
各成分を表１に示す割合で配合した以外は製造例７と同様にして紫外線硬化性樹脂組成物２〜６を得た。
【０１２０】
実施例１
［積層体の作製］
（１）ハードコート層の作製
製造例３で調製したシリカ粒子含有ハードコート層用組成物（固形分濃度５０％）を、ワイヤーバーコータ（＃１２）を用いて、トリアセチルセルロースフィルム（ＬＯＦＯ製、膜厚８０μｍ）に塗工した後、オーブン中８０℃で１分間乾燥した。続いて、空気下、高圧水銀ランプを用いて、０．６Ｊ／ｃｍ２の光照射条件で紫外線を照射することにより、硬化膜層を形成した。硬化膜層の膜厚を触針式膜厚計にて測定したところ５μｍであった。
【０１２１】
（２）中屈折率層の作製
製造例４で調製したジルコニア粒子含有組成物（固形分濃度４％）を、ワイヤーバーコーター（＃３）を用いて、（１）で作製したハードコート層上に塗工した後、オーブン中８０℃で１分間乾燥した。続いて、窒素雰囲気下、高圧水銀ランプを用いて、０．６Ｊ／ｃｍ２の光照射条件で紫外線を照射することにより、硬化膜層を形成した。硬化膜層の膜厚を反射分光計にて算出したところ６５ｎｍであった。
【０１２２】
（３）高屈折率層と低屈折率層の作製
製造例７〜１２で得られた紫外線硬化性樹脂組成物１〜６を、それぞれ、ワイヤーバーコータ（＃３）を用いて、（２）で作製した中屈折率層上に塗工した後、オーブン中１４０℃で２分間乾燥し、大気下、オーク製作所製コンベア式水銀ランプを用い、０．６Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照射することにより、膜厚が０．２μｍの硬化膜層を形成した。
【０１２３】
実施例２
［積層体の作製］
（１）ハードコート層の作製
実施例１（１）と同様にして作製した。
（２）高屈折率層と低屈折率層の作製
製造例７〜１２で得られた紫外線硬化性樹脂組成物１〜６を、それぞれ、ワイヤーバーコータ（＃３）を用いて、（１）で作製したハードコート層上に塗工した後、オーブン中１４０℃で２分間乾燥し、大気下、オーク製作所製コンベア式水銀ランプを用い、０．６Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照射することにより、膜厚が０．２μｍの硬化膜層を形成した。
【０１２４】
評価例１
［積層体の評価］
実施例１、２で得られた積層体の断面を、透過型電子顕微鏡で観察したところ、何れの積層体においても、低屈折率層と高屈折率層が２層に層分離していることが確認された（ハードコート層側が高屈折率層）。このとき、低屈折率層が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層であり、高屈折率層が金属酸化物粒子が高密度に存在する層であった。
得られた反射防止用積層体の反射防止性を、分光反射率測定装置（大型試料室積分球付属装置１５０−０９０９０を組み込んだ自記分光光度計Ｕ−３４１０、日立製作所（株）製）により、波長５５０ｎｍの反射率を測定して評価した。具体的には、アルミの蒸着膜における反射率を基準（１００％）として、反射防止用積層体（反射防止膜）の反射率を測定した。その結果、何れの積層体も波長５５０ｎｍにおける反射率が１％以下であった。
【０１２５】
【表１】
【０１２６】
表１中の略称等は、下記のものを示す。
ＤＰＰＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレート；ＵＶ硬化性架橋剤（５官能）
イルガキュア３６９：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、光重合開始剤
【０１２７】
【表２】
【産業上の利用可能性】
【０１２８】
本発明の積層体の製造方法は、１の塗膜から、２以上の層を形成することができるため、二層以上の多層構造を有する積層体の製造工程を簡略化できる。従って、本発明の積層体の製造方法は、特に、反射防止膜、レンズ、選択透過膜フィルタ等の光学材料の形成に有利に用いることができる。また、得られる積層体は、フッ素含量が高い層を含むことができることを利用して、耐候性が要求される基材に対する塗料、耐候フィルム、コーティング、その他として好適に使用することができる。しかも、当該積層体は、基材に対する密着性に優れ、耐擦傷性が高く、帯電防止性を有し、良好な反射防止効果を付与することから、反射防止膜として極めて有用であり、各種の表示装置に適用することにより、その視認性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１２９】
【図１Ａ】「１の塗膜から形成される２以上の層」を説明するための図である。
【図１Ｂ】「１の塗膜から形成される２以上の層」を説明するための図である。
【図１Ｃ】「１の塗膜から形成される２以上の層」を説明するための図である。
【図１Ｄ】「１の塗膜から形成される２以上の層」を説明するための図である。
【図１Ｅ】「１の塗膜から形成される２以上の層」を説明するための図である。
【図２】本発明に係る一実施形態である反射防止膜の断面図である。
【図３】本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。
【図４】本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。
【図５】本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。
【図６】本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。
【図７】本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。
【図８】本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。
【図９】本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。
【図１０】本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。
【符号の説明】
【０１３０】
１０ 基材
２０ ハードコート層
３０ 帯電防止層
４０ 高屈折率層
５０ 低屈折率層
６０ 中屈折率層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、その上に多層構造を有する積層体の製造方法であって、
前記基材上又は基材上に形成された層の上に、下記成分（Ａ）〜（Ｄ）を含む紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、
この１の塗膜から溶媒を蒸発させることにより、２以上の層を形成することを特徴とする積層体の製造方法。
［紫外線硬化性樹脂組成物］
（Ａ）金属酸化物粒子
（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体
（Ｃ）（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が高い溶剤
（Ｄ）（Ａ）金属酸化物粒子に対する分散安定性が高く、かつ、（Ｃ）の溶剤と相溶性である溶剤
かつ、（Ｃ）の溶剤の相対蒸発速度が、（Ｄ）の溶剤の相対蒸発速度よりも大きい
【請求項２】
前記２以上の層の各層が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層又は金属酸化物粒子が実質的に存在しない層であって、少なくとも１層は金属酸化物粒子が高密度に存在する層であることを特徴とする請求項１に記載の積層体の製造方法。
【請求項３】
前記２以上の層が、２層であることを特徴とする請求項２に記載の積層体の製造方法。
【請求項４】
さらに、前記２以上の層を放射線照射することにより硬化させることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項５】
積層体が光学用部品であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項６】
積層体が反射防止膜であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項７】
前記積層体が、基材上に、少なくとも、高屈折率層及び低屈折率層が、基材に近い側からこの順に積層されている反射防止膜であり、請求項３に記載の２層が、
高屈折率層及び
低屈折率層からなる
ことを特徴とする請求項３に記載の積層体の製造方法。
【請求項８】
低屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．２０〜１．５５であり、
高屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．５０〜２．２０であって、低屈折率層の屈折率より高いことを特徴とする請求項７に記載の積層体の製造方法。
【請求項９】
前記積層体が、基材上に、少なくとも、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層が、基材に近い側からこの順に積層されている反射防止膜であり、請求項３に記載の２層が
高屈折率層及び
低屈折率層からなる
ことを特徴とする請求項３に記載の積層体の製造方法。
【請求項１０】
低屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．２０〜１．５５であり、
中屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．５０〜１．９０であって、低屈折率層の屈折率より高く、
高屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．５１〜２．２０であって、中屈折率層の屈折率より高いことを特徴とする請求項９に記載の積層体の製造方法。
【請求項１１】
さらに、基材上に、ハードコート層及び／又は帯電防止層を形成することを特徴とする請求項７〜１０のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項１２】
前記（Ａ）金属酸化物粒子が、導電性を有する粒子であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項１３】
前記（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体が、１個のイソシアネート基と、少なくとも１個のエチレン性不飽和基とを含有する化合物（Ｂ−１）と、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）と、を反応させて得られることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項１４】
前記水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）が、下記構造単位（ａ）２０〜７０モル％、（ｂ）１０〜７０モル％及び（ｃ）５〜７０モル％を含んでなり、かつ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算数平均分子量が５，０００〜５００，０００である請求項１３に記載の積層体の製造方法。
（ａ）下記一般式（１）で表される構造単位。
（ｂ）下記一般式（２）で表される構造単位。
（ｃ）下記一般式（３）で表される構造単位。
【化１】
［式中、Ｒ1 はフッ素原子、フルオロアルキル基、又は−ＯＲ2 で表される基（Ｒ2 はアルキル基、又はフルオロアルキル基を示す）を示す］
【化２】
［式中、Ｒ3 は水素原子又はメチル基を、Ｒ4 はアルキル基、−(ＣＨ2)x−ＯＲ5
若しくは−ＯＣＯＲ5 で表される基（Ｒ5 はアルキル基、又はグリシジル基を、ｘは０又は１の数を示す）、カルボキシル基、又はアルコキシカルボニル基を示す］
【化３】
［式中、Ｒ6 は水素原子、又はメチル基を、Ｒ7 は水素原子、又はヒドロキシアルキル基を、ｖは０又は１の数を示す］
【請求項１５】
さらに、前記水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）が、アゾ基含有ポリシロキサン化合物に由来する下記構造単位（ｄ）０．１〜１０モル％を含む請求項１３又は１４に記載の積層体の製造方法。
（ｄ）下記一般式（４）で表される構造単位。
【化４】
［式中、Ｒ8 及びＲ9 は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はアリール基を示す］
【請求項１６】
前記水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）が、前記構造単位（ｄ）を下記構造単位（ｅ）の一部として含むことを特徴とする請求項１５に記載の積層体の製造方法。
（ｅ）下記一般式（５）で表される構造単位。
【化５】
［式中、Ｒ10 〜Ｒ13 は水素原子、アルキル基、又はシアノ基を示し、Ｒ14 〜Ｒ17
は水素原子又はアルキル基を示し、ｐ、ｑは１〜６の数、ｓ、ｔは０〜６の数、ｙは１〜２００の数を示す。］
【請求項１７】
さらに、前記水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）が、下記構造単位（ｆ）０．１〜５モル％を含む請求項１３〜１６のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
（ｆ）下記一般式（６）で表される構造単位。
【化６】
［式中、Ｒ18 は乳化作用を有する基を示す］
【請求項１８】
前記化合物（Ｂ−１）が、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネートである請求項１３〜１７のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
【請求項１９】
紫外線硬化性樹脂組成物の（Ｃ）の溶剤は、（Ａ）金属酸化物粒子に対する分散安定性が低い溶剤であり、
（Ｄ）の溶剤は、（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が低い溶剤であることを特徴とする請求項１〜１８のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項２０】
紫外線硬化性樹脂組成物が、さらに、成分（Ｅ）少なくとも２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する多官能（メタ）アクリレート化合物及び／又は少なくとも１個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する含フッ素（メタ）アクリレート化合物を含有することを特徴とする請求項１〜１９のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項２１】
紫外線硬化性樹脂組成物が、さらに、成分（Ｆ）光ラジカル重合開始剤を含むことを特徴とする請求項１〜２０のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項２２】
請求項１〜２１のいずれか一項に記載された積層体の製造方法により、製造された積層体。
【請求項１】
基材と、その上に多層構造を有する積層体の製造方法であって、
前記基材上又は基材上に形成された層の上に、下記成分（Ａ）〜（Ｄ）を含む紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、
この１の塗膜から溶媒を蒸発させることにより、２以上の層を形成することを特徴とする積層体の製造方法。
［紫外線硬化性樹脂組成物］
（Ａ）金属酸化物粒子
（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体
（Ｃ）（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が高い溶剤
（Ｄ）（Ａ）金属酸化物粒子に対する分散安定性が高く、かつ、（Ｃ）の溶剤と相溶性である溶剤
かつ、（Ｃ）の溶剤の相対蒸発速度が、（Ｄ）の溶剤の相対蒸発速度よりも大きい
【請求項２】
前記２以上の層の各層が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層又は金属酸化物粒子が実質的に存在しない層であって、少なくとも１層は金属酸化物粒子が高密度に存在する層であることを特徴とする請求項１に記載の積層体の製造方法。
【請求項３】
前記２以上の層が、２層であることを特徴とする請求項２に記載の積層体の製造方法。
【請求項４】
さらに、前記２以上の層を放射線照射することにより硬化させることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項５】
積層体が光学用部品であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項６】
積層体が反射防止膜であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項７】
前記積層体が、基材上に、少なくとも、高屈折率層及び低屈折率層が、基材に近い側からこの順に積層されている反射防止膜であり、請求項３に記載の２層が、
高屈折率層及び
低屈折率層からなる
ことを特徴とする請求項３に記載の積層体の製造方法。
【請求項８】
低屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．２０〜１．５５であり、
高屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．５０〜２．２０であって、低屈折率層の屈折率より高いことを特徴とする請求項７に記載の積層体の製造方法。
【請求項９】
前記積層体が、基材上に、少なくとも、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層が、基材に近い側からこの順に積層されている反射防止膜であり、請求項３に記載の２層が
高屈折率層及び
低屈折率層からなる
ことを特徴とする請求項３に記載の積層体の製造方法。
【請求項１０】
低屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．２０〜１．５５であり、
中屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．５０〜１．９０であって、低屈折率層の屈折率より高く、
高屈折率層の５８９ｎｍにおける屈折率が１．５１〜２．２０であって、中屈折率層の屈折率より高いことを特徴とする請求項９に記載の積層体の製造方法。
【請求項１１】
さらに、基材上に、ハードコート層及び／又は帯電防止層を形成することを特徴とする請求項７〜１０のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項１２】
前記（Ａ）金属酸化物粒子が、導電性を有する粒子であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項１３】
前記（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体が、１個のイソシアネート基と、少なくとも１個のエチレン性不飽和基とを含有する化合物（Ｂ−１）と、水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）と、を反応させて得られることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項１４】
前記水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）が、下記構造単位（ａ）２０〜７０モル％、（ｂ）１０〜７０モル％及び（ｃ）５〜７０モル％を含んでなり、かつ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算数平均分子量が５，０００〜５００，０００である請求項１３に記載の積層体の製造方法。
（ａ）下記一般式（１）で表される構造単位。
（ｂ）下記一般式（２）で表される構造単位。
（ｃ）下記一般式（３）で表される構造単位。
【化１】
［式中、Ｒ1 はフッ素原子、フルオロアルキル基、又は−ＯＲ2 で表される基（Ｒ2 はアルキル基、又はフルオロアルキル基を示す）を示す］
【化２】
［式中、Ｒ3 は水素原子又はメチル基を、Ｒ4 はアルキル基、−(ＣＨ2)x−ＯＲ5
若しくは−ＯＣＯＲ5 で表される基（Ｒ5 はアルキル基、又はグリシジル基を、ｘは０又は１の数を示す）、カルボキシル基、又はアルコキシカルボニル基を示す］
【化３】
［式中、Ｒ6 は水素原子、又はメチル基を、Ｒ7 は水素原子、又はヒドロキシアルキル基を、ｖは０又は１の数を示す］
【請求項１５】
さらに、前記水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）が、アゾ基含有ポリシロキサン化合物に由来する下記構造単位（ｄ）０．１〜１０モル％を含む請求項１３又は１４に記載の積層体の製造方法。
（ｄ）下記一般式（４）で表される構造単位。
【化４】
［式中、Ｒ8 及びＲ9 は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はアリール基を示す］
【請求項１６】
前記水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）が、前記構造単位（ｄ）を下記構造単位（ｅ）の一部として含むことを特徴とする請求項１５に記載の積層体の製造方法。
（ｅ）下記一般式（５）で表される構造単位。
【化５】
［式中、Ｒ10 〜Ｒ13 は水素原子、アルキル基、又はシアノ基を示し、Ｒ14 〜Ｒ17
は水素原子又はアルキル基を示し、ｐ、ｑは１〜６の数、ｓ、ｔは０〜６の数、ｙは１〜２００の数を示す。］
【請求項１７】
さらに、前記水酸基含有含フッ素重合体（Ｂ−２）が、下記構造単位（ｆ）０．１〜５モル％を含む請求項１３〜１６のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
（ｆ）下記一般式（６）で表される構造単位。
【化６】
［式中、Ｒ18 は乳化作用を有する基を示す］
【請求項１８】
前記化合物（Ｂ−１）が、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネートである請求項１３〜１７のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
【請求項１９】
紫外線硬化性樹脂組成物の（Ｃ）の溶剤は、（Ａ）金属酸化物粒子に対する分散安定性が低い溶剤であり、
（Ｄ）の溶剤は、（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体に対する溶解性が低い溶剤であることを特徴とする請求項１〜１８のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項２０】
紫外線硬化性樹脂組成物が、さらに、成分（Ｅ）少なくとも２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する多官能（メタ）アクリレート化合物及び／又は少なくとも１個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する含フッ素（メタ）アクリレート化合物を含有することを特徴とする請求項１〜１９のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項２１】
紫外線硬化性樹脂組成物が、さらに、成分（Ｆ）光ラジカル重合開始剤を含むことを特徴とする請求項１〜２０のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項２２】
請求項１〜２１のいずれか一項に記載された積層体の製造方法により、製造された積層体。
【図１Ａ】
【図１Ｂ】
【図１Ｃ】
【図１Ｄ】
【図１Ｅ】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１Ｂ】
【図１Ｃ】
【図１Ｄ】
【図１Ｅ】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２００６−２０６８３２（Ｐ２００６−２０６８３２Ａ）
【公開日】平成１８年８月１０日（２００６．８．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２３８５５（Ｐ２００５−２３８５５）
【出願日】平成１７年１月３１日（２００５．１．３１）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年８月１０日（２００６．８．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１月３１日（２００５．１．３１）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
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