共有結合性有機骨格として配列した、複数のセグメントと複数の連結基とを含む、追加機能性を備えた構造化有機薄膜であって、構造化有機薄膜は、複数セグメントの厚さの構造化有機薄膜とすることができる。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
共有結合性有機骨格（ＣＯＦ）として配列した、複数のセグメントと複数の連結基とを含む、複合材構造化有機薄膜（ＳＯＦ）であって、前記ＳＯＦは、実質的に欠陥のない薄膜であり、二次的成分を含んでいることを特徴とする構造化有機薄膜。
【請求項２】
前記二次的成分は、導電性試剤、半導体試剤、電子輸送試剤、正孔輸送試剤、ｐ型材料、ｎ型材料、疎水性試剤、親水性試剤、衝撃改質剤、強化用繊維、滑剤、帯電防止剤、結合剤、湿潤剤、防曇剤、難燃剤、紫外線安定剤、酸化防止剤、殺生物剤、染料、顔料、着臭剤、防臭剤、および核形成剤から成る群より選ばれることを特徴とする、請求項１に記載の構造化有機薄膜。
【請求項３】
前記二次的成分は、前記ＳＯＦの傾向または固有の性質を強めることを特徴とする、請求項１に記載の構造化有機薄膜。
【請求項４】
前記二次的成分は、前記ＳＯＦの傾向または固有の性質を弱めることを特徴とする、請求項１に記載の構造化有機薄膜。
【請求項５】
前記二次的成分は、前記ＳＯＦに共有結合していないことを特徴とする、請求項１に記載の構造化有機薄膜。
【請求項６】
前記ＳＯＦは、複数セグメントの厚さの単一層であることを特徴とする、請求項１に記載の構造化有機薄膜。
【請求項７】
前記ＳＯＦは、単一セグメントの厚さの単一層であることを特徴とする、請求項１に記載の構造化有機薄膜。
【請求項８】
複数の前記セグメントは同一の構造を持つセグメントを含み、複数の前記連結基は同一の構造を持つ連結基を含み、前記ＳＯＦの縁にない前記セグメントは、連結基によって少なくとも３つの他のセグメントに結合していることを特徴とする、請求項１に記載の構造化有機薄膜。
【請求項９】
複数の前記セグメントは、構造の異なる、少なくとも第１セグメントと第２セグメントとを含み、前記第１セグメントは、前記ＳＯＦの縁にない場合、連結基によって少なくとも３つの他のセグメントに結合していることを特徴とする、請求項１に記載の構造化有機薄膜。
【請求項１０】
前記ＳＯＦは、炭素ではない元素の少なくとも１つの原子を含んでいることを特徴とする、請求項１に記載の構造化有機薄膜。
【請求項１１】
炭素ではない元素の少なくとも１つの前記原子は、水素、酸素、窒素、ケイ素、リン、セレン、フッ素、ホウ素、および硫黄から成る群より選ばれることを特徴とする、請求項１０に記載の構造化有機薄膜。
【請求項１２】
前記ＳＯＦは、１ｃｍ２当たりに含まれる、直径約２５０ｎｍを超えるピンホール、細孔、またはギャップが１０個未満であることを特徴とする、請求項１に記載の構造化有機薄膜。
【請求項１３】
複合材構造化有機薄膜（ＳＯＦ）の製造法であって、
前記製造法は、
（ａ）二次的成分と、
それぞれが１つのセグメントといくつかの官能基とを含む、複数の分子構成要素と、
を含んでいる、液体を含む反応混合物を調製する工程と、
（ｂ）前記反応混合物をウェットフィルムとして堆積する工程と、
（ｃ）前記ウェットフィルムの変化を促進し、前記二次的成分を組み込んだ乾燥ＳＯＦを生成する工程と、
を含むことを特徴とする、複合材構造化有機薄膜の製造法。
【請求項１４】
前記官能基の反応を促進する工程を更に含み、前記官能基の反応の結果として揮発性副生物が生成することを特徴とする、請求項１３に記載の製造法。
【請求項１５】
前記ＳＯＦは、前記ウェットフィルムに、オーブン乾燥または赤外線（ＩＲ）乾燥、あるいは、オーブン乾燥およびＩＲ乾燥を行った後に生成することを特徴とする、請求項１３に記載の製造法。
【請求項１６】
前記反応混合物は、ウェットフィルムとして基材上に堆積することを特徴とする、請求項１３に記載の製造法。
【請求項１７】
前記基材は、ＳＯＦ基材であることを特徴とする、請求項１６に記載の製造法。
【請求項１８】
前記乾燥ＳＯＦを、共有結合またはイオン結合のいずれかによって前記ＳＯＦ基材に化学的に付着させる工程を更に含むことを特徴とする、請求項１７に記載の製造法。
【請求項１９】
複合材構造化有機薄膜（ＳＯＦ）の製造法であって、
前記製造法は、
（ａ）それぞれが１つのセグメントといくつかの官能基とを含む、複数の分子構成要素を含んでいる、液体を含む反応混合物を調製する工程と、
（ｂ）前記反応混合物をウェットフィルムとして堆積する工程と、
（ｃ）前記ウェットフィルムの表面に二次的成分を分散させる工程と、
（ｄ）前記ウェットフィルムの変化を促進し、前記二次的成分を組み込んだ乾燥ＳＯＦを生成する工程と、
を含むことを特徴とする、複合材構造化有機薄膜の製造法。
【請求項２０】
前記ウェットフィルムの表面への二次的成分の分散により、前記二次的成分のパターンができることを特徴とする、請求項１９に記載の製造法。

【図１】

【図２】

【図３】

【図４】

【図５】

【図６】

【図７】

【図８】

【図９】

【図１０】

【図１１】

【図１２】

【図１３】

【図１４】

【図１５】

【公表番号】特表２０１２−５１９７５８（Ｐ２０１２−５１９７５８Ａ）
【公表日】平成２４年８月３０日（２０１２．８．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５５３０８４（Ｐ２０１１−５５３０８４）
【出願日】平成２２年３月３日（２０１０．３．３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２０１０／０２６０８２
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／１０２０２７
【国際公開日】平成２２年９月１０日（２０１０．９．１０）
【出願人】（５９６１７０１７０）ゼロックス　コーポレイション (1,961)
【氏名又は名称原語表記】ＸＥＲＯＸ　ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ
【Ｆターム（参考）】