【課題】優れた高コンダクタンス型カルシウム感受性Ｋチャネル開口薬の提供。
【解決手段】 式（Ｉ）


［式中、ＸはＮ−Ｒ⁴、Ｏ又はＳを表す。Ｒ¹及びＲ²は独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、アミノ基、低級アルキル基、複素環式基、或いは複素環式基置換カルボニル基等を表す。Ｒ³はアリール基、複素環式基、或いは低級アルキル基を表す。Ｒ⁴は水素原子、或いは低級アルキル基を表す。］で示される含窒素５員複素環化合物又はその塩を有効成分として含有する高コンダクタンス型カルシウム感受性Ｋチャネル開口薬。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、頻尿、尿失禁、脳梗塞、クモ膜下出血等の疾患の治療に有用な、含窒素５員複素環化合物を有効成分とする優れた高コンダクタンス型カルシウム感受性Ｋチャネル開口薬に関する。
【背景技術】
【０００２】
カリウムは細胞内に最も豊富に存在する陽イオンであり、生理的ホメオスタシスを維持するため大変重要である。カリウムチャネルはほとんどすべての脊椎動物の細胞に認められ、これらのチャンネルからのカリウムの流入は、過分極した細胞の静止膜電位の維持に不可欠である。
【０００３】
高コンダクタンス型カルシウム感受性カリウムチャネル（ＢＫチャネル又はｍａｘｉ−Ｋチャンネルともいう）は、特に神経細胞及び平滑筋細胞中に発現している。細胞内カルシウム濃度の上昇及び膜の脱分極によりｍａｘｉ−Ｋチャンネルは活性化されるため、電位に依存するカルシウムの流入を制御する極めて重要な役割を担っていると考えられてきた。細胞内カルシウム濃度の上昇は、神経伝達物質の放出、平滑筋の収縮、細胞増殖及び細胞死等の多くのプロセスを媒介している。事実、ｍａｘｉ−Ｋチャンネルの開口により強力な膜の過分極が起こり、それにより、カルシウムに誘導されるこれらの反応を抑制する。従って、ｍａｘｉ−Ｋチャネルを開口させる作用を有する物質は、様々な脱分極に媒介される生理的反応を抑制することにより、脳梗塞、クモ膜下出血、頻尿・尿失禁等の疾患の治療剤としての可能性が期待されている。
【０００４】
高コンダクタンス型カルシウム感受性カリウムチャネル開口薬としては、種々報告されており、そのようなチャンネル開口薬としては、例えば国際公開ＷＯ９６／４０６３４のピロール誘導体、特開２０００−３５１７７３のフラン誘導体、国際公開ＷＯ９８／０４１３５の窒素原子がフェニル基又はベンジル基で置換されている含窒素５員環誘導体が挙げられる。
【０００５】
また、本発明の有効成分である含窒素５員複素環化合物と構造類似の化合物が開示されている。例えば、特開昭５９−３６６１４、特開昭５９−１５２３８２及び特開昭５９−１７２４８８に、オキサゾ−ル誘導体が報告されているが、これらの用途はいずれも抗脂血剤に限られている。また、特開昭５８−１５０５９１、特開昭６０−３４９５１及び特開昭６３−５４３６９には、イミダゾール誘導体が報告されているが、その用途は、強心剤、抗血栓剤、解熱鎮痛剤又は抗炎症剤に限られている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は含窒素５員複素環化合物を有効成分とする優れた高コンダクタンス型カルシウム感受性Ｋチャネル開口薬を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
課題を解決するために本発明者等は、鋭意研究の結果、ある種の含窒素５員複素環化合物が、優れた高コンダクタンス型カルシウム感受性Ｋチャネル開口作用を有することを見出して本発明を完成した。
すなわち、本発明は、式（Ｉ）
【０００８】
【化３】

【０００９】
［式中、ＸはＮ−Ｒ⁴、Ｏ又はＳを表す。
Ｒ¹及びＲ²は互いに異なって、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、置換又は非置換のアミノ基、置換又は非置換の低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、置換又は非置換の低級アルケニル基、シクロ低級アルキル基、置換又は非置換のカルバモイル基、置換又は非置換のアリール基、置換又は非置換の複素環式基、或いは置換又は非置換の複素環式基置換カルボニル基を表す。
Ｒ³は置換又は非置換のアリール基、置換又は非置換の複素環式基、或いは置換又は非置換の低級アルキル基を表す。
Ｒ⁴は水素原子、或いは置換又は非置換低級アルキル基を表す。］
で示される含窒素５員複素環化合物又はその薬理的に許容し得る塩を有効成分として含有する高コンダクタンス型カルシウム感受性Ｋチャネル開口薬に関する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の有効成分である含窒素５員複素環化合物（Ｉ）において、アリール基は単環式、二環式又は三環式の、６〜１４員の芳香族炭化水素環式基であり、アリール基の具体例として、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。このうち、フェニル基又はナフチル基が好ましい。
【００１１】
複素環式基又は複素環式基置換カルボニル基における複素環式基部分は、一部又は全部が飽和していてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる１〜４個の異項原子を含む、６〜１４員の単環式、二環式又は三環式の複素環基である。
【００１２】
単環式複素環基としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる１〜４個の異項原子を含む、５〜７員の一部又は全部が飽和していてもよい複素環基が好ましく、単環式複素環基の具体例としては、フリル基、チエニル基、チアゾリル基、チアゾリジニル基、イソオキサゾリル基、ピロリジニル基、ピロリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、テトラゾリル基等が挙げられる。
【００１３】
二環式複素環基としては、上記単環式複素環基が同一又は異なって２個縮合した二環式複素環基、或いは上記単環式複素環基とベンゼン環とが縮合した二環式複素環基が好ましく、二環式複素環基の具体例としては、インドリル基、キノリル基、テトラヒドロキノリル基、イソキノリル基、キノキサリニル基、ベンゾフリル基、ジヒドロベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、ベンゾジオキサニル基、トリヒドロシクロペンタチエニル基、ベンゾチアニル基、ベンゾチアゾリル基、イミダゾピリジル基、インドリル基、インドリニル基、クロマニル基、チオフェノピリジル基、フラノピリジル基等が挙げられる。
【００１４】
三環式複素環基としては、上記単環式複素環基と上記二環式複素環基とが縮合した三環式複素環基、或いは上記単環式複素環基とベンゼン環２個とが縮合した三環式複素環基が好ましく、三環式複素環基の具体例としては、カルバゾリル基、カルボリニル基等が挙げられる。
【００１５】
これら複素環基のうち、具体的には、フリル基、チエニル基、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、ピロリジニル基、ピロリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジル基、テトラゾリル基、インドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、ジヒドロベンゾフリル基、チオフェノピリジル基、又はベンゾジオキサニル基が好ましい。
【００１６】
Ｒ¹又はＲ²における、アミノ基の置換基としては、例えばホルミル基、低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルキルスルホニル基及び低級アルコキシカルボニル基から選ばれる基が挙げられる。
【００１７】
低級アルキル基の置換基としては、例えばハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アミノ基、アミノスルホニル基、ハロゲノスルホニル基、アミジノチオ基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシアミノ基、モノ若しくはジ低級アルキルカルバモイル基、トリフルオロメチル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、低級アルコキシカルバモイル基、低級アルキルスルホニルカルバモイル基、スルファモイル基、モノ若しくはジ低級アルキルスルファモイル基、低級アルコキシカルボニル基、複素環式基、複素環式基置換カルバモイル基、複素環式基置換低級アルキルカルバモイル基及び複素環式基置換スルホニルカルバモイル基から選ばれる基が挙げられる。
【００１８】
低級アルケニル基の置換基としてはカルボキシル基又は低級アルコキシカルボニル基が挙げられる。
【００１９】
カルバモイル基の置換基としては低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルスルホニル基から選ばれる基が挙げられる。
【００２０】
アリール基の置換基としては、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルバモイル基、シアノ基、カルボキシル基、トリフルオロメチル基、低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ−低級アルコキシ基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基、モノ若しくはジ低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルフィニル基、スルファモイル基、モノ若しくはジ低級アルキルスルファモイル基、低級アルキルスルホニルアミノ基、及びフェニル低級アルコキシ基から選ばれる基が挙げられる。
【００２１】
複素環式基の置換基としては、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシル基、ホルミル基、カルバモイル基、シアノ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基、モノ若しくはジ低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルフィニル基、スルファモイル基及びモノ若しくはジ低級アルキルスルファモイル基から選ばれる基が挙げられる。
【００２２】
複素環式基置換カルボニル基の複素環式基上の置換基としては、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルバモイル基、シアノ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルカノイル基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基、モノ若しくはジ低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルフィニル基、スルファモイル基及びモノ若しくはジ低級アルキルスルファモイル基から選ばれる基が挙げられる。
【００２３】
上記のアミノ基、低級アルキル基、カルバモイル基、アリール基、複素環式基、又は複素環式基置換カルボニル基は、同一又は異なる１〜３個の上記置換基で置換されていてもよい。
【００２４】
Ｒ³における、アリール基の置換基としては、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、カルバモイル基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノ−低級アルキル基、モノ若しくはジ低級アルキルカルバモイル基、低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、低級アルカノイルオキシ−低級アルキル基、スルホ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルチオ基−低級アルキル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルファモイル基、及び低級アルキルスルフィニル基から選ばれる基が挙げられる。
複素環式基の置換基としては、オキソ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキシル基、ホルミル基、カルバモイル基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基、Ｎ−低級アルキル−Ｎ−シクロ低級アルキルアミノ基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノ−低級アルキル基、モノ若しくはジ低級アルキルカルバモイル基、低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ−低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイル基、スルホ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルファモイル基、低級アルキルスルフィニル基、及び複素環式基から選ばれる基が挙げられる。
【００２５】
アルキル基の置換基としては、ヒドロキシル基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アミノ基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシアミノ基、モノ若しくはジ低級アルキルカルバモイル基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、スルファモイル基、モノ若しくはジ低級アルキルスルファモイル基、低級アルコキシカルボニル基、及び複素環式基から選ばれる基が挙げられる。
【００２６】
上記のアリール基、複素環式基及び低級アルキル基の置換基は、同一又は異なる１〜３個の上記置換基で置換されていてもよい。
【００２７】
Ｒ⁴における、低級アルキル基の置換基としては、モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基が挙げられる。この低級アルキル基は、同一又は異なる１〜２個の上記置換基で置換されていてもよい。
【００２８】
本発明の有効成分である化合物（Ｉ）のうち、好ましい化合物としては、ＸがＮ−Ｒ⁴、Ｏ又はＳであり、Ｒ¹又はＲ²が独立して、水素原子、低級アルキル基、複素環式基で置換された低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ基、カルボキシ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル低級アルキル基、低級アルキルスルホニル低級アルキル基、低級アルキルチオ低級アルキル基、トリフルオロメチル低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、アリール基、トリフルオロメチルアリール基、シアノアリール基、ハロゲノアリール基、ジハロゲノアリール基、低級アルキルアリール基、低級アルコキシアリール基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノアリール基、複素環式基、低級アルキル複素環式基、ハロゲノ複素環式基、又はハロゲン原子及び低級アルキル基で置換された複素環式基であり、Ｒ³がアリール基、ハロゲノアリール基、ヒドロキシアリール基、シアノアリール基、ニトロアリール基、低級アルキルアリール基、低級アルコキシアリール基、低級アルキルチオアリール基、複素環式基、低級アルキコキシカルボニル複素環式基、シアノ複素環式基、ハロゲノ複素環式基、低級アルキル複素環式基、ジ低級アルキル複素環式基、ジ低級アルキルアミノ基で置換された複素環式基、ハロゲン原子及び低級アルキル基で置換された複素環式基、又はハロゲン原子及びヒドロキシ低級アルキル基で置換された複素環式基であり、Ｒ⁴が水素原子である化合物が挙げられる。
【００２９】
他の好ましい化合物としては、ＸがＮ−Ｒ⁴、Ｏ又はＳであり、Ｒ¹又はＲ²が独立して、水素原子、低級アルキル基、複素環式基で置換された低級アルキル基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、シアノ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル低級アルキル基、低級アルキルチオ低級アルキル基、シクロ低級アルキル基、アリール基、トリフルオロメチルアリール基、ヒドロキシアリール基、ハロゲノアリール基、ジハロゲノアリール基、低級アルキルアリール基、ジ低級アルコキシアリール基、ジ低級アルキルアミノアリール基、低級アルキルスルホニルアミノアリール基、ヒドロキシ基及び低級アルコキシ基で置換されたアリール基、ヒドロキシ基及びハロゲン原子で置換されたアリール基、ハロゲン原子及び低級アルコキシ基で置換されたアリール基、ハロゲン原子及びジ低級アルコキシ基で置換されたアリール基、複素環式基、ハロゲノ複素環式基、低級アルキル複素環式基、ヒドロキシ低級アルキル複素環式基、ハロゲン原子及び低級アルキル基で置換された複素環式基、低級アルキル基及びヒドロキシ低級アルキル基で置換された複素環式基、又は複素環式基置換カルボニル基であり、Ｒ³がハロゲノアリール基、ヒドロキシアリール基、シアノアリール基、低級アルキルアリール基、低級アルコキシアリール基、低級アルキルチオアリール基、ヒドロキシ基及び低級アルコキシ基で置換されたアリール基、複素環式基、シアノ複素環式基、ハロゲノ複素環式基、低級アルキル複素環式基、ジ低級アルキル複素環式基、ヒドロキシ低級アルキル複素環式基、ジ低級アラルキルアミノ複素環式基、ハロゲン原子及びスルホ基で置換された複素環式基、ハロゲン原子及びスルファモイル基で置換された複素環式基、又はハロゲン原子及び低級アルキル基で置換された複素環式基であり、Ｒ⁴が水素原子又は低級アルキル基である化合物が挙げられる。
【００３０】
このうち、特に好ましい化合物としては、ＸがＯ又はＳであり、Ｒ¹又はＲ²が独立して、カルボキシ低級アルキル基、複素環式基で置換された低級アルキル基、アリール基、ハロゲノアリール基、ジハロゲノアリール基、ジ低級アルコキシアリール基、低級アルキルチオアリール基、複素環式基、ハロゲノ複素環式基、又は低級アルキル複素環式基であり、Ｒ³がハロゲノアリール基、低級アルキルアリール基、ジ低級アルキルアミノアリール基、低級アルキルチオアリール基、低級アルコキシアリール基、複素環式基、ハロゲノ複素環式基、低級アルキル複素環式基、低級アルコキシ複素環式基、低級アルキルチオ複素環式基、又はジ低級アルキルアミノ複素環式基である化合物が挙げられる。
【００３１】
本発明の有効成分である含窒素５員複素環化合物（Ｉ）のうち、薬効上最も好ましい化合物としては、Ｒ¹が（１）カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基又は複素環式基で置換されていてもよい低級アルキル基、（２）１又は２個のハロゲン原子で置換されていてもよいアリール基、或いは（３）ハロゲン原子で置換されていてもよい複素環式基であり、Ｒ²が、（１）カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基又は複素環式基で置換されていてもよい低級アルキル基、（２）ハロゲン原子で置換されていてもよい複素環式基、或いは（３）１又は２個のハロゲン原子で置換されていてもよいアリール基であり、Ｒ³が（１）アミノ基、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基及び低級アルキルチオ基から選ばれる１又は２個の基で置換されていてもよい複素環式基、或いは（２）アミノ基、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシ基又はモノ若しくはジ低級アルキルアミノ基で置換されていてもよいアリール基であり、Ｒ⁴が水素原子又は低級アルキル基である化合物が挙げられる。
【００３２】
このうち更に好ましい化合物としては、Ｒ¹が（１）カルボキシル低級アルキル基、（２）低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、（３）テトラゾリル基で置換された低級アルキル基、（４）１又は２個のハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、又は（５）ハロゲン原子で置換されていてもよいチエニル基であり、Ｒ²が、（１）カルボキシル低級アルキル基、（２）低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、（３）テトラゾリル基で置換された低級アルキル基、（４）ハロゲン原子で置換されていてもよいチエニル基、又は（５）１又は２個のハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基であり、Ｒ³が（１）ハロゲン原子で置換されていてもよいベンゾチエニル基、（２）ハロゲン原子、低級アルキルチオ基、低級アルコキシ基又はジ低級アルキルアミノ基で置換されていてもよいフェニル基、（３）低級アルキル基、低級アルコキシ基又はジ低級アルキルアミノ基で置換されていてもよいピリジル基、（４）ジ低級アルキルアミノ基又は低級アルキルチオ基で置換されていてもよいピリミジニル基、（５）１又は２個の低級アルキル基で置換されていてもよいチエニル基、（６）チオフェノ[３，２−ｂ]ピリジル基、（７）ベンゾフリル基、（８）ジヒドロベンゾフリル基、又は（９）低級アルキル基で置換されていてもよいインドリル基である化合物が挙げられる。
【００３３】
このうち特に好ましい化合物としては、ＸがＯ又はＳであり、Ｒ¹が（１）カルボキシル低級アルキル基、（２）低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、（３）１又は２個のハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、或いは（４）ハロゲン原子で置換されていてもよいチエニル基であり、Ｒ²が、（１）カルボキシル低級アルキル基、（２）低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、（３）ハロゲン原子で置換されていてもよいチエニル基、或いは（４）１又は２個のハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基であり、Ｒ³が（１）ハロゲン原子で置換されていてもよいベンゾチエニル基、（２）ハロゲン原子、低級アルキルチオ基、低級アルコキシ基、又はジ低級アルキルアミノ基で置換されていてもよいフェニル基、（３）低級アルコキシ基又はジ低級アルキルアミノ基で置換されていてもよいピリジル基、（４）ジ低級アルキルアミノ基で置換されていてもよいピリミジニル基、（５）２個の低級アルキル基で置換されていてもよいチエニル基、（６）チエノ[３，２−ｂ]ピリジル基或いは（７）低級アルキル基で置換されていてもよいインドリル基である化合物が挙げられる。
【００３４】
上記した薬効上最も好ましい化合物は、
４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（２−ベンゾ[ｂ]チエニル）チアゾール−５−イル酢酸、
５−（４−クロロフェニル）−２−（２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリミジン−５−イル）オキサゾール−４−イル酢酸、
４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−メトキシフェニル）チアゾール−５−イル酢酸、
５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４，５−ジメチルチオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル酢酸、
４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリミジン−５−イル）チアゾール−５−イル酢酸、
４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン−５−イル）チアゾール−５−イル酢酸、
５−（４−クロロフェニル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イル酢酸、
５−（４−クロロフェニル）−２−（２−ベンゾ[ｂ]チエニル）オキサゾール−４−イル酢酸、
４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（２−ベンゾ[ｂ]チエニル）オキサゾール−５−イル酢酸、
５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリミジン−５−イル）オキサゾール−４−イル酢酸、
４−（４−クロロフェニル）−２−（２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリミジン−５−イル）チアゾール−５−イル酢酸、
５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（２−ベンゾ[ｂ]チエニル）オキサゾール−４−イル酢酸、
４−（４−クロロフェニル）−２−（４−メトキシフェニル）チアゾール−５−イル酢酸、
５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イル酢酸、
５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（６−フルオロベンゾ[ｂ] チオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル酢酸、
５−（３−チエニル）−２−（２−ベンゾ[ｂ]チエニル）オキサゾール−４−イル酢酸、
５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（２−チオフェノ[３，２−ｂ]ピリジル）オキサゾール−４−イル酢酸、
５−（３−フルオロ−４−クロロフェニル）−２−（２−ベンゾ[ｂ]チエニル）オキサゾール−４−イル酢酸、
５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（２−ベンゾ[ｂ]チエニル）チアゾール−４−イル酢酸、
５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−メチルチオフェニル）オキサゾール−４−イル酢酸、
４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−５−イル酢酸、
５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−クロロフェニル）オキサゾール−４−イル酢酸、
４−（３−フルオロ−４−クロロフェニル）−２−（４−メトキシフェニル）チアゾール−５−イル酢酸、
４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４，５−ジメチルチオフェン−２−イル）チアゾール−５−イル酢酸、
４−（３−フルオロ−４−クロロフェニル）−２−（４−フルオロフェニル）チアゾール−５−イル酢酸、
４−（４−クロロフェニル）−２−（２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン−５−イル）チアゾール−５−イル酢酸、
４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル）チアゾール−５−イル酢酸、
５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（Ｎ−メチルインドリン−２−イル）オキサゾール−４−イル酢酸、若しくは
５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４，５−ジメチルチオフェン−２−イル）チアゾール−４−イル酢酸；
又はそれらの低級アルキルエステル；
又はそれらの薬理的に許容し得る塩からなる群より選ばれる化合物である。
【００３５】
本発明の更に別の好ましい態様においては、ＸがＯであり、Ｒ¹及びＲ²の一方が塩素原子で置換されたチエニル基であり、他方がカルボキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基又はテトラゾリル基で置換された低級アルキル基であり、Ｒ³が置換又は非置換のアリール基、或いは置換又は非置換の複素環式基である化合物が挙げられる。
【００３６】
このうち、更に好ましい化合物としては、Ｒ³が（１）ハロゲン原子、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルキルチオ基及び低級アルコキシ基から選ばれる１又は２個の基で置換されていてもよいアリール基、或いは（２）ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基及びモノ若しくはジ低級アルキルアミノ基から選ばれる１又は２個の基で置換されていてもよい複素環式基である化合物が挙げられる。
【００３７】
このうち、特に好ましい化合物としては、Ｒ¹及びＲ²の一方が塩素原子で置換されたチエニル基であり、他方がカルボキシ低級アルキル基又は低級アルコキシカルボニル低級アルキル基であり、アリール基がフェニル基であり、及び複素環式基がチエニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ベンゾチエニル基、ベンゾフリル基、ジヒドロベンゾフリル基、インドリル基又はチエノ[３，２−ｂ]ピリジル基である化合物が挙げられる。
【００３８】
このうち、更に好ましい化合物としては、Ｒ³がハロゲン原子又は低級アルキルチオ基で置換されたフェニル基、１又は２個の低級アルキル基で置換されたチエニル基、ジ低級アルキルアミノ基で置換されたピリミジニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいベンゾチエニル基、低級アルキル基で置換されていてもよいインドリル基、又はチエノ[３，２−ｂ]ピリジル基である化合物が挙げられる。
【００３９】
本発明の更に別の好ましい態様において、ＸがＳであり、Ｒ¹及びＲ²の一方が塩素原子で置換されたチエニル基であり、他方がカルボキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基又はテトラゾリル基で置換された低級アルキル基であり、Ｒ³が置換又は非置換の複素環式基（該複素環式基はピリジル基、ピリミジニル基、ベンゾチエニル基、インドリル基及びチエノ[３，２−ｂ]ピリジル基から選ばれる）である化合物が挙げられる。
【００４０】
更に好ましい態様において、Ｒ³がハロゲン原子、低級アルコキシ基、低級アルキル基、低級アルキルチオ基及びモノ若しくはジ低級アルキルアミノ基から選ばれる１又は２個の基で置換されていてもよい複素環式基（該複素環式基はピリジル基、ピリミジニル基、ベンゾチエニル基、及びチエノ[３，２−ｂ]ピリジル基から選ばれる）である化合物が挙げられる。
【００４１】
更に好ましい態様において、Ｒ¹及びＲ²の一方が塩素原子で置換されたチエニル基であり、他方がカルボキシ低級アルキル基又は低級アルコキシカルボニル低級アルキル基であり、Ｒ³がジ低級アルキルアミノ基で置換されていてもよいピリジル基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基で置換されていてもよいピリミジニル基、又はハロゲン原子で置換されていてもよいベンゾチエニル基である化合物が挙げられる。
【００４２】
化合物（Ｉ）には、置換基の種類によっては、不斉炭素に基づく光学異性体が存在しうるが、これらの光学異性体及びその混合物のいずれをも本発明の有効成分として使用できる。
【００４３】
本発明の有効成分（Ｉ）は、遊離の形でも、薬理的に許容し得る塩の形でも本医薬用途に使用することができる。かかる薬理的に許容しうる塩としては、例えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩又は臭化水素酸塩等の無機酸塩、酢酸塩、フマル酸塩、シュウ酸塩、クエン酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トシル酸塩又はマレイン酸塩等の有機酸塩等が挙げられる。また、カルボキシル基等の置換基を有する場合には塩基との塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩）が挙げられる。
【００４４】
本発明の化合物（Ｉ）又はその薬理的に許容しうる塩は、その分子内塩や付加物、それらの溶媒和物或いは水和物等をいずれも含むものである。
【００４５】
本発明の有効成分（Ｉ）又はその薬理的に許容しうる塩は、経口的にも非経口的にも投与することができ、錠剤、顆粒剤、カプセル剤、散剤、注射剤、吸入剤等の慣用の医薬製剤として用いることができる。
【００４６】
かかる経口投与製剤のための医薬担体としては、例えば、結合剤（シロップ、アラビアゴム、ゼラチン、ソルビット、トラガント、ポリビニルピロリドン等）、賦形剤（乳糖、砂糖、コーンスターチ、リン酸カリウム、ソルビット、グリシン等）、潤滑剤（ステアリン酸マグネシウム、タルク、ポリエチレングリコール、シリカ等）、崩壊剤（バレイショデンプン等）及び湿潤剤（ラウリル硫酸ナトリウム等）等の慣用のものを挙げることができる。
【００４７】
一方、本発明の有効成分を非経口投与する場合には、例えば、注射用蒸留水、生理的食塩水、ブドウ糖水溶液等を用いて注射剤や点滴剤として、あるいは坐剤等として製剤化することができる。
【００４８】
本発明の化合物（Ｉ）又はその薬理的に許容し得る塩の投与量としては、投与方法、患者の年令、体重、状態或いは疾患の種類・程度によっても異なるが、通常、１日当り約０．１〜５０mg/kg、より好ましくは約０．３〜３０mg/kgが挙げられる。
【００４９】
化合物（Ｉ）又はその薬理的に許容し得る塩は、優れた高コンダクタンス型カルシウム感受性Ｋチャネル開口作用を有し、細胞の膜電気ポテンシャルを過分極させるので、例えば高血圧、喘息、早産、過敏性腸症候群、慢性心不全、狭心症、心筋梗塞、脳梗塞、クモ膜下出血、脳血管スパスム、大脳低酸素症、末梢血管障害、不安、雄性禿頭症、勃起不全、糖尿病、糖尿病性末梢神経障害、その他の糖尿病性合併症、不妊症、尿路結石とそれに伴う疼痛、頻尿、尿失禁、夜尿症等の予防、軽減及び／又は治療薬として有用である。
【００５０】
本明細書において、低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルスルファモイル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルアミノ基、又は低級アルキルスルホニルアミノ基としては、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖のもの、とりわけ炭素数１〜４の直鎖又は分岐鎖のものが挙げられる。
【００５１】
低級アルケニル基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、低級アルカノイルアミノ基又は低級アルコキシカルボニル基は、炭素数２〜７の直鎖又は分岐鎖のもの、とりわけ炭素数２〜５の直鎖又は分岐鎖のものが挙げられる。
シクロ低級アルキル基としては、炭素数３〜６のものが挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が挙げられる。
【００５２】
本発明の有効成分である含窒素５員複素環化合物（Ｉ）は、下記［Ａ法］、［Ｂ法］、［Ｃ法］又は［Ｄ法］により製造することができるが、これらに限定されるものではない。
【００５３】
［Ａ法］
【化４】

【００５４】
［式中、Ｘ¹はＮＨ、Ｏ又はＳを表し、他の記号は前記と同一意味を有する。］
含窒素５員複素環化合物（Ｉ）のうち、化合物（Ｉ−ａ）は、式（ＩＩ）で示される化合物又はその塩を縮合環化剤と反応させて製造することができる。
【００５５】
縮合環化剤としては、Ｘ¹がＮＨの場合、例えばアンモニア又はアンモニウム塩（酢酸アンモニウム、ギ酸アンモニウム、炭酸アンモニウム、安息香酸アンモニウム、ピコリン酸アンモニウム）等を、Ｘ¹がＯの場合、例えばオキシ塩化リン、チオニルクロリド、アセチルクロリド、トリフェニルホスフィン−ヨウ素、トリフェニルホスフィン−ホスゲン、硫酸、ポリリン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等を、Ｘ¹がＳの場合、例えば五硫化リン、ラウエッソン試薬（２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド）等を好適に用いることができる。
本反応は、適当な溶媒中又は無溶媒で実施することができる。溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えば酢酸、ジメチルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、クロロホルム、塩化メチレン、アセトニトリル又はこれらの混合溶媒を適宜用いることができる。本反応は、１５〜１５０℃、とりわけ室温〜１２０℃で好適に進行する。
【００５６】
［Ｂ法］
【化５】

【００５７】
［式中、Ｚ¹は反応性残基を表し、他の記号は前記と同一意味を有する。］
また、化合物（Ｉ）のうち、化合物（Ｉ−ｂ）は、式（ＩＩＩ）で示される化合物又はその塩と式（ＩＶ）で示される化合物又はその塩とを塩基の存在下、反応させて製造することができる。塩基としては、例えば、炭酸アルカリ金属、水素化アルカリ金属、アルカリ金属アルコキシド、水酸化アルカリ金属等を好適に用いることができる。
【００５８】
本反応は、適当な溶媒中又は無溶媒で実施することができる。溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばアセト二トリル、メタノール、エタノール、クロロホルム、塩化メチレン、ジメチルホルムアミド、アセトン、テトラヒドロフラン又はこれらの混合溶媒を適宜用いることができる。本反応は、３０〜１５０℃、とりわけ６０〜１２０℃で好適に進行する。
【００５９】
[Ｃ法]
【化６】

【００６０】
［式中、Ｚ²は反応性残基を表し、Ｗ¹は水素原子又は低級アルキル基を表し、Ｗ²は低級アルキル基を表し、他の記号は前記と同一意味を有する。］
【００６１】
また、化合物（Ｉ）は、式（Ｖ）で示される化合物と、式（ＶＩ）で示される化合物又は式（ＶＩＩ）で示される化合物とを、パラジウム系触媒の存在下に、反応させて製造することができる。パラジウム系触媒としては、例えばテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）クロリド、パラジウム（II)アセテート等の０価又は２価のパラジウム系触媒を好適に用いることができる。
【００６２】
化合物（ＶＩ）を用いてＣ法を実施する場合には、塩基の存在下に反応させるのが好ましい。塩基としては、例えば炭酸アルカリ金属、水酸化アルカリ金属、リン酸アルカリ金属、フッ化アルカリ金属等の無機塩基やトリエチルアミン等の有機塩基等を好適に用いることができる。
【００６３】
本反応は、適当な溶媒中又は無溶媒で実施することができる。溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、トルエン、ベンゼン、クロロホルム又はこれらの混合溶媒を適宜用いることができる。本反応は、６０〜１５０℃、とりわけ８０〜１２０℃で好適に進行する。
【００６４】
[Ｄ法]
【化７】

【００６５】
［式中、記号は前記と同一意味を有する。］
また、化合物（Ｉ）のうち、化合物（Ｉ−ｂ）は、式（ＶＩＩＩ）で示される化合物又はその塩と、式（ＩＸ）で示される化合物又はその塩とを、アンモニア又はアンモニウム塩の存在下に反応させて製造することができる。
アンモニウム塩としては、例えば酢酸アンモニウム、ギ酸アンモニウム、炭酸アンモニウム、安息香酸アンモニウム、ピコリン酸アンモニウム等を好適に用いることができる。
【００６６】
本反応は、適当な溶媒中又は無溶媒で実施することができる。溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えば酢酸、メタノール、エタノール、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド又はこれらの混合溶媒を適宜用いることができる。本反応は、０〜１５０℃、とりわけ３０〜１２０℃で好適に進行する。
【００６７】
上記Ａ〜Ｄ法において、化合物（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩＩＩ）又は（ＩＸ）は、例えば塩酸塩、硫酸塩等の無機酸との塩又はアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等の無機塩基との塩として使用できる。
【００６８】
Ｚ¹又はＺ²の反応性残基としては、ハロゲン原子を好適に用いることができる。
【００６９】
含窒素５員複素環化合物（Ｉ）は、上記方法の１つによって得られる目的化合物を他の目的化合物へ変換することによって製造することができる。このような変換反応としては、その化合物が有する置換基の種類に応じ、適宜選択すればよいが、例えば次の（ａ）〜（ｖ）法に記載の常法により実施することができる。
【００７０】
（ａ）法：
Ｒ¹又はＲ²がハロゲン原子である化合物（Ｉ）は、対応のＲ¹又はＲ²が水素原子である化合物とハロゲン化剤と反応させることにより製造することができる。ハロゲン化剤としては、臭素、塩素、ヨウ素、[ビス（トリフルオロアセトキシ）ヨード]ベンゼン、Ｎ−ブロモコハク酸イミド等を好適に用いることができる。本反応は、０℃〜３０℃で好適に進行する。
【００７１】
（ｂ）法：
Ｒ¹又はＲ²が置換又は非置換のアリール基、或いは置換又は非置換の複素環式基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ¹又はＲ²がハロゲン原子である化合物と、トリ低級アルキル（置換又は非置換のアリール基）スズ化合物、或いはトリ低級アルキル（置換又は非置換の複素環式基）スズ化合物とを触媒の存在下、反応させて製造することができる。触媒としては、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）クロリド、パラジウム（ＩＩ）アセテート、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）等の０価又は２価のパラジウム系触媒を適宜用いることができる。また本反応は、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛等の亜鉛塩の存在下、より好適に進行する。本反応は、５０℃〜１２０℃で好適に進行する。
また、本反応は塩基の存在下、スズ化合物の代わりに対応するホウ酸化合物又はホウ酸エステル化合物を用いて、実施することもできる。パラジウム系触媒及び塩基としては、上記[Ｃ法]記載のものをいずれも好適に用いることができる。本反応は、６０℃〜１２０℃で好適に進行する。
【００７２】
（ｃ）法：
Ｒ¹又はＲ²が置換又は非置換の複素環式基置換カルボニル基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ¹又はＲ²が置換カルバモイル基である化合物（Ｉ）を置換又は非置換の複素環式基リチウムと反応させて製造することができる。本反応は、−７８℃〜３０℃で好適に進行する。置換又は非置換の複素環式基リチウムは、対応のハロゲノ複素環化合物をｎ−ブチルリチウムでリチオ化することにより得ることができる。
【００７３】
（ｄ）法：
ＸがＮ−Ｒ⁴であり、Ｒ⁴が置換又は非置換低級アルキル基である化合物（Ｉ）は、対応のＸがＮ−Ｒ⁴であり、Ｒ⁴が水素原子である化合物を塩基の存在下、置換又は非置換の低級アルキルハライド（低級アルキルヨージド、低級アルキルクロリド、低級アルキルブロミド等）又は低級アルキルスルホネート（低級アルキルトリフルオロメタンスルホネート、低級アルキルメタンスルホネート等）と反応させて製造することができる。塩基としては、水素化アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、アルコキシアルカリ金属、水酸化アルカリ金属等を好適に用いることができる。本反応は、３０℃〜８０℃で好適に進行する。
【００７４】
（ｅ）法：
Ｒ¹又はＲ²がホルミルアミノ基又はＮ−低級アルキル−Ｎ−ホルミルアミノ基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ¹又はＲ²がアミノ基又はＮ−低級アルキルアミノ基である化合物（Ｉ）とギ酸低級アルキルエステル（メチルエステル、エチルエステル等）とを反応させて製造することができる。本反応は、６０℃〜１００℃で好適に進行する。
【００７５】
（ｆ）法：
Ｒ¹又はＲ²がＮ−メチルアミノ基、Ｎ−低級アルキル−Ｎ−メチルアミノ基又はＮ−エチルアミノ基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ¹又はＲ²がホルミルアミノ基、Ｎ−低級アルキル−Ｎ−ホルミルアミノ基又はＮ−アセチルアミノ基である化合物（Ｉ）を還元剤と反応させて製造することができる。還元剤としては、ボラン錯体（例えば、ボラン・ジメチルスルフィド錯体等）、水素化リチウムアルミニウム等を好適に用いることができる。本反応は０℃〜６０℃で好適に進行する。
【００７６】
（ｇ）法：
Ｒ¹又はＲ²が低級アルコキシカルボニルアミノ基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ¹又はＲ²がアミノ基である化合物（Ｉ）と低級アルコキシカルボニルハライドとを塩基の存在下に反応させて製造することができる。塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン、炭酸アルカリ金属、低級アルコキシアルカリ金属、水素化アルカリ金属等を好適に用いることができる。本反応は、０℃〜３０℃で好適に進行する。
【００７７】
（ｈ）法：
Ｒ¹又はＲ²がヒドロキシ低級アルキル基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ¹又はＲ²が水素原子である化合物（Ｉ）とホルムアルデヒド又は低級アルキルアルデヒドとを塩基の存在下に反応させて製造することができる。塩基としては、炭酸アルカリ金属、低級アルコキシアルカリ金属、トリエチルアミン等を好適に用いることができる。本反応は、６０℃〜１２０℃で好適に進行する。
【００７８】
（ｉ）法：
Ｒ¹又はＲ²がハロゲノ低級アルキル基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ¹又はＲ²がヒドロキシ低級アルキル基である化合物（Ｉ）とハロゲン化剤の存在下に反応させて製造することができる。ハロゲン化剤としては、塩化チオニル、臭化チオニル等を好適に用いることができる。本反応は、０℃〜５０℃で好適に進行する。
【００７９】
（ｊ）法：
Ｒ¹又はＲ²が低級アルコキシ低級アルキル基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ¹又はＲ²がハロゲノ低級アルキル基である化合物（Ｉ）と低級アルカノールとを反応させて製造することができる。低級アルカノールとしては、メタノール、エタノール等を好適に用いることができる。本反応は、３０℃〜８０℃で好適に進行する。
【００８０】
（ｋ）法：
Ｒ¹又はＲ²が低級アルキルチオ低級アルキル基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ¹又はＲ²がハロゲノ低級アルキル基である化合物（Ｉ）と、低級アルキルスルフィド塩とを反応させて製造することができる。低級アルキルスルフィド塩としては、ナトリウムメチルスルフィド等のアルカリ金属低級アルキルスルフィド等を好適に用いることができる。本反応は塩基の存在下に行うのが好ましく、塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、炭酸アルカリ金属、アルコキシアルカリ金属等を好適に用いることができる。本反応は、０℃〜６０℃で好適に進行する。
【００８１】
（ｌ）法：
Ｒ¹又はＲ²が低級アルキルスルフィニル低級アルキル基又は低級アルキルスルホニル低級アルキル基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ¹又はＲ²が低級アルキルチオ低級アルキル基である化合物（Ｉ）を酸化剤と反応させて製造することができる。酸化剤としては、メタクロロ過安息香酸、過酸化水素水等を好適に用いることができる。本反応は、−２０℃〜３０℃で好適に進行する。
【００８２】
（ｍ）法：
Ｒ¹又はＲ²がカルボキシ低級アルキル基又はカルボキシ低級アルケニル基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ¹又はＲ²が低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、又は低級アルコキシカルボニル低級アルケニル基又はシアノ低級アルケニル基である化合物（Ｉ）を塩基又は酸の存在下に加水分解させて製造することができる。塩基としては、水酸化アルカリ金属等を好適に用いることができる。酸としては、塩酸又は三臭化ホウ素等を公的に用いることができる。本反応は、０℃〜８０℃で好適に進行する。
【００８３】
（ｎ）法：
Ｒ³がスルホ基で置換された複素環式基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ³が複素環式基（複素環上のスルホ基が結合する以外の位置に他の置換基を有していてもよい）である化合物（Ｉ）とハロゲノスルホン酸（クロロスルホン酸等）とを反応させ、反応後、塩基性水溶液（アンモニア水等）で処理することにより製造できる。本反応は、０℃〜５０℃で好適に進行する。
【００８４】
（ｏ）法：
Ｒ³がスルファモイル基で置換された複素環式基である化合物（Ｉ）は、上記（ｎ）法で得られる対応のＲ³がクロロスルホニル基で置換された複素環式基である化合物（Ｉ）をアンモニアで処理させて製造することができる。本反応は、０℃〜６０℃で好適に進行する。
【００８５】
（ｐ）法：
Ｒ¹、Ｒ²又はＲ³がヒドロキシ低級アルキル基で置換された複素環式基であるか又はＲ¹若しくはＲ²がヒドロキシ低級アルキル基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ¹、Ｒ²又はＲ³が低級アルコキシカルボニル低級アルキル基で置換された複素環式基であるか、又はＲ¹若しくはＲ²が低級アルコキシカルボニル低級アルキル基である化合物（Ｉ）を還元剤の存在下に反応させて製造することができる。還元剤としては、水素化リチウムアルミニウム、水素化リチウムホウ素、ボラン錯体（例えばボラン・ジメチルスルフィド錯体等）等を好適に用いることができる。本反応は、０℃〜６０℃で好適に進行する。
【００８６】
（ｑ）法：
Ｒ¹又はＲ²が置換又は非置換カルバモイル基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ¹又はＲ²がカルボキシル基である化合物（Ｉ）と、対応の置換又は非置換アミンとを縮合剤の存在下、反応させて製造することができる。縮合剤としては、３−エチル−１−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド 塩酸塩、ジエチルシアノホスホネート等を好適に用いることができる。本反応は、０℃〜５０℃で好適に進行する。
【００８７】
（ｒ）法：
Ｒ³がモノ若しくはジ低級アルキルアミノ基で置換されたピリジル基又はＲ³がモノ若しくはジ低級アルキルアミノ基で置換されたピラジニル基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ³がハロゲノピリジル基又はハロゲノピラジニル基である化合物（Ｉ）を、対応のモノ若しくはジ低級アルキルアミンと反応させて製造することができる。本反応は、３０℃〜１２０℃で好適に進行する。
【００８８】
（ｓ）法：
Ｒ³がモノ若しくはジ低級アルキルアミノ基で置換されたピリミジニル基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ³が低級アルキルチオ基で置換されたピリミジニル基である化合物（Ｉ）を、酸化剤と反応させ、その後、得られた化合物と対応のモノ若しくはジ低級アルキルアミンとを反応させて製造することができる。酸化剤としては、ｍ−クロロ過安息香酸、過酸化水素等が挙げられる。本反応は、０℃〜３０℃で好適に進行する。
【００８９】
（ｔ）法：
Ｒ¹又はＲ²が置換又は非置換のカルバモイル低級アルキル基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ¹又はＲ²がカルボキシ低級アルキル基である化合物（Ｉ）を、対応のアミンとを縮合剤の存在下に反応させて製造することができる。縮合剤としては、３−エチル−１−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド 塩酸塩、ジエチルシアノホスホネート等が挙げられる。本反応は、０℃〜５０℃で好適に進行する。
【００９０】
（ｕ）法：
Ｒ¹又はＲ²がシアノ低級アルキル基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ¹又はＲ²がカルバモイル低級アルキル基である化合物（Ｉ）を脱水化剤と反応させて製造することができる。脱水化剤としては、オキシ塩化リン、無水酢酸、塩化チオニル等が挙げられる。本反応は、５０℃〜１００℃で好適に進行する。
【００９１】
（ｖ）法：
Ｒ¹又はＲ²がテトラゾリル低級アルキル基である化合物（Ｉ）は、対応のＲ¹又はＲ²がシアノ低級アルキル基である化合物（Ｉ）と、アジ化物とを反応させて製造することができる。アジ化物としては、アジ化ナトリウム、トリアルキルティンアジド、トリアルキルシリルアジド等が挙げられる。本反応は、８０℃〜１２０℃で好適に進行する。
【００９２】
上記（ａ）〜（ｖ）法に記載の反応は、反応に不活性な溶媒中又は無溶媒で実施することができる。溶媒としては特に限定されないが、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、水、酢酸エチル、ジメトキシエタン、トルエン、ベンゼン等、又はこれらの混合溶媒が挙げられる。
【００９３】
また、化合物（Ｉ）のなかには、既知化合物が含まれており、これら既知化合物は、例えば、特開昭４７−５８３２号、特開昭４８−２９７７１号、特開昭５９−１７２４８８号、特開昭６０−３４９５１号、特開昭６０−１８８３７１号、特開昭６１−１６７６７６号、米国特許３４７０１９５号、米国特許３４７６７６６号、米国特許３５４６３４２号、米国特許３５７４２２８号、米国特許３９０５９６１号、国際公開ＷＯ９５／０４７２４、国際公開ＷＯ９９／０１１２８、Chem. Pharm. Bull., 34(8), 3111-3120 (1986)、Chem. Pharm. Bull., 36(11), 4435−4440 (1988)、Chem. Pharm. Bull., 40(12), 3206-3213 (1992)、Angew. Chem., 85(13), 584-585 (1973)、J. Heterocyclic Chem., 22(2), 569-574 (1985)、J. Med. Chem., 29(3), 333-341 (1986)、J. Med. Chem., 31(6), 1197-1204 (1988)等に報告されている。しかしながら、これら化合物が高コンダクタンス型カルシウム感受性Ｋチャネル開口作用を有することについては、上記文献に記載されていない。
【００９４】
なお、本発明の原料化合物（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）は、例えば、J. Med. Chem., 29, 333-341 (1986) 、Chem. Pharm. Bull., 34(8), 3111-3120 (1986)又は特開昭６１−１６７６７６号記載の方法に準じて製造することができる。
化合物（ＩＩ）は、具体的には下記常法により製造することができる。
【００９５】
【化８】

【００９６】
［式中、記号は前記と同一意味を有する。］
また、化合物（Ｖ）のうち、Ｒ²がハロゲン原子である化合物（Ｖ−ａ）は、具体的には下記常法により製造することができる。
【００９７】
【化９】

【００９８】
［式中、Ｚ³はハロゲン原子を表し、他の記号は前記と同一意味を有する。］
本発明の有効成分は下記の製造例で例示されるが、これらに限定されるものではない。
【００９９】
製造例
製造例１
２−（６−メチルニコチノイルアミノ）−１−（３−ピリジル）−１−ブタノンの粗成物４２５mgを酢酸５mlに溶解し、酢酸アンモニウム２.３０ｇを加え、１時間加熱還流した。冷後反応液に２８％アンモニア水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣に塩化水素−メタノールを加え、再び溶媒を減圧下留去して得られる残渣をアセトンで粉末化して、淡黄色結晶性粉末
の５−エチル−２−（２−メチルピリジン−５−イル）−４−（３−ピリジル）イミダゾール 三塩酸塩３６９mｇを得た。
融点：２７０−２７３℃（分解）
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２６５（ＭＨ＋）
【０１００】
製造例２〜４２
対応原料化合物を用い、製造例１と同様に処理して、下記第１表記載の化合物を得た。
【０１０１】
【表１−１】

【表１−２】

【表１−３】

【表１−４】

【表１−５】

【表１−６】

【表１−７】

【表１−８】

【表１−９】

【表１−１０】

【表１−１１】

【０１０２】
製造例４３
４−シアノ−２−（４−フルオロベンゾイルアミノ）−１−（３−ピリジル）−１−ブタノン５００mgを酢酸３mlに溶解し、酢酸アンモニウム２.９９ｇを加え、一晩加熱還流した。冷後反応液に２８％アンモニア水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝１:２）で精製後、塩化水素−エタノールで処理することにより、無色粉末の５−（２−シアノエチル）−２−（４−フルオロフェニル）−４−（３−ピリジル）イミダゾール 二塩酸塩 １７２mｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２９３（ＭＨ＋）
【０１０３】
製造例４４〜６２
対応原料化合物を用い、製造例４３と同様に処理して、下記第２表記載の化合物を得た。
【０１０４】
【表２−１】

【表２−２】

【表２−３】

【表２−４】

【表２−５】

【０１０５】
製造例６３
２−（５−クロロチオフェン−２−イル）アミノ−１−（３−ピリジル）−１−ブタノン６１０mgのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７ml溶液に氷冷下、オキシ塩化リン０．２４mlを滴下し、室温で一晩、さらに６０℃で一晩攪拌した。冷後反応液を氷水に注ぎ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて中和し酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：酢酸エチル＝２：１）で精製後、塩化水素−エタノールで処理することにより、淡黄色粉末の２−（５−クロロチオフェン−２−イル）−４−エチル−５−（３−ピリジル）オキサゾール 塩酸塩４６６mgを得た。
融点：２０１−２０４℃
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２９１／２９３（ＭＨ＋）
【０１０６】
製造例６４及び６５
対応原料化合物を用い、製造例６３と同様に処理して、下記表３記載の化合物を得た。
【０１０７】
【表３】

【０１０８】
製造例６６
２−ブロモー２’−メトキシーアセトフェノン５１４mg、４−フルオロベンズアミジン 塩酸塩３９２mg、炭酸カリウム９３０mg及びアセトニトリル５mlの混合物を２時間加熱還流した。冷後、反応液にクロロホルムおよび水を加え有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をメタノールより再結晶し、淡黄色結晶の２−（４−フルオロフェニル）−４−（２−メトキシフェニル）イミダゾール１.５４ｇを得た。これを塩化水素−エタノールで処理することにより、その塩酸塩を得た。
融点：１６５−１６７℃（遊離体）
融点：２４５−２４８℃（塩酸塩）
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２６９（ＭＨ＋）（塩酸塩）
【０１０９】
製造例６７
５−エチル−２−ヨード−４−（３−ピリジル）イミダゾール１５０mg、３−ヒドロキシメチルチオフェン−２−ホウ酸１０５mg、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）５８mg、２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液１mlおよびジメトキシエタン３mlの混合物をアルゴン雰囲気下１００℃で２．５時間攪拌した。冷後反応液に水および酢酸エチルを加え有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をＮＨシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶媒：酢酸エチル）で精製後、塩化水素−ジオキサンで処理することにより、無色粉末の５−エチル−２−（３−ヒドロキシメチルチオフェン−２−イル）−４−（３−ピリジル）イミダゾール 二塩酸塩１１０mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２８６（ＭＨ＋）
【０１１０】
製造例６８
対応原料化合物を用い、製造例６７と同様に処理して、下記第４表記載の化合物を得た。
【０１１１】
【表４】

【０１１２】
製造例６９
２，３−ジケト吉草酸エチル８．００ｇ、４−フルオロベンズアルデヒド１１．３０ｇ、酢酸アンモニウム３５．００ｇおよび酢酸１２０mlの混合物をアルゴン雰囲気下７０−８０℃で４０分攪拌した。冷後反応液に水を加え、酢酸エチル−ジエチルエーテル混液で抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶媒：へキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製後、酢酸エチル−ジエチルエーテルより結晶化し、無色結晶の５−エチル−２−（４−フルオロフェニル）イミダゾール−４−カルボン酸エチル５．１６ｇを得た。
融点：１９７−１９８℃
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２６３（ＭＨ＋）
【０１１３】
製造例７０
５−エチル−２−（４−フルオロフェニル）イミダゾール−４−カルボン酸 エチルエステル２．８１ｇ、４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１４ml、エタノール３５mlおよびテトラヒドロフラン１５mlの混合物を室温で一晩攪拌後、３時間加熱還流した。更に４Ｎ 水酸化ナトリウム水溶液２８mlを加え一晩加熱還流した。冷後反応液を減圧下濃縮し、１０％塩酸で中和して析出する固体を濾取した。これをテトラヒドロフランに溶解し無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、得られる残渣をジエチルエーテルで粉末化し、まず無色粉末の５−エチル−２−（４−フルオロフェニル）イミダゾール−４−カルボン酸１．０６ｇを得た。さらに濾液をＨＰ−２０樹脂（商品名、日本錬水株式会社製）（溶媒：水→メタノール）で精製することにより、５−エチル−２−（４−フルオロフェニル）イミダゾール−４−カルボン酸１．６０ｇを得た。
ＥＳＩ・ＭＳ（ｍ／ｚ）：２３３（Ｍ−Ｈ）
【０１１４】
製造例７１
５−エチル−２−（４−フルオロフェニル）イミダゾール−４−カルボン酸６００mg、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン 塩酸塩３２５mg、３−エチル−１−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド 塩酸塩５４０mg、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール３８１mg、トリエチルアミン０．５４mlおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド９mlの混合物を室温で一晩攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶媒：へキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、無色粉末の５−エチル−２−（４−フルオロフェニル）−４−（Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルカルバモイル）イミダゾール６５６mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２７８（ＭＨ＋）
【０１１５】
製造例７２
２−ブロモピリジン８５５mgのテトラヒドロフラン１６ml溶液にアルゴン雰囲気下、−７８℃で１．６Ｍ ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン溶液）３．３８mlを滴下し、同温で３０分攪拌した後、５−エチル−２−（４−フルオロフェニル）−４−（Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルカルバモイル）イミダゾール３００mgのテトラヒドロフラン４ml溶液を滴下した。反応混合物を氷−アセトン冷却下３０分攪拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をジエチルエーテル−へキサンで粉末化し、無色粉末の５−エチル−２−（４−フルオロフェニル）−イミダゾール−４−イル−（２−ピリジル）ケトン３２４mgを得た。このうち１３２mgを塩化水素−ジオキサンで処理することにより、その二塩酸塩７３mgを無色固体として得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２９６（ＭＨ＋）
【０１１６】
製造例７３
対応原料化合物を用い、製造例７２と同様に処理して、下記第５表記載の化合物を得た。
【０１１７】
【表５】

【０１１８】
製造例７４
２，２−ジクロルブタナール１６．２ｇと４−フルオロベンズアルデヒド１４．９ｇをアセトニトリル８０mlに溶解した。２８％アンモニア水溶液１３５mlを氷冷下滴下した後、室温で４日間攪拌し、反応液に水を加えクロロホルムで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をメタノール−エーテルより結晶化させ、４−エチル−２−（４−フルオロフェニル）イミダゾール９．３６ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：１９１（ＭＨ＋）
【０１１９】
製造例７５及び７６
対応原料化合物を用い、製造例７４と同様に処理して、下記第６表記載の化合物を得た。
【０１２０】
【表６】

【０１２１】
製造例７７
４−エチル−２−（４−フルオロフェニル）イミダゾール４．９０ｇのクロロホルム１００ml懸濁液に臭素４．５３gを加え、３時間室温で攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え有機層を分取した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣を冷クロロホルムにて結晶化して、無色結晶の５−ブロモ−４−エチル−２−（４−フルオロフェニル）イミダゾール５．１６ｇを得た。このうち５３mgを４Ｎ塩化水素−ジオキサンで処理することにより、無色結晶の５−ブロモ−４−エチル−２−（４−フルオロフェニル）イミダゾール 塩酸塩６０mgを得た。
融点：１９２−１９３℃(遊離体）
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２６９／２７１（ＭＨ＋）(遊離体）
融点：２１９−２２１℃（分解）(塩酸塩）
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２６９／２７１（ＭＨ＋）(塩酸塩）
【０１２２】
製造例７８及び７９
対応原料化合物を用い、製造例７７と同様に処理して、下記第７表記載の化合物を得た。
【０１２３】
【表７】

【０１２４】
製造例８０
５−ブロモ−４−エチル−２−（４−フルオロフェニル）イミダゾール１００mg、トリブチル（３−ピリジル）スズ２０６mg、塩化亜鉛５３mg、二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）２６mg及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３mlの混合物をアルゴン雰囲気下５時間加熱還流した。冷後、反応液に１０％フッ化カリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝１:４）で精製後、酢酸エチル−ヘキサンより再結晶し、塩化水素−メタノールで処理することにより、無色粉末の５−エチル−２−（４−フルオロフェニル）−４−（３−ピリジル）イミダゾール 二塩酸塩４８mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２６８（ＭＨ＋）
【０１２５】
製造例８１〜１０１
対応原料化合物を用い、製造例８０と同様に処理して、下記第８表記載の化合物を得た。
【０１２６】
【表８−１】

【表８−２】

【表８−３】

【表８−４】

【表８−５】

【表８−６】

【０１２７】
製造例１０２
５−エチル−２−（４−フルオロフェニル）−４−（３−ピリジル）イミダゾール４８１mgのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７ml溶液に、氷−アセトン冷却下水素化ナトリウム（６０％ミネラルオイル）７９mgを加え、１５分攪拌した。反応液にヨウ化メチル３０７mgを加え、室温で１時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：メタノール＝９５：５）で精製後、塩化水素−メタノールで処理することにより、５−エチル−２−（４−フルオロフェニル）−１−メチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール 二塩酸塩２８５mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２８２（ＭＨ＋）
【０１２８】
製造例１０３及び１０４
対応原料化合物を用い、製造例１０２と同様に処理して、下記第９表記載の化合物を得た。
【０１２９】
【表９】

【０１３０】
製造例１０５
５−アミノ−２−（４−フルオロフェニル）−４−フェニルイミダゾール１．００gおよびギ酸エチル１０mlの混合物を１５時間加熱還流した。冷後、反応液を減圧下濃縮し、ジエチルエーテルより結晶化して無色結晶の５−ホルミルアミノ−２−（４−フルオロフェニル）−４−フェニルイミダゾール１．１７gを得た。
融点：２４５−２４７℃
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２８２（ＭＨ＋）
【０１３１】
製造例１０６
５−メチルアミノ−２−（４−フルオロフェニル）−４−フェニルイミダゾール５６０mg及びギ酸エチル２０mlの混合物を一晩加熱還流した。冷後、反応液を減圧下濃縮し、ジエチルエーテル−へキサンより結晶化して無色結晶の５−ホルミルメチルアミノ−２−（４−フルオロフェニル）−４−フェニルイミダゾール４８０mgを得た。
融点：２５６−２５８℃
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２９６（ＭＨ＋）
【０１３２】
製造例１０７
５−ホルミルアミノ−２−（４−フルオロフェニル）−４−フェニルイミダゾール１．０６ｇのテトラヒドロフラン１５ml溶液に１０Ｍボラン・ジメチルスルフィド錯体１．９０mlを滴下し、アルゴン雰囲気下室温で２．５時間攪拌した。反応液に１０％塩酸を徐々に加え、１時間加熱還流した。冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて中和後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶媒：へキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製し、無色粉末の５−メチルアミノ−２−（４−フルオロフェニル）−４−フェニルイミダゾール７０２mgを得た。このうち８８mgを塩化水素−メタノールで処理したことにより無色粉末のその塩酸塩８４mgを得た。
融点：２５３−２５５℃。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２６８（ＭＨ＋）
【０１３３】
製造例１０８
５−ホルミルメチルアミノ−２−（４−フルオロフェニル）−４−フェニルイミダゾール２００mgのテトラヒドロフラン５ml溶液に１０Ｍボラン・ジメチルスルフィド錯体０．３４mlを滴下し、アルゴン雰囲気下室温で一晩攪拌した。反応液に１０％塩酸を徐々に加え、１時間加熱還流した。冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて中和後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶媒：へキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製後、塩化水素−メタノールで処理することにより、無色粉末の５−ジメチルアミノ−２−（４−フルオロフェニル）−４−フェニルイミダゾール 塩酸塩１７４mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２８２（ＭＨ＋）
【０１３４】
製造例１０９
５−アミノー２−（４−フルオロフェニル）−４−フェニルイミダゾール６３mgおよびピリジン４０mgの塩化メチレン５ml溶液に氷冷下クロロ炭酸メチル２８mgを加え、室温で一晩攪拌した。反応液にジエチルエーテルを加え、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をジエチルエーテルで粉末化して濾取した後、塩化水素−メタノールで処理することにより、無色粉末の５−メトキシカルボニルアミノ−２−（４−フルオロフェニル）−４−フェニルイミダゾール 塩酸塩６７mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３１２（ＭＨ＋）
【０１３５】
製造例１１０
５−アセチルアミノ−２−（４−フルオロフェニル）−４−フェニルイミダゾール１４２mgのテトラヒドロフラン７ml溶液に１０Ｍボラン・テトラヒドロフラン錯体（テトラヒドロフラン溶液）１２mlを加え、アルゴン雰囲気下室温で２日間攪拌した。反応液に１０％塩酸を徐々に加え、６０℃で１０分攪拌した。冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて中和後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：へキサン：酢酸エチル＝１：２）で精製後、塩化水素−メタノールで処理することにより、無色粉末の５−エチルアミノ−２−（４−フルオロフェニル）−４−フェニルイミダゾール 塩酸塩８９mgを得た。ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２８２（ＭＨ＋）
【０１３６】
製造例１１１
５−エチルアミノ−２−（４−フルオロフェニル）−４−フェニルイミダゾール１４５mg及びギ酸エチル８mlの混合物を８時間加熱還流した。冷後、反応液を減圧下濃縮し、ジエチルエーテルより結晶化して無色結晶の５−ホルミルエチルアミノー２−（４−フルオロフェニル）−４−フェニルイミダゾール１３６mgを得た。
融点：２０１−２０２℃
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３１０（ＭＨ＋）
【０１３７】
製造例１１２
２−（５−クロロチオフェン−２−イル）−４−（３−ピリジル）イミダゾール１.０７ｇ、３５％ホルマリン水溶液３５ml、炭酸カリウム１．７０ｇ、イソプロパノール３０mlおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０mlの混合物を９０℃で２時間攪拌した。冷後反応液に水を加え析出する固体を濾取し、これをメタノールに溶解し不溶物を濾去後、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣を酢酸エチルで粉末化することにより、無色粉末の２−（５−クロロチオフェン−２−イル）−５−ヒドロキシメチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール５１９mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２９２／２９４（ＭＨ＋）
【０１３８】
製造例１１３〜１１８
対応原料化合物を用い、製造例１１２と同様に処理して、下記第１０表記載の化合物を得た。
【０１３９】
【表１０−１】

【表１０−２】

【０１４０】
製造例１１９
２−（５−クロロチオフェン−２−イル）−５−ヒドロキシメチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール２００mgの塩化メチレン５ml溶液に塩化チオニル５mlを加え、１時間加熱還流した。冷後反応液を減圧下濃縮し、黄色粉末の２−（５−クロロチオフェン−２−イル）−５−クロロメチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール 二塩酸塩の粗生成物２６０mgを得た。
【０１４１】
製造例１２０
２−（５−クロロチオフェン−２−イル）−５−クロロメチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール 二塩酸塩の粗生成物２６０mgをメタノール１０mlに溶解し、２時間加熱還流した。冷後反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチル−テトラヒドロフランの混液で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：メタノール＝４０：１）で精製後、塩化水素−ジオキサンで処理することにより、淡黄色粉末の２−（５−クロロチオフェン−２−イル）−５−メトキシメチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール 二塩酸塩６３mgを得た。
融点：２４５−２４８℃（分解）
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３０６／３０８（ＭＨ＋）
【０１４２】
製造例１２１〜１２８
対応原料化合物を用い、製造例１１２又は１２０と同様に処理して、下記第１１表記載の化合物を得た。
【０１４３】
【表１１−１】

【表１１−２】

【０１４４】
製造例１２９
２−（３−フルオロフェニル）−５−ヒドロキシメチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール３８９mgの塩化メチレン１０ml溶液に塩化チオニル１０mlを加え、１時間加熱還流した。冷後反応液を減圧下濃縮し、無色粉末の２−（３−フルオロフェニル）−５−クロロメチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール 二塩酸塩の粗生成物５０８mgを得た。
【０１４５】
製造例１３０
２−（３−フルオロフェニル）−５−クロロメチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール 二塩酸塩の粗生成物２６８mgのテトラヒドロフラン１０ml懸濁液に１５％ナトリウムメチルスルフィド水溶液０．９５mlおよびトリエチルアミン２０６mgを加え、室温で１．５時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：メタノール＝１９：１）で精製し、無色粉末の２−（３−フルオロフェニル）−５−メチルチオメチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール１９８mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３００（ＭＨ＋）
【０１４６】
製造例１３１〜１３４
対応原料化合物を用い、製造例１３０と同様に処理して、下記第１２表記載の化合物を得た。
【０１４７】
【表１２】

【０１４８】
製造例１３５
２−（３−フルオロフェニル）−５−メチルチオメチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール１５２mgのテトラヒドロフラン１０ml溶液に、氷冷下メタクロロ過安息香酸（７０％純度）９７mgを加え、室温で５時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：メタノール＝１９：１）で精製後、塩化水素−ジオキサンで処理することにより無色粉末の２−（３−フルオロフェニル）−５−メチルスルフィニルメチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール 塩酸塩 １４０mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３１６（ＭＨ＋）
【０１４９】
製造例１３６〜１４０
対応原料化合物を用い、製造例１３５と同様に処理して、下記第１３表記載の化合物を得た。
【０１５０】
【表１３−１】

【表１３−２】

【０１５１】
製造例１４１
２−（５−クロロチオフェン−２−イル）−５−（３−ピリジル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル６８mg、水酸化リチウム９mg、エタノール４mlおよび水４mlの混合物を室温で２．５時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮後、１０％塩酸を加えｐＨ４とし、析出する固体を濾取した。これを塩化水素−ジオキサンで処理することにより、淡褐色粉末の２−（５−クロロチオフェン−２−イル）−５−（３−ピリジル）オキサゾール−４−イル酢酸 塩酸塩５０mgを得た。
融点：２３４−２３８℃（分解）
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３２１/３２３（ＭＨ＋）
【０１５２】
製造例１４２
対応原料化合物を用い、製造例１４１と同様に処理して、下記第１４表記載の化合物を得た。
【０１５３】
【表１４】

【０１５４】
製造例１４３及び１４４
２−（５−クロロチオフェン−３−イル）−５−エチルー４−（３−ピリジル）イミダゾール２．００ｇおよびクロロスルホン酸１５mlの混合物を室温で１週間攪拌した。反応液を２８％アンモニア水溶液５００mlにゆっくり滴下し、３０分攪拌後減圧下濃縮した。得られる残渣をメタノール−テトラヒドロフラン（５：１）に溶解し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：メタノール＝１０：１→２．５：１）次いでＮＨシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：メタノール＝１０：１→４：１）で精製し、２−（５−クロロ−２−スルホチオフェン−３−イル）−５−エチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール及び２−（５−クロロ−２−スルファモイルチオフェン−３−イル）−５−エチル−４−（３−ピリジル）イミダゾールを得た。各々を塩化水素−ジオキサンで処理することにより、２−（５−クロロ−２−スルホチオフェン−３−イル）−５−エチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール 二塩酸塩７４１mg及び２−（５−クロロ−２−スルファモイルチオフェン−３−イル）−５−エチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール 二塩酸塩１０５mgを各々、無色粉末として得た。
２−（５−クロロ−２−スルホチオフェン−３−イル）−５−エチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール 二塩酸塩（製造例１４３）
ＥＳＩ・ＭＳ（ｍ／ｚ）：３６８（Ｍ−Ｈ）
２−（５−クロロ−２−スルファモイルチオフェン−３−イル）−５−エチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール 二塩酸塩（製造例１４４）
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３６９（ＭＨ＋）
【０１５５】
製造例１４５
２−（２−エトキシカルボニルチオフェン−３−イル）−５−エチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール８７９mgのテトラヒドロフラン２０ml溶液に氷冷下、水素化リチウムアルミニウム２０４mgを加え、アルゴン雰囲気下氷冷下１．５時間攪拌した。氷冷下酒石酸ナトリウム−カリウム水溶液及び酢酸エチルを加え、有機層を分取した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：メタノール＝１９：１）で精製後、塩化水素−エタノールで処理することにより、無色粉末の２−（２−ヒドロキシメチルチオフェン−３−イル）−５−エチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール 二塩酸塩７８８mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２８６（ＭＨ＋）
【０１５６】
製造例１４６
２−（５−クロロチオフェン−２−イル）−４−（３−ピリジル）イミダゾール−５−イル酢酸エチル１２２mgのテトラヒドロフラン３．５ml溶液に氷冷下、水素化リチウムアルミニウム１５mgを加え、氷冷下２．５時間攪拌した。氷冷下水酸化ナトリウム水溶液及び酢酸エチルを加え、有機層を分取した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：メタノール＝２０：１）で精製し、無色結晶性粉末の２−（５−クロロチオフェン−２−イル）−５−ヒドロキシエチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール１０９mgを得た。このうち２７mgを塩化水素−ジオキサンで処理することにより、無色粉末のその二塩酸塩２６mgを得た。
融点：１７９−１８０℃（遊離体）
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３０６（ＭＨ＋）（塩酸塩）
【０１５７】
製造例１４７
４−（４−フルオロベンゾイルアミノ）−４−（２−チエニル）−３−ケト酪酸エチル３４９mg、オキシ塩化リン０．１２mlおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５mlの混合物を室温で２．５時間攪拌した。反応液を水に注ぎ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて中和し酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶媒：へキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製し、淡黄色粉末の２−（４−フルオロフェニル）−４−（２−チエニル）オキサゾール−５−イル酢酸エチル９５mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３３２（ＭＨ＋）
【０１５８】
製造例１４８
２−（４−フルオロフェニル）−４−（２−チエニル）オキサゾール−５−イル酢酸エチル９４mgのテトラヒドロフラン３mlおよびエタノール３ml混合溶液に１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１mlを加え、室温で１時間攪拌した。反応液に１０％塩酸を加え酢酸エチルで抽出し飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をメタノール５mlに溶解し、０．５Ｍナトリウムメトキシド（メタノール溶液）５５６μlを加え溶媒を減圧下留去することにより、淡褐色粉末の２−（４−フルオロフェニル）−４−（２−チエニル）オキサゾール−５−イル酢酸 ナトリウム塩９０mgを得た。
ＥＳＩ・ＭＳ（ｍ／ｚ）：３０２（Ｍ−Ｈ）
【０１５９】
製造例１４９
２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル１１．１０ｇのクロロホルム１１０ml溶液に室温で臭素２．４７mlを加え、室温で１時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、有機層を分取した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をへキサン−ジエチルエーテルより結晶化し、無色結晶の５−ブロモ−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル７．４７ｇを得た。さらに濾液をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶媒：ｎ−へキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製し、淡黄色結晶の５−ブロモ−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル３．５７ｇを得た。
融点：８４−８５℃
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３２３／３３０（ＭＨ＋）
【０１６０】
製造例１５０
２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル２４９mg、ヨウ素１２７mg、[ビス（トリフルオロアセトキシ）ヨード]ベンゼン２４４mgおよびクロロホルム３mlの混合物を室温で４時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、有機層を分取した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶媒：ｎ−へキサン：酢酸エチル＝８：１）で精製し、無色結晶の２−（４−フルオロフェニル）−５−ヨードオキサゾール−４−イル酢酸エチル３００mgを得た。
融点：１２０−１２２℃
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３７６（ＭＨ＋）
【０１６１】
製造例１５１
５−ブロモ−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル３２８mg、５−クロロチオフェン−２−ホウ酸２４４mg、二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）３５mg、２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液１．５ml及びジメトキシエタン５mlの混合物を１時間加熱還流した。冷後反応液に水および酢酸エチルを加え、有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（溶媒：ｎ−へキサン：酢酸エチル＝６：１）で精製し、淡黄色結晶の５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル１８１mgを得た。
融点：１２９−１３０℃
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３６６／３６８（ＭＨ＋）
【０１６２】
製造例１５２
５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル１１５mgのメタノール５ml溶液に４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１mlを加え、３０分加熱還流した。冷後反応液に酢酸エチル及び１０％塩酸を加え、有機層を分取した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をメタノール５mlに溶解し、０．５Ｍナトリウムメトキシド（メタノール溶液）６０５μlを加え溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をアセトンにて粉末化し、淡黄色粉末の５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）]オキサゾール−４−イル酢酸 ナトリウム塩１００mgを得た。
ＥＳＩ・ＭＳ（ｍ／ｚ）：３３６（Ｍ−Ｎａ）
【０１６３】
製造例１５３〜１６６
対応原料化合物を用い、製造例６３、１５１又は１５２と同様に処理して、下記第１５表記載の化合物を得た。
【０１６４】
【表１５−１】

【表１５−２】

【表１５−３】

【表１５−４】

【０１６５】
製造例１６７〜２０２
上記製造例記載の製法又は特開昭４７−５８３２号、特開昭４８−２９７７１号等の文献記載の既知製法に従って、下記第１６表記載の目的化合物を得た。
【０１６６】
【表１６−１】

【表１６−２】

【表１６−３】

【表１６−４】

【表１６−５】

【表１６−６】

【表１６−７】

【表１６−８】

【表１６−９】

【表１６−１０】

【０１６７】
製造例２０３
３−アミノ−４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−４−オキソ酪酸エチル 塩酸塩３００mg、ベンゾ[ｂ]フラン−５−カルボン酸２４５mg、３−エチル−１−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩２８９mg、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール２０４mg、トリエチルアミン０．３５mlおよび塩化メチレン４．５mlの混合物を室温で一晩攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えクロロホルムで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製後、ジイソプロピルエーテルで粉末化し、無色粉末の３−[（５−ベンゾ[ｂ]フロイル）アミノ]−４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−４−オキソ酪酸エチル３５２mgを得た。
得られた３−[（５−ベンゾ[ｂ]フロイル）アミノ]−４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−４−オキソ酪酸エチル３３１mgのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４．０８ml溶液に、氷冷下、塩化ホスホリル０．２３mlを加え、６０℃で終夜攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：酢酸エチル＝２０：１）で精製後、ジイソプロピルエーテルで粉末化し、無色粉末の２−（５−ベンゾ[ｂ]フリル）−５−（５−クロロチオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル２５７mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３８８／３９０（ＭＨ＋）
【０１６８】
製造例２０４〜２２６
対応原料化合物を用い、製造例２０３と同様に処理して、下記第１７表記載の化合物を得た。
【０１６９】
【表１７−１】

【表１７−２】

【表１７−３】

【表１７−４】

【表１７−５】

【表１７−６】

【０１７０】
製造例２２７
４−［（５−ベンゾ[ｂ]フロイル）アミノアセチル］−２−クロロチオフェン５４３mgのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ml溶液に、氷冷下、水素化ナトリウム（６０％ミネラルオイル）７１．３mgを加え、室温で２０分間攪拌した。氷冷後、反応液にブロモ酢酸エチル０．２１mlを滴下し、室温で４０分間攪拌した。冷後、反応液に５％クエン酸水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し、３−[（５−ベンゾ[ｂ]フロイル）アミノ]−４−（５−クロロチオフェン−３−イル）−４−オキソ酪酸エチル８９６mgの粗成物を得た。
得られる３−[（５−ベンゾ[ｂ]フロイル）アミノ]−４−（５−クロロチオフェン−３−イル）−４−オキソ酪酸エチルの粗成物８９６mgのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７ml溶液に、室温で塩化ホスホリル０．４８mlを加え、同温度にて終夜攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：アセトン＝７：１）で精製後、ジエチルエーテルで粉末化し、無色粉末の２−（５−ベンゾ[ｂ]フリル）−５−（５−クロロチオフェン−３−イル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル３４９mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３８８（ＭＨ＋）
【０１７１】
製造例２２８〜２３２
対応原料化合物を用い、製造例２２７と同様に処理して、下記第１８表記載の化合物を得た。
【０１７２】
【表１８−１】

【表１８−２】

【０１７３】
製造例２３３〜２９３
対応原料化合物を用い、製造例１４８又は製造例１５２と同様に処理して、下記第１９表記載の化合物を得た。
【０１７４】
【表１９−１】

【表１９−２】

【表１９−３】

【表１９−４】

【表１９−５】

【表１９−６】

【表１９−７】

【表１９−８】

【表１９−９】

【表１９−１０】

【表１９−１１】

【表１９−１２】

【表１９−１３】

【表１９−１４】

【表１９−１５】

【表１９−１６】

【０１７５】
製造例２９４及び２９５
対応原料化合物を用い、製造例１４９と同様に処理して、下記第２０表記載の化合物を得た。
【０１７６】
【表２０】

【０１７７】
製造例２９６
５−ブロモ−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル１６４mg、フェニルホウ酸９１mg、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）クロリド１８mg、２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液０．７５mlおよびジメトキシエタン３mlの混合物をアルゴン雰囲気下１００℃で１時間攪拌した。冷後反応液に水および酢酸エチルを加え有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）で精製し、無色粉末の２−（４−フルオロフェニル）−５−フェニルオキサゾール−４−イル酢酸エチル１４４mgを得た。
融点：１１８−１２０℃
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３２６（ＭＨ＋）
【０１７８】
製造例２９７〜３２０
対応原料化合物を用い、製造例２９６と同様に処理して、下記第２１表記載の化合物を得た。
【０１７９】
【表２１−１】

【表２１−２】

【表２１−３】

【表２１−４】

【表２１−５】

【表２１−６】

【０１８０】
製造例３２１
２−（４−フルオロフェニル）−５−（２−チエニル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル１６６mgのクロロホルム１．５mlおよび酢酸１．５ml懸濁液にＮ-ブロモコハク酸イミド９４mgを加え、室温で一晩攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び酢酸エチルを加え有機層を分取した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をジエチルエーテル−ｎ−ヘキサンにて結晶化し、２−（４−フルオロフェニル）−５−（５−ブロモチオフェン−２−イル）オキサゾールー４−イル酢酸エチル１４７mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：４１０／４１２（ＭＨ＋）
【０１８１】
製造例３２２
対応原料化合物を用い、製造例３２１と同様に処理して、下記第２２表記載の化合物を得た。
【０１８２】
【表２２】

【０１８３】
製造例３２３
２−（４−フルオロフェニル）−５−[３−（２−メチルプロピルオキシ）−４−メトキシメトキシフェニル]オキサゾール−４−イル酢酸エチル３００mg、４Ｎ塩化水素−ジオキサン５mlおよびエタノール５mlの混合溶液を室温で一晩攪拌した。溶媒を減圧下留去後、ジエチルエーテルにて粉末化し、ｎ−ヘキサンで洗浄することにより２−（４−フルオロフェニル）−５−[３−（２−メチルプロピルオキシ）−４−ヒドロキシフェニル]オキサゾール−４−イル酢酸エチル２６９mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ/ｚ）：４１４（ＭＨ＋）
【０１８４】
製造例３２４
対応原料化合物を用い、製造例３２３と同様に処理して、下記第２３表記載の化合物を得た。
【０１８５】
【表２３】

【０１８６】
製造例３２５
２−（４−フルオロフェニル）−５−（５−ホルミル−４−メチルチオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル１７５mgのエタノール５mlおよびテトラヒドロフラン５ml溶液に水素化ホウ素ナトリウム５４mgを加え、室温で３０分攪拌した。反応液に水および酢酸エチルを加え有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し淡黄色粉末の２−（４−フルオロフェニル）−５−（５−ヒドロキシメチル−４−メチルチオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル１２５mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３７６（ＭＨ＋）
【０１８７】
製造例３２６
対応原料化合物を用い、製造例３２５と同様に処理して、下記第２４表記載の化合物を得た。
【０１８８】
【表２４】

【０１８９】
製造例３２７
５−（３−ベンジルオキシフェニル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル３４９mgのメタノール２０ml溶液に１０％パラジウム−炭素３５０mgを加え、水素雰囲気下室温にて２時間攪拌した。反応後パラジウム−炭素をろ過し、残渣をメタノールで洗浄後、ろ液を減圧下留去した。得られた残渣をジイソプロピルエーテルにて結晶化し、無色結晶の２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−ヒドロキシフェニル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル１９５mgを得た。
融点：１７５−１７７℃
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３４２（ＭＨ＋）
【０１９０】
製造例３２８
２−［２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−チエニル）オキサゾール−４−イル］−２−メチルプロピオン酸エチル５４mgの塩化メチレン３ml溶液に、氷冷下三臭化ホウ素（１．０Ｍ塩化メチレン溶液）０．４５mlを加え、室温まで暖めた。さらに三臭化ホウ素（１．０Ｍ塩化メチレン溶液）１．０５mlを加え、室温にて１８時間攪拌した。反応液に水および酢酸エチルを加えて有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：メタノール＝１５：１）で精製し、２−［２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−チエニル）オキサゾール−４−イル］−２−メチルプロピオン酸３２mgを得た。これをメタノールに溶解し、ナトリウムメトキシド（０．５Ｍメタノール溶液）０．１９mlを加えて１０分攪拌後、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をアセトンにて粉末化し、淡褐色粉末の２−［２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−チエニル）オキサゾール−４−イル］−２−メチルプロピオン酸ナトリウム３０mgを得た。
ＭＳ・ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：３３０（Ｍ−Ｎａ）
【０１９１】
製造例３２９
２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−チエニル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル１３０mgのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ml溶液を氷冷し、水素化ナトリウム（６０％ミネラルオイル）４７mgを加え、アルゴン雰囲気下室温にて２０分攪拌した。再び氷冷後、ヨウ化メチル０．０６mlを加え、室温にて１４時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液および酢酸エチルを加え有機層を分取し、水および飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ｎ−ヘキサン：ジイソプロピルエーテル＝５：１）で精製し、無色油状の２−［２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−チエニル）オキサゾール−４−イル］−２−メチルプロピオン酸エチル６２mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３６０（ＭＨ＋）
【０１９２】
製造例３３０
２−（６−クロロピリジン−３−イル） −５−（５−クロロチオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル１５０mg、５０％ジメチルアミン水溶液６５６mgおよびエタノール３mlの混合物を１６時間加熱還流した。冷後反応液に水および酢酸エチルを加え有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：酢酸エチル＝７：１）で精製し、淡黄色固体の２−（６−ジメチルアミノピリジン−３−イル） −５−（５−クロロチオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル５４mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３９２／３９４（ＭＨ＋）
【０１９３】
製造例３３１及び３３２
対応原料化合物を用い、製造例３３０と同様に処理して、下記第２５表記載の化合物を得た。
【０１９４】
【表２５】

【０１９５】
製造例３３３
メチル ３−（５−ベンゾ[b]フロイルアミノ）−４−（３−チエニル）−４−オキソブチレート２４０mg、オキシ塩化リン０．１９mlおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４．８mlの混合物を室温で２時間攪拌した。反応液を水に注ぎ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて中和し酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶媒：へキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製し、無色粉末の２−（５−ベンゾ[ｂ]フリル）−５−（３−チエニル）オキサゾール−４−イル酢酸メチル１２１mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３４０（ＭＨ＋）
【０１９６】
製造例３３４〜３３６
上記製造例記載の製法又は米国特許３，４７０，１９５号等の文献記載の既知製法に従って、下記第２６表記載の化合物を得た。
【０１９７】
【表２６】

【０１９８】
製造例３３７
２−［（４−フルオロベンゾイルアミノ）アセチル］チオフェン５２７mgのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ml溶液に、氷冷下、水素化ナトリウム（６０％ミネラルオイル）８８mgを加え、アルゴン雰囲気下室温で１時間攪拌した。氷冷後、反応液にアクリロニトリル１２７mgを加え、室温で３時間攪拌した。冷後、反応液に氷を加えたのち、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ml溶液に溶解し、氷冷下、塩化ホスホリル２４０μlを加え、アルゴン雰囲気下室温で３時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝９：１→７：１）で精製後、ヘキサン及び酢酸エチルで粉末化し、無色粉末の４−（２−シアノエチル）−２−（４−フルオロフェニル）−５−（２−チエニル）オキサゾール１３２mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２９９（ＭＨ＋）
【０１９９】
製造例３３８
４−（２−シアノエチル）−２−（４−フルオロフェニル）−５−（２−チエニル）オキサゾール９５mg、濃塩酸３mlおよびギ酸４mlの混合物を、６０℃で一晩攪拌し、濃塩酸１mlを加え、７０℃で６時間攪拌した。冷後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：メタノール＝１９：１）で精製した。得られる無色粉末をメタノール５mlに溶解し、０．５Ｍナトリウムメトキシド（メタノール溶液）６００μｌを加え溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をアセトンを用いて粉末化し、淡褐色粉末の２−（４−フルオロフェニル）−５−（２−チエニル）オキサゾール−４−イルプロピオン酸 ナトリウム塩１０３mgを得た。
ＭＳ・ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：３１６（Ｍ−Ｎａ）
【０２００】
製造例３３９
（１）テルル金属１５３mgのエタノール８ml縣濁液に、水素化ホウ素ナトリウム１０８mgを加え、アルゴン雰囲気下１５分間加熱還流した。氷冷下、酢酸１６０μlついで５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イルアクリル酸エチル３０２mgのテトラヒドロフラン４ml溶液を加え、室温で１時間半攪拌した。反応液をセライトろ過し、残渣を酢酸エチルで洗浄した。ろ液を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１）で精製後、ヘキサンで粉末化し、無色粉末の５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イルプロピオン酸エチルの粗生成物２６３mgを得た。
（２）上記（１）で得られる粗生成物６３mgのテトラヒドロフラン１ml及びエタノール２ml溶液に、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１７０μlを加え、１．５時間加熱還流した。冷後、反応液を減圧下濃縮した。得られる残渣をアセトンで粉末化し、無色粉末の５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イルプロピオン酸 ナトリウム塩６０mgを得た。
ＭＳ・ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：３５０/３５２（Ｍ−Ｎａ）
【０２０１】
製造例３４０
（１）５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）−４−ヒドロキシメチルオキサゾール１．４４ｇ、二酸化マンガン４．７６ｇ及びテトラヒドロフラン２０mlの混合物を、３時間加熱還流した。反応液をセライトろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。得られる残渣をジエチルエーテルで粉末化し、無色粉末の５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）−４−ホルミルオキサゾール９４３mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３０８（ＭＨ＋）
（２）ジエチルホスホノ酢酸エチル７４０μlのテトラヒドロフラン１２ml溶液に、水素化ナトリウム（６０％ミネラルオイル）１５３mgを加え、同温で１５分間攪拌した。５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）−４−ホルミルオキサゾール４００mgを加え、室温で１時間攪拌した。冷後反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液で中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１）で精製後、ジエチルエーテル及びヘキサンで粉末化し、無色粉末の５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イルアクリル酸エチルを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３７８（ＭＨ＋）
【０２０２】
製造例３４１
５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）−４−メトキシカルボニルオキサゾール１．８ｇ、水素化ホウ素リチウム５８０mgおよびテトラヒドロフラン４０mlの混合物を、室温で１時間攪拌後、１．５時間加熱還流した。冷後反応液に水及び１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水よび飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をジエチルエーテル及び酢酸エチルで粉末化し、無色粉末の５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）−４−ヒドロキシメチルオキサゾール１．４８ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３１０／３１２（ＭＨ＋）
【０２０３】
製造例３４２
対応原料化合物を用い、製造例３４１と同様に処理して、５−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−２−（４−フルオロフェニル）−４−ヒドロキシメチルオキサゾールを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３２２／３２４（ＭＨ＋）
【０２０４】
製造例３４３
２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−カルボン酸エチル７.４４ｇのクロロホルム１００ml溶液に室温で臭素８.１mlを滴下し、室温で３０分攪拌後、さらに８時間加熱還流した。反応液を冷却後、１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧下留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：酢酸エチル：n−ヘキサン＝１：９）で精製することにより、５−ブロモ−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−カルボン酸エチル９．２１ｇを淡黄色粉末として得た。ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３１４／３１６（ＭＨ＋）
【０２０５】
製造例３４４
３−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロベンゾイルアミノ）−３−オキソプロピオン酸メチル７．２５gのN,N−ジメチルホルムアミド８０ml溶液に氷冷下オキシ塩化リン５．７mlを滴下し、室温で３日間攪拌した。冷後反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝１００：１）で精製後、ジエチルエーテル−ヘキサンで粉末化し、無色粉末の５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−カルボン酸メチル２．８ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３３８/３４０（ＭＨ＋）
【０２０６】
製造例３４５
対応原料化合物を用い、製造例３４４と同様に処理して、５−（３−チエニル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−カルボン酸メチルを得た。
【０２０７】
製造例３４６
５−ブロモ−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−カルボン酸エチル６００mg、（４−クロロ−３−フルオロフェニル）臭化亜鉛の０．５Ｍテトラヒドロフラン溶液６ml、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム２３１mgおよびテトラヒドロフラン５mlをアルゴン雰囲気下室温で２時間攪拌後、さらに４０分加熱還流した。反応液を冷却し、減圧下濃縮後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧下留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：酢酸エチル：n−ヘキサン＝１：８）で精製することにより、５−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−カルボン酸エチル５８０mgを淡赤色固体として得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３６４／３６６（ＭＨ＋）
【０２０８】
製造例３４７
ｐ−フルオロベンズアミド５ｇ、ブロモピルビン酸エチル９.９２ml、炭酸水素ナトリウム１５ｇ及びテトラヒドロフラン１５０mlの混合物を２０時間加熱還流した。反応液を冷却後、不溶物をセライト濾過により除去し、濾液を減圧下濃縮した。残渣をテトラヒドロフラン３０mlに溶解し、氷冷下、無水トリフルオロ酢酸３０mlを加え、室温で１時間攪拌した。反応液に、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を氷冷下で加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧下留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：９）により精製することにより、無色固体の２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−カルボン酸エチル７.４４ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２３６（ＭＨ＋）
【０２０９】
製造例３４８
（１）２−[５−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イル]メチルチオウレア２００mgを水１５mlの懸濁液に、氷冷下塩素ガスを５分間吹き込んだ後、同温で３０分攪拌後、さらに室温で３０分攪拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧下留去することにより、５−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イルメタンスルホン酸クロリドの粗生成物を得た。
（２）（１）で得られる粗生成物をテトラヒドロフラン３mlに溶かし、２８％アンモニア水２mlを加えて室温で３時間攪拌した。反応液を減圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：メタノール＝２０：１）にて精製し、淡黄色固体の５−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イルメタンスルホンアミド１６４mgを得た。MS（m/z）：３８５／３８７（MH+）
（３）（２）で得られる５−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イルメタンスルホンアミド１２５mgをメタノールに溶かし、０．５Ｍナトリウムメトキシド（メタノール溶液）を０．６４ml加えた後、溶媒を減圧下留去した。残渣をアセトンより粉末化し、５−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イルメタンスルホンアミド ナトリウム塩８０mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３８３／３８５（Ｍ−Ｎａ）
【０２１０】
製造例３４９
（１）５−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−２−（４−フルオロフェニル）−４−ヒドロキシメチルオキサゾ−ル９６５mgと塩化チオニル１．１mlのテトラヒドロフラン３０ml溶液を０℃で３０分攪拌後、さらに室温で２時間攪拌した後、塩化チオニルを１．１ml追加し、１時間加熱還流した。反応液を減圧下濃縮し、残存する揮発性成分をトルエンとの共沸により留去し、更に減圧下乾燥し、５−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−４−クロロメチル−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾールの粗生成物９２５mgを得た。
（２）（１）で得られる粗生成物９２５mgとチオ尿素２６９mgのテトラヒドロフラン５０ml溶液を１５時間加熱還流した。反応液を１／３量まで減圧濃縮し、残渣にジエチルエーテルを加えて粉末化し、２−[５−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イル]メチルチオウレア 塩酸塩９５４mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３８０／３８２（ＭＨ＋）
【０２１１】
製造例３５０
５−（２−シアノエチル）−２−（４−フルオロフェニル）−４−（２−メトキシフェニル）−イミダゾール４０mgのジクロロメタン１０ml溶液に氷冷下、三臭化ホウ素９４mgを滴下後、室温で一晩攪拌した。反応液に氷冷下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を滴下後、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。残渣をプレパラティブＴＬＣ（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製後、更にＮＨシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製した後、塩化水素−エタノールを加え、濃縮することにより無色固体の５−（２−シアノエチル）−２−（４−フルオロフェニル）−４−（２−ヒドロキシフェニル）イミダゾール 塩酸塩６mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３０８（ＭＨ＋）
【０２１２】
製造例３５１〜３５５
対応原料化合物を用い、製造例４３及び製造例１５２と同様に処理して、下記第２７表記載の化合物を得た。
【０２１３】
【表２７−１】

【表２７−２】

【０２１４】
製造例３５６
２−（６−アミノピリジン−３−イル）−５−（５−クロロチオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル７０mg、４０％クロロアセトアルデヒド水溶液４７μl及びエタノール２．１mlの混合物を、３時間加熱還流し、４０％クロロアセトアルデヒド水溶液１６μlを加え、１時間加熱還流した。冷後反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：メタノール＝４９：１→９７：３）で精製し、２−（イミダゾ[a,1]ピリジン−５−イル）−５−（５−クロロチオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル６５mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３８８/３９０（ＭＨ＋）
【０２１５】
製造例３５７
（１）２−（６−クロロピリジン−３−イル）−５−（５−クロロチオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル１ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ml溶液に、アジ化ナトリウム１．７ｇを加え、一晩加熱還流した。冷後反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：酢酸エチル＝８：１）で精製し黄色粉末の２−（６−アジドピリジン−３−イル）−５−（５−クロロチオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル４０１mgを得た。
（２）２−（６−アジドピリジン−３−イル）−５−（５−クロロチオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル４０１mg、トリフェニルホスフィン５４０mg、水２ml及び酢酸８mlの混合物を、２時間加熱還流した。冷後反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：酢酸エチル＝５：１→２：３→１：２）で精製後、ジエチルエーテルで粉末化し、黄色粉末の ２−（６−アミノピリジン−３−イル）−５−（５−クロロチオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル１７７mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３６４/３６６（ＭＨ＋）
【０２１６】
製造例３５８
５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（１−ホルミルインドリン−５−イル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル１６０mg、６Ｎ塩酸２mlおよびエタノール４mlの混合物を６０℃で４日間、加熱攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧下留去した。プレパラティブＴＬＣ（溶媒：クロロホルム：メタノール＝２０：１）で精製したことにより、無色粉末の５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（５−インドリニル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル５３mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３８９／３９１（ＭＨ＋）
【０２１７】
製造例３５９
２−（２−メチルチオピリミジン−５−イル）−５−（５−クロロチオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル−酢酸エチル１５６mgのテトラヒドロフラン３．１２ml懸濁液に、氷冷下メタクロロ過安息香酸（７０％純度）８８mgを加え、室温で１時間攪拌した。再び氷冷後メタクロロ過安息香酸（７０％純度）４０mgを加え、室温で１時間攪拌した。５０％ジメチルアミン水溶液１mlを加え、室温で３０分間攪拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：酢酸エチル＝８：１）で精製し、無色粉末の２−（２−ジメチルアミノピリミジン−５−イル）−５−（５−クロロチオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル−酢酸エチル１３９mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３９３/３９５（ＭＨ＋）
【０２１８】
製造例３６０及び３６１
対応原料化合物を用い、製造例３５９と同様に処理して、下記第２８表記載の化合物を得た。
【０２１９】
【表２８】

【０２２０】
製造例３６２〜３６４
製造例３５９〜３６１で得られた化合物を常用により加水分解処理して、下記第２９表記載の化合物を得た。
【０２２１】
【表２９】

【０２２２】
製造例３６５
２−（６−クロロピリジン−３−イル）−５−（３−チエニル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル１５０mgのエタノール３ml懸濁液に１５％ナトリウムメチルスルフィド水溶液２mlを加え、３日間加熱還流した。冷後反応液を１０％塩酸で中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をジエチルエーテルを用いて洗浄後、メタノール５mlに溶解し、０．５Ｍナトリウムメトキシド（メタノール溶液）４５９μｌを加え溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をアセトンを用いて粉末化し、淡黄色粉末の２−（６−メチルチオピリジン−３−イル）−５−（３−チエニル）オキサゾール−４−イル−酢酸 ナトリウム塩７４mgを得た。
ＭＳ・ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：３３１（Ｍ−Ｎａ）
【０２２３】
製造例３６６
対応原料化合物を用い、製造例３６５と同様に処理して、２−（６−メチルチオピリジン−３−イル）−５−（２−チエニル）オキサゾール−４−イル−酢酸 ナトリウム塩を得た。
ＭＳ・ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：３３１（Ｍ−Ｎａ）
【０２２４】
製造例３６７
２−（６−クロロピリジン−３−イル）−５−（５−クロロチオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル１９２mgのエタノール５ml懸濁液に水素化ナトリウム（６０％ミネラルオイル）１００mgを加え、６時間加熱還流後、水１mlを加え、３０分加熱還流した。冷後反応液を１０％塩酸で中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をヘキサンを用いて洗浄後、メタノール５mlに溶解し、０．５Ｍナトリウムメトキシド（メタノール溶液）８６７μｌを加え溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をアセトンを用いて粉末化し、淡黄色粉末の２−（６−エトキシピリジン−３−イル）−５−（５−クロロチオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル酢酸 ナトリウム塩１６９mgを得た。
ＭＳ・ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：３６３/３６５（Ｍ−Ｎａ）
【０２２５】
製造例３６８及び３６９
製造例３６７で得られた化合物を製造例３６７と同様に処理して、下記第３０表記載の化合物を得た。
【０２２６】
【表３０】

【０２２７】
製造例３７０
２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−チエニル）オキサゾール−４−イル酢酸１３０mgのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５mlの混合物にＮ，Ｎ−カルボニルジイミダゾール３４７mgを加え室温にて２時間攪拌した。さらにメタンスルホンアミド２０４mｇ、１，８−ジアザビシクロ[ ５，４，０]ウンデセン０．３２mLを反応液に加え１００℃にて一晩加熱攪拌した。反応液を１０％塩酸に注ぎ、酢酸エチルにて抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製後、得られる残渣をメタノール１０mlに溶解し、０．５Ｍナトリウムメトキシド（メタノール溶液）６８μｌを加え溶媒を減圧下留去することにより、無色粉末のＮ−［２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−チエニル）オキサゾール−４−イルアセチル］メタンスルホンアミド ナトリウム塩４２mgを得た。
ＭＳ・ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：３７９（Ｍ−Ｎａ）
【０２２８】
製造例３７１
【０２２９】
対応原料化合物を製造例３７０と同様に処理して、下記第３１表記載の化合物を得た。
【０２３０】
【表３１】

【０２３１】
製造例３７２
アルゴン雰囲気下２−（４−フルオロフェニル）−５−（５−クロロチオフェン−２−イル）オキサゾール−４−イル酢酸エチル１．０１ｇ、エタノール５ml、ジエチルエーテル５mlおよびテトラヒドロフラン６mlの混合物に水素化ナトリウム（６０％ミネラルオイル）１１０mgを加え氷冷で１０分攪拌した。さらに反応液に亜硝酸イソアミル６４７mgを加え室温にて１時間半攪拌後、１０％塩酸を注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣３９５mg、ギ酸４mlおよびエタノール３mlの混合物に亜鉛末２９１mgを室温にて加え１０分間攪拌後、７０℃にて２０分間攪拌した。反応液を冷却後グラスフィルターにて濾過し、残渣をエタノールにて洗浄後、濾液を減圧下濃縮した。得られる残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を注ぎ、酢酸エチルで抽出し有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をジエチルエーテル−ヘキサンで粉末化し、無色粉末の ２−アミノ−２−[５−（５−クロロチオフェン−２−イル） −２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イル]酢酸エチル３０７mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３８１/３８３（ＭＨ＋）
【０２３２】
製造例３７３
２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−チエニル）オキサゾール−４−イル酢酸１００mg、メトキシアミン 塩酸塩３７．６mg、３−エチル−１−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド 塩酸塩９５mg、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール６７mg、トリエチルアミン０．１４mlおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３mlの混合物を室温で一晩攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽出し水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：メタノール＝２０：１）で精製後、ジエチルエーテルーヘキサンで粉末化し、無色粉末のＮ−メトキシ[２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−チエニル）オキサゾール−４−イル] アセトアミド７５mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３３３（ＭＨ＋）
【０２３３】
製造例３７４〜３７７
対応原料化合物を製造例３７３と同様に処理して、下記第３２表記載の化合物を得た。
【０２３４】
【表３２】

【０２３５】
製造例３７８
アルゴン雰囲気下２−（４−フルオロフェニル）−４−（２−ヒドロキシエチル）−５−（３−チエニル）オキサゾール３００mgの塩化メチレン１０ml溶液に氷冷下、メタンスルホン酸クロリド９６μlおよびトリエチルアミン１８８μlを順次加えた後室温で３時間攪拌した。反応液を水に注ぎ塩化メチレンにて抽出した。抽出液を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去することにより、２−（４−フルオロフェニル）−４−（２−メタンスルホニルオキシエチル）−５−（３−チエニル）オキサゾールの粗生成物を得た。
（２）メタンスルホンアミド１３６mgのN,N−ジメチルホルムアミド１０ml溶液に氷冷下、水素化ナトリウム（６０％ミネラルオイル）５７mgを加え、室温で１時間攪拌した。再び氷冷後、（１）で得られる粗生成物のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液を加え、室温で１時間攪拌後６０℃にて一晩加熱攪拌した。反応液を氷冷後塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製後、得られる残渣をメタノール５mlに溶解し、０．５Ｍナトリウムメトキシド（メタノール溶液）５６２μlを加え溶媒を減圧下留去することにより、無色粉末の２−（４−フルオロフェニル）−４−メタンスルホニルアミノエチル−５−（３−チエニル）オキサゾール ナトリウム塩１４３mgを得た。
ＭＳ・ＥＳＩ（ｍ／ｚ）：３６５（Ｍ−Ｎａ）
【０２３６】
製造例３７９
（１）２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−チエニル）オキサゾール−４−イル酢酸１．５ｇ、ジフェニルリン酸アジド１．２８ml、トリエチルアミン０．８３ml及びｔ−ブタノール３０mlの混合物を１日間加熱還流した。反応液を冷却後、溶媒を減圧下留去した。残渣に水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧下留去した。残渣にクロロホルムを加え、加温後、不溶物を濾去し、濾液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：９→１：７）にて精製し、４−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチル−２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−チエニル）オキサゾール５０１mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３７５（ＭＨ＋）
（２）４−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチル−２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−チエニル）オキサゾール４５５mgと４Ｎ塩化水素−ジオキサン溶液の混合物を室温で１３時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮後、残存する揮発性成分をトルエンとの共沸により留去し、得られた残渣をジエチルエーテルにて粉末化し、４−アミノメチル−２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−チエニル）オキサゾール 塩酸塩２８８mgを無色粉末として得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２７５（ＭＨ＋）
【０２３７】
製造例３８０
（１）４−アミノメチル−２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−チエニル）オキサゾール１１０mgのジクロロメタン５ml懸濁液にアセトン氷浴中、メタンスルホン酸クロリド０．０３６ml、トリエチルアミン０．１５mlの順に滴下した。反応液を０℃で１時間攪拌後、さらに室温で２時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：メタノール＝１００：０→９５：５）により精製し、Ｎ−[２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−チエニル）オキサゾール−４−イル]メタンスルホンアミドの粗生成物１４０mgを得た。
（２）Ｎ−[２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−チエニル）オキサゾール−４−イル]メタンスルホンアミドの粗生成物１３３mgをメタノール５mlおよびテトラヒドロフラン５mlに溶かし、ナトリウムメトキシドのメタノール０．５Ｎ溶液を０．７２ml加え、室温にて１０分攪拌した。反応液を減圧下濃縮後、残渣をアセトンにて粉末化させ、Ｎ−[２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−チエニル）オキサゾール−４−イル]メタンスルホンアミド ナトリウム塩１１２mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３５３（ＭＨ＋）
【０２３８】
製造例３８１〜４２９
対応原料化合物を製造例６３と同様に処理して、下記第３３表記載の化合物を得た。
【０２３９】
【表３３−１】

【表３３−２】

【表３３−３】

【表３３−４】

【表３３−５】

【表３３−６】

【表３３−７】

【表３３−８】

【表３３−９】

【表３３−１０】

【表３３−１１】

【表３３−１２】

【表３３−１３】

【０２４０】
製造例４３０〜４７９
対応原料化合物を製造例１４８又は１５２と同様に処理して、下記第３４表記載の化合物を得た。
【０２４１】
【表３４−１】

【表３４−２】

【表３４−３】

【表３４−４】

【表３４−５】

【表３４−６】

【表３４−７】

【表３４−８】

【表３４−９】

【表３４−１０】

【表３４−１１】

【表３４−１２】

【表３４−１３】

【０２４２】
製造例４８０
３−（４−クロロベンゾイルアミノ）−４−フェニル−４−オキソ酪酸エチル２５ｇの酢酸１５０ml溶液を１３０℃に加熱後、大過剰の酢酸アンモニウムを加えた。反応終了をＴＬＣで確認後、反応液を冷却後、氷水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。残渣をジイソプロピルエーテルで結晶化し、２−（４−クロロフェニル）−４−フェニルイミダゾール−５−イル酢酸アミド１０．４２ｇを得た。
ＭＳ・ＥＩ（ｍ／ｚ）：３１１（Ｍ＋）
【０２４３】
製造例４８１
２−（４−クロロフェニル）−４−フェニルイミダゾールー５−イル酢酸アミド１０．００ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ml溶液に２０℃以下でオキシ塩化リン８．９mlを滴下し、室温で１時間攪拌した。反応液に氷水と酢酸エチルを加え、炭酸水素ナトリウムで中和した。分液後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧下留去した。残渣をジイソプロピルエーテルで結晶化し、２−（４−クロロフェニル）−５−シアノメチルー４−フェニルイミダゾール６．８５ｇを得た。
ＭＳ・ＥＩ（ｍ／ｚ）：２９３（Ｍ＋）
【０２４４】
製造例４８２
対応原料化合物を製造例１１２と同様に処理して、２−（５−クロロチオフェン−３−イル）−５−ヒドロキシメチル−４−（３−ピリジル）イミダゾールを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２９２（ＭＨ＋）
【０２４５】
製造例４８３
対応原料化合物を製造例１３０と同様に処理して、２−（４−フルオロフェニル）−５−メチルチオメチル−４−フェニルイミダゾール 塩酸塩を得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２９８（Ｍ＋）
【０２４６】
製造例４８４
対応原料化合物を製造例１４１と同様に処理して、２−（４−フルオロフェニル）−５−（３−ピリジル）オキサゾール−４−イル酢酸 塩酸塩を得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２９９（Ｍ＋Ｈ）
【０２４７】
製造例４８５
２−（２−ヒドロキシメチルチオフェン−３−イル）−５−エチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール 二塩酸塩２１２mg、二酸化マンガン２ｇ及びテトラヒドロフラン１５mlの混合物を１時間加熱還流した。反応液を濾過し、テトラヒドロフランで洗浄後、濾液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：メタノール＝３０：１→２０：１）にて精製することにより、橙色結晶の２−（２−ホルミルチオフェンー３−イル）−５−エチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール９３mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２８４（ＭＨ＋）
【０２４８】
製造例４８６
アルゴン雰囲気下２−（２−ホルミルチオフェン−３−イル）−５−エチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール６８mgのテトラヒドロフラン５ml溶液に氷冷下、３Ｍメチルマグネシウムブロミドのジエチルエーテル溶液０．２４mlを滴下後、同温で３０分攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：メタノール＝２０：１）にて精製することにより黄褐色粉末の下２−[２−（１−ヒドロキシエチル）チオフェン−３−イル]−５−エチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール 二塩酸塩６０mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３００（ＭＨ＋）
【０２４９】
製造例４８７
（１）４−（２−チエニル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−５イル酢酸エチル１４０mg、Ｎ−クロロコハク酸イミド６２mg、触媒量の７０％過塩素酸水及び四塩化炭素７mlの混合物を室温で一晩攪拌した。反応液を水に注ぎ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて中和し酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：へキサン：酢酸エチル＝９５：５）で精製し、無色粉末の４−（５−クロロチオフェンー２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−５イル酢酸エチル３９．６mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３６６/３６８（ＭＨ＋）
（２）上記（１）で得られた化合物を常法により加水分解処理して、４−（５−クロロチオフェンー２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）オキサゾール−５イル酢酸 ナトリウム塩を得た。
ＥＳＩ・ＭＳ（ｍ／ｚ）：３３６/３３８（Ｍ−Ｎａ）−
【０２５０】
製造例４８８〜５０２
対応原料化合物を製造例１４７と同様に処理して、下記第３５表記載の化合物を得た。
【０２５１】
【表３５−１】

【表３５−２】

【表３５−３】

【表３５−４】

【０２５２】
製造例５０３〜５１７
対応原料化合物を製造例１４８と同様に処理して、下記第３６表記載の化合物を得た。
【０２５３】
【表３６−１】

【表３６−２】

【表３６−３】

【表３６−４】

【０２５４】
製造例５１８〜５２１
対応原料化合物を製造例１５１又は２９６と同様に処理して、下記第３７表記載の化合物を得た。
【０２５５】
【表３７】

【０２５６】
製造例５２２〜５２５
対応原料化合物を製造例１５２と同様に処理して、下記第３８表記載の化合物を得た。
【０２５７】
【表３８】

【０２５８】
製造例５２６〜５２８
対応原料化合物を製造例３３０と同様に処理して、下記第３９表記載の化合物を得た。
【０２５９】
【表３９】

【０２６０】
製造例５２９〜５３１
対応原料化合物を常法により加水分解処理して、下記第４０表記載の化合物を得た。
【０２６１】
【表４０】

【０２６２】
製造例５３２〜５３６
対応原料化合物を製造例２２７と同様に処理して、下記第４１表記載の化合物を得た。
【０２６３】
【表４１−１】

【表４１−２】

【０２６４】
製造例５３７
３−ブロモ−４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−４−オキソ酪酸エチル６５１mg、４−フルオロチオベンズアミド３１０mgおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０mlの混合物を７０℃で二時間攪拌した。冷後反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をＮＨシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製することにより、４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）チアゾール−５−イル酢酸エチル４７１mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３８２/２８４（ＭＨ＋）
【０２６５】
製造例５３８〜５６７
対応原料化合物を製造例５３７と同様に処理して、下記第４２表記載の化合物を得た。
【０２６６】
【表４２−１】

【表４２−２】

【表４２−３】

【表４２−４】

【表４２−５】

【表４２−６】

【表４２−７】

【表４２−８】

【０２６７】
製造例５６８〜５９７
対応原料化合物を常法により加水分解処理して、下記第４３表記載の化合物を得た。
【０２６８】
【表４３−１】

【表４３−２】

【表４３−３】

【表４３−４】

【表４３−５】

【表４３−６】

【表４３−７】

【表４３−８】

【０２６９】
製造例５９８及び５９９
対応原料化合物を製造例３５９と同様に処理して、下記第４４表記載の化合物を得た。
【０２７０】
【表４４】

【０２７１】
製造例６００及び６０１
対応原料化合物を常法により加水分解処理して、下記第４５表記載の化合物を得た。
【０２７２】
【表４５】

【０２７３】
製造例６０２
３−アミノ−４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−４−オキソ酪酸エチル塩酸塩５９６mg、塩化４−フルオロベンゾイル３８０mg、炭酸水素ナトリウム１．０g、酢酸エチル１０mlおよび水１０mlの混合物を室温で２時間攪拌した。反応液に酢酸エチル３０ml及び水３０mlを加え、有機層を分取した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をヘキサンで粉末化し、無色粉末の４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−３−[（４−フルオロベンゾイル）アミノ]−４−オキソ酪酸エチル７３２mgの粗成物を得た。
４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−３−[（４−フルオロベンゾイル）アミノ]−４−オキソ酪酸エチル７２０mg及び２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジフォスフェタン−２，４−ジスルフィド１．１４ｇのテトラヒドロフラン２０mlの混合物を、２時間半加熱還流した。反応液を冷却後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製後、ヘキサンで粉末化し、黄色粉末の５−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロフェニル）チアゾール−４−イル酢酸エチル６６７mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３８２/３８４（ＭＨ＋）
【０２７４】
製造例６０３〜６０７
対応原料化合物を製造例６０２と同様に処理して、下記第４６表記載の化合物を得た。
【０２７５】
【表４６−１】

【表４６−２】

【０２７６】
製造例６０８〜６１２
対応原料化合物を常法により加水分解処理して、下記第４７表記載の化合物を得た。
【０２７７】
【表４７−１】

【表４７−２】

【０２７８】
製造例６１３〜６２２
上記製造例記載の製法又は既知製法に従って、下記第４８表記載の化合物を得た。
【０２７９】
【表４８−１】

【表４８−２】

【表４８−３】

【０２８０】
製造例６２３〜６３１
製造例１２９、１３０、１３５、１４８、１５２又は３３０記載の製法又に従って、下記第４９表記載の化合物を得た。
【０２８１】
【表４９−１】

【表４９−２】

【表４９−３】

【０２８２】
製造例６３２
（１）２−（４−クロロフェニル）−５−フェニル−チアゾール−４−イル酢酸エチル ４．５ｇをメタノール５０mlに溶かし０℃でアンモニアを飽和させて室温で３日間放置した。溶媒留去後、残渣にメタノールを加えた。析出した沈殿を濾過し、乾燥することにより２−（４−クロロフェニル）−５−フェニル−チアゾール−４−イル酢酸アミド４．２ｇを得た。
融点 ２０２−２０３℃
ＭＳ・ＥＩ（ｍ／ｚ）：３２８（Ｍ＋）
【０２８３】
（２）２−（４−クロロフェニル）−５−フェニル−チアゾール−４−イル酢酸アミド３．４ｇ、オキシ塩化リン３mlのクロロホルム５０mlの溶液にピリジン１滴を加え８時間加熱還流した。冷却した希アンモニア水に注いだのち有機層を分取した。溶媒留去後、残渣にエタノールを加え結晶を濾取し、２−（４−クロロフェニル）−５−フェニル−チアゾール−４−イルアセトニトリル３．１ｇを得た。
融点： １１８−１２０℃
ＭＳ・ＥＩ（ｍ／ｚ）：３１０（Ｍ＋）
【０２８４】
（３）２−（４−クロロフェニル）−５−フェニル−チアゾール−４−イルアセトニトリル２．３３ｇ のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ml溶液にナトリウムアジド１．４０ｇ、塩化アンモニウム１．３ｇを加え９０℃で１２時間加熱攪拌した。溶媒留去後、残渣に酢酸エチルと水を加えた。有機層を分取、乾燥して後、溶媒を留去した。残渣をクロロホルムとメタノールより再結晶し５−[２−（４−クロロフェニル）−５−フェニル−チアゾール−４−イルメチル]テトラゾール１．７５ｇを得た。
融点： ２１３−２１４℃
ＭＳ・ＥＩ（ｍ／ｚ）：３５３（Ｍ＋）
【０２８５】
製造例６３３〜６４１
対応原料化合物を用い、製造例４３、１３５、６０８又は既知製法と同様に処理して、下記第５０表記載の化合物を得た。
【０２８６】
【表５０−１】

【表５０−２】

【表５０−３】

【０２８７】
製造例６４２〜６４４
製造例６０８又は６３２、又は特開昭６１−１６７６８５号と同様の方法により、下記第５０ａ表記載の化合物を得た。
【０２８８】
【表５１】

【０２８９】
参考例１
（１）２−アセチルピリミジン２．９０ｇ、ヒドロキシルアミン塩酸塩２．４８ｇ、トリエチルアミン５．３mlおよびエタノール４０mlの混合物を、室温で一晩攪拌した。反応液を水に注ぎ塩化メチレンで抽出した。抽出液を飽和硫酸アンモニウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧下留去し、無色粉末の２−アセチルピリミジンオキシム４．４４ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：１３８（ＭＨ＋）
（２）２−アセチルピリミジンオキシム４．４０ｇ、塩化ｐ−トルエンスルホニル６．７９ｇおよびピリジン４０mlの混合物を、室温で一晩攪拌した。反応液を氷水に注ぎ、析出する粗成物を濾取した。濾液を１０％塩酸で中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧下留去した。得られる残渣と先に得られた粗成物を合わせてジエチルエーテルより粉末化し、無色粉末のＯ−ｐ−トルエンスルホニル−２−アセチルピリミジンオキシム４．５３ｇを得た。
（３）氷冷したエタノール１９mlに水素化ナトリウム（６０％ミネラルオイル）６８１mgを加え、室温で３０分攪拌した。この溶液に氷冷下Ｏ−ｐ−トルエンスルホニルー２−アセチルピリミジンオキシム４．５１ｇのエタノール１６ml−テトラヒドロフラン１０ml混合溶液を滴下し、室温で１時間半攪拌した。反応液にジエチルエーテル１５０mlを加え、析出する不溶物を濾去した。濾液を２Ｎ塩酸で抽出し、水層を減圧下留去した。得られる残渣をアセトン−エタノールより粉末化し、淡褐色粉末の２−（２−アミノアセチル）ピリミジン塩酸塩２．８７ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：１３８（ＭＨ＋）
【０２９０】
参考例２〜４
対応原料化合物を用い、参考例１と同様に処理して、下記第５１表記載の化合物を得た。
【０２９１】
【表５２】

【０２９２】
参考例５
（１）１−（３−ピリジル）−１−ブタノン２０.０ｇの４７％臭化水素酸水４０ml、酢酸４０ml溶液に臭素１５.２mlを加え、６０℃にて３０分攪拌した。反応液を氷水に注ぎ、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えた後、炭酸カリウムを加えてｐＨ４に調整した。反応液を酢酸エチルで抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、褐色油状物の２−ブロモ−１−（３−ピリジル）−１−ブタノンの粗成物３０.１５ｇを得た。
（２）上記（１）で得られる粗成物をＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド１００mlに溶解し、氷冷下アジ化ナトリウム９.５０ｇを加え、室温下１時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで３回抽出し、食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶媒：ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、黄色油状物の２−アジド−１−（３−ピリジル）−１−ブタノン１８.６５ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：１９１（ＭＨ＋）
（３）２−アジド−１−（３−ピリジル）−１−ブタノン１８.６０ｇ、ジ−ｔ−ブチル ジカーボネート２３.５０ｇ、１０％パラジウム−炭素２．７０ｇおよびメタノール２００mlの混合物を水素雰囲気下室温で１時間攪拌した。パラジウム−炭素を濾去後溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝２：１→１:１）で精製し、黄赤色油状物の２−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−１−（３−ピリジル）−１−ブタノン２０.５３ｇを得た。
（４）２−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−１−（３−ピリジル）−１−ブタノン２０.５０ｇ、６Ｎ塩酸３８.８ml及びエタノール１００mlの混合物を１時間加熱還流した。冷後反応液を減圧下濃縮し、得られる残渣をエタノール−酢酸エチル（１:１）で粉末化して、淡赤紫色結晶性粉末の２−アミノ−１−（３−ピリジル）−１−ブタノン 二塩酸塩１３.４０ｇを得た。
融点：１９９−２０１℃（分解）
【０２９３】
参考例６〜８
対応原料化合物を用い、参考例５と同様に処理して、下記第５２表記載の化合物を得た。
【０２９４】
【表５３】

【０２９５】
参考例９
６−メチルニコチン酸２４５mgより調製した酸塩化物のクロロホルム１０ml溶液に、２−アミノ−１−（３−ピリジル）−１−ブタノン 二塩酸塩３５６mgおよびトリエチルアミン１.０５mlを加え、３０分攪拌した。反応混合液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、２−（６−メチルニコチノイルアミノ）−１−（３−ピリジル）−１−ブタノンの粗成物４２５mgを得た。
【０２９６】
参考例１０
（１）３−（２−アミノアセチル）ピリジン 二塩酸塩５０．００ｇ、塩化４−フルオロベンゾイル４１．７１ｇ、炭酸水素ナトリウム１００．４４ｇ、酢酸エチル１Ｌおよび水０．６Ｌの混合物を室温で２時間攪拌した。反応液にテトラヒドロフラン０．５Ｌ及び水１Ｌを加え、有機層を分取した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣を酢酸エチルで粉末化し、淡黄色粉末の３−[２−（４−フルオロベンゾイル）アミノアセチル]ピリジン４０．８７ｇを得た。
融点：１６４．５−１６５．５℃
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２５９（ＭＨ＋）
（２）３−[２−（４−フルオロベンゾイル）アミノアセチル]ピリジン５００mgのＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ml溶液にドライアイス−アセトン冷却下、水素化ナトリウム（６０％ミネラルオイル）８１.３mgおよびアクリロニトリル１１３mgを加え、アルゴン雰囲気下同温で１０分攪拌後、０℃まで徐々に昇温し、同温度で３０分攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去して、４−シアノ−２−（４−フルオロベンゾイルアミノ）−１−（３−ピリジル）−１−ブタノンの粗成物５００mgを得た。
【０２９７】
参考例１１
（１）ギ酸０．９７mlを氷冷下無水酢酸２．３９mlに滴下後、５０℃で３０分攪拌した。反応液を再度氷冷しテトラヒドロフラン９mlで希釈した後、２−アミノ−１−（３−ピリジル）−１−ブタノン 二塩酸塩６００mgおよびトリエチルアミン１．４１mlを加え、氷冷下１．５時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣を酢酸エチル−ジエチルエーテルより粉末化し、無色粉末の２−ホルミルアミノ−１−（３−ピリジル）−１−ブタノン４４０mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：１９３（ＭＨ＋）
（２）２−ホルミルアミノ−１−（３−ピリジル）−１−ブタノン６４０mg、酢酸アンモニウム５．１３ｇおよび酢酸５mlの混合物を１００℃で１時間半攪拌した。冷後反応液に２８％アンモニア水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣を酢酸エチル−ジエチルエーテルより粉末化し、無色粉末の５−エチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール５２０mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：１７４（ＭＨ＋）
（３）５−エチル−４−（３−ピリジル）イミダゾール１．５０ｇおよび酢酸カリウム２．５５ｇのメタノール４０ml溶液にヨウ素２．８６を加え、室温で一晩攪拌した。反応液に水および酢酸エチルを加え有機層を分取し、チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をＮＨシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶媒：酢酸エチル）で精製し、５−エチル−２−ヨード−４−（３−ピリジル）イミダゾール １．７５ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３００（ＭＨ＋）
【０２９８】
参考例１２
（１）α−アミノ−２−チオフェン酢酸メチル１．４８ｇ、塩化４−フルオロベンゾイル１．６４ｇ、炭酸水素ナトリウム２．８９ｇ、塩化メチレン２０mlおよび水２０mlの混合物を室温で一晩攪拌した。有機層を分取し水および飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣を酢酸エチル−へキサンで粉末化し、無色粉末のα−（４−フルオロベンゾイルアミノ）−２−チオフェン酢酸メチル２.４０ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２９４（ＭＨ＋）
（２）ジイソプロピルアミン２．４８ｇのテトラヒドロフラン４５ml溶液にアルゴン雰囲気下−７８℃で１．６Ｍ ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン溶液）１５．７１mlを滴下し３０分攪拌後、酢酸エチル２．１６ｇのテトラヒドロフラン５ml溶液を滴下しさらに３０分攪拌した。反応液にα−（４−フルオロベンゾイルアミノ）−２−チオフェン酢酸メチル２.４０ｇのテトラヒドロフラン１５ml溶液をゆっくり加え１時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：エタノール＝１００：１）で精製し、黄色油状物の４−（４−フルオロベンゾイルアミノ）−４−（２−チエニル）アセト酢酸エチル２.５３ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３５０（ＭＨ＋）
【０２９９】
参考例１３
（１）ベンゾ[ｂ]フラン−５−カルボン酸１．３０ｇとイソシアノ酢酸メチル８３４mgをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ml溶液に、室温にてシアノリン酸ジエチル１．３３ml、トリエチルアミン３．６mlを加えて終夜攪拌した。溶媒を減圧下留去後、残渣にクエン酸水溶液と酢酸エチルを加えて有機層を分取し、クエン酸水溶液、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、５−（５−ベンゾ[ｂ]フリル）オキサゾール−４−カルボン酸メチルの粗生成物１．１４ｇを得た。
（２）５−（５−ベンゾ[ｂ]フリル）オキサゾール−４−カルボン酸メチルの粗生成物１．１４ｇのメタノール２０ml及びテトラヒドロフラン５ml溶液に濃塩酸８ｍＬを加え、終夜加熱還流した。反応液を減圧下留去し、得られる残渣をメタノール−ジエチルエーテル−アセトンにて粉末化し、５−（アミノアセチル）ベンゾ[ｂ]フラン塩酸塩６００mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：１７６（ＭＨ＋）
【０３００】
参考例１４
対応原料化合物を用い、参考例１３（１）及び（２）と同様に処理して、下記第５３表記載の化合物を得た。
【０３０１】
【表５４】

【０３０２】
参考例１５〜１９
対応原料化合物を用い、参考例１０（１）と同様に処理して、下記第５４表記載の化合物を得た。
【０３０３】
【表５５】

【０３０４】
参考例２０
（１）２−クロロ−５−（ブロモアセチル）チオフェン２８．０４ｇのアセトニトリル１５０ml溶液にジホルミルイミドナトリウム１３．３５ｇを加え、室温で４５分間攪拌後、５０度に加熱し２時間半攪拌した。反応液をセライト濾過し不溶物をテトラヒドロフランで洗浄後、濾液と洗液を合わせて溶媒を減圧下留去した。残渣をジイソプロピルエーテルで結晶化することにより、２−クロロ−５−（ジホルミルアミノアセチル）チオフェン２０．６３ｇを粗結晶として得た。
（２）２−クロロ−５−（ジホルミルアミノアセチル）チオフェンの粗結晶に水酸化カリウム０．６０ｇ、エタノール７０mlおよびテトラヒドロフラン４０mlを加え、室温にて１時間攪拌した。溶媒を減圧下留去後、テトラヒドロフラン１５０mlおよび無水硫酸マグネシウムを加え、不溶物を濾別し、テトラヒドロフランで洗浄した。濾液と洗液を合わせて溶媒を減圧下留去した。残渣をジイソプロピルエーテル−酢酸エチルで結晶化することにより、２−クロロ−５−（ホルミルアミノアセチル）チオフェン１４．８１ｇを淡褐色結晶として得た。
ｍｐ１１１−１１３℃
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２０４（ＭＨ＋）
（３）２−クロロ−５−（ホルミルアミノアセチル）チオフェン２０．１ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４００ml溶液に、氷冷下、水素化ナトリウム（６０％ミネラルオイル）４．４４ｇを加え、アルゴン雰囲気下室温で１時間攪拌した。氷冷後、反応液にブロモ酢酸エチル２０．８ｇを滴下し、室温で２時間攪拌した。冷後、反応液に氷を加えたのち、水および酢酸エチルを加え、有機層を分取し、水および飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）で精製し、黄色液体の４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−３−ホルミルアミノ−４−オキソ酪酸エチル１７．８ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２９０／２９２（ＭＨ＋）
（４）４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−３−ホルミルアミノ−４−オキソ酪酸エチル１７．８ｇのエタノール１７８ml溶液に、氷冷下、４Ｎ塩化水素−ジオキサン１７８mlを加え、室温で１８時間攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣を酢酸エチルで粉末化し、無色粉末の４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−３−アミノ−４−オキソ酪酸エチル塩酸塩１４．２ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２６２／２６４（ＭＨ＋）
【０３０５】
参考例２１
対応原料化合物を用い、参考例２０（１）〜（４）と同様に処理して、下記第５５表記載の化合物を得た。
【０３０６】
【表５６】

【０３０７】
参考例２２
（１）Ｎ−（５−ベンゾ[ｂ]フロイル）アスパラギン酸β−メチル１．０ｇの無水酢酸溶液１０ml混合液を８５℃で１時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をｎ−ヘキサン−ジエチルエーテルにて結晶化し無色粉末の２−（５−ベンゾ[ｂ]フリル）−４−メトキシカルボニルメチル−５−オキソー２−オキサゾリン７５１mgを得た。
（２）２−（５−ベンゾ[ｂ]フリル）−４−メトキシカルボニルメチル−５−オキソー２−オキサゾリン４１０mg、３−テノイルクロリド２４２mg、酢酸エチル８mlの混合液に氷冷下、トリエチルアミン０．２３mlを加えた後、０．５時間室温で攪拌した。反応液に酢酸エチルを加えろ過し、得られるろ液を減圧下留去した。得られる残渣とピリジン３．６mlの混合液を室温にて１０分攪拌後、６０℃で２時間攪拌した。さらに酢酸１．３５mlを加え８０℃で１．５時間攪拌した。冷後反応液に水および酢酸エチルを加え有機層を分取し、１０％塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製することにより、無色粉末の３−（５−ベンゾ[ｂ]フロイルアミノ）−４−（３−チエニル）−４−オキソ酪酸メチル２５３mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３５８（ＭＨ＋）
【０３０８】
参考例２３
対応原料化合物を参考例１０（１）と同様に処理して、２−（２−（４−フルオロベンゾイルアミノ）アセチル）チオフェンを得た。
【０３０９】
参考例２４
（１）アルゴン雰囲気下５−（５−クロロチオフェン−２−イル）オキサゾール−４−カルボン酸メチル１２．６ｇのメタノール１５０ml溶液に４Ｎ塩化水素−ジオキサン溶液１００mlを加え、７０℃にて一晩加熱攪拌した。反応液を冷却後減圧下留去し、得られる残渣をアセトンで粉末化し、無色粉末の２−アミノ−３−（５−クロロチオフェン−２−イル）−３−オキソプロピオン酸メチル 塩酸塩１３．９ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２３４（ＭＨ＋）
（２）２−アミノ−３−（５−クロロチオフェン−２−イル）−３−オキソプロピオン酸メチル 塩酸塩６．０ｇ、塩化４−フルオロベンゾイル４．２３ｇ、炭酸水素ナトリウム１１．２ｇ、酢酸エチル１００mlおよび水１０mlの混合物を室温で２時間攪拌した。有機層を分液後、水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をジエチルエーテルで粉末化し、無色粉末の３−（５−クロロチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロベンゾイルアミノ）−３−オキソプロピオン酸メチル７．３ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３５６/３５８（ＭＨ＋）
【０３１０】
参考例２５
１,２,３,４−テトラヒドロキノリン−６−カルボン酸２ｇ、３２％ホルマリン水溶液２ml、１０％パラジウム−炭素４００mgおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０mlの混合物を水素雰囲気下室温で１時間攪拌した。パラジウム−炭素を濾去後溶媒を減圧下留去し、得られる残渣をジエチルエーテルで粉末化し、黄色粉末の１−メチルー１,２,３,４−テトラヒドロキノリン−６−カルボン酸１．９８ｇを得た。
ＥＳＩ・ＭＳ（ｍ／ｚ）：１９０（Ｍ−Ｈ）−
【０３１１】
参考例２６
対応原料化合物を参考例２５と同様に処理して、１−メチルインドリン−
５−カルボン酸を得た。
ＥＳＩ・ＭＳ（ｍ／ｚ）：１７６（Ｍ−Ｈ）−
【０３１２】
参考例２７
６−メトキシメチルニコチン酸メチル７３７mg、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液２ml及びメタノール１５mlの混合物を、一晩加熱還流した。冷後、反応液を減圧下濃縮後、得られる残渣をジエチルエーテルで粉末化し、無色粉末の６−メトキシメチルニコチン酸 ナトリウム塩７５４mgを得た。
ＥＳＩ・ＭＳ（ｍ／ｚ）：１６６（Ｍ−Ｎａ）
【０３１３】
参考例２８
（１）６−ブロモメチルニコチン酸メチル３５０mgのテトラヒドロフラン５ml溶液に、５０％ジメチルアミン水溶液３mlを加え、室温で１０分間激しく攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム：メタノール＝１００：１）で精製し、褐色粉末の６−（ジメチルアミノ）メチルニコチン酸メチル２７６mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：１９５（ＭＨ＋）
（２）６−（ジメチルアミノ）メチルニコチン酸メチル２５６mg及び１０Ｎ塩酸の混合物を、一晩加熱還流した。冷後、反応液を減圧下濃縮し、無色粉末の６−（ジメチルアミノ）メチルニコチン酸 塩酸塩３２９mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：１８１（ＭＨ＋）
【０３１４】
参考例２９
３−（２−アミノアセチル）ピリジン 二塩酸塩５．２３ｇのクロロホルム５０ml懸濁液に室温でジ−ｔ−ブチルジカーボネート５．７３ｇおよびトリエチルアミン１０．５mlを加え、１時間攪拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、活性炭を加え、不溶物を濾去した。濾液を減圧下濃縮後、残渣を中圧カラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム:メタノール＝３０：１→２０：１）により精製し、ジイソプロピルエーテルにより粉末化することにより３−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノアセチル）ピリジン３．２０ｇを得た。
融点：９８−９９℃
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２３７（MH＋）
【０３１５】
参考例３０
（１）（２−メトキシ）フェナシルブロミド５５０mg、ナトリウムジホルミルイミド２７４mgおよびアセトニトリル２．５mlの混合物を室温で３０分攪拌後、７０℃で２４時間攪拌した。不溶物を濾別、アセトニトリルで洗浄後、濾液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製した後、ヘキサン−酢酸エチルで粉末化することにより無色粉末の２−（ジホルミルアミノ）−２’−メトキシアセトフェノン４．４０ｇを得た。
（２）２−（ジホルミルアミノ）−２’−メトキシアセトフェノン３．２８ｇと５％塩化水素エタノール溶液３７mlの混合物を室温で１７時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮後、残渣をジエチルエーテルにて粉末化した。再び５％塩化水素エタノール溶液を加え、室温で１日攪拌後、減圧下濃縮した。残渣をジエチルエーテル及び酢酸エチルで洗浄することにより無色固体の２−アミノ−２’−メトキシアセトフェノン 塩酸塩２．９１ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：１６６（ＭＨ＋）
【０３１６】
参考例３１
ｄｌ−α−アミノ−２−チオフェン酢酸メチル 塩酸塩５．５９ｇ、Ｎ−クロロコハク酸イミド４．６７ｇおよび酢酸６０mlの混合物を、室温で一晩攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られる残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られる残渣にメタノール４０mlおよび４Ｎ塩化水素−ジオキサン３０mlを加え溶媒を減圧下留去し、ジエチルエーテルおよびメタノールを用いて粉末化し、淡褐色粉末のｄｌ−α−アミノ−２−（５−クロロチオフェン）酢酸メチル 塩酸塩４．２４ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２０６/２０８（ＭＨ＋）
【０３１７】
参考例３２〜４６
対応原料化合物を参考例１２（１）と同様に処理して、下記第５６表記載の化合物を得た。
【０３１８】
【表５７−１】

【表５７−２】

【表５７−３】

【０３１９】
参考例４７〜６１
対応原料化合物を参考例１２（２）と同様に処理して、下記第５７表記載の化合物を得た。
【０３２０】
【表５８−１】

【表５８−２】

【表５８−３】

【０３２１】
参考例６２〜６６
対応原料化合物を参考例１０（１）と同様に処理して、下記第５８表記載の化合物を得た。
【０３２２】
【表５９】

【０３２３】
参考例６７
アルゴン雰囲気下、４−クロロ−３−フルオロベンズアルデヒド１０ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ml溶液に室温下青酸ソーダ６２０mgを加え同温で３時間攪拌後、さらにアクリル酸エチル５．２mlのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２５ml溶液を滴下し室温で３時間攪拌した。反応液を水に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝２０:１）で精製することにより、淡黄色粉末の４−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−４−オキソ酪酸エチル９．４ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（m/z）：２５９／２６１（ＭＨ＋）
【０３２４】
参考例６８
アルゴン雰囲気下コハク酸モノエチルクロリド２．０ｇ、トリブチル（３−チエニル）スズ５．４４g、塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム８５３mg及びジオキサン４０mlの混合物を３時間加熱還流した。冷後、反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝６:１）で精製後酢酸エチル−ヘキサンより再結晶することにより、淡黄色粉末の４−（３−チエニル）−４−オキソ酪酸エチル１．４ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（m/z）：２１３（ＭＨ＋）
【０３２５】
参考例６９
４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−４−オキソ酪酸エチル９００mgのジクロロメタン９ml溶液に、氷冷下臭素２００μlを加え、同温にて３０分攪拌後、室温へ昇温し１時間攪拌した。反応液を氷水に注ぎ、酢酸エチル及びジエチルエーテルを加え分液した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去することにより、淡褐色液体の３−ブロモ−４−（５−クロロチオフェン−２−イル）−４−オキソ酪酸エチル１．２２ｇを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：３２６/３２８（ＭＨ＋）
【０３２６】
参考例７０及び７１
対応原料化合物を参考例６９と同様に処理して、下記第５９表記載の化合物を得た。
【０３２７】
【表６０】

【０３２８】
参考例７２
（２−メチルチオ）ピリミジン−５−カルボン酸 ナトリウム塩１．５０ｇ、塩化アンモニウム２．０９ｇ、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール１．２７ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０mlの混合物に氷冷下、３−エチル−１−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩１．８０ｇおよびトリエチルアミン６．５mlを順次加え、室温で一晩攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。得られる残渣をジエチルエーテル−酢酸エチルで温振し、冷却し、析出物を濾別後ジエチルエーテルおよびn−ヘキサンで洗浄することにより、（２−メチルチオ）ピリミジン−５−カルボン酸アミド９２７mgを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：１７０（ＭＨ＋）
【０３２９】
参考例７３
対応原料化合物を参考例７２と同様に処理して、４，５−ジメチルチオフェン−２−カルボン酸アミドを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：１５６（ＭＨ＋）
【０３３０】
参考例７４
６−クロロニコチンアミド１．５０ｇとエタノール３０mlの懸濁液に水素化ナトリウム（６０％ミネラルオイル）１．８８ｇを加えた後、室温で２４時間攪拌した。さらに水素化ナトリウム（６０％ミネラルオイル）９４０mgを加えた後、室温で２４時間攪拌した。更に４時間半加熱還流後、反応液を冷却し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧下留去した。残渣をジエチルエーテルで粉末化することにより６−エトキシニコチンアミド１．０５ｇを無色粉末として得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：１６７（ＭＨ＋）
【０３３１】
参考例７５
（２−メチルチオ）ピリミジン−５−カルボン酸アミド５６９mg、ローソン試薬２．７２ｇ及びクロロホルム２０mlの混合物を一晩加熱還流した。反応液を冷却後、そのままNHシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：酢酸エチル）にて精製した。残渣をジエチルエーテルにて粉末化し、n−ヘキサンにて洗浄することにより（２−メチルチオ）ピリミジン−５−カルボチオアミド２４７mgを黄色粉末として得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：１８６（ＭＨ＋）
【０３３２】
参考例７６〜及び８０
対応原料化合物を参考例７５と同様に処理して、下記第６０表記載の化合物を得た。
【０３３３】
【表６１】

【０３３４】
参考例８１
対応原料化合物を参考例１３（１）と同様に処理して、５−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）オキサゾール−４−イルカルボン酸メチルを得た。
ＭＳ・ＡＰＣＩ（ｍ／ｚ）：２５６／２５８（ＭＨ＋）
【０３３５】
参考例８２及び８３
対応原料化合物を参考例１３（２）と同様に処理して、下記第６１表記載の化合物を得た。
【０３３６】
【表６２】

【０３３７】
参考例８４〜８７
対応原料化合物を参考例１０（１）又は２０（４）と同様に処理して、下記第６２表記載の化合物を得た。
【０３３８】
【表６３】

【０３３９】
参考例８８−９０
対応原料化合物を参考例２０（３）と同様に処理して、下記第６３表記載の化合物を得た。
【０３４０】
【表６４】

【０３４１】
実験例１
〔ウサギ摘出膀胱標本におけるカリウム誘発収縮の弛緩作用〕
雄性ＮＺＷウサギ（２．０〜３．５kg）から膀胱を摘出し、氷冷したクレブス−バイカーボネート溶液（単位ｍM：１１８ ＮａＣｌ、４．７ ＫＣｌ、１．２、２．５ ＣａＣｌ_２、ＭｇＳＯ_４、１．２ ＫＨ_２ＰＯ_４、１１ グルコース及び２５ ＮａＨＣＯ_３）に浸漬した。膀胱は内腔の膜状組織を除いた後、切断し、長手方向の条片（全長５mm、幅３〜４mm）とした。
３７℃に加温し、９５％Ｏ_２／５％ＣＯ_２の混合ガスを通気した１０mlのクレブス溶液を満たしたオルガンバスに標本を浸した。標本は静止張力が２．０±１．０ｇとなるように伸長し、等尺性収縮の変化をフォースーディスプレイスメントトランスデューサー(force - displacemnt transducer)により測定した。オルガンバス溶液を高濃度カリウムイオン（３０mM）のクレブス溶液（単位ｍM：９２．７ ＮａＣｌ、 ３０ ＫＣｌ、 １．２、 ２．５ ＣａＣｌ_２、ＭｇＳＯ_４、１．２ ＫＨ_２ＰＯ_４、１１ グルコース及び２５ ＮａＨＣＯ_３)に変え、標本を前収縮させた。
安定した収縮を示した標本に、被検薬物は累積的にオルガンバスに添加した（１０^−８Ｍ−１０^−４Ｍ）。薬物の効果は、０．１ｍＭパパベリン添加による最大弛緩を１００％として、百分率で示した。弛緩率５０％となる濃度（ＥＣ_５０）を算出し、本発明の選ばれた化合物のＥＣ_５０値範囲（μＭ）を、下記第６４表に、Ａ、Ｂ又はＣのランクにより示した。これらの範囲は以下の通りである。
３≧Ｃ＞１≧Ｂ＞０．５≧Ａ
【０３４２】
【表６５−１】

【表６５−２】

【表６５−３】

【０３４３】
実験例２
〔麻酔ラットにおけるＳＰ誘発律動性膀胱収縮に対する抑制作用〕
実験には、体重２００−３００ｇのＳＤ系（Sprague-Dawley）雌性ラット（９−１２週齢）を使用した。ウレタン麻酔後（１．２g/kg、皮下投与）、左右の大腿静脈にカニューレを挿入した。薬液の静脈内投与用に一方のカテーテルを、さらにSubstance P（０．３３μg/kg/min）の注入用に他方のカテーテルを用いた。排尿路確保のために、尿管にもカテーテルを挿入した。ポリエチレンカテーテルを動脈圧、心拍数を継続的に測定するために、頚動脈に挿入した。持続注入のため経尿道膀胱カテーテルを尿道から膀胱に挿入し、尿道閉口部周辺に結紮糸により固定した。カテーテルの片端を膀胱内圧の測定のために圧トランスデューサーに接続した。カテーテルの他端は、膀胱内へ生理食塩水を注入するために用いた。血圧、心拍数および膀胱内圧が安定し、膀胱内を空にした後、約０．６mlの生理食塩水をゆっくりと負荷し、膀胱内圧測定を行った。約１０分後、膀胱収縮を安定させるためSubstance Pの静脈内への持続注入（０．３３μg/kg/min）を開始した。律動性収縮の発現が約１５分程度持続することを確認した後、試験化合物を投与した。全ての試験化合物は、０．５％Tween 80水溶液に溶解又は縣濁させ、静脈内投与した（０．１ml/kg）。律動性膀胱収縮発現及び膀胱内圧を、試験化合物投与後３５分まで観察した。
その結果、本発明化合物は膀胱収縮力には影響せずに律動性膀胱収縮の発現を抑制した。また薬物０．２５mg／kg投与により律動性収縮の発現頻度が１００％抑制された時間（分）を決定した。本発明中の選ばれた化合物の１００％抑制時間範囲（分）を、下記第６５表に、Ａ、Ｂ又はＣのタンクにより示した。これらの範囲は以下の通りである。
Ａ≧２０＞Ｂ≧１０＞Ｃ
【０３４４】
【表６６−１】

【表６６−２】

【表６６−３】

【表６６−４】

【表６６−５】

【０３４５】
実験例３
〔ウサギ摘出膀胱標本における高コンダクタンス型カルシウム感受性Ｋチャネル開口作用〕
実験例１と同様の方法により、膀胱の条片を準備した。簡潔には、摘出した膀胱を氷冷したクレブス−バイカーボネート溶液中で長手方向に切断して条片とし、オルガンバスに浸漬した。初期張力は２．０±１．０ｇであった。高濃度カリウムイオン（２０mM又は６０mM）のクレブス溶液により標本を収縮させた。
本発明の有効成分は、２０mM カリウムイオンにより収縮させた標本に対し、弛緩作用を示し、またその作用は高コンダクタンス型カルシウム感受性Ｋチャネルブロッカーであるイベリオトキシンにより阻害された。
さらにin vivoにおける実験では、イベリオトキシンの前投与（０．１５mg/kg、静脈内投与）により、本発明の有効成分の、律動性膀胱収縮発現抑制作用は低下した。
その結果、本発明の有効成分である化合物は、高コンダクタンス型カルシウム感受性Ｋチャネル開口作用を介した膀胱平滑筋弛緩作用を有することが示された。
よって本発明の有効成分である化合物は、高コンダクタンス型カルシウム感受性Ｋチャネル開口作用を介した頻尿、尿失禁等の疾患の予防・治療薬として有用であることが示された。
【産業上の利用可能性】
【０３４６】
本発明の有効成分である含窒素５員複素環化合物（Ｉ）又はその薬理的に許容し得る塩は、優れた高コンダクタンス型カルシウム感受性Ｋチャネル開口作用を有し、細胞の膜電気ポテンシャルを過分極させることにより、例えば高血圧、喘息、早産、過敏性腸症候群、慢性心不全、狭心症、心筋梗塞、脳梗塞、クモ膜下出血、脳血管スパスム、大脳低酸素症、末梢血管障害、不安、雄性禿頭症、勃起不全、糖尿病、糖尿病性末梢神経障害、その他の糖尿病性合併症、不妊症、尿路結石とそれに伴う疼痛、頻尿、尿失禁、夜尿症等の予防、軽減及び／又は治療薬として有用である。
また、含窒素５員複素環化合物（Ｉ）又はその薬理的に許容し得る塩は、毒性も低く医薬として高い安全性を有する。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
明細書記載のいずれかの発明。

【公開番号】特開２００８−４４９５２（Ｐ２００８−４４９５２Ａ）
【公開日】平成２０年２月２８日（２００８．２．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−２４１０１２（Ｐ２００７−２４１０１２）
【出願日】平成１９年９月１８日（２００７．９．１８）
【分割の表示】特願２００２−５８０９１５（Ｐ２００２−５８０９１５）の分割
【原出願日】平成１４年４月１５日（２００２．４．１５）
【出願人】（０００００２９５６）田辺三菱製薬株式会社 (225)
【Ｆターム（参考）】