【課題】透明性基板上に形成された不透明なデバイスパターンを観察像において明確に識別することができる観察方法、および観察装置を提供する。
【解決手段】デバイスパターン３が形成されている側に粘着シート４を貼り付けたうえで透明なステージ７に固定し、ステージ７の上方から同軸透過照明光Ｌ１と斜光透過照明光Ｌ２とを重畳的に照射するとともに、ステージ７の下方側からステージ７を介して裏面観察手段６で観察することで、観察像においては、デバイスパターン３に対応して、暗い（黒色の）デバイスパターン像が観察され、デバイスパターン像ＩＰ１以外の部分は明るく観察される。また、気泡５に対応する部分ＩＢ１についても十分に明るく観察される。これにより、観察像においてデバイスパターン３の形状を明確に特定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】コントラストの高いパターン画像の表示を低コストにて実現する。
【解決手段】パターン画像表示装置の画像取得部１３は、光照射部１３１、ラインセンサ１３２、角度変更機構、および、表示対象であるガラス基板９を移動する移動機構を備える。光照射部１３１からは、ガラス基板９の薄膜パターンに対して透過性を有する波長の光が出射される。光照射部１３１からの光の照射角θ１およびラインセンサ１３２により撮像が行われる検出角θ２は、常に同じであり、これらの角度は角度変更機構により変更される。パターン画像表示装置では、予め画像のコントラストが高くなる照射角および検出角の設定角度が求められ、照射角および検出角が設定角度とされる。これにより、単一波長の光源を用いてコントラストの高い画像をラインセンサ１３２により取得し、ディスプレイに表示することができ、パターン画像表示装置の製造コストも削減することができる。 （もっと読む）

【課題】安価な構成で、チャックのθ方向の傾きを精度良く検出して、基板のθ方向の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】第１のステージに搭載されＹ方向（又はＸ方向）へ移動する第２のステージに第２の反射手段（３５）を取り付け、第２の反射手段（３５）のθ方向の位置ずれを検出する。チャック（１０ａ，１０ｂ）に複数の光学式変位計（４１）を設け、複数の光学式変位計（４１）により、第２のステージに取り付けた第２の反射手段（３５）までの距離を複数箇所で測定する。第２の反射手段のθ方向の位置ずれの検出結果に基づき、複数の光学式変位計（４１）の測定結果から、チャック（１０ａ，１０ｂ）のθ方向の傾きを検出し、検出結果に基づき、第３のステージによりチャック（１０ａ，１０ｂ）をθ方向へ回転して、基板（１）のθ方向の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】透明体であるワークの安定的な位置を検出することができるワーク位置検出システムを提供する。
【解決手段】透明体であるワークの端面が発光するように光を照射する少なくとも一つの投光部（２１ａ〜２１ｃ）と、光によってワークの端面に生じた発光箇所を撮像する撮像部（２２ａ、２２ｂ）と、撮像部による撮像結果に基づいてワークの位置を検出する検出部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 表面形状測定において、測定対象面と参照面からの反射光により干渉縞を発生させ、各画素の位相を単色光ごとに求め、表面形状を測定において、波長の異なる複数の単色光を得る場合は、抽出手段を増設する必要が生じていた。
【解決手段】 照射手段を介して測定対象面と参照面に波長の異なる複数の単色光を照射し、測定対象面と参照面の両方から反射して同一光路を戻る反射光によって生じる干渉縞の強度値に基づいて、測定対象面の表面高さと表面形状を求める表面形状測定方法において、前記照射手段が、広帯域な波長特性を有する照射光から、音響光学フィルタを用いて任意の異なる波長の単色光を複数抽出し、同時に混在して照射する照射手段を用いる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面不良の判定時間を減らし、ＮＧの可能性の高い表面不良のみを検査員に提供して検査の集中度を極大化させる。
【解決手段】表面不良検査装置は、ガラス基板１の上方にそれぞれ配置され、ガラス基板表面不良に対する第１イメージおよび第２イメージをそれぞれ撮影する撮像装置１０および２０と、ガラス基板１の下方に配置され、撮像装置１０、２０側にガラス基板１を透過する暗視野照明装置３０と、第１イメージ上の不良の位置座標と、第２イメージ上の不良の位置座標とを演算する検出信号処理部４０とを備えている。ガラス基板上面に対する撮像装置１０、２０の撮影領域Ｐ１は互いに重ね合わされ、ガラス基板下面に対する撮像装置１０、２０の撮影領域Ｐ２、Ｐ３は、互いに異なるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】光学素子の欠陥を簡便に発見、測定することのできる欠陥計測方法を提供する。
【解決手段】第一の観点に係る欠陥計測方法は、測定対象に光源から光を照射し、収束光にして測定対象に入射し、測定対象又は光源を、収束光の焦点が測定対象の一方の面から他方の面に至るまで移動させ、測定対象の一方の面と測定対象中に存在した欠陥との間の距離を計測し、距離に測定対象の屈折率を乗じた値を求め、一方の面からの前記欠陥の深さを計算する。 （もっと読む）

【課題】ワーク搭載用テーブルのワーク搭載面に対するワークの貼りつきを防止する。
【解決手段】ワークが搭載されるワーク搭載面１６ｃが研削されポリッシングされたガラス製のワーク搭載用テーブル１６であって、前記ワーク搭載面１６ｃの前記ワークが搭載される領域に溝１８が形成されている。 （もっと読む）

【課題】反射型サンプル基板上の欠陥の特性を、非破壊かつ高精度に評価可能な欠陥特性評価装置を提供する。
【解決手段】本発明は、反射型サンプル基板であるマスク基板１１上の被検欠陥１２に対して、実際の露光で利用する波長のコヒーレント光を、マスク基板１１上の被検欠陥と略同一のサイズに集光する集光光学系１０と、集光光学系１０により集光され、マスク基板１１上にコヒーレント光を照射する照射部１６と、照射部１６により照射された照射パタン領域１３ｂからの回折光を２次元的に受光する二次元検出器１３と、二次元検出器１３による受光結果である画像情報を記録する記録部１７と、記録部１７により記録された画像情報から、被検欠陥１２の反射振幅と位相分布を反復計算により導出する導出部１８とを備える。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成を採用しつつ検出光量ムラの発生を抑制可能とした走査型検出測定装置を提供する。
【解決手段】本発明の走査型検出測定装置は、レーザ光を射出する発光素子と、発光素子から供給されるレーザ光を走査しつつ標本に照射する走査光学系と、標本から生じる光を検出する検出光学系と、発光素子と走査光学系との間に設けられレーザ光の一部を発光素子に向けて反射させる反射光学素子と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の断面積を精度良く測定する。
【解決手段】変位測定装置では、測定対象物が載置されている範囲を含む変位測定範囲の変位を測定し、測定された変位に平準化処理を実行して第１処理情報を生成し、第１処理情報から断面積測定範囲を決定する。変位測定装置は、断面積測定範囲における前記変位情報から測定対象物の断面積を検出する。第１処理情報から断面積測定範囲を決定することで、配線パターン等などによって生じるノイズを除去することができ、断面積測定範囲を正確に決定することができる。 （もっと読む）

【課題】表面形状の計測処理を効率的に行い、撮像装置のスループットを向上させる技術を提供する。
【解決手段】撮像装置が、被写体を保持する保持手段と、前記被写体の表面形状を計測する表面形状計測手段と、前記表面形状計測手段により計測された表面形状に合わせて撮像面を調整して、前記被写体の撮像を行う撮像手段と、前記被写体の全体領域のなかから撮像すべき対象物が存在する存在領域を特定する特定手段とを備える。前記表面形状計測手段は、前記特定手段により特定された存在領域の表面形状のみを計測する。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の変位情報を精度良く測定する。
【解決手段】変位測定装置では、ガラス板及び測定対象物に対して垂直方向に光を出射し、当該光と同軸方向に反射される反射光を複屈折性のクリスタル及び偏光板を用いて受光し、反射光に含まれる各反射光成分に応じた反射面の変位の複数個を、各反射光成分の反射強度に関連付けて検出する。変位測定装置では、検出される変位のうち、最も高い反射強度の得られた変位Ｚ１と、変位Ｚ１の次に高い反射強度の得られた変位Ｚ２と、の差である差分変位をガラス板の同軸方向の厚さに設定された基準変位ＺＫと比較し、差分変位が基準変位ＺＫよりも小さい場合、変位Ｚ１を測定対象物までの変位Ｚと判断し、差分変位が基準変位ＺＫ以上である場合、変位Ｚ１と変位Ｚ２のうちの短いものを測定対象物までの変位Ｚと判断する。 （もっと読む）

【課題】単結晶シリコン太陽電池表面上に成膜された反射防止膜の膜厚および屈折率を有効に測定するためのエリプソメーター装置を得ること。
【解決手段】実施の形態にかかるエリプソメーター装置１０は、反射防止膜が形成された測定試料１の反射防止膜が形成された面へレーザー光を照射する光源５と、前記測定試料から反射された反射光に基づいて反射光の偏光変化量を測定することにより前記反射防止膜の膜厚および屈折率を測定する検出器６と、前記測定試料を試料設置面にて保持し、前記試料設置面と垂直な方向を軸にして前記測定試料を回転する回転角度調節部と、前記測定試料を傾斜させる傾斜調節部とを有するステージ２と、前記ステージをステージ設置面上に保持する支持部７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の断面積を精度良く測定する。
【解決手段】変位測定装置では、測定対象物が載置されている断面形状出力範囲の複数の測定点における変位を測定し、測定された変位から測定対象物の形状データを算出する際に、複数の測定点に対応する複数の変位情報を大きさで順番付けした場合に、最も大きい側から予め定められた第１割合に含まれる変位と、最も小さい側から予め定められた第２割合に含まれる変位と、を除いた中間変位情報を選出し、この中間変位情報を圧縮係数を用いて圧縮処理した圧縮変位情報を加算して測定対象物の断面積を測定する。 （もっと読む）

【課題】 透光性管状物体の厚さを全域にわたって短時間で精度よく測定する。
【解決手段】 対物レンズ５７が、ガラス管Ｇに照射されるレーザ光を集光させて、その反射光を回折格子３５及びラインセンサ３６で受光してガラス管Ｇの厚さを測定する。対物レンズ５７をＸ軸線方向の焦点距離Ｆｘと、Ｙ軸線周りに回転するガルバノミラー５２から対物レンズ５７までの光学的距離ａと、対物レンズ５７からガラス管Ｇの表面までの光学的距離ｂとの関係が、(１／ａ)＋(１／ｂ)＝１／Ｆｘの関係になるようにする。レーザ光の光軸がガラス管Ｇの中心軸に垂直になるようにＹ軸線周り角度のサーボ制御を行っても、Ｘ軸線方向におけるレーザ光のガラス管Ｇへの照射位置を変化させないように１点に固定することができて、ガラス管ＧのＺ軸線周りの傾きの度合によりサーボが不安定になることを抑制する。 （もっと読む）

【課題】常に、受光量が最大値を示すピーク画素からの受光信号を利用する構成に比べて、検出可能な対象物の制約を抑制することが可能な技術を提供する。
【解決手段】変位センサシステムは、受光信号に基づき指定された少なくとも１つの領域について、当該領域内において受光量がピークを示す画素であるピーク画素が複数存在する場合、当該複数のピーク画素の中からいずれかを、選択画素として選択するピーク選択部と、上記少なくとも１つの領域について、ピーク選択部で選択された選択画素からの受光信号に基づき投受光感度を設定する感度設定部と、各領域内の走査線の受光信号を、当該領域に対応する投受光感度下で前記受光処理部に取り出させ、その取り出された受光信号に応じた検出処理を実行する受光制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】表面に微細な凹凸形状等の地合パターンを有するシート材の欠陥を、迅速かつ再現性良く検査する方法を提供する。
【解決手段】焦点調整用シート材を欠陥検査位置に載置し、カメラの焦点を合わせる第１のフォーカス工程、前記焦点調整用シート材から当該カメラの焦点をずらすように調整する第１のデフォーカス工程、第１のフォーカス工程における焦点位置Ａから第１のデフォーカス工程における焦点位置Ｂまでの距離ｄを計測及び記録する工程、被検査シート材を第１のフォーカス工程と同一又は異なる欠陥検査位置に載置し、その地合パターンにカメラの焦点を合わせる第２のフォーカス工程、及び当該カメラの焦点を、第２のフォーカス工程における焦点位置Ａ’から、前記距離ｄ分ずらした焦点位置Ｂ’に合わせる第２のデフォーカス工程、及び焦点位置Ｂ’に焦点を合わせたカメラで被検査シート材の欠陥を検査する工程、を含むことを特徴とする欠陥検査方法。 （もっと読む）

【課題】照射部の発光ムラがムラ検査用画像に与える影響を抑制する。
【解決手段】ムラ検査用画像取得装置１１は、基板９が載置されるステージ２、基板９の検査表面９１に向けて照明光を照射する照射部３、検査表面９１にて反射した照明光を受光する撮像部４１を備える。撮像部４１は、ラインセンサ４１１および撮像光学系４１２を備える。ラインセンサ４１１の各受光素子には、ムラ検査に必要な強度の光が入射する。撮像光学系４１２は、物体側において非テレセントリックであり、ラインセンサ４１１の位置と光学的に共役な合焦位置は、検査表面９１から撮像部４１側にずれて位置する。ムラ検査用画像取得装置１１では、照射部３と検査表面９１との間の光軸Ｊ１に沿う方向における距離が１００ｍｍ以上である。これにより、照射部３の発光ムラがムラ検査用画像に与える影響を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】光弾性を有する板状体の欠陥を良好に検出可能な欠陥検出装置を提供することができる。
【解決手段】欠陥検出装置は、光弾性を有する板状体Ｐに光を透過させることにより、該板状体Ｐの欠陥を検出する。欠陥検出装置は、板状体Ｐより前に光が透過する直線偏光子２と、板状体Ｐより後に光が透過する１／４波長板３ａと、１／４波長板３ａより後に光が入射し、透過軸が１／４波長板３ａの遅相軸に対して４５度傾いている直線偏光子３ｂと、を有する。 （もっと読む）