【課題】欠陥検査装置では検出倍率を上げて微細欠陥検出感度を向上させるため、焦点深
度が浅くなり、環境変動によって結像位置がずれ、欠陥検出感度が不安定になる課題があ
る。
【解決手段】被検査基板を搭載して所定方向に走査するＸＹステージと、被検査基板上の
欠陥を斜めから照明し、その欠陥を上方に配した検出光学系で検出する方式で、この結像
状態を最良の状態に保つために、温度及び気圧の変化に対して、結像位置変化を補正する
機構を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】 測定される距離の測定誤差を容易に低減できる追尾式レーザ干渉計および追尾式レーザ干渉計の制御方法を提供する。
【解決手段】 追尾式レーザ干渉計１は、移動体に取り付けられたレトロリフレクタＲで反射された測定光Ｌ２１を受光する検出器２２２を備える追尾用光学部２２を有する本体２と、追尾用光学部２２からの受光信号に基づいて本体２の姿勢を制御し、本体２にレトロリフレクタＲを追尾させる制御手段３とを備えるものであって、制御手段３は、レトロリフレクタＲに入射する測定光Ｌ２とレトロリフレクタＲで反射される測定光Ｌ２とを平行とするように検出器２２２で受光される測定光Ｌ２１の目標位置Ｑ２を設定する目標位置設定部３２と、本体２の姿勢を制御し、レトロリフレクタＲで反射された測定光Ｌ２１を目標位置Ｑ２に入射させる姿勢変更部３３とを備える。 （もっと読む）

【課題】高精度に高さ方向の位置を検出可能な変位検出装置を提供する。
【解決手段】光源１から出射される光を２つの光束に分割する第１の光束分割手段３と、分割された第１の光束を反射する反射部材８と、第１の光束分割手段によって分割された第２の光束を被測定面上に集光する対物レンズ５と、反射された第１の光束と、被測定面によって反射された第２の光束との干渉光を受光する第１の受光手段３０と、受光した干渉光強度に基づいて被測定面の高さ方向の相対位置情報を出力する相対位置情報出力手段６０と、第２の光束の一部を取り出す第２の光束分割手段２０と、取り出された第２の光束に非点収差を発生させる非点収差発生手段１０と、非点収差が発生した第２の光束を受光する第２の受光手段４０と、検出された受光強度に基づいて被測定面の高さ方向の絶対位置情報を出力する絶対位置情報出力手段５０とを含む。 （もっと読む）

【課題】高精度に膜厚を測定することを可能にした膜厚測定方法及びその装置を提供する。
【解決手段】分光スペクトル情報を信号処理して膜厚を推定する膜厚測定方法において、
検量線作成用分光スペクトル情報を基底分解し、その基底に掛かる第１の係数を分光スペクトル情報の代表値として求め、第１の係数と分光スペクトル情報に対応した膜厚データとから重回帰係数を求める工程と、測定対象物の分光スペクトル情報と基底とに基づいて基底に掛かる第２の係数を求め、第２の係数と重回帰係数とに基づいて測定対象物の膜厚を推定する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】液中の測定ワークの表面形状も測定することができる液浸非接触形状測定装置を提供する。
【解決手段】レーザープローブ３の下側を容器形状のコレット２４で覆い、コレット２４をレーザープローブ３ごと上下動させることができるため、測定ワーク６が設けられた液中にコレット２４を浸して、液中の測定ワーク６の表面をレーザー光Ｌにより計測することができる。電極プローブ２６により液中における測定ワーク６の表面のイオン分布を計測することもできる。 （もっと読む）

【課題】回転対称な線織面で構成される被検面の形状等を短時間で測定することが可能な光波干渉測定装置を得る。
【解決手段】回転軸Ｒ_２回りに回転せしめられる被検レンズ９の被検面（コバ部表面９５、嵌合面９８、嵌合部底面９９）に対し、顕微干渉計１から測定光軸Ｌに沿って収束しながら進行する低可干渉性の測定光を照射し、被検面の回転位置毎に対応した各回転位置別干渉縞を撮像カメラ２４の２次元イメージセンサ２３により撮像する。この各回転位置別干渉縞の画像データに基づき被検面の形状が解析される。 （もっと読む）

【課題】簡素な構造で立体形状を高精度に計測可能な計測装置を提供する。
【解決手段】計測装置１００は、複数の波長成分を有する光を計測物５０に照射する光源１と、軸上色収差を有する回折レンズ２と、干渉画像生成部３と、分光画像生成部２１と、立体形状算出部２２とを備える。干渉画像生成部３は回折レンズ２からの光を、可変の光路長差を有する光束Ｌ１，Ｌ２に分割するとともに、その光束Ｌ１，Ｌ２を重ねることで干渉画像を生成する。分光画像生成部２１は、干渉画像が有する干渉光の強度の情報をフーリエ変換することによって、計測物５０からの光の分光スペクトルの情報を有する分光画像を生成する。波数ごとに分光画像は生成される。この分光画像に基づいて合焦点位置が算出されるとともに、その合焦点位置から計測物５０の立体形状が算出される。 （もっと読む）

【課題】物体光について光路長を変えて何度も多数の干渉縞を撮影する必要なく、バンプの高さ測定や形状検査を、簡単かつ正確に行うことを可能とする。
【解決手段】２つの光源２１、２２からの互いに異なる波長の光を重ね合わせたビート光を、分割して、一方を参照ミラー２８で反射させて参照光とし、他方をバンプ２３に照射し反射させて物体とし、参照光と物体光を重畳し干渉させて生じる干渉縞をＣＣＤ３０で撮影して、干渉縞像からバンプの高さ測定又は形状検査を可能とし、ビート光の波長Λ／２は、測定すべきバンプ２３の設計仕様における高さより大きくなるように、２つの光源のそれぞれの波長λ１、λ２を設定する。 （もっと読む）

【課題】測定ワーク側に別部品の反射手段を設置する必要がなく且つ微小な測定ワークの内面も測定可能な非接触形状測定装置を提供する。
【解決手段】Ｘ軸と平行なレーザー光Ｌをプローブ８よりクランク状に折り曲げるため、レーザー光Ｌを折り曲げるための別部品を必要とせず、プローブ８をそのまま測定ワーク１の内面の内部に挿入するだけで、測定ワーク１の内面形状が測定可能となる。プローブ８を小さくすれば微小な測定ワークの内面も測定可能となる。 （もっと読む）

【課題】回転対称な線織面で構成される被検面の形状等を短時間で測定することが可能な光波干渉測定装置を得る。
【解決手段】回転軸Ｒ_２回りに回転せしめられる被検レンズ９の被検面（コバ部表面９５、嵌合面９８、嵌合部底面９９）に対し、顕微干渉計１から測定光軸Ｌに沿って収束しながら進行する低可干渉性の測定光を照射し、被検面の回転位置毎に対応した各回転位置別干渉縞を第１撮像カメラ２４の１次元イメージセンサ２３により撮像する。この各回転位置別干渉縞の画像データに基づき被検面の形状が解析される。 （もっと読む）

【課題】電極パターンまたは配線パターンに安定的に焦点を合わせることができる画像取得装置、欠陥修正装置および画像取得方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、欠陥が生じている基板１１１の一部を拡大した画像を取得する欠陥修正装置１００であって、基板１１１の一部を撮像する撮像部１２１と、基板１１１を載置したステージを移動するステージ移動部１１３と、対物レンズ１２９の基板１１１に対する焦点合わせを行う合焦検出部１２３と、ステージ移動部１１３を制御して、合焦検出部１２３が焦点合わせを行う場合に合焦検出領域から基板１１１の画像取得対象領域内に含まれる欠陥を退避させるステージ制御部１５６と、合焦検出部１２３による焦点合わせ後の焦点条件を固定する合焦制御部１５５と、合焦制御部１５５による焦点条件の固定後に撮像部１２１に基板の一部を撮像させる撮像制御部１５３とを備える。 （もっと読む）

【課題】参照光および被検光を偏光の回転方向が互いに逆向きとなる２つの円偏光に変換するための光学素子を通過する際の波面の乱れを抑制し、実時間での光干渉測定をより高精度に行うことが可能な実時間測定分岐干渉計を得る。
【解決手段】光源部１からの光ビームを２光束に分岐し、第１光束を第２光束に対して所定の光学距離だけ迂回させた後に１光束に再合波して出射する迂回路部２を設ける。この迂回路部２における第１光束の光路上に第１のλ／２板１５を配置し、第２光束の光路上に、第１のλ／２板１５とは光学軸の方向が４５度だけ異なる第２のλ／２板１９を設置する。さらに、迂回路部２とビーム径拡大部３との間の光路上にλ／４板２１を配置することにより、第１光束および第２光束を偏光の回転方向が互いに逆向きとなる２つの円偏光に変換する。 （もっと読む）

【課題】
レーザ暗視野方式の基板検査装置では，照明光の可干渉性が高いことにより，酸化膜(透明膜)が表面に形成された基板の検査においては膜内多重干渉による反射強度の変動が生じる。また，金属膜が表面に形成された基板の検査においては，金属膜の表面粗さ(ラフネス，グレインなど)による散乱光が干渉して背景光ノイズが大きくなり，欠陥検出を感度低下させていた。
【解決手段】
指向性の良いブロードバンド光源（スーパーコンティニュアム光源など）を用いた低干渉かつ高輝度な照明により上記課題を解決する。また，従来のレーザ光源も併用し，光源を使い分けることでウエハの状態に応じて高感度な検査を可能とする。さらに，調整機構を設けた照明光学系により，両光源の照明光学系を共通化し，簡略な光学システムで上記効果を実現する。 （もっと読む）

【課題】 ワークの進入による受光量の変化と粉塵の付着などの影響による受光量の変化とを識別して、自動的に測定値を補正することができる測定器を提供する。
【解決手段】 ワークＷが測定領域２に進入していないときの受光量を示す基準受光量Ａを保持する基準受光量記憶部３２と、基準受光量Ａ及び受光量Ｘの比に基づいて、測定領域２に対するワークＷの進入量を示す測定値ｙを算出する測定値算出部３３と、基準受光量Ａ及び受光量Ｘの比が予め定められた値に近づくように、基準受光量Ａを補正する基準受光量補正部３８と、ワークＷの測定領域２への進入速度Ｖに応じた受光量Ｘの変化率を求める変化率算出部３５により構成される。基準受光量補正部３８は、変化率が予め定められた閾値Ｔｈ１よりも小さく、かつ、受光量Ｘが基準受光量Ａに基づき定められる閾値Ｔｈ２よりも大きい場合に、基準受光量Ａを補正する。 （もっと読む）

【課題】光学素子の被検面の加工誤差を定量的に評価するのに好適な光学素子形状評価方法を提供すること。
【解決手段】光学素子形状評価方法を、理想面に対する被検面の偏差形状を多項式近似する多項式近似ステップと、多項式近似の結果から偏差形状の回転対称イレギュラリティ成分を切り出して評価形状を計算する評価形状計算ステップと、評価形状の瞳中心を含む領域が平面状に変形するように該評価形状に球面成分又２次成分を付与する成分付与ステップと、球面成分又２次成分が付与された評価形状に基づいて被検面の加工誤差を計算する加工誤差計算ステップとを有する方法とした。 （もっと読む）

【課題】ズームレンズの変倍動作により移動する入射瞳の位置に対物レンズの射出瞳の位置を略一致させるように構成された結像光学系、及び、この結像光学系を有する形状測定装置を提供する。
【解決手段】形状測定装置１００に用いられる結像光学系３０は、測定物体の像を結像する対物レンズ２５と、この像を変倍するズームレンズ３２と、変倍動作により光軸に沿って移動するズームレンズ３２の入射瞳の位置に、対物レンズ２５の射出瞳の位置を略一致させる瞳移動光学系としてのリレーレンズ３１と、を有する。 （もっと読む）

【課題】表面反射と裏面反射を有し、且つ、厚さを有する物体のチルト角と厚さを同時に測定できる厚さチルトセンサを提供する。
【解決手段】厚さチルトセンサは、測定対象物に向けて測定用光を出射する投光部と、測定対象物の表面反射光及び測定対象物の裏面反射光を受光する受光部とからなる光学系を備えており、投光部は、投光素子と投光レンズと平行光を細くする手段とを具備し、平行光を細くする手段により得られた細い平行光を測定用光とし、受光部は、表面反射光を受光するチルト角測定部と、表面反射光及び裏面反射光を受光する厚さ測定部とを具備し、チルト角測定部は、チルト角測定用受光レンズとチルト角測定用受光素子とを具備し、測定対象物のチルト角を測定し、厚さ測定部は、厚さ測定用受光レンズと厚さ測定用受光素子とを具備し、測定対象物の厚さを測定する。 （もっと読む）

【課題】被測定面の位置をその反射率に左右されず、安定して高精度に測定し得る共焦点分光方式の光距離計及び距離測定方法を提供する
【解決手段】光距離計２１は、白色光源２２からの照明光を複屈折板２７により常光成分と異常光成分とに分離し、被測定面３４ａの光軸上の異なる位置で結像するように投射する。被測定面からの反射光を合波し、回折格子２９により波長毎に分散させ、複屈折板３０により再び常光成分と異常光成分とに分離して撮像素子３１に入射させる。信号処理部３３が、撮像素子から出力された電気信号を処理して常光成分及び異常光成分の光強度Ｐ１，Ｐ２を検出しかつ差分ΔＰ＝Ｐ１−Ｐ２を算出する。差分ΔＰが０となる波長λ０を検出することによって、被測定面の位置が求まる。 （もっと読む）

【課題】互いに離間した複数の平面または回転対称な線織面からなる被検面の傾斜角度を、被検面を傷付けることなく、高精度に測定することが可能な傾斜角度測定装置を得る。
【解決手段】アライメント用反射平面４１および測定光偏向用反射面４２Ａ，４２Ｂを有する反射素子４０を、被検面９１Ａ，９１Ｂから離間した位置に保持し、干渉計１０から反射素子４０に向けて測定光を照射する。アライメント用反射平面４１からの戻り光により形成される干渉縞画像に基づき、干渉計１０に対する反射素子４０のアライメントが調整される。測定光偏向用反射面４２Ａ，４２Ｂにおいて偏向されて被検面９１Ａ，９１Ｂに照射され、再帰反射されて測定光偏向用反射面４２Ａ，４２Ｂを経由し干渉計１０に戻る被検光により形成される干渉縞画像に基づき、被検面９１Ａ，９１Ｂの相対傾斜角度が解析される。 （もっと読む）

【課題】目標とする非球面波をより正確に発生する非球面波発生光学系。
【解決手段】非球面波を発生するための非球面波発生光学系は、第１非球面を有する第１アルバレツレンズと、第２非球面を有する第２アルバレツレンズと、前記第１アルバレツレンズと前記第２アルバレツレンズとの間に配置されたリレー光学系とを備え、前記第１非球面および前記第２非球面が前記リレー光学系に関して互いに共役な位置に配置され、前記非球面波発生光学系の光軸をｚ軸とするｘｙｚ座標系において、前記第１非球面の形状をｚ＝ｆ１（ｘ、ｙ）、前記第２非球面の形状をｚ＝ｆ２（ｘ、ｙ）とし、前記リレー光学系の倍率をβ、定数をＣとしたときに、前記第１非球面および前記第２非球面が、ｆ２（ｘ，ｙ）＝ｆ１（βｘ，βｙ）＋Ｃを満たすことができる形状を有する。 （もっと読む）