【課題】 位置決めの正確さおよび／または強健性が改善されたリソグラフィ投影装置のアライメント・システムを提供する。
【解決手段】 リソグラフィ装置の位置決めシステムは、位置決め放射線源１、第１検出器チャネルおよび第２検出器チャネルを有する検出システム、および検出システムと連絡する位置決定ユニットを有する。位置決定ユニットは、第１および第２検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、組み合わせた情報に基づいて、第２オブジェクト上の基準位置に対する第１オブジェクト上の位置決めマークの位置を決定する。 （もっと読む）

【課題】 対象物の高さを高精度かつ迅速に計測することが可能な計測装置を提供する。
【解決手段】 計測範囲内にある対象物の高さを計測する計測装置は、複数の波長を含む光を出射する光源と、軸上色収差を有する光学ユニットを含み、前記光源から出射された光を複数の光束に分割して、前記計測範囲を含むが異なる焦点範囲に前記複数の光束を前記光学ユニットによって集光させる第１光学系と、前記複数の光束について前記対象物の表面に焦点位置を有する波長を検出する検出部と、前記第１光学系と光路の一部を共有していて、前記第１光学系によって集光され前記対象物の表面で反射された前記複数の光束を前記検出部に導く第２光学系と、前記複数の光束から１つの光束を選択し、該選択された光束の前記検出部により検出された波長を用いて前記対象物の高さを算出する処理部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】光源の光量に変化があった場合であっても、三次元形状を精度良く算出することができる。
【解決手段】三次元形状測定装置１は、メイン光源２２が発光した光を縞パターンに変換して測定対象物１１上に投影する投影部１３と、測定対象物１１を撮像する撮像部１４と、投影部１３が投影する縞パターンの位相を変化させながら、撮像部１４に測定対象物１１の撮像を繰り返しさせるとともに、縞パターンの画像を複数順に取得する制御部と、メイン光源２２の光量の変化量を検出し、当該検出した変化量が所定の値以上である場合に、当該検出した変化量に基づいて前記縞パターンの画像を補正し、当該補正した縞パターンの画像に基づいて、測定対象物１１の三次元形状を算出する形状算出部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】低コストでありながら操作性及び機能の優れた干渉対物レンズ装置、及び当該干渉対物レンズ装置を備えた光干渉測定装置を提供する。
【解決手段】光出射部１０から出力された光をワークＷに対して収束させる対物レンズ３１と、対物レンズ３１よりもワークＷ側に配される参照ミラー３２と、対物レンズ３１を透過してきた光を、参照ミラー３２を有する参照光路とワークＷを配置した測定光路とに分岐させると共に、参照ミラー３２からの反射光とワークＷからの反射光とを合成して干渉光として出力させる分岐合成部材３３と、参照ミラー３２からの反射光又はワークＷからの反射光の何れか一方の他方に対する光量を調節する光量調節手段（液晶パネル３４及び制御部７０）を備える。 （もっと読む）

【課題】生体細胞のような位相物体の観察に用いられてきた従来の位相差顕微鏡に代わって、広くて深い測定視界を持ち、位相差の干渉画像が鮮明に得られる、単純で簡便な位相物体画像の識別、検査の方法と装置を提供する。
【解決手段】可干渉性平行レーザ光束中に設置されたフーリエ変換レンズで構成される広い測定視界中に置かれた位相物体から得られるフーリエ変換像(光回折パターン)の零次光だけを高次の回折光と異なる位相差参照光として、高次光回折パターンで得られる位相物体像と干渉させて鮮明な位相差画像を得る。また、位相物体の位相差を含めて異なる形状の複数形状粒子群を形状ごとに数や挙動や位置を自動計測するために、多重マッチトフィルタ法を含んだ位相差画像を検査する。 （もっと読む）

【課題】同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、膜厚の違いなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する。また、多種多様な欠陥を顕在化でき，広範囲な工程への適用が可能なパターン検査装置を実現する。
【解決手段】同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を、複数の検出系とそれに対応する複数の画像比較処理方式を備えて構成し、又、異なる複数の処理単位で比較画像間の画像信号の階調を変換する手段を備えて構成し、画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であっても、正しく欠陥を検出できるようにした。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の特徴である可干渉性を利用しながら、光学系に機械的手段を用いずに被測定物に関する測距を高精度に行う測距方法及びレーザ測距装置を提供する。
【解決手段】反射部１４を所定の角度θだけ傾けて設置することで、参照光の光路長を光路内で連続的に変化させることができる。これにより、受光部１８が受光する測定光と参照光による干渉光には干渉縞が形成され、この受光部１８の各受光器の光強度データに基づいて明暗データを作成することができる。そして、この明暗データに基づいて測距を行うため、光学系に機械的手段を用いずに被測定物に関する測距を高精度に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】光学式変位センサにおいて、測定範囲のどの位置においても、測定を適切に行うことを可能とする受光レンズの配置方法を提供することである。
【解決手段】光学式変位センサ１０は、投光モジュール９と、投光モジュール９からの光による測定対象物１６からの反射光を受光する受光素子１３と、測定対象物１６と受光素子１３との間に位置して、反射光を受光素子１３に結像する受光レンズ１４とを備える。測定対象物１６で光が反射する位置は、投光モジュール９の光軸Ｌ_１上において、光源１１に近い第一の位置Ｐ_Ｎ１から光源１１から離れた第二の位置Ｐ_Ｆ１までの所定の範囲Ｗ_１である。そして、第一の位置Ｐ_Ｎ１から受光レンズ１４に入射する反射光の入射角θ１と、第二の位置Ｐ_Ｆ１から受光レンズ１４に入射する反射光の入射角θ２とが、同じ角度になるように、受光レンズ１４を配置する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハ上の欠陥分布を検査する表面検査装置において、欠陥検査と同時進行でウェーハの厚さとフラットネスを測定できるようにする。
【解決手段】本発明は、ウェーハを固定し、回転及び直線移動を行う搬送系と、前記直線移動の経路上に配置されたウェーハ上の欠陥の位置とサイズを特定する散乱光学系と、前記直線移動の経路であって、前記散乱光学系よりも前に配置されたフラットネス測定系と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基準面と、基準面と同一の光路内にある対象面を良好に調整できる、光学系調整方法を提供する。
【解決手段】光学系調整方法は、観察対象の像を投影する投影面、パタンが形成されたマスク、及び、マスクと観察対象との間に設置され観察対象からの光を投影面に向けて反射するハーフミラーを有する光学系のマスクの表面を観察対象の方向から撮像する調整用カメラと、光学系に対する調整用カメラの位置を調整するステージと、投影面の位置を調整する調整手段とを有する調整装置における調整方法であって、投影面が取り付けられる前に、調整用カメラに撮像されたマスクの画像を基に調整用カメラの位置を調整するステップと、投影面が取り付けられた後に、調整用カメラに撮像された投影面の位置を調整するステップと、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】位置合わせ測定の精度を向上する。
【解決手段】１つの実施形態によれば、位置合わせ測定方法では、測定光学系の測定領域内が２次元的に分割された複数の部分領域のそれぞれに位置合わせ測定用マークが位置するように前記位置合わせ測定用マークに対する前記測定領域の相対的な位置を順次にシフトさせながら前記位置合わせ測定用マークの位置合わせずれ量を予め測定して、前記測定光学系の特性ずれに関する装置要因誤差を前記複数の部分領域のそれぞれごとに求め、前記複数の部分領域ごとに求められた前記装置要因誤差に基づいて前記複数の部分領域のうち使用すべき部分領域を決定し、前記決定された前記使用すべき部分領域に前記位置合わせ測定用マークが位置するように前記位置合わせ測定用マークに対する前記測定領域の相対的な位置をシフトさせた状態で前記位置合わせ測定用マークの位置合わせずれ量を測定する。 （もっと読む）

【課題】比較的大きなサイズの欠陥を高感度で検出できると共に、高さ又は深さの変化量が１ｎｍ又はそれ以下の微細な欠陥も検出できる検査装置を実現する。
【解決手段】照明光源１からの照明ビームを被検査基板２１に向けて投射する対物レンズ２０と、入射した照明ビームを、互いに干渉性を有する第１及び第２のサブビームに変換すると共に、基板の表面で反射したサブビーム同士を合成し、基板表面の高さ又は深さと関連する位相差情報を含む干渉ビームを出射させる微分干渉光学系１６と、出射した干渉ビームを受光する光検出手段２８と有する。微分干渉光学系のリターデーション量は、ｍを零又は正の整数とした場合に、第１と第２のサブビームとの間に（２ｍ＋１）π又はその近傍の位相差が形成されるように設定し、前記光検出手段から出力される出力信号のバックグランドの輝度レベルがほぼ零となる検査状態において基板表面を照明ビームにより走査する。 （もっと読む）

【課題】円形フランジに機器、部材等を取り付けることなく円形フランジの歪量を測定するための円形フランジの歪量測定方法及び円形フランジの歪量測定装置を提供する。
【解決手段】歪を測定しようとする円形フランジ１１の前方に配置されて、特定位置Ｐから軸心１７に対して一定角度θで旋回し円錐面状にスキャンするレーザー光を発して円形フランジ１１の測定面１２に照射し、測定面１２からの反射レーザー光を受光して、特定位置Ｐから測定面１２までの距離を測定するレーザー測定機１３と、レーザー測定機１３を載せて所定方向にレーザー測定機１３の軸心１７を向ける位置決め手段１５と、レーザー測定機１３から取得した特定位置Ｐから測定面１２までの距離の値にｃｏｓθを乗算し距離データを得て、距離データから測定面１２が完全平面と仮定した基準データを算出し、距離データから基準データを引いて、円形フランジ１１の歪量を算出する演算部１９とを有する。 （もっと読む）

【課題】複層塗膜の内部構造及び内部欠陥を、非接触非破壊且つ簡便に測定、解析することができる複層塗膜の非接触非破壊評価方法及びそれを用いた装置を提供すること。
【解決手段】本評価方法は、光源１からの光を参照光と複層塗膜４への入射光とに分岐する分岐ステップと、前記参照光の光学距離を調整する調整ステップと、前記複層塗膜からの反射光と前記参照光とを干渉せしめる干渉ステップと、前記複層塗膜からの前記反射光を含む干渉光を検出して前記干渉光の強度信号を出力する検出ステップと、前記強度信号を解析する解析ステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】測定領域においてハレーションがある場合でもハレーションによる悪影響を軽減して測定領域の高さを計測できる高さ計測装置及び、高さ計測方法を提供する。
【解決手段】高さ計測装置は、高さ方向に撮像位置を変えて画像データを撮像する画像取り込み部と、前記画像データ中の測定領域における高さごとのフォーカス評価値を計測する測定領域フォーカス評価値計測部と、前記画像データ中の前記測定領域の近傍領域における高さごとのフォーカス評価値を計測する近傍領域フォーカス評価値計測部と、前記近傍領域における高さごとのフォーカス評価値と、前記測定領域における高さごとのフォーカス評価値とを基に、前記測定領域における高さを計測する測定領域高さ計測部とを有する。 （もっと読む）

【課題】全面走査の誤差を蓄積することなく、被検体の表面形状を精度よく測定することができるようにする。
【解決手段】被検体１における複数の注目領域２のうち、１つの注目領域２が回転中心上に位置するように被検体１が載置され、１つの注目領域２を中心にして、被検体１を回転させる回転台３と、被検体１における複数の注目領域２のいずれかに光を照射する光照射部及び注目領域２に反射された光を検出する光検出部を有する複数の光センサ５とを備える。 （もっと読む）

【課題】記録媒体浮き検出の誤動作を防ぐことができる記録媒体浮き検出装置及びインクジェット記録装置を提供する。
【解決手段】検出ビームを出射、受光するための投光ユニット、受光ユニットを有する投光受光手段と、前記検出ビームの光路を平行移動させるための投光用平行平板と、を備え、前記投光用平行平板は、互いに平行な入射面と、出射面とを有する平板であり、前記検出ビームに垂直な回転軸を中心に回動することにより、前記入射面から入射した前記検出ビームを屈折させて前記出射面から前記検出ビームの光路を前記搬送面から離れる方向に平行移動させて出射するように構成され、所定のタイミングで、前記検出ビームを前記搬送面から離れる方向に平行移動させる記録媒体浮き検出装置。 （もっと読む）

【課題】別途光源を用意することなく、被検レンズの光軸をレーザ光の進行方向に一致させる傾き調整が可能なレンズの透過波面測定装置を提供する。
【解決手段】透過波面測定装置が、入射部から光を取り入れて出射部から出射させ、入射部を被検レンズの第１レンズ面近傍に出射部を被検レンズの第２レンズ面近傍に夫々配置可能であり、入射部から観察光を出射部に導いて被検レンズのフランジ部の第２レンズ面側に形成された平面部に照射させる傾斜検出用光路形成部と、被検レンズの平面部で反射された観察光による被検レンズの傾きを判別するための点像を観察するための傾斜検出用カメラとを有し、傾斜検出用光路形成部は、被検レンズから離れて観察光を被検レンズの第１レンズ面に入射させる第１の位置と、被検レンズの第１レンズ面側及び第２レンズ面側に入射部及び出射部が夫々位置して観察光を平面部に照射させる第２の位置との間で移動可能である。 （もっと読む）

【課題】２つの位置決めマークからの反射光の光路差及び光路方向を変更可能で、簡易小型化した装置を提供する。
【解決手段】同一平面上にない２つのワークにそれぞれ設けられた位置決めマークを照射する照明装置と、それぞれの位置決めマークからの反射光を撮像する撮像装置と、を備える。さらに、２つのワークと撮像装置との間に配設され、それぞれの位置決めマークからの反射光を、少なくとも２回垂直に反射させることにより、撮像装置までの反射光の光路長が同一となるように複数の光学素子を組み合わせてなる光路差変更手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】簡便な光源を利用した場合であっても光の反射による外乱の影響を抑えて光透過性薄膜の厚さを確実に算出できるようにする。
【解決手段】光透過性薄膜１０２の表面にレンズが合焦した状態では基板１０１の表面をフォーカスアウトさせて基板１０１から反射される光が合焦判定の外乱として作用することを防止する一方、基板１０１の表面にレンズが合焦した状態では光透過性薄膜１０２の表面をフォーカスアウトさせて光透過性薄膜１０２から反射される光が合焦判定の外乱として作用することを防止し、基板体１００の平面上の同一箇所（ｘｉ，ｙｉ）で光透過性薄膜１０２を含めた基板体１００の厚さと光透過性薄膜１０２を除いた基板１０１のみの厚さの差分に基いて光透過性薄膜１０２の厚さを適切に算出する。 （もっと読む）