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Fターム[2G001GA13]の内容

放射線を利用した材料分析 (46,695) | 測定内容、条件、動作等関連変数、量ψ (4,673) | θ;ω等(角;向:立体角) (564)

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【課題】被写体によって生じた集光X線ビームの屈折角を高い分解能でかつ短時間で検出可能とし、高い空間分解能で被写体を観察できるX線撮像装置を提供する。
【解決手段】集光X線ビームの角度分布の端が回折条件を満たすように入射角を調整した結晶のX線回折を利用して、被写体によって生じた集光X線ビームの屈折角を検出する。 (もっと読む)


【課題】エネルギー分解能が良好な1次元の位置感応型X線検出器を用いることで、受光側にモノクロメータを配置することなく、蛍光X線に起因するバックグラウンドを低減する。
【解決手段】入射X線28と回折X線30とのなす角度を変更しながら試料20からの回折X線30の強度をX線検出器10で検出する。X線検出器10はシリコン・ストリップ検出器であり、細長く延びる単位検出領域を複数個備えている1次元の位置感応型検出器である。この検出器は、受光したX線のうち、そのX線エネルギーが上限値と下限値の間にあるものだけを弁別する機能を備えている。CuKαにおけるエネルギー分解能は20%以下である。上述の上限値と下限値を適切に設定することで、蛍光X線の大半をカウントしないようにすることができて、本来の回折X線の強度をあまり下げずに、バックグラウンドを大幅に下げることができる。 (もっと読む)


【課題】ビームラインが短く、分解能が高く、且つ短時間で2次元領域の測定が可能な分析装置、特にXAFS分析装置又は小角散乱X線分析装置を提供すること。
【解決手段】荷電粒子発生手段によって生成された荷電粒子を内部に周回させる荷電粒子周回手段(1)と、
周回する荷電粒子の周回軌道(13)上に配置された横長ターゲット(14)に、周回する荷電粒子を衝突させて発生したX線を分光して単色X線を発生させる分光手段(2)と、
分光手段(2)から出力される単色X線を測定対象の試料(4)に照射し、試料(4)から出力されるX線を測定する測定手段(3)とを備える。 (もっと読む)


【課題】極微量の元素検出を可能とし、被射体内部の特定元素分布をCTで得られるのと同様に断層像として、高空間分解能を有する機能画像の作成を行う蛍光エックス線分析装置を提供すること。
【解決手段】単色エックス線をシートビーム状に照射する光源部と、分析試料を支持する試料支持部と、分析試料に含まれる被検元素から発生する蛍光エックス線を検出する検出部と、データ処理用コンピューターを備え、検出部がエックス線照射方向と直交するシートビーム面に配設され、検出素子からエックス線照射方向へおろした垂線上に存在する被検元素から発生する蛍光エックス線を検出し、且つ、試料支持部がシートビーム面を垂直に貫通する線を中心軸としてシートビーム面を光源部及びエックス線検出部に対して相対的に回転し、分析試料を単色エックス線で回転走査して分析試料内部の画像を得ることができる蛍光エックス線検出装置として構成する。 (もっと読む)


【課題】2つの結晶の方位関係と結晶粒界の特性をリアルタイムで正確に確認できることを特徴とし、透過電子顕微鏡のゴニオメ−タを利用した隣り合う結晶粒の結晶学的方位関係と結晶粒界の特性を測定する測定装置及びその測定方法を提示する。
【解決手段】このため結晶軸(H1,H2,H3)に対してゴニオメ−タを利用してX傾斜軸及びY傾斜軸にそれぞれ垂直する軸である(Tx,Ty)値を測定し、測定された結晶軸(H1,H2,H3)に対する3つの(Tx,Ty)値から(H1,H2,H3)結晶軸の挟角を求める。次いで(H1,H2,H3)の結晶指数から結晶学的な方法で(H1,H2,H3)の挟角を求める。次いで、測定された(Tx,Ty)値から得た(H1,H2,H3)の挟角と結晶学的に算出した挟角とを比較して、その差を最小化する(Tx,Ty)値を正確な測定値として選択して、傾斜軸と結晶軸(H1,H2,H3)間の関係を樹立する。次いで2つの結晶間の脱角行列を利用して結晶粒界の特性を糾明する。 (もっと読む)


入射X線が非晶質材料標本へ向けて広角セクターにおいて放射され、この標本がX線を反射する。
本方法は、
− 実験光子強度測定値を入射角の関数として記録するステップと、
− 反射の前に標本内への入射波の侵入長lに依存する状態で、少なくとも前記標本内での吸収現象を考慮しながら、前記実験強度を補正するステップと、
− 正規化係数(α)に従い、前記実験強度から得られた補正強度を電子強度に関連付ける正規化ステップと、
− 離散化された関数Q.i(Q)を計算するステップ、但しiは、補正および正規化された実験強度の測定値から得られた減衰強度、Qは量(sinθ/λ)に比例する波散乱ベクトルの絶対値、2θは散乱角、λは放射された波の長さであって、前記正規化定数(α)は関数Q.i(Q)の値に対する線形回帰により得られたアフィン直線(42)の傾きを最小化すべく再帰的に変化し、各反復を行う間に減衰強度の値が侵入長lについて計算され、前記関数Q.i(Q)が前記最小の傾きに対応して求められる(41)ステップと、
− Q.i(Q)に依存する動径原子濃度ρ(r)の分布に基づいて構造因子を決定するステップとを含んでいる。
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【課題】結晶のX線回折測定および中性子回折測定より得られるシグナルからさらに精密に原子の位置を求めて原子配列を決定することができる方法を提供する。
【解決手段】サンプルに含有される測定対象の化合物の結晶の原子配列を決定する方法であって、(a)と(b)の工程を含み、(c−1)の工程を少なくとも1回含むことを特徴とする結晶の原子配列の決定方法。
(a)X線回折の測定により得られたシグナルのリートベルト解析を行い、結晶中の原子の各席の分率座標を算出する工程。
(b)中性子回折の測定により得られたシグナルのリートベルト解析から結晶中の各席の占有率を算出する工程。
(c−1)(b)の工程で算出した占有率を用いて、X線回折の測定により得られたシグナルのリートベルト解析から分率座標を算出する工程。 (もっと読む)


【課題】断層像の座標変換を伴うことなくリングアーチファクトを除去することを可能とし、断層像の精度を低下させることなく確実にリングアーチファクトを除去した断層像を得ることのできるX線CT装置を提供する。
【解決手段】互いに対向配置されたX線発生装置1とX線検出器2の対と、これらの間に配置された試料ステージ3とを相対回転させることにより、複数の角度での対象物WのX線投影データを収集し、その投影データを用いて回転軸Rに直交する面に沿った断層像を構築するX線CT装置において、断層像を構成する各画素について、当該断層像上で回転軸Rに相当する位置を中心とした扇形状のコンボリューションフィルタカーネルを用いてフィルタ処理を施すことにより、断層像に現れるリングアーチファクトを抽出し、その抽出した画像をフィルタ処理を施す前の画像から減算することにより、リングアーチファクトを実空間において除去または低減することを可能とし、当初の断層像の精度を維持したままリングアーチファクトの除去を実現する。 (もっと読む)


【課題】
タンパク質等の高分子構造におけるカイラリティ分布や、磁区構造の解析を高分解能で行うことが可能な走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】
レーザー201と半導体202を備えたスピン偏極電子源等を搭載した走査電子顕微鏡を用いて、スピン偏極電子線203を照射した試料208からの反射電子209の強度やスピン偏極度を反射電子検出器210などを用いて測定することにより、試料208内部の高分子のカイラリティ構造や磁化ベクトルを可視化することができる。 (もっと読む)


本発明はイオンビーム顕微鏡を用いた試料検査に関するものである。幾つかの実施形態では、本発明は、各検出器は試料についての異なる情報を提供する複数の検出器を用いるものである。
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イオン顕微鏡およびシステムを開示する。一般に、本発明システムおよび方法は比較的軽い同位体、少数同位体、またはその両方を用いる。いくつかの実施形態においては、He−3を用いる。 (もっと読む)


【課題】微小領域の歪みを簡単に測定できるようにする。
【解決手段】立方晶の金属組織に15nm〜100μm間隔で電子線を照射して、後方散乱電子回折像法より測定点毎に結晶方位を決定し、決定した結晶方位分布および隣接する前記測定点間の方位角度差より、格子歪を決定し、前記格子歪に基づいて金属組織上における残留応力分布を求める。また、求めた残留応力分布および測定対象の金属材料の降伏応力に基づいて塑性域と判定された領域において、前記方位角度差と前記金属材料の弾性限とに基づいて、塑性変形により生じた角度差を算出し、前記算出した角度差に基づいて、幾何学的に必要な転位の転位密度を予測する。 (もっと読む)


【課題】高精細な画像が得られるとともに、検査時間も短縮できる放射線検査システム及び放射線検査の撮像方法を提供することにある。
【解決手段】検出器103は、放射線源102に対して検査対象物104を挟んで配置される。移動装置108,109は、放射線源と検出器とを検査対象物の長手方向であって、かつ同一方向に平行移動する。回転装置105は、放射線源が平行移動する軸方向に対して照射方向を回転する。中央制御装置205は、放射線源から照射される照射方向が第1の方向であるときに、移動装置を制御して、放射線源と検出器を同一方向に移動して撮像データを得、さらに、放射線源から照射される照射方向が第2の方向であるときに、移動装置を制御して、放射線源から照射される放射線を検出できる位置に検出器を移動した後、さらに、放射線源と検出器を同一方向に移動して撮像データを得る。 (もっと読む)


【課題】X線又は光学測定において迅速に、しかも空間分解能の高い二次元画像取得方法とその装置を提供する。
【解決手段】蛍光X線による二次元画像測定装置に適用した形態では、二次元X線検出器と試料の間に2つの独立したコリメータを配置し、試料に近い側のコリメータで蛍光X線を二次元の平行光束とし、他のコリメータを経て検出器に導いて蛍光X線による二次元画像を得る。このとき、2つのコリメータのなす角度をX線全反射臨界角近傍で調整することにより、検出器に到達する蛍光X線のエネルギーを選別する。 (もっと読む)


【課題】半導体基板の外周面に存在する不純物を簡易的に分析する方法を提供する。
【解決手段】測定対象となる半導体基板4を分割構造のステージ2で挟持し、半導体基板4の外周面とステージ2の外周面とで、半導体基板4の外周面を中心とする平坦部Fを形成する。半導体基板4の外周面とステージ2の外周面とで形成された平坦部FにX線を全反射条件で照射し、半導体基板4の外周面から発生した不純物の蛍光X線を検出する。蛍光X線の検出結果に基づいて半導体基板4の外周面の不純物による汚染状態を評価する。 (もっと読む)


【課題】従来よりも光子密度の高い単色X線を発生することができ、単色化されたX線の波長を変更することができるX線集光装置を提供すること。
【解決手段】複数の結晶素子(11a、11b)を備え、
光源と焦点とを通る直線をx軸、該x軸に直交する方向をy軸、入射角を決めるパラメータをαとして、x軸上に位置する長さ2Lの弦を有し、かつx+(y−L/tanα)=L(1−1/tan2α)で表される円弧上に、前記結晶素子が配置され、
前記光源が前記弦の一方の端点(A)に位置し、前記焦点が前記弦の他方の端点(B)に位置し、
前記光源から放射されたX線が前記結晶素子によって反射されて前記焦点に集光するように、前記結晶素子の結晶格子面の方向が決定されている。 (もっと読む)


【課題】安全にかつ短時間で被計測物の傾斜角度を調整できる被計測物の保持装置を提供する。
【解決手段】細長な被計測物3内の内容物をX線検査により確認すべくその被計測物3を傾斜させて保持する被計測物3の保持装置6において、基台14上に、被計測物3を載置する傾斜調整トレイ15を傾動自在に設け、基台14上に傾斜調整トレイ15の傾斜角度を調整する傾斜角度調整装置16を設けたものである。 (もっと読む)


【課題】被検査対象に応じた撮影方法の選択を可能とし、もって検査時間を短縮することができる放射線検査装置、それを用いる放射線検査方法およびそれを制御する放射線検査プログラムを提供する。
【解決手段】本放射線検査装置10は、所定の立体角の範囲に放射線を出力する放射線出力手段(放射線発生器)11と、被検査対象を移動させる被検査対象平面移動手段(X−Yステージ)12と、被検査対象の放射線透過画像を取得する放射線透過画像取得手段(放射線取得機構)13と、を備え、放射線透過画像取得手段は、透過放射線を検出する放射線検出器、この放射線検出器を回転移動させる検出器回転移動部および直線移動させる検出器直線移動部を具備し、検出器回転移動部による放射線検出器の回転移動および検出器直線移動部による放射線検出器の直線移動のそれぞれによって被検査対象の三次元再構成画像生成用の放射線透過画像を取得可能である。 (もっと読む)


【課題】最表面2〜3原子層における元素と原子層とを選別した磁気構造解析を行う方法とその装置を提供する。
【解決手段】試料から散乱した散乱イオン強度を入射イオン種のスピン別に計測し、その計測データにより試料表面の磁気構造を解析する。 スピン偏極イオンを発生させるスピン偏極イオン発生部と、前記スピン偏極イオン発生部からのスピン偏極イオンを所望のエネルギーで試料表面に入射させるスピン偏極イオンビームラインと、試料を保持する真空槽と、前記真空槽内に位置して、前記試料に照射されて散乱したスピン偏極イオンを計測する計測器よりなる。 (もっと読む)


本発明は、対象物1の位相コントラスト画像を生成するための、回転X線装置100、例えばCTスキャナに関する。装置100の特定の実施形態において、複数のX線源11、X線検出器30、及びアナライザ格子Gは回転ガントリ20に取り付けられ、一方リング状の位相格子Gは固定される。X線源は、X線がまず位相格子Gを横断する前に検査下の対象物を通過し、続いてアナライザ格子Gを通過するように配置される。これはX線源をリング状位相格子Gに対して軸方向にシフトすることによって、又はX線源をリングの内部に配置することのいずれかによって達成される。さらに、位相格子GとアナライザGは、例えば互いに対して傾斜される線格子によって実現される、空間的に変化する相対位相(及び/又は周期)を持つものとする。ガントリ20の回転中、X線源11の同期活性化は、位相格子GとアナライザGの間の異なる相対位置(従って位相)で、同じ視覚から対象物1の投影画像を生成することを可能にする。
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