【課題】照射範囲の広いX線照射装置を用いて、試料を電子回路基板等に実装したままで、分析対象部分にのみX線を照射して分析する。
【解決手段】X線照射位置決めフィルタ２０Ａが電子回路基板６０上の部品６１Ａの近傍に配置されている。X線照射位置決めフィルタ２０ＡにはX線を通す窓が開いている。窓の形状は、部品６１Ａにおける分析対象部分の形状に合わされている。窓を除く表面はX線を遮断する。蛍光X線分析装置１Ａは、X線管１０で発生する一次X線１１を部品６１Ａに照射する。窓を通過した一次X線１１によって部品６１Ａにおける分析対象部分を構成する物質の分子が励起され、蛍光X線１２が発生する。蛍光X線分析装置１Ａは、その蛍光X線１２を検出器３０で検出し、分析器４０で部品６１Ａを構成する物質に含有される成分を分析する。 （もっと読む）

【課題】加圧成形試料からの破片や粉体による汚染を簡単な作業で十分に抑制できる試料ホルダを提供する。
【解決手段】加圧成形試料１を保持する試料ホルダ２であって、底部３ａ付きの円筒形であって通気部３ｃを有する本体３と、本体３の上部を覆うように着脱自在に取り付けられ、加圧成形試料１の分析面１ａを露出させる開口４ａを有し、下方から加圧成形試料１が当接される蓋体４と、加圧成形試料１が載置される受け皿５と、本体３の底部３ａと受け皿５との間に配置され、受け皿５を介して加圧成形試料１を蓋体４に押圧する内側ばね６と、加圧成形試料１を非接触で囲うように配置されるリング部７ａおよびそのリング部７ａから垂下する多孔性膜である袋部７ｂからなるトラップ７と、底部３ａとリング部７ａとの間に配置され、リング部７ａを蓋体４に押圧する外側ばね８とを備える。 （もっと読む）

【課題】識別するための標識物質の組み合わせが事実上無制限であり、微量の標識物質を用いるのみで識別でき、対象物の素材や製品形状、物性によらずに適用することができる放射線を用いる識別方法を提供する。
【解決手段】カーボンナノチューブを構成する物質以外の物質を標識物質として、ナノチューブの中空部分に内包した内包カーボンナノチューブ、あるいはナノサイズの細孔を有する多孔体を構成する物質以外の物質を、標識物質として細孔に内包した内包多孔体を、識別材料として識別対象物に付与し、対象物に放射線を照射し、標識物質から放射される２次放射線を検知して、識別材料が付与された対象物を識別する識別方法。 （もっと読む）

【課題】実際のゴム材料から精度良くシミュレーション用のゴム材料モデルを定義しうる方法を提供する。
【解決手段】充填剤を含有するゴム材料のシミュレーション方法であって、走査型透過電子顕微鏡を用いてゴム材料の電子線透過画像を取得する撮像工程Ｓ１と、撮像工程で得られた画像からトモグラフィー法により前記ゴム材料の３次元構造を構築する工程Ｓ２と、前記３次元構造からゴム材料モデルを設定するモデル設定工程Ｓ３乃至Ｓ４と、前記ゴム材料モデルに基づいて変形シミュレーションを行う工程Ｓ５とを含み、前記ゴム材料モデルは、充填剤モデルと、前記充填剤モデルを囲むとともにゴムが有限個の要素で分割されたゴムモデルとを含み、該ゴムモデルには、変形速度に応じて発生する応力が異なる変形速度依存性が定義されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面の粗さをより低減し得る位相型回折格子および該製造方法ならびにこれを用いたＸ線撮像装置を提供する。
【解決手段】本発明の位相型回折格子は、第１光学的距離に対応する第１厚さを有して所定の規則に従って配列された複数の第１光学的距離部分１２ａと、これらを通過したＸ線に対して所定の位相差を生じさせる第２光学的距離に対応する第２厚さを有して複数の第１光学的距離部分１２ａに応じて配列された第２光学的距離部分１２ｂとを入射面と射出面との間に備え、第２光学的距離部分１２ｂは、複数の光学的要素で構成され、これら複数の光学的要素のうちで最も外部に露出する最外露出の光学的要素部分１２ｂ２の光学的要素は、仕様によって許容される表面粗さを持つ厚さであり、第１光学的距離部分１２ａは、第２光学的距離部分１２ｂの複数の光学的要素における各屈折率よりも高い屈折率を持つ１個の光学的要素で構成される。 （もっと読む）

【課題】計算機式断層写真法（ＣＴ）システムの全体費用を低減しつつＣＴ撮像での投与線量低減を行なう。
【解決手段】ボウタイ・フィルタ２９は、検出器アレイ１８のアイソチャネル１２４を通過するＸ線１２０を減弱させる第一のＸ線濾波領域１０２と、アイソチャネル１２４からチャネル方向１３０に中心を外れて位置する検出器アレイ１８のチャネルを通過するＸ線１１２を減弱させる第二のＸ線濾波領域１０４と、アイソチャネル１２４からチャネル方向１３０に中心を外れて位置する検出器アレイ１８のチャネルを通過するＸ線１１２を減弱させるように配置自在なＸ線減弱材料１１０とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】位相型回折格子の機能劣化を低減しつつ加工精度のより高い位相型回折格子の製造方法、該位相型回折格子およびＸ線撮像装置を提供する。
【解決手段】位相型回折格子の製造方法は、シリコン基板３０をエッチングして所定の深さのスリット溝を形成する凹部形成工程と、前記深さの方向における設計値の長さとなるように金属３５をスリット溝内に形成する金属形成工程（図４（Ａ））と、金属形成工程でスリット溝内に形成された金属３５における前記深さの方向の長さを実際に計測する計測工程（図４（Ｂ））と、設計値の位相差を生じさせるように、計測工程で計測された金属３５の実際の長さに応じてスリット溝の側壁に対応する部分における前記深さの方向の長さを調整する調整工程（図４（Ｃ））とを備える。 （もっと読む）

【課題】回折線による分析精度の低下を抑制することができる蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】蛍光Ｘ線分析装置１００は、スペクトルから、二次Ｘ線ピークを抽出する二次Ｘ線ピーク抽出部１２と、抽出された前記二次Ｘ線ピークのエネルギー幅を算出する二次Ｘ線ピーク幅算出部１３と、抽出された前記二次Ｘ線ピークのエネルギー値における蛍光Ｘ線ピークのエネルギー幅の情報を取得する蛍光Ｘ線ピーク幅情報取得部１４と、二次Ｘ線ピーク幅算出部１３が算出した前記二次Ｘ線ピークのエネルギー幅が、前記二次Ｘ線ピークのエネルギー値における蛍光Ｘ線ピークのエネルギー幅よりも大きい場合に、抽出された前記二次Ｘ線ピークを回折線ピークと判定する回折線ピーク判定部１５と、を含む。 （もっと読む）

【課題】スペクトルを有効に表示することができるスペクトル表示装置を提供する。
【解決手段】スペクトル表示装置１００は、第１軸を所定の物理量とし、第２軸を前記所定の物理量に対する強度として表したスペクトルの一部を拡大して表示するスペクトル表示装置であって、前記スペクトルの前記第１軸の拡大範囲を指定するための操作部１０と、操作部１０によって指定された前記拡大範囲の情報を取得する範囲情報取得部２２と、前記拡大範囲の情報に基づいて、前記拡大範囲が所定の拡大率で前記第１軸に沿って拡大され、かつ前記拡大範囲とは異なる前記第１軸の範囲が所定の縮小率で前記第１軸に沿って縮小された拡大スペクトルを生成するスペクトル生成部２４と、スペクトル生成部２４が生成した前記拡大スペクトルを表示する表示部３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】実際の実環境において部材に発生した損傷部について、正確且つ簡略に損傷の原因を検査可能な検査方法を提供すること。
【解決手段】部材（１０）に発生した損傷部（１１）を被覆するように樹脂材料（１２）を塗布する保護工程と、前記損傷部（１１）を切り出すサンプリング工程と、前記樹脂材料（１２）が形成された状態で前記損傷部（１１）の分析を行う検査工程とを設ける。また、前記保護工程は、前記サンプリング工程の前に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】樹脂片における、臭素の含有有無の評価をより容易に行なえる選別装置および製造方法を提供する。
【解決手段】当該選別装置は、加速電圧が４０ｋＶ以上６０ｋＶ以下の電子ビームにより連続Ｘ線６を照射するＸ線源１と、厚みが５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であるモリブデンで形成されたフィルター１４と、フィルター１４および樹脂片２を透過したＸ線を検出するＸ線検出器と、Ｘ線検出器の検出データに基づいて樹脂片２を選別する制御部とを備える。制御部は、フィルター１４を透過したＸ線について、臭素を含まない、樹脂片２と同一の樹脂にて形成された試験片にＸ線を照射したときのＸ線の透過強度のデータがあらかじめ記憶される記憶部と、フィルター１４および樹脂片２を透過したＸ線の透過強度を上記データと比較することにより、樹脂片２を選別する演算部とを含む。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属イオンの一次イオンビームを用いる二次イオン質量分析において、試料上面へのアルカリ金属化合物の堆積を抑止する。
【解決手段】スパイラル状の走査線２１に沿ってスパイラルの最外周を含む第１の走査線分２１ａ上を一次イオンビーム７が走査するときに、二次イオン引出し電極６に対し試料１０電位が正電位になるように制御し、第１の走査線分２１ａよりスパイラルの内側に位置し、かつスパイラルの最内端に至る第２の走査線分２１ｂ上を一次イオンビーム７が走査するときに、試料１０電位が負電位になるように制御する。 （もっと読む）

【課題】試料表面の付着物質を精度よく検出できる半導体装置の検査方法及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１２の上に反射膜１３と薄膜１４とを順に形成してなる試料１１の表面に、反射膜１３の臨界角θｃよりも浅い入射角θで入射Ｘ線８２ａを照射し、入射Ｘ線８２ａの照射により薄膜１４表面の付着物質８６から放出される蛍光Ｘ線８３を検出することで、試料１１の表面の付着物質８６を検出する。 （もっと読む）

【課題】樹脂中の塩素濃度を蛍光Ｘ線分析で正確に測定することが可能な塩素濃度測定方法を提供する。
【解決手段】本発明の塩素濃度測定方法は、真空中での蛍光Ｘ線分析により樹脂中の塩素濃度を測定する方法であって、対陰極としてロジウムを用いて発生させたＸ線を、クロム測定用フィルタ２３を通して測定試料Ｓに照射し、測定試料Ｓとの比重差が０.１５以内の標準試料を用いて作成した検量線に基づき、照射により測定試料Ｓから発生した蛍光Ｘ線の強度から塩素濃度を算出する。 （もっと読む）

【課題】測定試料およびＸ線照射装置の姿勢を制御する駆動機構を有さず、測定可能な試料の大きさや形状に特段の制約がなく、測定面上に標準試料を安定して固定することができ、かつＸ線回折測定を行う際にＸ線の漏洩が防止されたＸ線回折装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るＸ線回折装置は、Ｘ線照射装置と二次元Ｘ線検出器とを有し前記二次元Ｘ線検出器よりも大きい測定対象物に対してＸ線回折測定を行うＸ線回折装置であって、前記二次元Ｘ線検出器は平板状に設置されており、前記Ｘ線照射装置は前記二次元Ｘ線検出器を貫通するように配設され、前記二次元Ｘ線検出器と前記Ｘ線照射装置とが一体に固定され、前記Ｘ線照射装置の姿勢を規定しかつＸ線の漏洩を防止するための筒状シールド部材が前記二次元Ｘ線検出器の周縁に配設されており、前記測定対象物の表面に前記Ｘ線回折測定に用いる標準試料粉末を付着させ固定する付着固定機構を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】重い原子及び軽い原子を同時に観察可能な電子顕微鏡像を生成する画像処理の方法を提供する。
【解決手段】方法は、走査透過型電子顕微鏡により試料を撮像した暗視野像であって、走査透過型電子顕微鏡の光軸からの第１角度と、第１角度よりも大きい第２角度との間に散乱した電子を検出して得られた暗視野像を取得し、この暗視野像と共に撮像された明視野像であって、第１角度よりも小さい第３角度以内に散乱した電子を検出して得られた明視野像を取得し、暗視野像の明暗を反転して反転像を生成し、反転像の各画素の輝度と、反転像の各画素に対応する明視野像の画素の輝度との差を、各画素の輝度とする差分像を生成する。 （もっと読む）

【課題】複数種の構成材料を含む試料中の特定の構成材料を精度よく識別する識別する方法、および特定の構成材料の成分を分析する分析方法を提供する。
【解決手段】複数種の構成材料を含む試料から、変質する温度が既知である特定の構成材料を識別する方法であって、試料の表面を複数の小区画に区分し、各小区画に放射線を照射して、試料より発生する信号によって、特定の構成材料に含まれる元素の各小区画における濃度を測定する第一測定工程と、特定の構成材料が変質する温度で試料の表面を加熱する加熱工程と、加熱後の試料の各小区画に放射線を照射して、試料より発生する信号によって、元素の各小区画における濃度を測定する第二測定工程と、各小区画における元素について、第一測定工程で測定した濃度と、第二測定工程で測定した濃度とを比較して、濃度の変化率が所定の率である小区画を特定の構成材料であると判定する判定工程とを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】未知の組成/幾何学形状を含む試料での用途に適し、かつ、測定データの自動デコンボリューション及び表面下の像の自動生成を可能にする荷電粒子顕微鏡による可視化法を提供する。
【解決手段】複数(N)の測定期間中に荷電粒子のプローブビームを試料の表面に照射する手順であって、各測定期間は、対応するビームパラメータ(P)の値を有し、値は、ある範囲から選ばれて、かつ異なる測定期間の間で異なる。各測定期間中に試料によって放出される誘導放射線を検出する手順、測定量(M)と各測定期間とを関連付ける手順、各測定期間での測定量(M)の値を記録することで、データ対{P_n,M_n}（1≦n≦N）からなるデータ組(S)をまとめることを可能にする手順を有する。データ組(S)を自動的に処理するのに数学的手法が用いられる。 （もっと読む）

【課題】透過Ｘ線装置で検出した異物の位置の元素分析を蛍光Ｘ線で正確かつ迅速に行えるＸ線分析装置を提供する。
【解決手段】第１のＸ線源１２と、第１のＸ線源から試料１００を透過した透過Ｘ線１２ｘを検出する透過Ｘ線検出器１４とを有する透過Ｘ線検査部１０と、第２のＸ線源２２と、第２のＸ線源からのＸ線を試料に照射したときに該試料から放出されるＸ線２２ｙを検出する蛍光Ｘ線検出器２４とを有する蛍光Ｘ線検査部２０と、試料を保持する試料ステージ５０と、試料ステージを、第１のＸ線源の照射位置と第２のＸ線源の照射位置との間で相対的に移動させる移動機構３０と、透過Ｘ線検出器にて試料中に検出された異物１０１の位置を演算する異物位置演算手段６０と、異物位置演算手段によって演算された異物の位置が第２のＸ線源の光軸２２ｃに一致するように移動機構を制御する移動機構制御手段６１と、を備えたＸ線分析装置１である。 （もっと読む）

【課題】 連続した波長を有する白色Ｘ線から、設定した波長範囲の多波長Ｘ線を容易に選択して取り出すことができるＸ線分光システムを提供する。
【解決手段】 白色Ｘ線が入射されるＸ線導波路と、前記Ｘ線導波路から出射した回折角の異なる回折Ｘ線を分離して、前記回折Ｘ線から設定した波長範囲の多波長Ｘ線を選択して取り出すためのＸ線選択手段とを具備するＸ線分光システムであって、前記Ｘ線導波路がコアとクラッドを有し、前記コアは屈折率実部の異なる複数の物質を含む基本構造が周期的に配されている周期性構造体で形成されており、前記クラッドと前記コアとの界面における前記Ｘ線の全反射臨界角が、前記コアの周期性構造体の基本構造の周期性に対応するブラッグ角よりも大きいことを特徴とするＸ線分光システム。 （もっと読む）