【課題】
本発明は集積回路、磁気ヘッド、磁気ディスク、太陽電池、光モジュール、発光ダイオード、液晶表示パネルなど基板上に発生した欠陥や異物の画像を撮像し、欠陥や異物を種類ごとに分類する欠陥分類装置において、撮像した画像に写っている欠陥の重要度を定量的に計算し、重要度の高い欠陥が写っている画像だけをデータベースに保存することで、ネットワーク負荷やデータベース負荷を低減する。
【解決手段】
本発明は、欠陥座標データを入力し、画像撮像プログラム５０１にて画像を撮像し、特徴量抽出プログラム５０２にて撮像した画像から欠陥の特徴量を抽出し、欠陥分類プログラム５０３にて欠陥を種類別に分類し、重要度予測プログラム５０４にて欠陥毎に重要度を計算し、画像選別プログラム５０６にて重要度に基づいて画像をデータベースに伝送するか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】連続的に流れてくるシート等の被検査物の内部検査を行うことができ、しかも、搬送中にシートが上下しても、あるいはＸ線透過方向への厚みが大きな被検査物でも、解像度が低下することがなく、高い感度でのＸ線検出が可能で、更には装置の取扱いが容易で安定した運用を実現できるＸ線ラインセンサを提供する。
【解決手段】Ｘ線の入射により蛍光を発生する材料からなる光変換部材２と、各一端部がそれぞれ光変換部材２に臨むように直線状に配列され、他端部は２次元状に束ねられた光ファイバ束３と、その光ファイバ束の他端部からの出射光を増強する光増強手段４と、その光増強手段４からの出射光を撮像する撮像手段６を備えた構成とすることで、単純に１ライン状に光ファイバを並べても光増強手段４の作用によって十分な光量を得ることを可能とし、撮像感度を高いものとする。 （もっと読む）

【課題】 蛍光Ｘ 線分析装置において高精度な分析結果を得る方法及び装置を提供する。
【解決手段】 半導体基板を酸蒸気に暴露する工程と、酸蒸気に暴露された前記半導体基板の表面の不純物を酸溶液で走査回収する工程と、前記走査回収した酸溶液を前記半導体基板上で濃縮乾燥させ濃縮乾燥物に変える工程と、前記濃縮乾燥物を全反射蛍光Ｘ線分析で測定し第一の測定値を得る工程と、前記半導体基板を酸蒸気に暴露する工程の後に、前記半導体基板上で前記濃縮乾燥物の位置とは異なる位置を全反射蛍光Ｘ線分析で測定し第二の測定値を得る工程と、前記第二の測定値を用いて前記第一の測定値の精度の確認を行う工程とにより半導体基板の分析を行う方法。 （もっと読む）

【課題】試料の実像だけでなく、電子回折像も観察することができる光電子顕微鏡を提供すること。
【解決手段】光源からの光を試料に照射することにより前記試料から放出される光電子を対物レンズを介して結像し、拡大像を得る光電子顕微鏡において、前記対物レンズに、２以上の電極を備えさせ、２以上の前記電極を、前記光が２つの電極間を通るように設置する。このような構成をした光電子顕微鏡は、試料の実像だけでなく、電子回折像も観察することができる。 （もっと読む）

【課題】車両を持ち上げた際に枠体構造物が浮き上がることを防止し、かつ、安定的な走行を行うことができる搬送装置を提供する。
【解決手段】車両１００が内部を通過できる金属製の枠体構造物２と、枠体構造物２に軸支されて地面に敷設される２本の軌条上を走行するための車輪１００ａと、車輪１００ａに回転駆動力を付与する走行モータ２２と、枠体構造物２において、互いに対向して装着された一対の昇降部材７と、昇降部材７にそれぞれ設置されており、互いに対向する側に張り出す車両把持部材５とを備え、車両把持部材５で車両１００の車輪３を保持しつつ昇降部材７を上昇させて車両１００の車輪１００ａを持ち上げた状態で車両１００を搬送する搬送装置１であって、枠体構造物２に軸支されて車輪１００ａに従動する補助輪６と、枠体構造物２における補助輪６を軸支する部分の上部において、昇降部材７の上下動を行う昇降用アクチュエータ８とを備える。 （もっと読む）

【課題】検査データと組み合わせて設計データを使用するためのさまざまな方法及びシステムが実現される。
【解決手段】設計データ空間における検査データの位置を決定するための一コンピュータ実施方法は、ウェハ上のアライメント部位に対する検査システムにより取り込まれたデータを所定のアライメント部位に対するデータにアラインさせることを含む。この方法は、さらに、設計データ空間における所定のアライメント部位の位置に基づいて設計データ空間におけるウェハ上のアライメント部位の位置を決定することを含む。それに加えて、この方法は、設計データ空間におけるウェハ上のアライメント部位の位置に基づいて設計データ空間における検査システムによりそのウェハについて取り込まれた検査データの位置を決定することを含む。一実施形態では、検査データの位置は、サブピクセル精度で決定される。 （もっと読む）

【課題】半導体装置や液晶などの回路パターンが形成された基板上の欠陥を検出する目的で検査を行う走査電子顕微鏡を搭載した検査装置において、困難となっている微細欠陥と擬似の識別を容易に実施できる検査装置及びその検査方法を提供する。
【解決手段】同一箇所を複数回スキャンして得られる画像あるいは画像信号を加算し、加算回数の異なる画像あるいは画像信号を比較することにより、擬似欠陥あるいは真の欠陥の欠陥位置を検出する。擬似欠陥あるいは真の欠陥のいずれを検出するかは、加算回数の異なる複数の画像の比較演算の組み合わせによって定める。 （もっと読む）

【課題】製品基板毎に態様の異なる被爆量を好適に管理すること。
【解決手段】電子部品が実装された基板の撮像要部をＸ線で撮像するＸ線撮像装置に用いられるＸ線被爆量管理システムにおいて、前記基板Ｗを製品毎に特定する基板特定手段と、特定された製品基板に係る累積被爆量Ｈを演算する累積被爆量積算手段とを備えている。Ｘ線撮像を実施する際の累積被爆量Ｈが個々の製品基板毎に演算されるので、例えば、再検査や、抜き打ち検査が生じて、被爆量が製品基板毎に異なるような事態が生じても、各製品基板が上限値を超えて被爆しないように管理することができる。 （もっと読む）

【課題】線質の異なるＸ線が検出段階で干渉することを防止することができるＸ線異物検出装置を提供すること。
【解決手段】被検査物Ｗを搬送路上で搬送する搬送部２と、搬送路上を搬送される被検査物に複数本のＸ線を照射するＸ線発生器９と、Ｘ線発生器９から照射され被検査物Ｗを透過するＸ線に応じた検出データを出力するＸ線検出器１０と、Ｘ線発生器９とＸ線検出器１０との間に配置されて回転軸周りに高速回転し、Ｘ線を遮蔽する遮蔽部７１とＸ線を透過する透過部７２とが回転方向に交互に設けられ、回転軸を中心に高速回転することでＸ線発生器９からの複数本のＸ線を時間分離し、該複数本のＸ線の何れかを順次透過する回転板７０と、Ｘ線検出器１０の出力する検出データに基づいて被検査物Ｗ中の異物の有無を判定する判定部４８と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】複数のＸ線を被検査体に照射するとともに、複数のＸ線の検出側でのタイミングの制御を容易にすること。
【解決手段】単一のマイクロ波源２と、マイクロ波源２が発生するマイクロ波を複数に分配する分配手段３と、分配手段３により分配された各マイクロ波を導入し各電子ビームを異なる速度に加速させて異なる波長の各Ｘ線を発生させ、所定速度で搬送される被検査体Ｐの搬送方向での異なる位置に対して各Ｘ線を照射させる各Ｘ線発生手段４と、被検査体Ｐを透過した各Ｘ線を検出し、当該各Ｘ線に基づく各Ｘ線画像を得る各Ｘ線検出手段５と、各Ｘ線検出手段５によって得た各Ｘ線画像を記憶するとともに、被検査体Ｐが搬送される所定速度に基づいて、被検査体Ｐの同一箇所を透過した各Ｘ線による各同断面Ｘ線画像を抽出する画像処理手段６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】被検体の断層画像を求めるために必要となる撮像条件の数を抑えて、被検体の被曝負荷を軽減する。
【解決手段】検査対象範囲ＴＲの一部の領域ＴＲa、ＴＲwについては、被検体を構成する各部材（基板Ｗ、電子部品ＥＰ）の配置を示す部材配置情報から推定することとし、透過像の撮像結果から断層画像情報を求める領域を領域ＴＲa、ＴＲw以外の領域に限定する。つまり、撮像条件は、検査対象範囲ＴＲのうち領域ＴＲa、ＴＲwを除いた領域の断層画像情報を求めるために必要となるものについて設定され、こうして設定された各撮像条件で透過像が撮像される。その結果、撮像条件の数を抑えて、被検体の被曝負荷を軽減することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】異物を精度良く識別する最適な画像処理アルゴリズムの設定操作を容易に行うことができるＸ線検査装置を提供すること。
【解決手段】画像処理アルゴリズムを予め複数記憶する情報蓄積部４７と、被検査物Ｗ中から検出する異物について、主に検出すべき異物の成分を含む異物検出能力を表す異物検出特性を選択する設定操作部４５と、設定操作部４５で選択された異物検出特性に近似する少なくとも１つの画像処理アルゴリズムを情報蓄積部４７から抽出する制御部４６と、制御部４６により抽出された画像処理アルゴリズムを所定形式で表示する表示部５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】輝度ムラを低減して、被検体のハンドリングが容易なＸ線断層撮像装置を提供すること。
【解決手段】
プリント基板５１にＸ線を照射するＸ線照射器２、３とプリント基板５１を透過したＸ線を検出するＦＰＤ５、６とで構成される複数組の照射ユニット７、８と、各照射ユニット７，８の各Ｘ線照射器２、３とＦＰＤ５，６との間にプリント基板５１を平行移動させる搬送器４と、少なくとも１つの照射ユニット８のＸ線中心軸がプリント基板５１の搬送方向に傾斜しており、少なくとも１つの他の照射ユニット７のＸ線中心軸がプリント基板５１の搬送方向の逆方向に傾斜している。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線分析を行うのに好適なＸ線分析装置及びＸ線分析方法を提供する。
【解決手段】照射Ｘ線用の開口部３６と参照Ｘ線用の孔３８とが形成されたマスク１８と、供試体２０を支持する支持部１９と、マスクを介して供試体にＸ線を照射することにより得られるホログラム像を取得する２次元Ｘ線検出器２２とを有し、マスクと支持部とが相対的に移動自在である。 （もっと読む）

【課題】２層塗工において基材側に形成される層の塗布状態を検査することができる塗工装置、塗工方法、電池の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様は、搬送される銅泊３０に対しダイ１０からバインダ液３２と負極ペースト３６を排出してバインダ層３４に重ねて負極ペースト層３８を形成する塗工装置１において、ダイ１０におけるバインダ液３２が排出される第１排出口２２を形成する中仕切部１８の内部にバインダ層３４を検査する検査機構１２が設けられていること、を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】画素毎に、検出素子の個体差を考慮した校正を施す。
【解決手段】格子状に等間隔に配列された複数の検出素子６１を有し、各検出素子６１が検出した被写体としてのプリント基板Ｗの画像を画素毎に分解して出力する撮像ユニット２０、４０を備えている装置に適用される。個々の画素の個体差を表す個体差ファクタα、βを記憶し、記憶された個体差ファクタα、βに基づいて、当該検出素子６１毎に線形な校正値を出力し、前記検出値校正処理部２２５が演算した校正値Ｉχｃに基づいて、画素毎に目標物理量としての輝度値Ｂや材料厚さχを演算する。 （もっと読む）

【課題】画像合成時の画像上の被検査物の位置ズレを低減し、異物検出能力の低減を防ぐことができるＸ線異物検出装置を提供すること。
【解決手段】搬送路上を搬送される被検査物Ｗに互いに異なる強度のＸ線を照射するＸ線管１２ａ、１２ｂと、被検査物Ｗの搬送方向に配置され、異物判定に必要な解像度より高解像度であるとともにＸ線管１２ａ、１２ｂから照射され被検査物Ｗを透過するＸ線に応じた画像データをそれぞれ出力するＸ線ラインセンサ５０、６０と、Ｘ線ラインセンサ５０、６０からの画像データを合成して被検査物Ｗに対応する１つの画像データとして出力する画像合成部４４と、画像合成部４４からの画像データの画像サイズを縮小する画像縮小部４６と、画像縮小部４６が出力する画像データに基づいて被検査物Ｗ中の異物の有無を判定する判定部４８と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＢによる切り出しの際の欠陥箇所の特定をより容易に行うことができる欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】半導体ウエハ１１に荷電粒子線６を照射して走査し、荷電粒子線６の照射により半導体ウエハ１１から得られる二次荷電粒子９を検出して、走査情報と二次荷電粒子９の検出信号に基づいて得られた検査エリアの検出画像と参照エリアの検出画像とを比較し、両者の差分を閾値と比較して欠陥候補を検出する。欠陥候補の位置情報を含む欠陥情報は、半導体ウエハ１１上に形成された繰り返しパターンのそれぞれに設定された座標領域の原点に対する、繰り返しパターン内に予め定められた特徴点の相対位置と、特徴点に対する欠陥候補の相対位置とを含むように生成する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線検査を効率的に実施することができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】対象物に欠陥を意図的に発生させたり、全ての検査位置（観察ポイント）に欠陥を持つ対象物を準備しなくとも、従来では固定であった基準画像に替えて、当該基準画像よりも後に得られるＸ線画像を新たに基準画像としてステップＳ１０で置き換えることで、必要最小限の構成により、基準画像としてより適切なＸ線画像が得られた段階で基準画像のデータを改善して、Ｘ線検査を効率的に実施することができる。さらに、好ましくは、評価値として欠陥度合い（気泡の面積比率等）を採用し、ステップＳ４，Ｓ７で画像を当該評価値として数値化することによりＸ線画像を評価し、評価値に最も近い画像を基準画像として置き換えることで、基準画像を自動的に置き換えることができる。 （もっと読む）

【課題】視差の影響を最小にする。
【解決手段】システム（１０）は、焦点スポット（１５）から対象（２２）へ向けてＸ線のコーン・ビーム（１６）を投射するように配置されたＸ線投射線源（１４）と、回転式ガントリ（１２）に配置されて、対象（２２）によって減弱されたＸ線を受光する検出器モジュール（２０）とを含んでいる。検出器モジュール（２２）の各々が、焦点スポット（１５）に対して変化する角度に配向されるように構築された複数の面（５８）を形成されて含む上面（５６）を有するモジュール・フレーム（５２）と、複数の面（５８）に配置されて、対象（２３）によって減弱されたＸ線を受光してＸ線（１６）を電気信号へ変換する複数のサブモジュール（６０）とを含んでおり、各々のサブモジュール（６０）は、当該サブモジュール（６０）が装着されているそれぞれの面（５８）に基づいて焦点スポット（１５）に対して一つの角度で配向されている。 （もっと読む）