【課題】基板装置表面のパターン欠陥の致命度をより信頼度高く判定する。
【解決手段】データ処理部１０は、欠陥レビュー部１２を介して基板装置のパターン欠陥を含んだレビュー画像を取得し（レビュー画像取得部１０４）、そのレビュー画像と欠陥のない参照画像とを比較することにより欠陥画像を抽出するとともに、前記レビュー画像とそのレビュー画像に対応する領域の同じレイヤの設計データから生成した自レイヤ設計パターン画像との位置合わせを行う（画像位置合わせ部１０５）。そして、その位置合わせの結果に基づき、前記レビュー画像に対応する領域の他のレイヤの設計データから他レイヤ設計パターン画像を生成し、前記欠陥画像と他レイヤ設計パターン画像との合成画像に基づき、前記欠陥と他レイヤのパターンとの相対位置関係を求め、その相対位置関係に基づき致命度を判定する（致命度判定部１０６）。 （もっと読む）

【課題】
光検査装置において、検出する光が微弱な場合に問題となる量子ノイズの影響を抑制する。
【解決手段】
光検査装置を、試料に光を照射する光照射手段と、参照光を発射する参照光手段と、光照射手段により光が照射された試料からの透過光または散乱光または反射光と、参照光手段から発射された参照光とを干渉させて干渉光を生成する光干渉手段と、光干渉手段により生成した干渉光を検出する光検出手段と、光検出手段により干渉光を検出して得られた検出信号に基づいて欠陥の有無を識別する欠陥識別手段と、試料からの透過光または散乱光または反射光の状態または参照光手段から発射された参照光の状態または光干渉手段により生成した干渉光の状態のうち少なくとも一つを変換する光変換手段とを備えて構成した。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査装置のレシピで設定するセル領域の設定を自動化する方法を提供する。
【解決手段】CellMatAreaの区別をCellMatAreaと非CellMatAreaのGrayLevelの分布特徴の差を用いてイメージをスキャンして、その結果からCellMatAreaと非CellMatAreaを分ける方法を取った。具体的にはCellMatの始点と終点を区別するための基準になる閾値をMemoryCellだけあるAreaで計算した後、その閾値を適用して始点と終点を探してそのそれぞれを繋げてCellAreaを作成した。 （もっと読む）

【目的】より高精度に光軸調整がなされたレーザ光で検査可能なパターン検査装置を提供する。
【構成】パターン検査装置１００は第１から第４象限の面で独立に受光するフォトダイオードアレイ２１２が受光したレーザ光の光量を用いて、レーザ光と供に発生するノイズ成分光の発生方向を特定するノイズ方向特定回路１２８と、レーザ光の光量を用いて、ノイズ成分光の光量を演算するノイズ光量演算回路１３０と、ノイズ成分光の発生方向の重心値の絶対値がノイズ成分光の光量をレーザ光の総光量で除した値になり、ノイズ成分光の発生方向と直交する方向の重心値が０になるように、ミラー２０２，２０４の反射面の位置を制御するミラー制御部１２１，１２２と、光軸が調整されたレーザ光を用いて、被検査試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得部１５０と、参照画像を入力し、光学画像と参照画像とを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】試料表面の面粗さや正常な回路パターンからの散乱光の影響を抑制し、かつ、欠陥や異物からの散乱光の利得を高くして、高感度に試料表面の欠陥等を検出することが可能な欠陥検査装置を実現する。
【解決手段】ＮＡ値が大きいレンズを使用するとレンズ外径は１０ａとなり斜方光学系とウエハとの角度はα１である。ウエハ表面粗さや酸化膜下の面粗さ、回路パターンからの散乱光を低減して、欠陥散乱光を多く検出するために斜方検出系の仰角を下げると仰角α２＜α１となるがレンズの外径１０ｂはレンズ外径１０ａより小となり散乱光の集光能力が低下する。集光能力を向上するためレンズ径を広げた１０ｃとするとレンズとウエハ７とが干渉を起こす。干渉部分を削除したレンズの創作により低仰角α２を保持してレンズの開口寸法を１０ｂより大とすることができ欠陥検出能力の向上とレンズ性能の向上が同時に成立する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の課題は、異なった素材による中空糸膜を用いた場合、白色の原料または透明度の高い原料のいずれの原料を使用した場合でも、リング型照明の射出角度および位置を任意に切り替えることで、高精度に糸乱れ欠点の検査を行うことができる中空糸膜モジュールの検査装置を提供することである。
【解決手段】
中空糸膜モジュールへ光を照射する射出角度の異なる２つの照射口を持つリング型照明と、前記リング型照明の前記２つの照射口にそれぞれ接続される２つの照明光源と、前記照明光源の動作を制御する照明切り替え手段と、前記リング型照明の内側に前記中空糸膜モジュールを所定の挿入幅にて調節しつつ挿入させる移動手段と、光が照射された前記中空糸膜モジュールからの散乱光を受光する撮像手段と、前記撮像手段で得られた画像を処理する欠陥判別手段と、前記モジュールを搬送させる手段とを有する中空糸膜モジュール検査装置。 （もっと読む）

【課題】炭化珪素基板又は炭化珪素基板に形成されたエピタキシャル層に存在する欠陥を検出し、検出された欠陥を分類する検査装置を実現する。
【解決手段】本発明では、微分干渉光学系を含む走査装置を用いて、炭化珪素基板の表面又はエピタキシャル層の表面を走査する。炭化珪素基板からの反射光はリニアイメージセンサ（２３）により受光され、その出力信号は信号処理装置（１１）に供給する。信号処理装置は、炭化珪素基板表面の微分干渉画像を形成する２次元画像生成手段（３２）を有する。基板表面の微分干渉画像は欠陥検出手段（３４）に供給されて欠陥が検出される。検出された欠陥の画像は、欠陥分類手段（３６）に供給され、欠陥画像の形状及び輝度分布に基づいて欠陥が分類される。欠陥分類手段は、特有の形状を有する欠陥像を識別する第１の分類手段（５０）と、点状の低輝度欠陥像や明暗輝度の欠陥像を識別する第２の分類手段（５１）とを有する。 （もっと読む）

【課題】微小な表面欠陥を検査する表面検査装置に対して適切な校正を行うべく、信頼性の高い性能評価を行うことができる表面検査装置の評価装置及び表面検査装置の評価方法を提供する。
【解決手段】校正装置３０は、表面検査装置１０のリング照明１１及びカメラ１３を検査時の相対位置関係を保ったまま後退させて検査面１ａから離反させ、そこに校正板４０を配置する。このとき、校正板４０からリング照明１１までの距離を、検査時における検査面１ａからリング照明１１までの距離と同じにする。また、校正板４０には、検査対象の微小表面欠陥と同等レベルの穴４１を形成しておく。この状態で、カメラ１３によって校正板４０の表面画像を撮像し、検査時と同様の画像処理を行って、校正板４０の穴４１を適切に検査できているか否かを確認することで、表面検査装置１０の検査性能を評価する。 （もっと読む）

【課題】枚葉シートに切り取られたフィルムの外観検査を容易にし、検査精度を向上することが可能となる検査装置を提供する。
【解決手段】被検査対象の枚葉フィルムが巻き取られた段取り用ローラーと、段取り用ローラーに巻かれた枚葉フィルムの巻き出し方向に対向する２辺をそれぞれ挟み搬送する２本のフィルム挟み込みローラーと、フィルムの搬送をサポートする２本のフィルムサポートローラーと、枚葉フィルムの検査面を照明する手段と、照明された枚葉フィルムを撮像する手段と、撮像された画像を処理し不良欠陥を検出する画像処理手段と、枚葉フィルムの搬送中の蛇行を検知する手段と、枚葉フィルムを洗浄する手段と、検出した欠陥を再度確認するため画像取得手段と、欠陥部分にマーキングする手段と、を備えた検査部と、前記２本のフィルム挟み込みローラーと２本のフィルムサポートローラーとを移動する手段と、を有する枚葉フィルム検査装置。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスの歩留まりに大きな影響を及ぼさない欠陥を排除し、それらに対処するために掛かっていた製造コストを削減する方法を提供する。
【解決手段】第１の検査対象物が欠陥を含むか否か検査するステップＳＴ１１Ａと、検出された欠陥を特長毎に分類し、欠陥の特長毎に欠陥の個数を算出するステップＳＴ１１Ｂと、ウェハ上の半導体デバイスの電気的特性を測定し、ウェハ上における半導体デバイスの不良マップを作成するステップＳＴ１２Ｂ，ＳＴ１２Ｃと、不良マップと検査対象物の欠陥の位置とを照合し、半導体デバイスの電気的不良確率を算出するステップＳＴ１３，ＳＴ１４と、電気的不良確率を用いて第２の検査対象物の使用の適否を判定するステップＳＴnとを含む。 （もっと読む）

【課題】過度の欠陥検出を抑制することにより、不必要な欠陥修正を低減することのできる検査装置および検査方法を提供する。
【解決手段】センサ１０６からマスク１０１の光学画像を取得するし、光学画像におけるパターンの寸法と、判定の基準となる基準画像におけるパターンの寸法とを測定し、これらから第１の誤差を求める。マスク１０１上の光学画像と基準画像について各転写像を推定し、これらの転写像におけるパターンの寸法を測定して第２の誤差を求める。各転写像を比較し、差異が閾値を超えた場合に欠陥と判定する。欠陥と判定された箇所における第２の誤差を第１の誤差で補正する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は集積回路、磁気ヘッド、磁気ディスク、太陽電池、光モジュール、発光ダイオード、液晶表示パネルなど基板上に発生した欠陥や異物の画像を撮像し、欠陥や異物を種類ごとに分類する欠陥分類装置において、撮像した画像に写っている欠陥の重要度を定量的に計算し、重要度の高い欠陥が写っている画像だけをデータベースに保存することで、ネットワーク負荷やデータベース負荷を低減する。
【解決手段】
本発明は、欠陥座標データを入力し、画像撮像プログラム５０１にて画像を撮像し、特徴量抽出プログラム５０２にて撮像した画像から欠陥の特徴量を抽出し、欠陥分類プログラム５０３にて欠陥を種類別に分類し、重要度予測プログラム５０４にて欠陥毎に重要度を計算し、画像選別プログラム５０６にて重要度に基づいて画像をデータベースに伝送するか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、チップ部品を装填するためにチップ部品位置決め用の撮像と、チップ部品の側面の割れなどの検査するためにチップ部品位置決め用の撮像とを同一ステーションで同一の撮像装置を行い、スループットの高いテーピング装置及びテーピング方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、キャリアテープの各収納溝内に吸着装填ノズルによりチップ部品を順次装填し、カバーテープで当該収納溝の開口部を閉塞するテーピング装置またはテーピング方法において、前記吸着装填ノズルにより吸着保持された状態のチップ部品の底面と側面を異なる位置で同一の撮像カメラで撮像し、前記側面の撮像結果に基づいて前記側面を検査し、前記底面の撮像結果に基づいて前記チップ部品を前記収納溝に装填する位置決めすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パターンの形成状態を高コントラストで検査可能にする。
【解決手段】カラーフィルタ基板４上に線状に形成されたシールライン５の形成状態を検査するパターン検査装置であって、シールライン５を撮影する検査カメラ２と、検査カメラ２の撮影領域を照明する照明光学系３と、を備え、照明光学系３によりカラーフィルタ基板４に照射される照明光の光線の光軸Ｌ_axに対する最大角度θ₁が検査カメラ２の画角θ₂の半角θ₂／２に略等しくなるようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】
欠陥の種類を正確に判別することができる欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】
被検査体を撮像して得られる画像データに基づいて欠陥を検査する方法であって、
被検査体に対して複数の種粳の画像データを取り込み、
これら複数の種類の画像データのそれぞれについて欠陥の検出を行い、
１つの欠陥に対して欠陥を検出した画像データの組み合わせに応じて、その欠陥の種類を判別することを特徴とする、欠陥検査方法。 （もっと読む）

【課題】検査データと組み合わせて設計データを使用するためのさまざまな方法及びシステムが実現される。
【解決手段】設計データ空間における検査データの位置を決定するための一コンピュータ実施方法は、ウェハ上のアライメント部位に対する検査システムにより取り込まれたデータを所定のアライメント部位に対するデータにアラインさせることを含む。この方法は、さらに、設計データ空間における所定のアライメント部位の位置に基づいて設計データ空間におけるウェハ上のアライメント部位の位置を決定することを含む。それに加えて、この方法は、設計データ空間におけるウェハ上のアライメント部位の位置に基づいて設計データ空間における検査システムによりそのウェハについて取り込まれた検査データの位置を決定することを含む。一実施形態では、検査データの位置は、サブピクセル精度で決定される。 （もっと読む）

【課題】一様に連続している背景模様が存在する場合であっても、ゴミ、傷、汚れ等の欠陥を正しく検出することができる欠陥検出装置、欠陥検出方法及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】検出対象の欠陥のサイズを設定して記憶し、背景模様が一様に連続している第一の方向の指定を受け付けて記憶する。記憶された欠陥のサイズに応じた画像縮小率で、記憶された第一の方向へ縮小した縮小画像を生成する。縮小画像に対して縮小画像における欠陥を除去するためのフィルタ処理を第一の方向に実行し、フィルタ処理が実行された縮小画像を、画像縮小率の逆数に相当する画像拡大率で第一の方向へ拡大した第一の拡大画像を生成する。多値画像と第一の拡大画像との差分演算を実行した差分画像を生成する。 （もっと読む）

【課題】検査対象領域を撮像して取得した多値画像の明暗が変化した場合であっても、非検出対象物であるノイズを効果的に除去し、検出対象物であるブロブ（集合体）状の傷、汚れ等の欠陥の有無、大きさ、形状等を検査する画像検査装置、画像検査方法、及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】検査対象領域の多値画像を取得し、取得した多値画像の濃度情報に基づいて基準濃度値を算出する。多値画像の各画素の濃度値と算出した基準濃度値との差分を画素ごとに算出し、基準濃度値の変化に追従して変化するように基準濃度値に対して相対的に閾値を設定して記憶する。算出した差分が閾値より大きい複数の画素を抽出し、抽出された複数の画素の輝度値の連結性に基づいて画素の集合体を特定し、特定された画素の集合体に対して、差分を用いた特徴量を算出する。算出した特徴量に基づいて、特定された画素の集合体の欠陥を判別する。 （もっと読む）

【課題】製造ライン上を搬送される基板の搬送速度の変化に対応してリアルタイムに位置ズレ誤差を補正できるようにする。
【解決手段】インライン基板検査方法は、上流ラインから下流ラインヘ基板を移動させながら、移動中の基板と直交する方向へ投光系及び受光系からなる光学系を移動させて検査光を照射すると共に基板からの反射光又は散乱光又は透過光を受光し、受光した基板からの反射光又は散乱光又は透過光に基づいて基板の欠陥を検出するものであり、この検査時に基板の移動速度を検出し、検出された移動速度に基づいて基板の欠陥検出位置を補正するようにした。 （もっと読む）

【課題】大型ガラス基板に各種画面サイズのカラーフィルタが面付けされ、面付け余白が生じて基板端から表示領域を画定する額縁部近傍までの幅においてフォトレジストが塗布されていない基板に対しても、外観上の広域欠陥の検査を正常に行える機構を有した塗布膜の検査装置を提供する。
【解決手段】被検査体の基板を披検査体テーブルの支持ピン上に保持した状態で、基板流動方向に走査可能に移動する検査位置に対して真下の位置に配置された透過光源部から検査光を当て、被検査体を透過した透過光を、透過光源部と同じ方向に一体的に移動する検査位置に対して真上の位置に配置された撮像カメラで受光してその輝度変化を検出する塗布膜の検査装置において、前記被検査体テーブルの基板流動方向の両端部に外乱光遮断用のシャッターが設けられ、該シャッターが両端部から前記被検査体の基板の内側にむけてその遮光領域を可変に制御する機構を具備している。 （もっと読む）