【課題】観察箇所が表面から１０μｍ以上深い領域に一つ以上ある試料に対して、安価に簡易な工程でＴＥＭ観察用として良好な薄膜試料とすることができる透過型電子顕微鏡観察用薄膜試料の作製方法の提供
【解決手段】表面から１０μｍ以上の深さの内部に観察箇所を含む試料１から微小試料片を摘出しＴＥＭ観察用試料台に接着させる微小試料片１の摘出、固定工程と該微小試料片の表面に垂直な方向の集束イオンビーム照射加工によってＴＥＭ観察用薄膜試料として加工する薄膜化工程とを有するＴＥＭ観察用薄膜試料の作製方法において、前記摘出工程の前に、前記試料１の観察箇所の上層部２を斜め上方表面からの集束イオンビーム照射加工７によって１０μｍ以下の厚さに削る斜め切削工程を挿入する透過型電子顕微鏡観察用薄膜試料の作製方法とする。 （もっと読む）

【課題】対象試料から薄片試料を切り出した後に、正確に対象断面に仕上げ加工を行うことが可能な薄片試料作製方法を提供する。
【解決手段】薄片試料作製方法は、対象試料の対象断面を含む位置に荷電粒子ビームを照射して、対象試料Ａに対象断面を含む薄片部を形成する薄片部形成工程Ｓ２と、細長な保持手段の先端によって薄片部を保持して薄片試料として対象試料から取り出す試料取り出し工程Ｓ３と、保持手段を軸回りに回転させることで、取り出した薄片試料を反転させる試料反転工程Ｓ４と反転した薄片試料の一部を、薄片試料を固定するための固定台に予め形成した薄片試料の側面を支持する挿入溝に挿入した後に、薄片試料と固定台とを少なくとも一箇所で接合させる試料固定工程と、固定台に固定された薄片試料の対象断面を含む面に荷電粒子ビームを照射する仕上げ工程Ｓ７とを備える。 （もっと読む）

【課題】断面加工方法および装置において、断面加工の加工効率を向上することができるようにする。
【解決手段】観察目標断面２、または観察目標断面２を含む観察領域で、試料１の断面観察を行うために、試料１に対して順次除去加工を施すことによって破断位置を移動させて破断面１ｃを形成していく断面加工方法であって、観察目標断面２の近傍において破断面１ｃが形成可能な範囲に、除去加工によって破断可能、かつ破断面１ｃ内で破断形状が識別可能となるマーク部４Ａ、４Ｂを形成するマーク部形成工程と、このマーク部形成工程で形成されたマーク部４Ａ、４Ｂを含む範囲で、試料１およびマーク部４Ａ、４Ｂに対して除去加工を施して、破断面１ｃを形成する断面形成工程と、この該断面形成工程で形成中または形成後の試料１の断面の観察像を取得する観察像取得工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム照射で変質しやすい試料を、操作性やスループットを損なわずに正確にイオンビームエッチング加工する手段を提供する。
【解決手段】 イオンビーム鏡筒１と電子ビーム鏡筒２を有し、イオンビームによるエッチング加工中の試料の状態を電子ビームによる観察あるいは計測可能な装置において、第一に加工部分全体を含む電子ビームによる二次信号による観察像を取得し、第二に前記観察像の中で照射可能領域７と照射禁止領域８を設定し、第三に前記照射可能領域７のみに電子ビーム照射を制限する。 （もっと読む）

【課題】従来の１個の試料を搭載固定した試料台を有する透過電子顕微鏡用試料の作製方法と比べて、作製時間とＴＥＭによる観察時間が大幅に短縮することができる透過電子顕微鏡用試料の作製方法の提供。
【解決手段】イオンビームの光軸に対して垂直な面内を回転する機構を有するホルダー上の試料台に最大４個まで微小試料を搭載し、各微小試料は隣の微小試料とは９０度以上の角度になるように離すように固定することを特徴とする透過電子顕微鏡用薄片試料の作製方法及び最大４個まで使用される微小試料が、隣の微小試料とは９０度以上の角度になるように離すように搭載固定されている保持台並びに該保持台を有することを特徴とする透過電子顕微鏡観察用薄片試料ホルダーにて提供。 （もっと読む）

【課題】集束イオンビームを用いたマイクロサンプリングにおいて、試料加工の妨げとなる、スパッタリングされた物質の試料表面への付着を防止する試料の作製方法を提供する。
【解決手段】試料片１２の一方の側方に試料基板１０と接続した支持部２５を残し、他方の側方である側方側領域２７、前方側領域２１、及び後方側領域２３を掘り下げ加工する。具体的には、抽出すべき試料片１２の周囲を、前方側領域２１において、表面２６から６５°〜９０°の傾斜角で試料片１２から離れた位置から試料片１２へ向かって深くなるように、かつ試料片１２に隣接する前方側隣接領域２１ａを、試料片１２の高さの１．２〜１．５倍の深さに掘り下げる。 （もっと読む）

【課題】本発明は試料断面作製装置の遮蔽材保持機構に関し、試料に熱が伝わらないようにした試料断面作製装置の遮蔽材保持機構を提供することを目的としている。
【解決手段】イオンビームにより試料１をエッチングして試料観察面を作製するようにした試料作製装置に用いられる遮蔽材保持機構であって、試料表面にイオンビームが照射されることを遮蔽する遮蔽材を用いる遮蔽材保持機構において、試料１の上に載置され、試料１を直接遮蔽する遮蔽板３と、該遮蔽板３の上に該遮蔽板３を覆うように配置された遮蔽ブロック５と、を設けて構成される。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高精度なエッチングが可能な加工試料の加工装置および薄膜試料の生産方法の提供。
【解決手段】ホルダ５０と、イオン銃２０と、電子銃１０とを備える。ホルダ５０は、互いに略平行な表面および裏面を有すると共に、表面および裏面の距離として厚さが定義される加工試料を把持する。また、イオン銃２０は、アルゴンイオンを放出し、ホルダ５０に把持された加工試料の裏面に、アルゴンイオンを照射する。そして、電子銃１０は、電子を放出し、ホルダ５０に把持された加工試料の表面に電子を照射するように構成される。また、マイコン３０は、電流検出器４０が測定した透過電子の電流密度を基にして、イオン銃２０が放出するアルゴンイオンの電流密度を制御する。 （もっと読む）

【課題】高分子材料や有機材料等の熱に弱い材料の断面を、イオンビームの熱による影響を抑制し、かつ、短時間で加工可能な集束イオンビームによる高分子材料加工方法及び装置を実現する。
【解決手段】試料７から微小試料片を大電流イオンビームにより切り出す前に、微小試料１８に熱影響を与えない小電流イオンビーム１６により微小試料１８の周囲に熱伝達抑制用の溝１９を形成し、その後、形成した溝１９の外周を大電流イオンビームにより微小試料片を切り出す。試料に熱影響を与えない小電流イオンビームにより微小試料片１８を切り出すことも考えられるが、微小試料片１８を切り出すまでに長時間を要する。試料７に熱影響を与えない小電流イオンビーム１６による溝１９の形成加工は、試料片の切り出し加工より短時間で終了可能である。 （もっと読む）

【課題】短時間で観察箇所を平面的に薄膜化したＴＥＭ用平面試料を作製すること。
【解決手段】基板１からマーク２ｂ（観察箇所）を含むとともに柱状になっている試料２を切り出す。その後、試料２を９０度回転する。その後、試料２のマーク２ｂが配された面の反対側の裏面とダミー基板９の側端面とを接着する。その後、試料２のマーク２ｂが配された面から所定の厚さを残すようにして、試料２の側端面から所定の深さで、試料２とダミー基板９との接着面と平行に試料２の裏面側の部分を切削することで、試料２に突出部２ｅを形成する。その後、試料２をダミー基板９から分離する。その後、試料２の突出部２ｅがキャリア６の端面からはみ出すようにして、試料２をキャリア６に接着する。その後、試料２の突出部２ｅの端面の法線方向から収束イオンビーム４を照射して観察箇所を平面的に薄膜化することによって薄膜加工面２ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】微小試料台の個片化作業が容易な微小試料台集合体を提供すること。
【解決手段】シリコンウエハには、複数本の梁部３０が平行して配列され、各梁部３０の側面には、所定間隔で接続部２０を介して微小試料台１０が一つずつ保持されている。微小試料台１０は、接続部２０を折るようにして梁部３０から分離することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は試料断面作製装置の試料遮蔽機構に関し、熱に弱い試料でも正確な試料断面を作製することができる試料断面作製装置の試料遮蔽機構を提供することを目的としている。
【解決手段】イオンビームを用いて試料に断面を形成する試料断面作製装置に用いる試料遮蔽機構であって、イオンビームを遮蔽する第１の遮蔽手段３と、該第１の遮蔽手段３と接着され、その下部面に試料１が密着される第２の遮蔽手段４を設け、前記第１の遮蔽手段３と第２の遮蔽手段４との間に熱を遮断するための熱遮断手段５を設けて構成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は試料作製装置の遮蔽材保持機構に関し、遮蔽材に遮蔽材保持部の熱ドリフトが伝達されないようにした試料作製装置の遮蔽材保持機構を提供することを目的としている。
【解決手段】イオンビームにより試料をエッチングして試料観察面を作製するようにした試料作製装置に用いられる遮蔽材保持機構において、遮蔽材保持部５の先端部に設けられた第１の永久磁石６と、該遮蔽材保持部５の下方に配置された遮蔽材７と、該遮蔽材７の下方に設けられたその内部に試料１を保持する試料ホルダー２と、該試料ホルダー２に取り付けられた、その磁力をレバー３によりオン／オフできる第２の永久磁石と、を有し、前記第２の永久磁石をオフにすると、前記遮蔽材７は前記第１の永久磁石６により遮蔽材保持部５に吸着され、該第２の永久磁石をオンにすると、前記遮蔽材７は前記試料ホルダー２に吸着されるように構成される。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビーム・システムを用いて欠陥を観察するための方法および装置を提供すること。
【解決手段】不正確に発見された欠陥が、一連のスライスをミリングし、軽い優先的エッチングを行って、類似する二次電子放出特性を有する材料間の形状的界面を提供することによって画像化される。スライスは小さな欠陥を補足するのに十分小さいものであるが、再堆積の問題を克服するには十分に大きいものである。 （もっと読む）

【課題】透過電子顕微鏡用試料作製方法の生産性を向上させる。
【解決手段】透過電子顕微鏡で観察可能な略平面状の仕上げ面Ｗｂ１と、微小ピンセット５０によって仕上げ面に触れることなく把持可能な把持部Ｗｂ２とを有する透過電子顕微鏡用試料片Ｗｂを作製する方法であって、試料本体Ｗａから、試料本体と連結部で連結された該試料片を、荷電粒子ビームで切り出す第１の工程と、第１の工程で切り出した該試料片の仕上げ面を微小ピンセットで覆い隠しながら、該試料片の把持部を微小ピンセットで把持する第２の工程と、第２の工程において微小ピンセットで把持した該試料片を、該試料片の把持状態を維持しながら荷電粒子ビームで連結部を切断することによって試料本体から切り離す第３の工程と、第３の工程で切り離した該試料片を、微小ピンセットで試料ホルダに搬送して固定する第４の工程とを備えることを特徴とする透過電子顕微鏡用試料作製方法を提供すること。 （もっと読む）

【課題】透過電子顕微鏡用試料の作製において、荷電粒子ビームによって加工して作製した薄片試料を試料ホルダに固定する際に、デポジションを用いないようにすることにより生産性を向上させる。
【解決手段】荷電粒子ビームによって加工して作製した薄片試料Ｗ１を、保持部材５０により保持して凹状の嵌合部Ｈ１ａを有する試料ホルダＨ１に固定する方法であって、試料ホルダの嵌合部と嵌合可能な被嵌合部Ｗ１ａを有する薄片試料を荷電粒子ビームによって加工して作製する薄片試料作製工程と、該薄片試料作製工程で作製した薄片試料を保持部材によって保持する薄片試料保持工程と、該薄片試料保持工程で保持した薄片試料を試料ホルダに対して位置決めし、薄片試料の被嵌合部を試料ホルダの嵌合部に嵌合する薄片試料嵌合工程とを備えることを特徴とする透過電子顕微鏡用試料作製方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】従来の冷却技術の欠点を解消する。
【解決手段】サンプル１の冷却に適した超急速冷凍装置１００は、基板チップ１０と、少なくとも一のサンプル担持体２０と、を備える。基板チップ１０は、サンプル１の冷却に適している。少なくとも一のサンプル担持体２０は、サンプル１の収容に適していると共に少なくとも一の加熱可能支持体２１を備える。少なくとも一のサンプル担持体２０は、基板チップ１０に少なくとも一の加熱可能支持体２１を通じて取り付けられている。好ましくは、少なくとも一のサンプル担持体２０は、懸架状態で基板チップ１０に取り付けられている。さらに、サンプル１を超急速冷凍する方法が記載される。少なくとも一のサンプル担持体２０を、基板チップ１０に対して温度勾配が形成される加熱状態と、基板チップ１０に対して熱平衡が形成される冷却状態との間で切り替え可能である。 （もっと読む）

【課題】本発明は試料作製方法及びシステムに関し、集束イオンビーム装置と走査電子顕微鏡を利用することによる、ＦＩＢ装置の時間効率を改善することを目的としている。
【解決手段】集束イオンビーム装置１０内にイオンビーム照射により薄膜試料を作製する加工手段を設け、走査電子顕微鏡２０内には前記試料を前記集束イオンビーム装置１０から試料ホルダ１２ごと移し替えたものに、ガスを噴射させるガス供給手段２２と、プローブ２４を有するマニピュレータ２３とを設け、前記プローブ２４を試料に接触させた状態で前記ガス供給手段２２よりガスを噴射させつつ、試料に電子ビームを照射することにより、前記プローブ２４に試料を接着させるように構成される。 （もっと読む）

【課題】 簡便に試料小片の姿勢を９０度、１８０度、あるいは任意の角度だけ回転させて試料台に固定可能な装置を提供すること。
【解決手段】 試料７の表面とマニピュレータ回転軸２の交点を一端とする試料表面に垂直な線分をマニピュレータ回転軸２の周りに回転して得られる円錐側面と、試料表面の２つの面によってつくられる交線１１に、試料小片の特定の方向を一致させた後、試料小片をマニピュレータで支持し、マニピュレータ回転軸２を動作させることを特徴とする試料作成装置。 （もっと読む）

【課題】表面からは見ることのできない試料内部の要観察部位に位置を合わせて断面を作成できる試料作製装置を提供する。
【解決手段】試料Ｓについて、試料内部に存在する波線で囲まれた要観察部位Ｚの中央を通る平面ＡＡで切断し試料断面Ｓ２を得たい場合、遮蔽板４３のエッジが試料Ｓ上で平面ＡＡの位置に来るように遮蔽板を位置合わせする。遮蔽板４３は矢印４７で示す方向に移動可能であり、試料Ｓ上方の撮像素子３６で撮像しモニタ３７上に映し出されるＸ線顕微鏡像中の遮蔽板の影を観察することにより位置が視認でき、オペレータはＸ線顕微鏡像中の試料Ｓの要観察部位と遮蔽板４３の重なり具合を見ながら、矢印２７方向に遮蔽板４３を調整する。 （もっと読む）