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Fターム[3C058CB03]の内容

仕上研磨、刃砥ぎ、特定研削機構による研削 (42,632) | 課題(一般) (10,402) | 作業能率向上、自動化 (2,592)

Fターム[3C058CB03]に分類される特許

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【課題】省スペース、生産性の向上、合わせて設備費用の低減に寄与する研磨システムを提供する。
【解決手段】ワーク一括搬送装置60がワークを研磨装置10へローディングする時に、ワーク給排装置30がローディング用テーブル305を上昇させて研磨装置用ガイド部20とローディング用ガイド部304とを隣接させることでワーク一括搬送装置60がこれらガイド部を移動できる状態とし、ワーク搬送装置60がローディング用テーブル305上の全てのワークを一括して保持して研磨装置10のワークキャリアへ搬送するようにして、ローディング時間を大幅に短縮した研磨システム1とした。 (もっと読む)


【課題】パーティクル数及びHaze値が小さいシリコンウエハを得ることが可能なシリコンウエハ用研磨液組成物を提供できる。
【解決手段】シリカ粒子(成分A)と、水系媒体(成分B)と、水溶性アルカリ化合物(成分C)と、R1−Gyで表されるアルキルポリグリコシド(成分D)と、カチオン化ポリビニルアルコール(PVA)(成分E)とを含み、成分Eは、−CH2−CH(OH)−で表される構成単位(e2)、−CH2−CH(OCOR2)−で表される構成単位(e3)、―X―で表される構成単位(e4)を含み、構成単位(e4)のモル濃度がカチオン化PVAの全構成単位中0.001〜1.5モル%であり、成分Dの含有量が0.0015重量%以下、前記成分Dと前記成分Aの重量%の比(成分Dの重量%/成分Aの重量%)が0.0001〜0.008、25℃におけるpHが8〜12である、シリコンウエハ用研磨液組成物。 (もっと読む)


【課題】耐熱性・耐水性に優れた研磨パッドを提供する。また、耐熱性・耐水性に優れるため、局所的な平坦化性能が高く、研磨レートが高く、かつ研磨レートの変動が小さい研磨パッドを提供する。
【解決手段】ポリオールとイソシアネートからなるポリウレタンを用いた研磨パッドであって、ポリオールがエチレングリコールユニットと少なくとも1種類の側鎖を有するグリコールユニットを含み、かつ、ポリオール中のエチレングリコールユニットがポリオール全重量の0.1重量%〜10重量%であるポリウレタンを用いた研磨パッド。 (もっと読む)


【課題】円環部材の内周面に形成された対数クラウニング面に対し、軸方向に均一な仕上げ加工を短時間で施すことができる超仕上げ加工装置、超仕上げ加工方法、及び当該超仕上げ加工方法によって超仕上げ加工された軌道面を有する軸受の外輪を提供する。
【解決手段】超仕上げ加工装置1は、加圧部30に保持された砥石3を、対数クラウニング面の母線に接する面Bに沿って、外輪10の中心軸Oに対して一定の角度φだけ傾斜した方向Cに往復直線運動させる往復直線運動機構40を備える。 (もっと読む)


【課題】貴金属の研磨に適した研磨用組成物及びその用途を提供する。
【解決手段】本発明は、導体層と前記導体層と接する導電性物質層を有する研磨対象物を研磨する用途で使用される研磨用組成物であって、常温の研磨用組成物中で電位計の正極側を導電性物質に接続し、且つ負極側を導体に接続した条件において、導電性物質と導体を研磨したときに正極側から負極側へ流れる電流の値が、正の値(ゼロを含む。)を示すことを特徴とする研磨用組成物を提供する。さらには、研磨用組成物は、導体及び導電性物質との間に流れる電流値を正の値(ゼロを含む。)にする添加剤を含有することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】利き手が何れであってもホースを握り込むことにならず、而も作業の邪魔になることなく電動工具に装着可能とする。
【解決手段】サンダ1に装着される集塵アタッチメント20は、出力軸の突出部位で前ハウジング3に装着される吸込部21と、その吸込部21に前端が接続される可撓性ホース23と、その可撓性ホース23の後端に接続される排出部22と、モータハウジング2と排出部22とに跨って配設され、排出部22をモータハウジング2の軸周りの任意の位相で装着可能とする付け替え部材30と、を含んでなる。 (もっと読む)


【課題】研磨パッドやスラリーの冷却、及び研磨パッド表面のドレッシングを効率良く行う。
【解決手段】本実施形態によれば、研磨方法は、回転させた研磨パッド13に、回転させた基板を押し当て、研磨パッド13上にスラリーを供給する工程と、研磨パッド13の表面温度を測定する工程と、前記表面温度が所定温度以上になった場合に、研磨パッド13に向かって、狭窄部を有するノズル15から過冷却液滴を含むジェット流を噴出させる工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】配線金属の表面における傷や腐食が生じにくく、層間絶縁膜及びバリヤ膜上の配線金属残りが生じにくく、しかも、充分な研磨速度を確保でき、ディッシングやエロージョンを防止して高い平坦性が得られる研磨組成物を提供する。
【解決手段】銅又は銅合金を研磨するための研磨組成物であって、(A)酸化剤と、(B)アミノ酸、炭素数8以下のカルボン酸、無機酸の中から選ばれる少なくとも1種以上の酸と、(C)アルキル基が炭素数8以上であるスルホン酸と、(D)アルキル基が炭素数8以上である脂肪酸と、(E)0.005〜3質量%のN−ビニルイミダゾールとを含有する研磨組成物。 (もっと読む)


【課題】ステンレス形鋼の表面疵の除去作業を、安価、効率的に実施する。
【解決手段】ステンレスH形鋼2を搬送するテーブル1の側方に配置されてステンレスH形鋼2のフランジ2bに発生した疵を除去する装置である。外周面11aを側面11bに対して傾斜形成した円板状回転砥石11及びこの回転砥石11の駆動用モータ12と、回転砥石11の外周面11aを前記搬送されるステンレスH形鋼2のフランジ2bに押し付けるエアーシリンダ13を備える。外周面11aを側面11bに対して傾斜形成した回転砥石11を、テーブルに載置されて搬送されるステンレスH形鋼2のフランジ2bに押し付けつつ回転させてステンレスH形鋼2のフランジ2bに発生した疵を除去する。
【効果】研削幅が大きいので、効率的に表面疵の除去が可能となり、生産能力も大幅に向上する。また、大径の砥石を使用できるので、作業の効率化が図れる。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性を有する被研磨物保持材を提供すること。また、化学的機械研磨加工に使用されて使用済みとなった被研磨物保持材を使用前の形態に復元してリサイクルすることが可能な被研磨物保持材を提供すること。
【解決手段】上記課題は、本発明の繊維強化樹脂層と、前記繊維強化樹脂層の少なくとも一方の面に熱硬化性樹脂組成物から構成される熱硬化性樹脂層とを有する被研磨物保持材であって、前記熱硬化性樹脂層が、以下の(A)〜(F)の条件における研磨速度が35μm/h以下であることを特徴とする被研磨物保持材により達成される。
(A)面圧:700gf/cm2(B)テーブル回転数:40rpm(C)チャック回転数:40rpm(D)研磨液:粒径70nm以上、pH12、固形分濃度:5%のコロイダルシリカ(E)研磨液流量:150ml/min(F)研磨時間:60min。 (もっと読む)


【課題】基板を研磨するためのケミカルメカニカルポリッシング組成物濃縮物の複数の希釈液を用いる、窒化ケイ素上に堆積したポリシリコンのオーバーバーデンを有する基板のケミカルメカニカルポリッシングのための方法
【解決手段】基板を研磨するために使用される濃縮物の第1の希釈液は、第1のポリシリコン除去速度及び第1のポリシリコン対窒化ケイ素除去速度選択比を示すように調整され;基板を研磨するために使用される濃縮物の第2の希釈液は、第2のポリシリコン除去速度及び第2のポリシリコン対窒化ケイ素除去速度選択比を示すように調整される方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】 連続通気型ポリウレタンシートに熱硬化性ポリウレタン発泡体を塗付して加熱発泡させることにより、これらを、接着剤を用いて貼着するという煩わしい工程を経ることなく、軽くて扱い易い低密度、低硬度のポリウレタンフォームからなるバッキング材を迅速、安価に提供可能にする。
【解決手段】 長孔が2.0μm以下の微細な開孔を有し、厚みが5μm以上100μm以下であり、密度が840kg/m以上1210kg/m以下の連続通気型発泡ポリウレタンシートであって、その一面側に熱硬化性ポリウレタン発泡体が熱溶着されて一体に形成されており、研磨対象物を保持するための定盤には前記熱硬化性ポリウレタン発泡体の他面側を固着させ、連続通気型発泡ポリウレタンシートの他面側を研摩対象物に当接させることを特徴とする (もっと読む)


【課題】ホーニング加工で孔の内周面をテーパ形状に精度よく仕上げると共に上記内周面にクロスハッチ状の加工痕を高精度に形成し、かつ当該仕上げ加工を効率よく短時間で実施する。
【解決手段】ワークとなる孔2の内周に配置したホーニングヘッド11を回転させつつ孔2の軸方向一方に沿って移動させるときのみ、砥石14を外径側に移動させて孔2の内周面3に所定の圧力で押し当てることで研削を行うと共に、上記押し当て動作を伴う研削をホーニングヘッド11の回転方向を切替えて繰り返す。また、ホーニングヘッド11の軸方向一方への移動を伴う研削が終了した際、ホーニングヘッド11の回転駆動を切断すると共に、砥石14による内周面3の研削が進行しない程度の押し当て状態(押し当て圧P’)を維持することで、惰性回転中のホーニングヘッド11を制動する。 (もっと読む)


【課題】管の表面の酸化被膜等を除去するときの作業効率を向上させ、ボイラ等の製造に要する時間を短縮する。
【解決手段】基台2と、管100の直径より狭いギャップにて水平配列されると共に、管100を下方から支える2本のフリーローラ3と、回転自在な円板状の砥石5cを備える研磨機5と、研磨機5が固定されると共に、研磨機5が管100の周面と当接される当接位置と研磨機5が管100の周面から離間される離間位置との間で移動されるように基台2に対して傾動自在に接続される研磨機固定部4とを備える。 (もっと読む)


【課題】キャリアの厚さの経時変化に影響されず、ウェーハの平坦度を安定的に改善できる両面研磨方法を提供することを目的とする。
【解決手段】キャリアに保持されるウェーハを研磨布が貼付された上下の定盤で挟み込み、キャリアを自転及び公転させ、研磨剤を供給しながらウェーハの両面を同時に研磨するウェーハの両面研磨において、高研磨レートで研磨する第1の研磨工程と、次に低研磨レートで研磨する第2の研磨工程とを有する両面研磨方法であって、研磨後にウェーハの平坦度を測定する工程と、平坦度の測定結果に基づいて次回研磨時の第2の研磨工程の研磨条件を設定する工程とを含むことを特徴とする両面研磨方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、生産性を損なうことなく、基板の表面粗さ(中心線平均粗さ)、スクラッチ数、及びパーティクル数の低減が可能な研磨液組成物、及びこれを用いた基板の製造方法、並びに、基板の研磨方法を提供する。
【解決手段】本発明の研磨液組成物は、平均粒子径が45nm以下のコロイダルシリカ粒子(A成分)と、シクロデキストリン骨格を有する化合物(B成分)50〜2000ppmと、重量平均分子量Mwが50000以下の、アニオン性基を有する水溶性高分子(C成分)120〜1000ppmと、水(D成分)とを含み、25℃におけるpHが1.8以下である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、被研磨材の研磨に際し、適切に研磨することができ、利き腕に応じて使用することのできるハンド用のディスクグラインダー及びハンド用のディスクグラインダーを用いた被研磨材の研磨方法を提供することを課題とする。
【解決手段】一端側に回転駆動し、研磨用ディスクを取り付ける駆動軸の設けられたグラインダー本体と、研磨用ディスクの外周に沿って前記グラインダー本体に取り付けられたカバーフレームから構成されたハンド用のディスクグラインダーにおいて、前記駆動軸は正転又は逆転駆動に切り替えでき、且つ前記カバーフレームは駆動軸の回転方向に応じて所望量研磨用ディスクに沿って円弧状に回動した位置でグラインダー本体に固定できる。 (もっと読む)


【課題】装置が大型化せず、作業性を向上させるとともに装置の重心を安定させることが可能であるダイシング装置、ダイシング装置ユニット、及びダイシング方法を提供すること。
【解決手段】X移動軸4と、X移動軸4と垂直に交差するY移動軸5とが平面視方形に形成されたダイシング装置1の方形匡体2の対角線上に配置され、且つ、ダイシング装置1の略中央部にワーク切断加工部9が配設されているとともに、X移動軸4が配置された一端側にワーク交換部13が設けられ、X移動軸4のワーク切断加工部9を挟んでワーク交換部13と反対側には、ワークWの切断時にブレード21の回転に伴って飛散する廃液又はミストを排出する排出口11及び排気口12を有する排出機構8が設けられる。 (もっと読む)


【課題】ワイヤソーによるワークの切断において、カーフロスを低減するために砥粒番手#2000よりも小さい砥粒径の砥粒を用いる場合においても、砥粒濃度の低下による切断能力の低下、ひいては切断品質の悪化や生産性の低下によるコスト増加を抑制できるスラリー及びこのスラリーの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ローラーミル、又はボールミルで粉砕された砥粒の一部又は全てをジェットミルで再度粉砕することによって前記砥粒の平均円形度を0.900以上にし、該平均円形度が0.900以上の砥粒とクーラントとを混合して前記スラリーを製造することを特徴とするスラリーの製造方法及び、スラリーに混合された砥粒の平均円形度が0.900以上であることを特徴とするスラリー。 (もっと読む)


【課題】ウエハソーイングシステムおよびウエハソーイングシステム内でインゴットを鋸で切る方法を提供すること。
【解決手段】システムは、インゴット入力モジュール、インゴット出力モジュール、2つ以上のワイヤソーイングチャンバであって、それぞれが2つのワイヤガイドシリンダ、ワイヤガイドシリンダの両方にわたって配設される少なくとも1つのワイヤ、単一のインゴットを受けるように構成される支持テーブル、および支持テーブル上に配設される単一のインゴットを少なくとも1つのワイヤに対して付勢するように構成されるインゴット位置決めシステムを備えるワイヤソーイングチャンバ、ならびにインゴット入力モジュール、2つ以上のワイヤソーイングチャンバのうちの少なくとも1つ、およびインゴット出力チャンバの間で単一のインゴットを移送するように構成されるロボットを含む。 (もっと読む)


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