【課題】画素内への過電流の流入を抑止しつつ画素間の輝度バラツキを大幅に低減するとともに、生産性に優れた表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】複数の発光画素９５が配置されている表示装置１００であって、基板１０と、基板１０上に形成された第１電極２０と、第１電極２０と電気絶縁されて形成された補助配線３０と、第１電極２０上に形成され、電流に応じて発光する発光部９０と、少なくとも発光部９０の上面に形成された第２電極８０と、第２電極８０と補助配線３０の上面の一部とを電気的に接続する電子輸送層７０とを備え、発光部９０は、少なくとも電子輸送層７０を含む。 （もっと読む）

【課題】バンクの端部で生じ得る浮きや剥れを低減し、かつ製造が容易な有機ＥＬ装置を提供する。
【解決手段】基板１０と、基板１０上に設けられ、下部電極２３と、発光層を含む有機ＥＬ層２４と、上部電極２５と、からなる有機ＥＬ素子部２０と、有機ＥＬ素子部２０を画素単位で区画するバンク３０と、から構成され、下部電極２３が、下地層２１と、被覆層２２とをこの順で有し、下地層２１の端部がバンク３０に覆われており、バンク３０の端部が被服層２２に覆われており、バンク３０上に第一補助配線２６が設けられており、第一補助配線２６が、被覆層２２と同一の薄膜層から加工されてなる部材であって、かつ被覆層２２と絶縁していることを特徴とする、有機ＥＬ装置１。 （もっと読む）

【課題】高い開口率を有し、安定した電気的特性を有する薄膜トランジスタを有する、信頼性のよい表示装置を作製し、提供することを課題の一とする。
【解決手段】チャネル形成領域を含む半導体層を酸化物半導体膜とする薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、酸化物半導体膜の純度を高め、不純物である水分などを低減する加熱処理（脱水化または脱水素化のための加熱処理）を行う。また、ゲート電極層、ソース電極層、及びドレイン電極層を透光性の導電膜を用いて作製し、開口率を向上させる。 （もっと読む）

【課題】輝度むらを軽減できるとともに、光の取出し効率の低下を抑制できる面状発光ユニット及び面状発光装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、透光性の基板２と、この基板２上に形成され、全体が略四角形状をなし、その対角線上の線分で分割され、２つの略三角形状をなす透光性の第１の電極層３と、この第１の電極層３より抵抗値が小さく、前記三角形状の各辺に沿うように設けられた補助電極７と、前記第１の電極層３上に形成され、第１の電極層３と同様に略四角形状をなす有機ＥＬ発光層４と、この有機ＥＬ発光層４上に形成された第２の電極層５とを備える面状発光ユニット１である。 （もっと読む）

【課題】発光層を塗布法によって形成する際に所定のインキを拭き取る工程が省略可能で、発光面積の大きい構成であって、さらに光の取り出し効率の高い直列接続型の有機ＥＬ素子を備える照明装置を提供する。
【解決手段】支持基板と、所定の配列方向に沿って支持基板上に設けられ、直列接続される複数の有機ＥＬ素子とを備える発光装置であって、各有機ＥＬ素子の発光層は、複数の有機ＥＬ素子に跨って、所定の配列方向に沿って延伸しており、一対の電極はそれぞれ、支持基板の厚み方向および配列方向のいずれにも垂直な幅方向に、発光層から突出するように延伸する延伸部を有し、一方の電極は、配列方向に隣り合う有機ＥＬ素子の他方の電極にまで延伸部から配列方向に延伸し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有し、一対の電極のうちのいずれかは、光透過性を示す電極であり、該電極の屈折率が１．５〜１．８であることを特徴とする発光装置。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ素子のフレキシブル性などの特性の低下を抑制しつつ、有機ＥＬ素子の面内における輝度のバラツキを抑制することができる有機ＥＬ装置を提供すること。
【解決手段】 第１基板２と、アノード電極９、アノード電極９に対向配置されたカソード電極１０、およびアノード電極９とカソード電極１０との間に介在された有機化合物層１１を有し、第１基板２上に設けられた有機ＥＬ素子５と、第１基板２上に設けられ、有機ＥＬ素子５を覆うことにより有機ＥＬ素子５を封止する導電封止層６とを含む有機ＥＬ装置１において、導電封止層６を、アノード電極９およびカソード電極１０の少なくとも一方に電気的に接続する。 （もっと読む）

薄膜光電気装置が開示され、
−第１バリア層構造（２０）及び第２バリア層構造（４０）の間に囲まれた機能的層構造（３０）を備え、
−該装置は、オープンな、電気的に相互接続された導電性構造（１０）を有し、それは第１バリア層構造（２０）内に埋め込まれ、それは該バリア層構造（２０）内に横方向に延在する金属の少なくとも１つの細長のエレメント（１２ａ，１２ｂ，１２ｃ）を備え、そしてそれは機能層構造（３０）に接触して配置されるものを有し、その電気的に相互接続された導電性構造（１０）は、横方向に面する、第１バリア層（２０）中に埋め込まれて、処理された表面を有する。
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【課題】
【解決手段】封止光電子デバイスは、第１のバリア層と、第１のバリア層と結合するように構成され、共に側面を画成する基板及びエレクトロルミネセンス素子を備えるエレクトロルミネセンスデバイスであって、前記エレクトロルミネセンス素子が、基板上に配設された第１の電極と、第２の電極と、それらの間に配設された光電活性層とを備えている、エレクトロルミネセンスデバイスと、エレクトロルミネセンスデバイスと結合するように構成された第２のバリア層と、第１のバリア層と第２のバリア層の間に配置されてそれらと接触し、少なくともエレクトロルミネセンスデバイスの側面と結合してエレクトロルミネセンスデバイスを第１のバリア層と第２のバリア層の間に封止するように構成された接着剤と、第１のバリア層上に設けられ、第１のバリア層と第２のバリア層の間に位置する第１の導電領域であって、第１の電極と電気的に結合し、第２の電極及び第２の導電領域から電気的に絶縁されている第１の導電領域と、第１のバリア層上に設けられ、第１のバリア層と第２のバリア層の間に位置する第２の導電領域であって、第２の電極と電気的に結合し、第１の電極及び第１の導電領域から電気的に絶縁されている第２の導電領域とを含む。封止光電子デバイスの製造方法も提供する。 （もっと読む）

【課題】発光装置の高精細化が進んでも、対向電極の電位降下に起因する輝度の勾配が視
認されてしまうのを防ぐことが出来、なおかつ工程数を増やさずに補助電極を形成する。
【解決手段】基板上に第１の絶縁膜を形成し、前記第１の絶縁膜上に第１の電極及び補助
電極をそれぞれ形成し、前記第１の電極の端部及び前記補助電極の端部を覆うように第２
の絶縁膜を形成し、前記第２の絶縁膜において、前記第１の電極を露出させる第１の開口
部、及び前記補助電極を露出させる第２の開口部を形成し、前記第１の開口部において前
記第１の電極と電気的に接続される電界発光層を形成し、前記電界発光層と重なり、かつ
前記第２の開口部において前記補助電極と電気的に接続される第２の電極を形成する。 （もっと読む）

光電気装置の製造方法が開示されており、当該方法は、基板（１０）を用意し、基板の第１の主面に電気的に相互接続された開放分流構造（２０）を載せ、電気的に相互接続された開放分流構造を透明層（３０）中に埋め込み、基板を電気的に相互接続された開放分流構造から除去し、基板の除去後、形成された自由表面（３１）の上に機能層構造（４０）を堆積する。 （もっと読む）

本発明は、透明基材、および前記透明基材の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターンを含む伝導体であって、前記透明基材の全体面積の３０％以上が、前記電気伝導性パターンと交差する直線を描いた時、前記直線と前記電気伝導性パターンの隣接する交点間の距離の平均値に対する標準偏差の比率（距離分布比率）が２％以上である電気伝導性パターンを有することを特徴とする伝導体およびその製造方法を提供する。また、本発明は、透明基材、および前記透明基材の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターンを含む伝導体であって、前記透明基材の全体面積の３０％以上が、分布が連続的な閉鎖図形からなり、前記閉鎖図形の面積の平均値に対する標準偏差の比率（面積分布比率）が２％以上である電気伝導性パターンを有することを特徴とする伝導体およびその製造方法を提供する。
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【課題】 明るく信頼性の高い発光装置を提供する。
【解決手段】 反射電極１０１上に陽極１０２、ＥＬ層１０３、陰極１０４及び補助電極１０５を順次積層する。また、陽極１０２、陰極１０４及び補助電極１０５は可視光に対して透明もしくは半透明である。このような構造では、ＥＬ層１０３で発生した光は殆どすべてが陰極１０４側に放射されるため、画素の有効発光面積が大幅に向上する。また、陰極１０４と対向基板との間に吸湿性を有する物質を設けることで、混入した水、酸素、ガスを吸着させる。 （もっと読む）

第１の非オーバラップピクセルグループ及び第２の非オーバラップピクセルグループ、第１と第２のピクセルグループとの間に位置するガターを含む表示エリアを有する基板であって、該ガターは、第１及び第２のピクセルグループを分離する第１の方向の寸法を有し、各ピクセルグループは、各ピクセルが３つ以上の異なって着色されたサブピクセルを有する複数のピクセルを含み、各ピクセルグループ内のピクセルのピクセル中心は、第１の方向に平行な１次元を有する規則的な２次元アレイで配列され、ピクセルグループ内のピクセルは、第１の方向にピクセル間分離だけ分離される、基板と、ガター内に配列された１つ又は複数の電気要素であって、各サブピクセルは、１つ又は複数の電気要素のうちの１つに接続され、ガター寸法は、表示される画像内のアーティファクトが低減されるように、ピクセル間分離より大きい、電気要素とを備える、ディスプレイ。 （もっと読む）

【課題】発光層を塗布法によって形成する際に所定のインキを拭き取る工程が省略可能で、発光面積の大きい構成の直列接続型の有機ＥＬ素子を備える照明装置を提供する。
【解決手段】支持基板と、前記支持基板上に設けられ、直列接続される複数の有機ＥＬ素子とを備える発光装置であって、各有機ＥＬ素子はそれぞれ、一対の電極と、該電極間に設けられる発光層とを備え、前記発光層は、前記複数の有機ＥＬ素子に跨って、前記所定の配列方向に沿って延伸しており、前記一対の電極はそれぞれ、前記支持基板の厚み方向一方から見て、前記支持基板の厚み方向および前記配列方向に垂直な幅方向に、発光層から突出するように延伸する延伸部を有し、前記一対の電極のうちの一方の電極は、前記配列方向に隣り合う有機ＥＬ素子の他方の電極にまで前記延伸部から前記配列方向に延伸し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有することを特徴とする発光装置。 （もっと読む）

【課題】凹凸部に導電性材料を斜め蒸着することによりパターニングなしで、部分的に補助電極層を形成可能であり、高透明性と高導電性を両立することができ、発光素子に用いると光取り出し効率の向上を図れる透明導電体、及び該透明導電体を効率よく製造することができる透明導電体の製造方法の提供。
【解決手段】基材の一の表面に、該表面を基準として複数の凸部が配列されたことによって形成された凹凸部と、前記凹凸部の少なくとも斜面部分に形成された導電性材料からなる補助電極層と、前記凹凸部及び前記補助電極層の表面に形成された透明導電層とを有する透明導電体である。 （もっと読む）

本開示は、エレクトロルミネセント素子のコストを削減し、効率を向上させるための方法および材料を提供する。本開示はまた、そのような方法によって調製される、エレクトロルミネセント素子を提供する。一実施形態では、例えば、２つの金属電極と、エレクトロルミネセント層と、光学／絶縁層と、伝導性層とを備え、それらはすべて、透明基板上に配置される、エレクトロルミネセント素子を調製するための方法が提供される。電極の一方は、パターン化され、光学／絶縁層は、パターン化された電極と伝導性層との間の伝導を可能にするビアを備える。
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【課題】発光層を有する基板へ給電するための補助電極を備えた照明用有機ＥＬパネルにおいて、補助電極により基板を損傷することなく挟持できるようにする。
【解決手段】ＥＬパネル１は、発光層６が設けられる基板２と、発光層６を封止する封止部３と、基板２に配置された素子電極４と、素子電極４に当接して外部から電力を供給する補助電極５とを備える。補助電極５は、基板２および素子電極４とそれぞれ当接する第１当接部５１および第２当接部５２とを備えた矩形の金属板からなる。素子電極４が配置された基板２は第１当接部と第２当接部間に挿入され、基板２と第１当接部５１間に、基板２への第１当接部５１からの応力印加を抑制するための保護部材８が配設される。これにより、基板２への第１当接部５１からの応力印加を抑制することができ、補助電極５により基板２を損傷することなく挟持することができる。 （もっと読む）

【課題】多大なコストをかけずに隔壁上方の所定位置に補助配線層を効率よく形成することのできる有機ＥＬ装置の製造方法、および有機ＥＬ装置を提供すること。
【解決手段】有機ＥＬ装置の補助配線層を形成する工程では、転写材１において導電層１１が形成されている側を、基板１２０において隔壁１１６が形成されている面側に圧接させた後、基板１２０から基材１０を引き離す。その結果、基板１２０側において隔壁１１６に起因する凸部上に導電層１１が自己整合的に転写され、補助配線層１２が形成される。 （もっと読む）

【課題】開口率を向上する。
【解決手段】発光領域には共通電極（陰極）７２と陽極７６との間に発光機能層７４を有する発光素子７０を備えた複数の画素回路Ｐが格子状に配置される。発光領域の対向する２辺にそって、第１接続電極３００と第２接続電極４００とが設けられる。複数の第１補助電極３０ａと複数の第２補助電極４０ａとが全ての行間に設ける。但し、第１補助電極３０ａと第２補助電極４０ａとは分離部によって分離されている。 （もっと読む）

−第1の電極(22)と第2の電極(32)との間に光電活性材料の層(10)を設けるステップ(S1)と、−パターン化電気絶縁層構造(60)を前記電極の少なくとも1つ(32)に設けるステップであって、パターン化電気絶縁層構造(60)が開口部(62)を有するステップ(S2)と、−前記開口部(62)に電解液(70)を提供するステップ(S3)と、−金属層を前記開口部に電解液から電気めっきにより堆積させるステップ(S4)とを含む、光電デバイスを製造するための方法であって、電解液(70)がイオン液体により形成されることを特徴とする方法が説明される。
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