【課題】基板処理のスループットを向上させると共に、基板と塗布膜の密着性を向上することができる基板の処理方法及び基板の処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハＷの表面に形成された密着膜の少なくとも一部の表面に形成された塗布膜に、凹凸パターンが設けられた転写面を備えるテンプレートの転写面を転写するインプリント処理に供するウエハの処理方法であって、ウエハを回転させながら、ウエハの表面に密着剤を供給する供給工程（ステップＳ−５）と、ウエハを回転させながら、ウエハの表面に気体を供給して、余剰な密着剤を除去する除去工程（ステップＳ−７）を具備する。 （もっと読む）

【課題】被処理体の一面側の洗浄領域に洗浄液を局所的に供給して、被処理体の側面や他面側への洗浄液の回り込みを防止できる洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】被処理体であるテンプレートＴの転写パターン（洗浄領域）を当該転写パターンが下方に向くように保持機構４により吸着保持する。前記転写パターンを含み、テンプレートＴの外縁よりも内方側の領域との間に洗浄液を満たして通流させるための通流空間を液収容部３１により形成し、前記通流空間に液収容部３１の底面に形成された第１の開口部３１ａからリンス液を供給し、前記転写パターンを囲むように液収容部３１と転写パターン２外側領域との間に形成された隙間３０を介して排液部３２に排液する。リンス液は液収容部３１内を通流するので、洗浄領域に局所的に供給され、テンプレートＴの側面や他面側への洗浄液の回り込みを抑えながら洗浄処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントにおいて、モールドの耐久性を向上させる。
【解決手段】微細な凹凸パターン１３を表面に有するモールド本体１２と、この表面に形成された離型層１４とを備えたナノインプリント用のモールド１において、離型層１４が、主鎖を構成する原子数が２０未満である短鎖離型剤２０と、主鎖を構成する原子数が２０以上である長鎖離型剤２２とを含むものとする。 （もっと読む）

【課題】硬化膜の表面ラフネスが改善されたインプリント用硬化性組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）重合性化合物、（Ｂ）重合開始剤および（Ｃ）非重合性化合物を含有するインプリント用硬化性組成物であって、前記非重合性化合物（Ｃ）として、（Ｃ１）フッ素原子を２０質量％以上含有する少なくとも１種の界面活性剤、および（Ｃ２）フッ素原子を３質量％以上２０質量％未満および／またはケイ素原子を５質量％以上４０質量％未満含有し、かつ重量平均分子量（Ｍｗ）が１０００〜１０００００である少なくとも１種の重合体を含有するインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】パターン形状を良好に保ちつつ、モールドの表面に形成された凹凸パターンの凹部サイズよりもパターンサイズの小さい金属膜パターン付き基体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る金属膜パターン２１の製造方法は、金属膜２０、金属膜２０上に光反応性接着層３０、熱可塑性樹脂からなる疎水性高分子を主成分とするレジスト膜４０がこの順に成膜され、モールド５０の凹凸パターンをレジスト膜４０に転写することによりレジスト膜パターン４１を形成する。次いで、残渣処理後にレジスト膜パターン４１を用いて、露出した金属膜２０をウェットエッチングして金属膜パターンを形成する。そして、金属膜パターンのサイドエッチングを行うことによりモールド５０の凹部のサイズよりも縮小されたパターンサイズの金属膜パターン２１を得る。 （もっと読む）

【課題】パターン欠陥の発生を抑えるのに有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】このインプリント装置１は、基板１０上の未硬化樹脂１６を型６により成形して硬化させて、基板１０上に硬化した樹脂１６のパターンを形成する。ここで、インプリント装置１は、型６を引き付けて保持する保持機構１１を有する型保持部３と、基板１０を保持する基板保持部４と、保持機構１１に保持された状態の型６を、該型６に接する空間１３の圧力を調整することで基板１０に向かい凸形に変形させる圧力調整部１５と、凸形に変形した型６と、樹脂１６との引き離し動作中に、型６の姿勢を変化させることで型６と樹脂１６とが接触する接触領域２４の位置を移動可能とする駆動部１８と、接触領域２４の状態を示す画像情報を取得する測定部２３と、画像情報に基づいて駆動部１８の動作を制御する制御部５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの長寿命化を図りつつ欠陥の少ない高スループットなパターン転写を行うことができるインプリント方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のインプリント方法では、基板上の被加工膜上にレジスト層を成膜する。そして、テンプレートを前記基板に押し当てる際にテンプレートパターンよりも外側の領域であるパターン外側領域が近接してくる前記基板上の位置に、レジスト液滴を滴下する。その後、前記レジスト層に前記テンプレートを近づけていき、前記レジスト液滴に前記パターン外側領域を押し当てるとともに、前記テンプレートパターンの凹部と前記レジスト層とが接触することなく前記テンプレートパターンの凹部と前記レジスト層との間の間隙が所定の距離となるまで前記テンプレートパターンの凸部を前記レジスト層内の途中深さまで刺し込み、その後、前記レジスト層を硬化させる。 （もっと読む）

【課題】アライメントが完了するまでの間、アライメントマークにレジストが入り込むことを防止できるインプリント方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のインプリント方法では、第１のアライメントマークを有した基板上にレジストを滴下する。そして、第２のアライメントマークを有したテンプレートのテンプレートパターンを前記レジストに押し当てながら、前記第１のアライメントマークと前記第２のアライメントマークとの間の位置合わせ処理を行う。このとき、前記第２のアライメントマーク内に前記レジストが充填されないよう前記第２のアライメントマーク近傍の光照射領域に前記レジストを硬化させる光を照射する。そして、前記位置合わせ処理した状態を維持しつつ前記テンプレートパターンおよび前記第２のアライメントマークに前記レジストを充填させ、その後、前記テンプレート上に前記光を照射する。 （もっと読む）

【課題】モールドを樹脂に押し付けたときの圧力によって凝縮する気体の樹脂に対する溶解量の不均一性を低減し、転写されるパターンの均一性の向上に有利な技術を提供する。
【解決手段】基板の上にモールドのパターンを転写するインプリント装置であって、前記基板の上に供給された樹脂に前記モールドを押し付けた状態で当該樹脂を硬化させ、硬化した樹脂から前記モールドを剥離することで前記基板の上に前記モールドのパターンを転写するインプリント処理を行う処理部を有し、前記樹脂には、フッ素化合物を含む気体又は液体が溶解されていることを特徴とするインプリント装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】量産性に優れ、微細パターンに欠陥が生じるのを抑制することのできるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本実施形態のパターン形成方法は、第１基板上に、凹凸パターンを有し第１被インプリント剤を含む材料からなるパターン膜を形成する工程と、第２基板上に、前記第１被インプリント剤よりもエッチングレートの高い第２被インプリント剤を含む材料膜を形成する工程と、前記パターン膜を前記材料膜に対向させて前記第１基板と前記第２基板間に圧力を印加するとともに、前記第２被インプリント剤を硬化させることにより前記パターン膜の前記凹凸パターンを、前記材料膜に転写する工程と、前記第１基板を前記パターン膜から剥離する工程と、前記材料膜をエッチングにより除去し、前記第２基板上に前記パターン膜を残す工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】基板外周部の非所望領域にレジストが拡がることを防止しながらインプリントすることができるインプリント方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のインプリント方法では、インプリントの際に基板上でレジストを進入させたくない最外周領域よりも内側のパターン形成領域に前記レジストを滴下する。そして、テンプレートのテンプレートパターンを前記基板上のレジストに押し当てることにより、前記テンプレートパターンに前記レジストを充填させる。前記最外周領域を含むインプリントショットに対してインプリントを行う場合、前記最外周領域と前記パターン形成領域との境界を含む所定幅の光照射領域に前記レジストを硬化させる光を照射して、前記最外周領域内に進入しようとするレジストを硬化させる。そして、前記テンプレートパターンに充填されたレジストを硬化させる光を前記テンプレート上に照射する。 （もっと読む）

【課題】光インプリント材料を提供すること。
【解決手段】下記式（１）及び／又は式（２）で表されるシリコーン骨格を有する化合物および光重合開始剤を含む光インプリント材料。


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【課題】モールド作製時の負担を軽減して、ナノインプリント技術の高スループット化および低コスト化を可能にする。
【解決手段】モールドを押し付けてパターニングした未効果のレジスト上に、再度（１回または複数回にわたり）モールドを押し付けることによってパターニングを行う。つまり、同一レジスト上でダブルパターニングを行う。レジストとしては、硬化前に２度以上のパターニングが可能なものを使用する。再度のパターニングは、最初のパターニングに使用したモールドを、位置を変えて（それまでにパターニングを施した範囲から完全には逸脱しない範囲で位置を変えて）使用するのがよい。 （もっと読む）

【課題】インプリント装置の精度を向上させることができるインプリントシステムおよびインプリントシステムのメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】機能性液体を吐出させるノズルが形成されたノズルプレート２３Ａを具備する液体吐出ヘッド２４と、基板と液体吐出ヘッド２４とを相対的に移動させる相対移動手段と、基板の機能性液体が着弾した面に対して、モールドの凹凸パターンを転写する転写手段と、モールドを機能性液体に接触した状態で、機能性液体を硬化させる硬化手段と、ノズルプレート２３Ａの温度を制御する第１の温度制御手段４４、４６と、液体吐出ヘッド２４のノズルプレート２３Ａ以外の少なくとも一面の温度を制御する第２の温度制御手段４２、４８と、を備えることを特徴とするインプリントシステム、および、インプリントシステムのメンテナンス方法である。 （もっと読む）

【課題】実施形態によれば、下地段差に起因するパターン加工不良を抑制できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、パターン形成方法は、被加工膜上に第１のインプリントレジストを形成し、第１のテンプレートの平坦面を第１のインプリントレジストの表面に接触させた状態で第１のインプリントレジストを硬化させ、第１のインプリントレジストの表面を平坦化する工程を備える。また、第１のインプリントレジストの平坦面上に形成された中間転写膜上に第２のインプリントレジストを形成し、第２のテンプレートの凹凸を第２のインプリントレジストに接触させた状態で第２のインプリントレジストを硬化させ、第２のインプリントレジストに凹凸パターンを形成する工程を備える。 （もっと読む）

【課題】機能性インクのロットにより粘度が異なる場合や、インクジェットヘッドを交換した場合であっても、基板間で膜厚を均一にする。
【解決手段】インクジェットヘッドのノズルから機能性インクをインク滴として吐出させ、前記インク滴を基板表面に離散的に配置する配置工程と、前記基板表面に配置されたインク滴にモールドを接触させることで、前記モールドと前記基板との間に前記機能性インクを充填させる接触工程と、前記充填された機能性インクを硬化させる硬化工程と、前記硬化した機能性インクから前記モールドを剥離する離型工程と、前記硬化した機能性インクの厚みを計測する計測工程と、前記計測した厚みに基づいて、前記ノズルからの吐出量を補正する補正工程と、を備えた機能性インク配置装置の吐出量補正方法によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】射出成形により微細構造パターンが表面に転写された成形品であって、微細凹凸の転写性に優れ、また寸法精度に優れた精密成形体を提供する。
【解決手段】下記（ｉ）〜（ｉｖ）を満たすプロピレン系樹脂を溶融して押出し、押出された樹脂を、表面に微細凹凸構造パターンを有する連続冷却装置を用いて固化させることにより微細凹凸構造パターンが表面に転写された成形体であって、前記微細凹凸構造パターンは、幅が０．０１〜１００μｍの範囲にあり、高さ又は深さが０．１〜５００μｍの範囲にある凸部及び／又は凹部から構成されていることを特徴とするプロピレン系樹脂成形体。
（ｉ）プロピレンと０．８〜１０重量％のエチレンとの共重合体である。
（ｉｉ）示差走査熱量測定（ＤＳＣ）による結晶化開始温度が１１１℃以下。
（ｉｉｉ）ＭＦＲが０．１〜３０ｇ／１０分。
（ｉｖ）曲げ弾性率が１１００ＭＰａ以下。 （もっと読む）

【課題】外部環境からの熱に起因した熱変形を低減するのに有利な型を提供する。
【解決手段】この型８は、被処理体１３に対して成形すべきパターンが形成されたパターン部８ａを有する。パターン部８ａが設置されている側の面は、パターン部８ａが配置された第１面と、パターン部８ａが配置されていない第２面８ｂとを含む。型８は、第２面８ｂの表面に、外部環境からの熱を拡散させる熱拡散膜４０（４２、４５）を有する。 （もっと読む）

【課題】高精度の微細パターンを有するインプリント用のパターンの形成方法およびテンプレートの製造方法を提供する。
【解決手段】基板３１にクロム薄膜４１を積層し、クロム薄膜４１上に重合性樹脂層３３を形成して、準備した透明のインプリント用テンプレート１０と石英基板３１上の重合性樹脂層３３とを重ね合わせて、インプリント用テンプレート１０のパターンである第１のパターン１３により重合性樹脂層３３を賦型し、重合性樹脂層３３に第１のパターンの逆型形状である凹凸で構成された第２のパターン４３を形成する。第２のパターン４３をマスクとして石英基板３１上に第３のパターン４５を形成する。第３のパターン４５をマスクとして基板３１の表面に凹凸で構成された第４のパターン４７を形成する。 （もっと読む）

【課題】高密度磁気記録を行うには、磁性体を充填する細孔を微細にする必要があり、その微細な加工を短時間で行い、製造コストの低減ならびにスループットの向上を図る。
【解決手段】加工速度が早い加工装置により、基板に比較的大きな凹パターンを形成した後、その凹パターン内に薄膜を形成することにより、微細で均一なパターンを低コストかつ高スループットのプロセスによって、形成できる。この基板内に磁性体を埋め込むことで、パターンドメディアが形成される。また、この基板をインプリントモールド原版またはインプリントモールドとして用いることにより、磁気特性に優れた磁性層を有するパターンドメディアの製造方法を提供する。 （もっと読む）