【課題】
本発明は、軽量で、高い性能指数を達成し得る熱電変換素子を得ることを目的とし、シリコンを主体とし、ストロンチウムをゲスト元素とするクラスレート化合物及び該クラスレート化合物よりなる熱電変換素子を提供する
【解決手段】
一般式（１）で表されるクラスレート化合物
【化５】


但し、ｘ、ｙは、正の数であり、１４＜ｘ＋ｙ＜１８、かつ−２＜ｙ−ｘ＜１０である。
及び該クラスレート化合物を含む熱電変換素子である。 （もっと読む）

本発明は、
（ａ）加水分解的な縮合によって形成され、大きさが５〜２０ｎｍの範囲の、第１の酸化物粒子、
（ｂ）直径が、８０〜３００ｎｍの範囲の第２の粒子、
（ｃ）加水分解的な縮合によって形成される酸化物粒子のための原料が溶解可能であり及びその加水分解及び縮合が許容され又は促進される第１の水性溶媒、
（ｄ）所定の定義を有するアルコール、エーテル、有機酸、エステル、ケトン、アミン、及び酸アミド、及びこれらの混合物から選ばれる、少なくとも１種の第２の溶媒、を含むことを特徴とする被覆材料に関する。
本発明は、更に、被覆物が施された基礎部、特に、光起電力−及び温水コレクターの分野に適切な、ガラスに関し、ここで上記被覆物は、少なくとも２種の粒子部分から構成され、第１の部分の粒子は、その直径範囲が５〜２０ｎｍであり、第２の部分の粒子の直径は、８０〜３００ｎｍの範囲であり、第２の部分の粒子は、該粒子のケーゲル（山状体、又はピン状体）からケーゲルまでを測定して、相互の平均間隔が、２０〜２００ｎｍの範囲であり、第１の部分の粒子は、所定の孔分布を有する孔を有し、その最大値が、１〜６ｎｍの範囲である。基礎部の被覆物は、上記被覆物材料を使用して製造される。 （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜としての使用に耐え得るような高品位の酸化膜を窒化物半導体の上に作成する。
【解決手段】本発明による酸化膜形成方法は、ＳｉＯｘ粉末を原料として用いる真空蒸発により、窒化物半導体部材の上にＳｉＯｘ膜を堆積する工程と、堆積された前記ＳｉＯｘ膜を、酸化雰囲気で紫外線を照射しながら加熱することによって酸化する工程と備えている。原料のＳｉＯｘ粉末は、下記特性を有している：（１）フーリエ変換赤外分光分析（ＦＴＩＲ：Fourier Transform Infrared Spectroscopy）によって得られた赤外吸収スペクトルにおいて、８８０ｃｍ^−１にピークが現れる。（２）ラマン分光分析によって得られたラマンスペクトルにおいて、４５０〜５５０ｃｍ^−１にピークが現れない。（３）Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳ：X-ray photoelectron spectroscopy）によって得られたＸＰＳスペクトルにおいて、ＳｉＯ_２のＳｉ−Ｏ結合に対応するピーク（約１０３ｅＶ）とＳｉの２ｐ軌道のＳｉ−Ｓｉ結合のピーク（約９９ｅＶ）とが現れ、且つ、Ｓｉ−Ｓｉ結合のピークの高さが、Ｓｉ−Ｏ結合のピークの高さの０．６倍以上である。 （もっと読む）

【課題】金属イオンの吸着に伴ってタンニンが酸化分解されても、吸着した金属を保持することができるタンニン含有多孔質体の提供。
【解決手段】タンニン含有多孔質体１は、多孔質基材３の内部に不溶性タンニン粒子５が固定された構造になっている。多孔質基材３は、不溶性タンニン粒子５を分散させた状態にあるシリカゾルをゲル化することによって形成されたものである。不溶性タンニン粒子５は、タンニン粉末にアルデヒド蒸気を吸着させることによって不溶化したものである。このようなタンニン含有多孔質体１に金属イオンを吸着させると、不溶性タンニン粒子５によって還元された金属が多孔質基材３の内部に閉じ込められ、金属イオンの吸着に伴ってタンニンが酸化分解されても、吸着した金属を多孔質基材３の内部に保持することができる。 （もっと読む）

【課題】金属イオンの吸着に伴ってタンニンが酸化分解されても、吸着した金属を保持することができ、製造時にアルデヒドを使用しなくても済むタンニン含有多孔質体の提供。
【解決手段】本発明のタンニン含有多孔質体は、アルコールまたはアルコール水溶液を溶媒として、この溶媒にタンニンを溶解してなるタンニン溶液を、細孔内表面に水酸基を有する多孔質基材に吸収させた後、加熱によって溶媒を除去することにより、タンニンと水酸基とを化学結合させたものである。このようなタンニン含有多孔質体に金属イオンを吸着させると、タンニンによって還元された金属が多孔質基材の細孔内に閉じ込められるので、金属イオンの吸着に伴ってタンニンが酸化分解されても、吸着した金属を多孔質基材の内部に保持することができる。 （もっと読む）

【課題】メソポーラスシリカの細孔組織にロジウムを均一に担持させたロジウム担持メソポーラスシリカを比較的温和な条件下での反応によって製造する方法を提供する。
【解決手段】珪酸ナトリウム水溶液をカチオン交換樹脂と接触させて活性シリカを調製する第１工程、次いで、上記活性シリカとカチオン界面活性剤とロジウム前駆体とをアルカリ性領域で、好ましくは、１００℃を超えて、２００℃以下の範囲の温度にて水熱反応させることによって、ロジウムを含有するシリカとカチオン界面活性剤との複合体を生成させる第２工程、上記複合体を焼成する第３工程をこの順序で行って、平均細孔径が１０〜１００オングストロームのメソポア組織を有すると共に、ＢＥＴ法による窒素吸着比表面積が５００ｍ²／ｇ以上であるメソポーラスシリカにロジウムが担持されてなるロジウム担持メソポーラスシリカを得る。 （もっと読む）

【課題】超疎水性のセルフクリーニング機能を備えた粉体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、超疎水性のセルフクリーニング機能を備えたナノ／ミクロン二元構造の粉体を開示する。前記粉体はミクロンスケールの粒径とナノスケールの表面粗さに特徴を持つ。一実施の形態において、その平均粒径は約１〜２５μｍ、平均粗さＲ_aは約３〜１００ｎｍである。前記ナノ／ミクロン二元構造の粉体は、シリカ、金属酸化物またはこれらの組み合わせからなるものとすることができる。 （もっと読む）

ＢＥＴ表面積３００±２５ｍ²／ｇを有する一次粒子の凝集物の形で存在しかつ前記凝集物は平均面積４８００〜６０００ｎｍ²を有し、平均円相当径（ＥＣＤ＝Equivalent Circle Diameter）６０〜８０ｎｍを有し、平均周囲長５８０〜７５０ｎｍを有する、熱分解法により製造されたシリカを、公知の方法で表面変性することにより製造された、熱分解法により製造された表面変性されたシリカ。前記シリカは、液状シリコーンゴム系（ＬＳＲ）のレオロジー制御のための充填剤として使用することができる。 （もっと読む）

【課題】航空機及び航空宇宙機用の金属表面保護被膜の構成成分としてのナノ構造材料とその製造方法の提供。
【解決手段】式（１）、（２）または（３）：Ｚ_４−ｘＳｉ（（Ｒ’）_ｐ−Ｆ）_ｘ（１）Ｚ_{４−ｘ−ｙ}（Ｆ’−（Ｒ’）_ｐ）_ｙＳｉ（（Ｒ’）_ｐ−Ｆ）_ｘ（２）_{ｎ−ｍａ−ｍｂ}（Ｆ’−Ｌ）_ｍａＭ（Ｌ−Ｆ）_ｍｂ（３）の官能化剤を少なくとも２種用いて官能化された、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタンまたは酸化セリウム（ＩＶ）を主成分とする少なくとも１種のナノビルディングブロックを含む。 （もっと読む）

表面改質された、熱分解法で製造されたシリカは、一次粒子のアグリゲートの形で存在し且つ２００±２５ｍ^２／ｇのＢＥＴ表面積を有し、該アグリゲートは７０００〜１２０００ｎｍ^２の平均面積、８０〜１００ｎｍの平均円相当直径（ＥＣＤ）及び８５０〜１０５０ｎｍの平均円周を有する、熱分解法で製造されたシリカを、公知の方法で表面改質することによって製造される。これは増粘液体系のために使用できる。 （もっと読む）

表面改質された、熱分解法で製造されたシリカは、一次粒子のアグリゲートの形で存在し且つ１５０±１５ｍ^２／ｇのＢＥＴ表面積を有し、該アグリゲートは１２０００〜２００００ｎｍ^２の平均面積、９０〜１２０ｎｍの平均円相当直径（ＥＣＤ）及び１１５０〜１７００ｎｍの平均円周を有する、熱分解法で製造されたシリカを、公知の方法で表面改質することによって製造される。これは増粘液体系のための充填剤として使用できる。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、緻密で密着性がよく、ガスバリア性の高いガスバリア膜を成膜できるイオンプレーティング用蒸発源材料の原料粉末等を提供する。また、イオンプレーティング法に適した蒸発源材料及びその製造方法、並びにガスバリア性シート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】平均粒径が５μｍ以下の酸化ケイ素と、平均粒径が５μｍ以下であり屈折率が１．８以上である高屈折率材料とを有し、高屈折率材料の含有量が、酸化ケイ素１００重量部に対して、５重量部以上５０重量部以下である原料粉末により、上記課題を解決する。この原料粉末は、酸化ケイ素の比表面積が６００ｍ^２／ｇ以上であることが好ましい。本発明のイオンプレーティング用蒸発源材料は、上記原料粉末を焼結又は造粒させて平均粒径が２ｍｍ以上の塊状粒子又は塊状物に加工したものである。 （もっと読む）

エアロゲル複合材料及び接着エアロゲル複合材料について記述される。エアロゲル複合材料には、基材層と基材層に接着される構造化層との間の空洞内に、モノリシックエアロゲル材料が含まれる。追加層を基材層及び／又は構造化層に接着し、接着エアロゲル複合材料を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】軽量であって滑らかな表面を有する無機質成形体を提供する。
【解決手段】主成分が以下の（ａ）〜（ｄ）
（ａ）粒径が１〜５００μｍの非晶質シリカとカルシウム塩との混合物、
（ｂ）粒径が１〜５００μｍの非晶質シリカ、
（ｃ）粒径が１〜５００μｍの非晶質シリカに、粒径が５０〜２０００Åの粒状の非晶質シリカが多数不規則に付着した非晶質シリカ複合物とカルシウム塩との混合物、
（ｄ）粒径が１〜５００μｍの非晶質シリカに、粒径が５０〜２０００Åの粒状の非晶質シリカが多数不規則に付着した非晶質シリカ複合物、
からなる群から選択される少なくとも１種である無機質成形体であって、当該成形体の少なくとも一面に於いて、当該最表面の光沢度が４％以上であることを特徴とする無機質成形体。 （もっと読む）

【課題】触媒、耐火材料、フィルター等の分離材料、研磨剤およびコーティング等の多くの市場で改善効果が得られ、ゲル化を回避し、触媒自体として、金属もしくは金属酸化物の触媒がその上に配置されてもよい触媒担体としての使用のための良好な物理的安定性と高い適切な酸性度を有するポリシリケート粒子状材料の製造及び使用の方法を提供する。
【解決手段】任意にアルミニウムでドープされ、予め存在させたナノ粒子のスラリーに７以下である中性から弱酸性のｐＨで任意に添加されたケイ酸溶液を、温度約２０℃から３０℃で添加するステップを含む粒子状材料の作製方法により、ポリシリケート粒子状分散体が得られる。次いで、分散体のｐＨを７超まで上昇させ、粒子状分散体の粒子を安定化／増強させる。任意に、粒子は乾燥されていてもよく、増大した空隙率および表面積を有する。 （もっと読む）

【課題】エポキシ化合物と混合した際の分散性に優れ、かつ、得られるエポキシ樹脂組成物が経時的にほとんど増粘したり硬化したりしないなど、良好な保存安定性を与える表面被覆シリカオルガノゾルを容易に製造する方法を提供すること。また、当該表面被覆シリカオルガノゾルとエポキシ化合物を混合してなる、保存安定性や分散安定性に優れるエポキシ樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】以下の１および２の製造方法。
１．下記の（Ａ）〜（Ｂ）の工程をこの順で実施することを特徴とする、表面被覆シリカオルガノゾルの製造方法。
（Ａ）シリカオルガノゾルにシランカップリング剤を添加して加水分解縮合反応を行う工程
（Ｂ）（Ａ）の結果物から酸性触媒を除去して、該結果物のｐＨを中性に調整する工程
２．１の製造方法で得られた表面被覆シリカオルガノゾルを用い、これに下記の（Ｃ）〜（Ｄ）の工程をこの順で実施することを特徴とする、表面被覆シリカ粒子含有エポキシ樹脂組成物の製造方法。
（Ｃ）該表面被覆シリカオルガノゾルにエポキシ化合物を混合する工程
（Ｄ）（Ｃ）の結果物から有機溶媒を除去する工程 （もっと読む）

【解決手段】安定な不動態化ナノ粒子を合成する新規なトップダウン手法は、ナノ粒子を形成して不動態化するワンステップのメカノケミカルプロセスを用いている。好ましくは、高エネルギーボールミリング(ＨＥＢＭ)が用いられて、ナノ粒子へと材料のサイズを小さくする。反応媒体内でサイズの低減が起こると、ナノ粒子の不動態化がナノ粒子が形成される際に起こる。これにより、安定な不動態化シリコンが得られる。この手法は、例えば、アルキル又はアルケニル不動態化シリコンナノ粒子と同ゲルマニウムナノ粒子の合成に使用でいる。シリコン又はゲルマニウムと、反応媒体内の炭素との間の供給結合が、非常に安定なナノ粒子を生成する。 （もっと読む）

アルコールと水を含む混合溶媒系に溶解されたシリカ前駆体及び構造規定剤を含む前ゾル溶液の、アンモニウム触媒による加水分解及び縮合反応によりゾルを調製し、平均径が約５０μｍ以下のシリカのメソ多孔性粒子を作製する工程；粒子を熱水処理して細孔径を増加させる工程；粒子を処理して残留する構造規定剤を除去する工程；及び制御された溶解を用いて細孔径を更に増加させる工程、を含むメソ多孔性シリカ微粒子の合成方法。
（もっと読む）

本発明は、環状シラザンおよび疎水性付与剤により表面処理される金属酸化物粒子、こうしたものを製造する方法、およびそれらを含むトナー組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】結晶インゴット内の元素間の偏析現象を低減することによって蛍光特性が向上したシンチレータ用単結晶を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるセリウム付活オルト珪酸塩化合物を含むシンチレータ用単結晶。
Ｌｍ_{２−（ｘ＋ｙ＋ｚ）}Ｌｎ_ｘＬｕ_ｙＣｅ_ｚＳｉＯ_５ （１）
（式中、ＬｍはＬｕよりも原子番号が小さいランタノイド系元素、並びにＳｃ及びＹの中から選ばれる少なくとも１種の元素を示し、Ｌｎはイオン半径がＬｍとＬｕとの間にあるランタノイド系元素並びにＳｃ、Ｙ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ及びＩｎから選ばれる少なくとも１種の元素を示し、ｘは０超０．５以下の値を示し、ｙは１超２未満の値を示し、ｚは０超０．１以下の値を示す。） （もっと読む）