説明

Fターム[4K017FA03]の内容

金属質粉又はその懸濁液の製造 (21,321) | 物理的製造条件 (664) | 雰囲気 (179) | 不活性 (101)

Fターム[4K017FA03]に分類される特許

21 - 40 / 101


【課題】磁性体に適用した場合に、フェライト焼結体と同等の高い実数部透磁率μ’、低い虚数部透磁率μ”を発現させることができ、十分な曲げ性を付与可能な扁平状軟磁性粉末を提供する。この扁平状軟磁性粉末を用いた磁性体を提供する。
【解決手段】Fe−Si−Cr系合金よりなり、アスペクト比が100〜150の範囲内にあり、厚みが1μm以下である扁平状軟磁性粉末とする。上記扁平状軟磁性粉末は、周波数13.56MHzにて好適に適用できる。また、上記扁平状軟磁性粉末を含む磁性体とする。上記磁性体は、周波数13.56MHzにおける実数部透磁率μ’が80以上、虚数部透磁率μ”が10以下であると良い。 (もっと読む)


【課題】再溶融やフラッシュ・ショートの発生を防止し、高温雰囲気中での密着性が高く、濡れ性が優れた、回路部品の接続材料を提供する。
【解決手段】熱硬化性樹脂バインダー、金属粉末、フラックス成分を含有する熱硬化性樹脂組成物において、金属粉末が第一複合金属粉末と第二複合金属粉末とを含む。第一複合金属粉末は、Ag、Bi、Cu、In、Snを所定量含有する第1金属粒子と、Ag、Bi、Cu、In、Snを所定量含有する第2金属粒子とを含み、熱拡散により金属間化合物を形成する特性を有する。第二複合金属粉末は、Ag、Bi、Cu、In、Snを所定量含有する第3金属粒子と、Snからなる第4金属粒子とを含み、熱拡散により金属間化合物を形成する特性を有する。フラックス成分として、構造式(1)と(2)で示される化合物の少なくとも一方が用いられている。 (もっと読む)


【課題】高強度と低いヤング率とを兼ね備えたアルミニウム合金を提供する。
【解決手段】少なくともAl相とAlCa相とを含むアルミニウム合金であって、粒子径が10μm以上のAlCa粒の面積率(B)に対する、粒子径が10μm未満のAlCa粒の面積率(A)の比(A)/(B)が1以上である、アルミニウム合金。 (もっと読む)


【課題】 酸化皮膜による潤滑が得られにくい様々な環境においても、優れた耐摩耗性を有するコバルト基合金を提供する。
【解決手段】 コバルト基合金は、20.0質量%〜40.0質量%のニオブと、2.6質量%〜12.7質量%のシリコンと、不可避不純物とを含む。また、40.0質量%以下の鉄、もしくは15.0質量%以下のクロムを含むこともできる。さらに、鉄とクロムの合計量が40.0質量%以下であり、かつクロム量が15.0質量%以下の範囲において、鉄とクロムを任意の割合で組み合わせて含むことができる。 (もっと読む)


【課題】 垂直磁気記録媒体におけるNi−W−(Si,B)系中間層膜製造用スパッタリングターゲット材および薄膜製造用スパッタリングターゲット材を用いて製造した薄膜を提供する。
【解決手段】 at%で、Wを1〜20%、SiおよびBを総量として0.1〜10%含み、残部Niからなる垂直磁気記録媒体におけるNi−W−(Si,B)系中間層膜を製造するスパッタリングターゲット材。また、上記SiおよびBの組成比が2:8〜6:4である、スパッタリングターゲット材、および薄膜製造用スパッタリングターゲット材を用いて製造した薄膜にある。 (もっと読む)


【課題】スパッタリングターゲットの使用初期段階でのスプラッシュの発生を軽減し、これにより配線膜等に生じる欠陥を防止し、FPDの歩留りや動作性能を向上させることが可能なAl−(Ni,Co)−(Cu,Ge)−(La,Gd,Nd)系合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】A群(Ni,Co)から選択される少なくとも1種と、B群(Cu,Ge)から選択される少なくとも1種と、C群(La,Gd,Nd)から選択される少なくとも1種を各々含有するAl−(Ni,Co)−(Cu,Ge)−(La,Gd,Nd)系合金スパッタリングターゲットを構成し、そのビッカース硬さ(HV)を35以上にする。 (もっと読む)


【課題】結晶組織が粗くコスト高となる溶湯金属の急冷によるバルク金属ガラスに替えて、焼結法による高密度の極微細で均一な組織を有するターゲットを提供する。
【解決手段】非晶質又は平均結晶子サイズが50nm以下の組織を備えている焼結体パッタリングターゲット、特に3元系以上の合金からなり、Zr、Pd、Cu、Co、Fe、Ti、Mg、Sr、Y、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Te、希土類金属から選択した少なくとも1元素を主成分とする焼結体パッタリングターゲットに関し、該ターゲットを、アトマイズ粉を焼結することによって製造する。 (もっと読む)


溶融亜鉛から亜鉛又は亜鉛合金粉末を製造するための遠心衝突噴霧方法。溶融亜鉛の流れが、噴霧チャンバ内に含まれた回転ディスクの表面上に噴射される。ディスクは、開口端部及び対向する閉鎖端部、並びに一体型側壁を有するカップ形状の空洞を有する。ディスクは、ディスク内の開放空洞の中心部内に突き出るバッフルを有してもよい。バッフルは直線的又は湾曲した側面を有してもよい。ディスクは、約10,000〜15,000rpm(回転数毎分)の高速で回転される。チャンバ内の酸素含有量は、好ましくは約1〜6体積%である。亜鉛粉末は、より小さな粒径を有して製造される。アノード活物質としてこのような亜鉛生成物を用いる亜鉛アルカリ電池は、特にデジタルカメラなどの高放電率の動作における動力源として改善された性能を呈する。
(もっと読む)


【課題】結晶組織が粗くコスト高となる溶湯金属の急冷によるバルク金属ガラスに替えて、焼結法による高密度の極微細で均一な組織を有するターゲットを提供する。
【解決手段】非晶質又は平均結晶子サイズが50nm以下の組織を備えている焼結体パッタリングターゲット、特に3元系以上の合金からなり、Zr、Pd、Cu、Co、Fe、Ti、Mg、Sr、Y、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Te、希土類金属から選択した少なくとも1元素を主成分とする焼結体パッタリングターゲットに関し、該ターゲットを、アトマイズ粉を焼結することによって製造する。 (もっと読む)


【課題】ボイドまたは窪みが発生することの少ないバンプを形成するためのはんだペースト用Pb−Snはんだ合金粉末およびPb−Snはんだ合金ボールを提供し、さらに前記Pb−Snはんだ合金粉末を含むペーストを提供する。
【解決手段】Sn:1〜65質量%を含有し、残りがPbおよび不可避不純物からなり、前記不可避不純物として含まれるNiが2ppm以下であるPb−Snはんだ合金粉末、Pb−Snはんだ合金ボールおよび前記Pb−Snはんだ合金粉末を含むペースト。 (もっと読む)


【課題】マグネシウムの粒子を容易に製造できるマグネシウム粒子製造装置を得る。
【解決手段】押込みブロア1から供給される不活性ガスを絞り部4を介してホッパー6に導くベンチュリ2と、溶融したマグネシウム10を貯留すると共に、供給される不活性ガスによりマグネシウム10を加圧するタンディッシュ8とを備える。ベンチュリ2の絞り部4とタンディッシュ8とを供給管14により接続して、溶融したマグネシウム10を供給管14を介して絞り部4に供給してマグネシウムを粒子化する。また、ホッパー6を冷却してホッパー6に導かれた粒子状のマグネシウムを凝固する冷却機構16と、ホッパー6に接続されホッパー内の粒子状の凝固したマグネシウムを回収する回収容器20とを設けた。ホッパー6からの不活性ガスを押込みブロア1に戻す循環ブロア46を設け、ホッパー6に接続された真空ポンプ28を設けた。 (もっと読む)


無鉛半田合金およびその製造方法を開示する。より詳しくは、0.8〜1.2重量%の銀(Ag)、0.8〜1.2重量%の銅(Cu)、0.01〜1.0重量%のパラジウム(Pd)、0.001〜0.1重量%のテルリウム(Te)、および残部錫(Sn)を含んでなることにより、従来の無鉛半田合金と類似の融点および優れた濡れ性を有し、偏析率が非常に低く、接合母材との接合特性にも優れるため、電子機器およびプリント基板への適用の際に熱衝撃性能と加速衝撃性能を同時に向上させる無鉛半田合金、その製造方法、およびそれを含む電子機器とプリント基板を開示する。
(もっと読む)


【課題】太陽電池の光吸収層を形成するためのCu−In−Ga−Se四元系合金膜を形成するときに使用するCu−In−Ga三元系焼結合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】In:40〜60質量%、Ga:1〜45質量%を含有し、残部がCuからなる成分組成を有するCu−In−Ga三元系焼結合金スパッタリングターゲットであって、このスパッタリングターゲットの素地中に分散しているIn含有合金相の最大粒径が10μm以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、垂直磁気記録媒体における中間層膜として用いるNi−W−B系スパッタリングターゲット材合金およびこれを用いて製造した薄膜を提供する。
【解決手段】 at%で、W:1〜20%,B:0.1〜10%を含み、残部Niおよび不可避的不純物からなる垂直磁気記録媒体における中間層膜製造用Ni−W−B系スパッタリングターゲット材。また、上記スパッタリングターゲット材をガスアトマイズ法により作製した原料粉末を固化成形したことを特徴とする垂直磁気記録媒体における中間層膜製造用Ni−W−B系スパッタリングターゲット材の製造方法。さらに上記のスパッタリングターゲット材を用いて製造したNi−W−B系薄膜。 (もっと読む)


【課題】アーク放電を行なわずに均一な粒子径を有する無機微粒子を提供すること。
【解決手段】無機微粒子を構成する無機材料をチャンバー2内で懸架し、チャンバー2内を10−5〜10−3Paに減圧し、不活性ガスをチャンバー2内に導入してチャンバー2内の圧力を100〜50000Paに調整した後、無機材料を通電加熱する無機微粒子の製造方法、および無機微粒子を製造するためのチャンバー2が外部空間と遮断して設けられ、チャンバー2内で無機材料を懸架し、通電加熱するための導電性懸架材A3および導電性懸架材B4が懸架されてなり、チャンバー2の内部空間を減圧するための減圧管5およびチャンバー2の内部空間に不活性ガスを導入するための不活性ガス導入管6がそれぞれチャンバー2の内部空間と接続されている無機微粒子の製造装置。 (もっと読む)


本発明は、ニオブ亜酸化物又はニオブの粉末を調製するための方法であって、原材料としてのニオブ酸化物を還元剤と混合し、減圧又は不活性ガス又は水素ガスの雰囲気中において600〜1300℃の範囲の温度で反応を行い、反応生成物を浸出させて残留した還元剤と還元剤の酸化物と他の不純物を除去し、減圧又は不活性ガスの雰囲気中において1000〜1600℃の範囲の温度で熱処理し、そしてふるいにかけてコンデンサグレードのニオブ亜酸化物又はニオブの粉末を得ることを含む前記方法に関する。本発明にしたがえば、ニオブ酸化物は、鉱酸により容易に除去することができる還元剤により、直接、コンデンサグレードのニオブ亜酸化物又はニオブへと還元され、その際、反応の速度を制御することができ、反応により直接ニオブ酸化物をコンデンサグレードのニオブ亜酸化物又はニオブの粉末へと還元することができる。本発明にしたがえば、本方法は簡単であり、収率が高く、生産性が高い。得られる生成物は、流動性がよく、不純物が少なく、酸素の分布が均一であり、電気特性がよい。 (もっと読む)


【課題】高強度な割に高延性であるとともに、疲労強度も高く、構造用部品や部材としての信頼性に優れたAl合金およびその製造方法を提供する。
【解決手段】急冷凝固法により得られたAl−Zn−Mg−Cu系の7000系Al合金組織中に存在して、合金元素の偏析により粗大化しやすい晶析出物を、不活性ガスによるスプレイフォーミング時の噴霧された溶湯の堆積速度やG/M比などの制御によって、微細化を図り、高強度、高延性であるとともに、疲労強度も高いAl合金とする。 (もっと読む)


【課題】 負極活物質とバインダーとを含む負極合剤層が負極集電体上に形成された負極を改良し、高容量でサイクル特性に優れた非水電解質二次電池が得られるようにする。
【解決手段】 正極12と、負極活物質とバインダーとを含む負極合剤層が負極集電体上に形成された負極11と、非水電解液14とを備えた非水電解質二次電池において、上記の負極活物質が、スズとコバルトと炭素を含有する複合合金粉末と黒鉛粉末とを含むと共に、上記の負極集電体上に形成された負極合剤層の空隙率を5〜20体積%の範囲にした。 (もっと読む)


【課題】切欠き衝撃値および延性が高く、高温腐蝕または熱腐蝕に関して優れた化学的特性を有する材料の提供。
【解決手段】特に大型ディーゼルエンジンの構成部品1を形成するための出発材料としての半製品の製造に用いられるCr−Ni基合金材料が、(CrNi)N(式中、x+y+z+k=100%)で表わされ、成分Aは、La,Ce,Y,Hf,Sc,Si,C,S,P,Al,Zr,B,Mo,Fe,Mn,Oおよび希土類元素である化学元素から選ばれる1種以上の元素であり、Cr量xは、重量で、50%<x<100%であり、Ni量yは、重量で、y>0%であり、成分A量zは、重量で、0%≦z<50%であり、窒素含有量kが、重量で、0.01%≦k≦0.1%である。 (もっと読む)


【課題】粉砕操作という簡便な方法で金属を回収することができ、容易に実施可能な金属の回収方法を提供する。
【解決手段】アンモニアガス雰囲気下または窒素ガス雰囲気下で、密封容器内に、粉砕用ボールと、所定の金属を含む金属酸化物から成る化合物の粉末と、アルカリ金属の窒化物の粉末とを封入する。密封容器を所定時間、所定の速度で回転させて、化合物の粉末と窒化物の粉末とを混合して粉砕し、所定の金属を含有する混合粉末を生成する。生成された混合粉末を水洗して、所定の金属を得る。 (もっと読む)


21 - 40 / 101