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Fターム[4K023AA11]の内容

Fターム[4K023AA11]に分類される特許

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【課題】装飾3価クロムめっきを基本として、高い耐食性を有し、且つ6価クロムめっきと類似または同等の白銀色の意匠を呈することのできるクロムめっき部品を提供する。
【解決手段】素地2上に腐食電流分散を目的としたニッケルめっき層5aを形成するとともに、その表面に塩基性硫酸クロムを金属供給源とした膜厚0.05〜2.5μmの3価クロムの表面クロムめっき層6を形成し、さらにその上に陰極酸性電解クロメート処理により膜厚が7nm以上のクロム化合物皮膜7を形成する。腐食分散ニッケルめっき層5aは、表面クロムめっき層6に対しマイクロポーラス構造もしくはマイクロクラック構造、またはこれらの双方の構造を生じさせる機能を有する。 (もっと読む)


【課題】平滑な表面、高い耐食性、十分な耐摩耗性を有するめっき皮膜が得られ、生産性の高い3価クロムめっき浴を提供する。
【解決手段】下記(1)〜(4)の成分を含有することを特徴とする3価クロムめっき浴:(1)水溶液脂肪族カルボン酸及びその塩からなる群から選ばれた少なくとも一種の成分と3価クロム化合物を含む水溶液を加熱下に保持して得られる3価クロムの錯体溶液、(2)伝導性塩(3)pH緩衝剤、並びに(4)SO2基を有する化合物及びSO3基を有する化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の含イオウ化合物。 (もっと読む)


本発明は、金属層の厚さを増すために、イオン液体を電解質として使用して基材上に金属を電気めっきまたは電解研磨する方法での非晶質シリカ、黒鉛粉末およびそれらの混合物からなる群から選択される添加剤の使用に関する。さらに、イオン液体が、電解質として使用され、前記イオン液体に加えられる金属塩または金属アノードが金属源として使用され、前記イオン液体が前記添加剤を含む、金属基材上に金属を電気めっきまたは電解研磨する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】3価クロムめっきの耐食性を向上させる。
【解決手段】鉄基板10の表面に施された3価クロムめっき30上にシランカップリング剤とシリカゾルとからなる耐食性皮膜40を形成した。 (もっと読む)


【課題】熱履歴を経る場合にも優れた耐食性を維持するクロムめっき部品を高能率かつ安定して得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】有機スルフォン酸を含有するクロムめっき浴を用い、最初に、パルス電流を用いて、鋼母材Mの表面に、クラックがなくかつ100MPa以上望ましくは150MPa以上の圧縮残留応力を有する下地のクロム層を析出させ、次に、同じめっき浴中で、直流電流を用いて電気めっきを行い、前記下地のクロム層上にクラックを有する上クロム層を析出させる。 (もっと読む)


【課題】ロータリーピストンエンジンの燃焼室を構成するローターハウジングにおいて、Crめっき皮膜が形成された長円形状の内周面をシール部材が流体潤滑剤の存在下、長軸側内周面では短軸側内周面よりも小さな荷重で接触して且つ短軸側内周面よりも速い速度で周方向に摺動する摺動部材に関し、内周面の全周にわたって低摩擦化を図る。
【解決手段】ローターハウジング1の内周面3のCrめっき皮膜にクラックを形成し、長軸側内周面3aでは短軸側内周面3bよりも、クラック幅が大きく且つクラック数が多くなるようにする。 (もっと読む)


【課題】クロム層に対してより高い圧縮残留応力を安定して付与することができるクロムめっき装置を提供する。
【解決手段】パルス電源3内部のインダクタンスと、パルス電源3から第5,第6アノード電極Y5,Y6に至る配線のインダクタンスと、パルス電源3から第1,第10カソード電極K1,K10に至る配線のインダクタンスとを合計した往復インダクタンスを、0.5〜6.8μH範囲の所定値に設定するか、パルス波形の立上り・立下り時間の合計を0.04〜0.38ms範囲の所定値に設定し、アノード電極Yに挿入された各ワークWの表層部に250MPa以上の圧縮残留応力を有する、クラックのないクロム層を析出させる。 (もっと読む)


金属、または金属の化合物、例は、金属塩を備える液晶相から金属の化合物を電気化学的な手段により堆積するとき、イオン性界(表)面活性剤を普通に用いられる非イオン性界面活性剤の代わりに用いることによって、塩の高濃度を採用しうる。 (もっと読む)


本発明は,表面張力を低下させ,したがってクロム析出プロセスを改良する,クロム電解質用のフッ素界面活性剤を含まない長期間安定な添加剤に関する。 (もっと読む)


本発明は、摩耗または腐食に対する保護のための、および/または、装飾的な目的のための、硬質クロムメッキとしてのクロム層の析出方法、さらに、このタイプのクロム層を析出可能とする電気メッキ浴槽に関する。
また、本発明は、それにより形成される硬質クロム表面層に関する。 (もっと読む)


本発明は、ホスフィン酸および/またはホスホン酸ならびにそれらの塩の、好ましくは表面活性物質としての、酸化還元法における、特に電気めっき法における、特に好ましくは電気めっき浴における使用、およびまたこれらの化合物を含有する電気めっき浴に関する。 (もっと読む)


【課題】
クロムめっき表面の低摩擦特性、耐摩耗性を維持しながら、防汚性、洗浄性をより向上させた金属部材、特に合成繊維の製造に用いる口金、延伸ローラ、延伸熱板、延伸ピンや糸道規制ガイド等の製糸部材を提供する。
【解決手段】
金属母材1の表面がクロム化合物で電気めっきされており、表面粗さがJIS−B0601:2001規定による算術平均粗さRaで0.3〜5μmである梨地面のクロムめっき層2を有する金属部材であって、該クロムめっき層2の表面をポリシロキサン結合(Si−O−Si)のストレートシリコン樹脂3で皮膜形成する。 (もっと読む)


【課題】Crめっき摺動部材の摩擦係数を下げる。
【解決手段】摺動部材のCrめっき層の、X線回折分析により特定される(222)面が表面側を向いた(222)配向結晶1の存在率を60%以上80%以下とし、該Crめっき層表面に形成されるCr酸化皮膜3の厚さを薄くする。 (もっと読む)


2.8895±0.0025Åの格子定数を有する結晶質クロム堆積物、および該結晶質クロム堆積物を含む物品。結晶質クロム堆積物を含む物品は、該結晶質クロム堆積物が{111}の優先方位を有する。基材上に結晶質クロム堆積物を電析させるための方法は、3価クロムおよび2価硫黄源を含み、そして実質的に6価クロムを含まない電気めっき浴を提供する工程;基材を該電気めっき浴に浸漬する工程;および該基材上に結晶質クロム堆積物を析出させるために電流を付与する工程を包含し、該クロム堆積物は、析出したときに結晶質である。
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【課題】電気めっき法による金属薄体の製造方法において、金属薄体の(111)面の相対積分強度を65%以上に高めることができる製造方法を提供する。
【解決手段】5vol%以上のアセトニトリルと水を含む電解液(めっき液)、特に10vol%以上のアセトニトリルと水を含む電解液(めっき液)を用いて電気めっきすることにより、(111)面の相対積分強度65%以上に高めることができる。 (もっと読む)


【課題】磁歪振動が抑制され騒音低減効果をもたらす磁歪特性に優れる方向性電磁鋼板を提供する。
【解決手段】まず、方向性電磁鋼板の表面にフォルステライトを主体とする無機鉱物質被膜を、さらにその上層には、平均密度が3.1g/cm3以上で平均硬度が15GPa以上の被膜を有することとする。例えば、上記上層被膜はコロイダルシリカとアルミナゾルを種々の割合で混合し、この混合物をフォルステライト被膜のある鋼板に900℃から1050℃の温度範囲で焼き付けることで形成される。 (もっと読む)


本発明は基板上に乳濁液および/あるいは分散液形成物あるいは湿潤剤で構成される電解液から基板上に艶消し金属層を堆積する電解液及び工程に関する。本発明に従えば、異なった艶消しの程度を持つ多くの金属がポリアルキレン酸化物あるいはその誘導体、フッ化あるいはペルフッ化の疎水性鎖を持つ湿潤剤、あるいはポリアルキレン酸化物により置換された第4級アンモニウム化合物の添加の方法により電解液内の乳濁液および/あるいは分散液の形成によって製造される。さらに、テトラフルオロエチレン粒子は堆積された艶消し金属の表面の性質を変えるため電解質に添加される。 (もっと読む)


【課題】本発明は電解質成分と同様に、基板上にクロム・ベアリング電解質から機能的なクロム層を堆積するための方法に関するものである。
【解決手段】本発明による電解質成分はスルホ酢酸から構成される。本発明による方法は、電流密度が約20から約150A/dmの間で、電流効率が30%より高い状態で行う事ができ、800HV0.1より高い硬度と、200時間を超えて耐食を示す層が堆積される。 (もっと読む)


【課題】電気めっき操作を実施することにより、均一で、且つ緻密な無光沢の黒色被膜を形成せしめることが出来る、3価クロムを含有する黒色クロムめっき液を提供すること。
【解決手段】塩化クロムを、亜硫酸ナトリウム及び/又は亜硫酸カリウムと共に、水に溶解せしめ、更にヨウ化カリウムを含有せしめることにより、目的とする黒色クロムめっき液を調製した。 (もっと読む)


【課題】
金属母材表面に硬質クロムめっきを施すと共に、該硬質クロムめっきによって形成された硬質クロムめっき層に、微粒子ショットピーニング処理をすることにより、前記硬質クロムめっき層が保有する微細なクラックを減少、または消滅させ、本来の硬質クロムめっきではなし得なかった前記金属母材表面の低摩擦性、耐摩耗性を一層向上させた金属板およびその製造方法を提供する。
【解決する手段】
金属母材1表面に、硬質クロムめっきを施して硬質クロムめっき層2を形成すると共に、更に、該硬質クロムめっき層2に微粒子ショットピーニング処理を施すことにより、該金属母材1表面の微細なクラック3を減少、または消滅させる。 (もっと読む)


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