【課題】金属表面に耐食性や耐磨耗性を有する硬質被膜を効率的に形成できるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】クロムを主成分とし、けい素を１〜５０原子％含有し、ジルコニウム、ハフニウム、ニオブ、タンタル、タングステンおよびモリブデンから成る群より選択される少なくとも１種の元素を０．１〜３０原子％含有する原料粉末を調製する工程と、得られた原料粉末を真空度が５×１０^−２Ｐａ以下の真空中で脱ガス処理を実施する工程と、脱ガス処理した原料粉末に２０〜３５ＭＰａの加圧力を作用せしめ温度１１００℃〜１５００℃に加熱して焼結し板状の合金ターゲット材を調製する工程とを備えることにより、相対密度が９５．０％以上であり、欠陥の最大幅が０．１ｍｍ以下であり、ビッカース硬度（Ｈｖ０．０５）が１０００以上の硬質被膜を形成するスパッタリングターゲットを製造する。 （もっと読む）

【課題】形状記憶合金のエッチング特性を飛躍的に向上させることができる形状記憶合金及び同合金ターゲット並びに同合金薄膜を提供する。
【解決手段】構成元素及びガス成分を除いた不純物成分が1000wtppm以下である高純度形状記憶合金及び同合金ターゲット並びに同合金薄膜。Ni-Ti系の形状記憶合金及び同ターゲットにおいて、AlおよびSnの含有量がそれぞれ100wtppm以下、Cu-Al系の形状記憶合金および同ターゲットにおいて、Ag、S及びClの含有量がそれぞれ50wtppm以下、Fe-Mn系の形状記憶合金および同ターゲットにおいてAlおよびCrの含有量がそれぞれ100wtppm以下、である同高純度形状記憶合金及び同合金ターゲット並びに同合金薄膜。 （もっと読む）

ガスタービンエンジンのホットセクション部品のために、ＣＭＡＳ浸透耐性を向上させる方法。例示的な方法は、ボンドコート被覆基材上に、イットリア安定化ジルコニアのような遮熱材料からなる内部遮熱層を設けることによって、基材を遮熱コーティング系で被覆することを含む。希土類アルミン酸塩を含む最上層は、内側層の少なくとも一部分を覆うように堆積される。堆積プロセス及び被覆厚さは、被覆すべき部品の種類に応じて調整できる。 （もっと読む）

【課題】アークイオンプレーティング装置用の蒸発源において、陰極の利用効率を飛躍的に向上させ、かつ表面平滑性が高く、残留応力が小さい薄膜を形成する。
【解決手段】陰極２の外周に配置されたリング状の磁石３と、陰極２の背面に配置されたソレノイドコイル４とを有する磁界形成手段５を備えたアークイオンプレーティング装置用の蒸発源１において、磁界形成手段５は、リング状の磁石３の極性の向きとソレノイドコイル４の極性の向きとが反対となるように構成され、陰極２を構成する物質を蒸発させる蒸発面の中心部から周縁に向かって延びた任意の線分上における磁束密度の最小値が４５Ｇａｕｓｓ（ガウス）以上、その平均値が８０Ｇａｕｓｓ以上である磁界を形成する。 （もっと読む）

【課題】形状記憶合金のエッチング特性を飛躍的に向上させることができる形状記憶合金及び同合金ターゲット並びに同合金薄膜を提供する。
【解決手段】構成元素及びガス成分を除いた不純物成分が1000wtppm以下である高純度形状記憶合金及び同合金ターゲット並びに同合金薄膜。Ni-Ti系の形状記憶合金及び同ターゲットにおいて、AlおよびSnの含有量がそれぞれ100wtppm以下、Cu-Al系の形状記憶合金および同ターゲットにおいて、Ag、S及びClの含有量がそれぞれ50wtppm以下、Fe-Mn系の形状記憶合金および同ターゲットにおいてAlおよびCrの含有量がそれぞれ100wtppm以下、である同高純度形状記憶合金及び同合金ターゲット並びに同合金薄膜。 （もっと読む）

本発明は、基材が次々と少なくとも１つのプラズマ処理ゾーンを通り搬送される、１つ又は複数の鋼製品を含む連続基材のプラズマ処理用の方法及びシステムであって、処理ゾーン内でプラズマを発生させるための電力が、基材がこのゾーンを通過しているときこの処理ゾーン内に存在する基材の面積に応じて変化することを特徴とする方法及びシステムに関する。
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【課題】表面全体にわたる十分な厚さの内部空洞壁のコーティングを得ることを可能にすること。
【解決手段】本発明は、金属ターボ機械部品の高温酸化保護用の気相堆積によるアルミ被覆プロセスに関し、上記部品（１）は空洞を含み、金属構成要素（９）が上記部品の開口部（５）から導入されて組み立てられる。
このプロセスに従って、ハロゲンとアルミニウムを含む金属ドナーの間の反応によってハロゲン化物が形成され、次いで、ハロゲン化物はキャリアガスによって運ばれて上記金属部品に接触し、金属構成要素（９）はプロセスの実施の前に最初にアルミニウムドナーとして働くためにアルミニウムで表面富化にされている。
本発明は、特にライナーを組み込むノズル案内翼に適用される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、薄く、高硬度のコーティングを形成する方法、およびこのコーティングを含むデバイスに関する。
【解決手段】本発明の方法は、マグネトロンカソードスパッタリングにより、１Ｐａのアルゴン分圧下で基材の少なくとも１つの表面上にチタン薄膜を堆積し、次いで、マグネトロンカソードスパッタリングにより、１Ｐａの分圧を維持しながら、窒素をカソードスパッタリング室内に導入することにより、得られた薄膜上に窒化チタン薄膜を堆積し、さらに、活性同時スパッタリングモードのマグネトロンカソードスパッタリングにより、得られた薄膜上に、チタン、ジルコニウム、ホウ素および窒素に基づくナノ構造化コンポジット材料の薄膜を堆積することにある。
本発明の方法は、機械部品の表面硬度を改良するために、多くの分野、特に機械分野に適用可能である。 （もっと読む）

【課題】現在使用されているタービン要素を回復する方法の欠点を克服する。
【解決手段】本発明は、要素の本体を形成する基材と、基材に接着した保護コーティングとから構成されたタービン要素を回復する方法に関する。方法は、保護コーティングと基材との間の接着不良を有するゾーンを特定するためのタービン要素の制御と、保護コーティングと基材との間の接着不良の除去とを備える。接着不良は、保護コーティングと下にある基材との局所的な溶融を引き起こし、レーザビームの停止後に保護コーティングと基材との間の上記ゾーンの高さにおける適切な接着を可能とするために、接着不良を有する各ゾーン上に向けられたレーザビームを用いて除去される。 （もっと読む）

本発明は、セラミック製の層状複合材（１）であって、非酸化物セラミックから成るセラミック製の基板（３）を含んでいる形式のものに関する。セラミック製の層状複合材（１）はその表面上にセラミック製の層（７）を含んでおり、該セラミック製の層（７）は、大きな比表面積を有している。本発明は、さらにセラミック製の層状複合材（１）を製造するための方法に関する。
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【目的】基材に対して軽い前処理を行った場合でも、基材と蒸着層の高い密着性を確保することができる蒸着用アルミニウム箔材を提供する。
【構成】厚さ１０〜５０μｍのアルミニウム箔材であって、該箔材表面のハンターホール法で測定した酸化皮膜厚さが０．６Ｖ以下であり、箔材表面に残留している油分が６００ｍｇ／ｍ^２以下であることを特徴とし、弱アルカリ溶液、有機溶剤による洗浄処理、特定条件での加熱処理により製造する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、簡単な制御で、逆スパッタの防止による膜の高品質化、組成ズレの制御および成膜の再現性向上を図り、膜質の変化のない高品質な圧電膜、絶縁膜や導電体膜などの薄膜を成膜することができるスパッタ方法およびスパッタ装置を提供する。
【解決手段】真空容器内に、ターゲット材を保持するスパッタ電極およびスパッタ電極と対向離間配置され、基板を保持する基板ホルダを有し、さらに基板ホルダのインピーダンスを調整するための調整可能なインピーダンス回路を備えるインピーダンス調整回路とを有し、インピーダンス回路のインピーダンスが調整されることにより、基板ホルダのインピーダンスが調整され、基板の電位が調整されることにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】タービン部品を減衰するための構造を提供する。
【解決手段】 本願では、ガスタービン部品用の皮膜であって、振動減衰特性を有する１種以上の材料を含む皮膜について開示する。さらに、翼形基板と該翼形基板に設けられた皮膜とを含む振動減衰特性を有するガスタービン翼形部であって、上記皮膜が振動減衰特性を有する１種以上の材料を含む翼形部についても開示する。ガスタービン部品の振動減衰方法は、減衰特性を有する１種以上の材料を含む皮膜をガスタービン部品に施工することを含む。 （もっと読む）

【課題】均質で耐食性に優れた被膜特性が得られ、成膜効率および再現性に優れ、かつ長寿命のスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ｃｒを４５原子％以上含有し、Ａｌを１〜５０原子％の範囲で含有し、かつＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｗ，Ｍｏ，Ｂから選択される少なくとも１種類の元素を１〜５０原子％の範囲で含有するスパッタリングターゲットであって、このスパッタリングターゲットの、２００μｍ四方の組織領域をＸ線マイクロアナライザーにより加速電圧１５ｋＶでＣｒ元素のマッピングを実施したときに、カウント数が６００以上であるＣｒの偏析部の直径が５０μｍ以下であることを特徴とするスパッタリングターゲットである。 （もっと読む）

【課題】従来のアルミ酸化物ベースの酸化物皮膜よりも耐摩耗性に優れる酸化皮膜、酸化物皮膜被覆材および酸化物皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】[1] （Ｚｒ_1-a-b-c Ａｌ_a Ｍｇ_b Ｙ_c ）（Ｏ_1-x Ｎ_x ）からなる酸化物皮膜であって下記式(1) 〜(5) を満たすことを特徴とする酸化物皮膜。
０≦ａ≦０．７ --------- 式(1) ０≦ｂ≦０．１５ ------- 式(2)
０≦ｃ≦０．１５ ------- 式(3) ０＜ｂ＋ｃ --------- 式(4)
０≦ｘ≦０．５ --------- 式(5)
〔但し、上記において、ａはＡｌの原子比、ｂはＭｇの原子比、ｃはＹの原子比、１−ａ−ｂはＺｒの原子比を示し、ｘはＮの原子比、１−ｘはＯの原子比を示すものである。〕[2] 前記酸化物皮膜においてｘが０であるもの等。 （もっと読む）

【課題】腐食性／浸食性プラズマを用いる半導体処理条件で耐食性／耐浸食性のある特殊なセラミック材料を提供する。
【解決手段】腐食性プラズマはハロゲン含有プラズマであってよい。特殊なセラミック材料は修正されて、制御された電気抵抗率を与えて、プラズマアーク放電の可能性を低減する。 （もっと読む）

【課題】アーキング現象発生を抑制して、被処理物品に良好に目的とする処理を施す。
【解決手段】ホルダ２に被処理物品Ｗを配置した状態で真空容器１内から排気し、容器１内へ加熱用ガスを供給するとともに該ガスを加熱して容器１内に加熱用ガス雰囲気を形成し、該加熱用ガス雰囲気のもとで物品Ｗ等を加熱し、容器１から排気することでアーキング発生促進物質を該物品Ｗ等から脱離させ、加熱用ガスとともに容器１外へ排出する。次いで物品Ｗに目的とする処理（例えば膜形成処理）を施す。 （もっと読む）

【目的】平坦面や曲面で構成された形状だけでなく、中空状等、被加工物がどのような形状であっても、均一な膜形成を行え、プラズマ処理膜の品質向上を図ることのできるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。
【構成】プラズマ処理部Ａ１内には、孔又は溝を有したワークが配置され、プラズマ導入路Ａ２２からのプラズマＰ１は、孔又は溝の深さ方向がプラズマ直進方向ＤＰに対応するように導入される。ワーク物体の中空軸がプラズマＰ１の直進方向ＤＰの中心軸に略対応してワークＷ１が設置されている。ワークＷ１への上記プラズマＰ１の直進導入構成と、５ｅＶ以上の高イオンエネルギーを持つイオンを含んだ真空アークプラズマを使用して、孔又は溝の内面に均一な膜形成を高精度に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】熱疲労き裂の発生を防止する熱間金型用合金鋼の強化方法を提供する。
【解決手段】C:0.32〜0.42％，Si:0.80〜1.20，Mn:0.50以下，P:0.030以下，S:0.020以下，Cr:4.50〜5.50，Mo:1.00〜1.50，V：0.30〜1.15，他は，Fe及び不可避的不純物を含有するHV450〜520の鋼を素材とする熱間金型用合金鋼（例えばSKD61鋼）を被処理材とし，この被処理材にHV550〜1100の研磨材を圧縮空気と供に噴射して，被処理材の表面近傍の表層に，層状加工組織を伴わないナノ結晶組織を生成する。次いで，必要に応じてプラズマ窒化により前記表層下方に窒素を拡散させる。 （もっと読む）

【課題】手間をかけずにメンテナンスをすることが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】一次射出によりそれぞれ成形された半製品同士を突き合わせた後、その突き合わせ部に二次射出して製品の一体化成形が可能に構成された一対の金型５１，５２のいずれか一方に設けられ、半製品を成膜する成膜チャンバ５７を備えた成膜装置４０において、成膜チャンバ５７が、金型５２から着脱自在に取り付けられている。 （もっと読む）