【課題】電子銃内のplasmaの継続中に、カソードからターゲットに電子ビームパルスを複数回発射する電源装置を提供し、単位電子ビームパルスの波形、相互の時間間隔を可変にして群パルスを作り、表面改質効果ならびに品質を改善する。
【解決手段】低圧電離気体のプラズマが封入されている電子銃のカソードからターゲットに電子ビームを発射する高圧電源回路をコンデンサ充放電形式とし、そのコンデンサを複数、独立に備え、予め充電し、第一のコンデンサを放電させて第一の単位電子ビームパルスを発射し、遅延時間をおいて第二のコンデンサを放電させて第二の単位電子ビームパルスを発射し、さらにこれを続けて断続した複数個の単位電子ビームパルスによる群パルスを形成させてターゲットに照射する。各単位パルスの大きさと遅延時間を選択可能としてターゲット表面の熱作用モードを最適化する。 （もっと読む）

【課題】 短時間で良好な試料の断面観察を行うことが可能な収束イオンビーム加工観察装置を備える試料解析装置を提供する。
【解決手段】 試料６に対して収束イオンビームを照射して試料６を加工し観察する収束イオンビーム加工観察装置２と、蒸着手段を備え試料６の表面に蒸着膜を形成する真空蒸着装置３と、収束イオンビーム加工観察装置２と真空蒸着装置３とを連通し収束イオンビーム加工観察装置２と真空蒸着装置３の真空を破らずに試料６を収束イオンビーム加工観察装置２と真空蒸着装置３との間で移動させる連通路４と、連通路４の開閉を行う開閉手段５とを設ける。これにより、真空蒸着装置で蒸着膜を試料表面に積層して直ぐに該試料６を収束イオンビーム加工観察装置２に移動させることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】断面積が大きくてエネルギ密度の小さい電子ビームパルスを照射する表面改質は、複数回の電子ビームの繰返し照射で行なわれていたが、処理表面にクレータの形成とブツブツの発生があり面質を悪くしていた。
【解決手段】表面改質を出来るだけ１回の電子ビームパルスの発生、照射により行なう。追加ないしはそれ以上の繰返しの電子ビームの照射が必要な場合、真空ハウジング内に清浄用気体を噴射導入し、扇開閉等を併用してハウジング内の環境コンディショニングを行ない、電子ビームの発生操作に移行させる。１回か２回の電子ビームの照射で表面改質が終了すると予想されるケースでは、ハウジングに対して第１及び第２の電子銃部を並設しておき、第１の電子銃部による電子ビーム照射で表面改質が充分でない場合、被照射体を直ちに第２の電子銃部の位置に移動させると共に電源を切換えて電子ビームを照射させる。 （もっと読む）

【課題】 試料表面の穴にデポジション膜を正確に形成することができる技術を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、試料表面に穴をあけ又は試料表面の穴にデポジション膜を形成するイオンビーム加工・観察装置に関する。イオンビーム加工・観察装置には、試料表面の穴の深さ又は穴に形成されたデポジション膜の高さを計測する計測器が設けられている。試料表面の穴あけ加工中又は試料表面の穴埋め加工中、穴を含む領域の像と穴の深さ又はデポジション膜の高さが表示される。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線の光学系の光軸に垂直な平面内、もしくは少し傾斜した平面内における回転機構をもった装置の回転操作に伴って発生する観察・加工位置の移動の補正を簡便かつ高精度に実現すること。
【解決手段】荷電粒子線装置における試料ホルダー、絞り装置、バイプリズムなどの、当該回転機構の２次元位置検出器とコンピュータ制御による駆動機構を利用し、さらにコンピュータの演算能力を利用することによって該平面内の回転に伴う移動量を演算によって求め、これを相殺させる様に駆動、制御を行なう。また、ひとつの入力によって複数の回転機構を互いに関連をもって操作させる。 （もっと読む）

【課題】真空中での溶解、溶接、加工、および蒸着等に用いられる電子源において、電子銃のビームパワーを急速に変化させる。
【解決手段】フィラメントカソード１とブロックカソード２との間に第1の電圧を印加し、ブロックカソード２とアノード３との間に第２の電圧を印加する。第1の閉ループ調整システム８，７を使用してフィラメントカソード１を定電流値に調整することによって、ブロックカソード２の最大ビームパワーに十分なフィラメント温度にする。瞬時ブロック電力値と公称ブロック電力値との間の差に反応するブロック電力調整器１３等を含む第2の閉ループ調整システム１７、１３、１２が、フィラメントカソード１とブロックカソード２との間の電圧を調整する。 （もっと読む）

高密度の電子及びプラズマのビームを発生し、加速し、伝播する装置及びプロセスであって、装置は、ガスを含んだ第１絶縁チューブと、第１絶縁チューブに気密に接続された中空のカソードと、中空のカソードに気密に接続され、溶着室内に突出して溶着室に接続された第２絶縁チューブと、第２絶縁チューブの回りに中間に位置して配置されたアノードと、カソード及びアノードに電圧を印加する手段と、溶着室からガスを排出する手段と、第１絶縁チューブ内にてガスをプラズマに自発的に転換する手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】 イオンミリング装置において、かかる装置固有の照射角度の上限より大きな照射角度においてもイオンビームの照射を可能ならしめる試料固定用治具を提供すること。
【解決手段】 基準面に対して所定の照射角度にてイオンビームを照射することの出来るイオンミリング装置において用いられる試料固定用治具にして、前記イオンビームが照射される試料を保持する試料保持部材と、前記イオンミリング装置内の試料支持台に固定される台座と、該試料保持部材と該台座とを連結して、該台座上に該試料保持部材を支持する支持部材とから構成し、且つ、該試料保持部材を、前記基準面に対して傾斜した状態において、前記支持部材により前記台座に対して取り付けた。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子を取扱う系たとえばエッチングに用いられるプラズマ発生装置における電極といった部材であって、高い寸法精度のものが得られ、電荷の蓄積に起因する静電破壊等の虞のない部材を提供すること。
【解決手段】 酸化バナジウムを主成分とする、電気伝導度が少なくとも１×１０^−８Ｓ／ｃｍの導電性バナジン酸塩ガラスにイオンビーム照射又はレーザビーム照射による加工を施して得られる、精密加工された導電性ガラス部材。 （もっと読む）

【課題】二つの荷電粒子ビームが同一の観察点に集束するための試料の高さを算出して、試料台を傾斜することなく、短時間で精度良くかつ容易に試料の高さ調整を行う。
【解決手段】イオンビーム２ｂ照射による二次電子像と電子ビーム１２ｂ照射による二次電子像の倍率と、イオンビーム２ｂ照射による二次電子像の観察点と電子ビーム１２ｂ照射による二次電子像の観察点との距離から、イオンビーム２ｂと電子ビーム１２ｂが同一の観察点に集束するための前記試料の高さを計算手段１４で算出する。 （もっと読む）