基板処理装置及び溶剤再生方法
【課題】乾燥溶剤の再生手順を工夫することにより、スループットを向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】制御部５１は、第１の貯留タンク１１と第２の貯留タンク１３の一方だけから処理槽５に乾燥溶剤を供給して、処理槽５にて基板Ｗを乾燥処理させる。そして、乾燥溶剤を供給した第１の貯留タンク１５の乾燥溶剤が寿命に達した場合には、基板Ｗの処理が終了した後、第１の貯留タンク１５とは異なる第２の貯留タンク１３だけから処理槽５に乾燥溶剤を供給して、処理槽５にて次の基板Ｗを処理させる。これとともに、制御部５１は、第１の貯留タンク１１から溶剤再生装置３に乾燥溶剤を供給して再生処理を行わせるので、再生処理に伴って基板処理装置の乾燥処理装置１における処理を中断する必要がなく、基板処理装置のスループットを向上させることができる。
【解決手段】制御部５１は、第１の貯留タンク１１と第２の貯留タンク１３の一方だけから処理槽５に乾燥溶剤を供給して、処理槽５にて基板Ｗを乾燥処理させる。そして、乾燥溶剤を供給した第１の貯留タンク１５の乾燥溶剤が寿命に達した場合には、基板Ｗの処理が終了した後、第１の貯留タンク１５とは異なる第２の貯留タンク１３だけから処理槽５に乾燥溶剤を供給して、処理槽５にて次の基板Ｗを処理させる。これとともに、制御部５１は、第１の貯留タンク１１から溶剤再生装置３に乾燥溶剤を供給して再生処理を行わせるので、再生処理に伴って基板処理装置の乾燥処理装置１における処理を中断する必要がなく、基板処理装置のスループットを向上させることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板（以下、単に基板と称する）等の基板に対して乾燥処理を行う基板処理装置及びその溶剤再生方法に係り、特に、乾燥のために用いられる液体の乾燥溶剤を再生する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の基板処理装置（第１の装置）として、基板を収容する内槽及び内槽から溢れた溶剤を回収する外槽とを備えた処理槽と、外槽と内槽とを連通接続している循環配管と、循環配管に取り付けられた油水分離フィルタと、循環配管に取り付けられ、循環配管中の乾燥溶剤を循環させる循環ポンプとを備えているものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
上記のような構成の装置においては、純水で基板の洗浄を行った後、例えば、ＨＦＥ（ハイドロフルオロエーテル）に少量のＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を混合してなる乾燥溶剤を供給して、処理槽中の純水を乾燥溶剤で置換するとともに、基板に付着している純水を乾燥溶剤で置換する。そして、純水が溶けにくいＨＦＥ中の純水を除去するために、乾燥溶剤を循環配管中で循環させつつ油水分離フィルタでＨＦＥ中の純水を分離させる。そして、ＨＦＥ中の純水がほぼ除去できた時点で、基板を乾燥溶剤中から引き上げ、さらに基板に付着している乾燥溶剤を揮発させることで基板に対して乾燥処理を行っている。
【０００４】
また、基板を乾燥処理する基板処理装置とは別体の溶剤再生装置（第２の装置）として、例えば、基板処理装置から乾燥溶剤を溶剤再生装置が取り込むための取り込み配管と、再生処理を行う再生処理部と、再生された乾燥溶剤を再生処理部から基板処理装置に送る戻し配管とを備えたものがある。この装置では、純水洗浄を終えた基板が乾燥溶剤を貯留している処理槽に搬入され、乾燥溶剤が循環されることにより基板に付着している純水が乾燥溶剤によって除去される。そして、所定時間だけ乾燥溶剤を循環させた後、基板を搬出し、順次に基板を処理する。この場合、基板とともに純水が処理槽に持ち込まれるので、所定回数（例えば、５回程度）の処理を終えた時点で、乾燥溶剤の再生を行うために、乾燥溶剤を溶剤再生装置に送る。そして、再生を終えた乾燥溶剤が基処理燥装置に戻され、次の基板が処理される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−２４４０８６号公報（図１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の第１の装置は、油水分離フィルタで乾燥溶剤中の純水を除去するのに長時間を要するので、次の基板を処理するまでに長時間を要する。したがって、基板処理装置のスループットが低下するという問題がある。
【０００７】
また、従来の第２の装置では、乾燥溶剤を再生するために溶剤再生装置への液送時間と、再生処理部での再生時間と、再生した乾燥溶剤を基板処理装置に戻す液送時間とがかかり、やはり次の基板を処理するまでに長時間を要する。さらに、溶剤を再生するために、５回程度という少ない処理回数であるので、これも次の基板を処理するまでに長時間を要する原因となっている。したがって、基板処理装置のスループットが低下するという同様の問題を抱えている。
【０００８】
なお、溶剤再生装置内における再生処理部の上流側にバッファファンクを備え、再生する乾燥溶剤を一時的にバッファタンクに溜めておくことが考えられる。しかしながら、基板処理装置からバッファタンクへ乾燥溶剤を送る液送時間の間は基板処理装置で基板を処理することができないので、やはり基板処理装置のスループットが低下することを避けられない。
【０００９】
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、乾燥溶剤の再生手順を工夫することにより、スループットを向上させることができる基板処理装置及び溶剤再生方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、基板に対して液体の乾燥溶剤を供給して乾燥処理を行う基板処理装置において、乾燥溶剤を貯留し、基板を収容する処理槽と、乾燥溶剤を貯留する複数個の貯留タンクと、前記全ての貯留タンクと前記処理槽とを連通接続し、前記処理槽に乾燥溶剤を供給する供給配管と、前記処理槽と前記全ての貯留タンクとを連通接続し、前記処理槽から乾燥溶剤を回収する回収配管と、を備えている乾燥処理装置と、乾燥溶剤から純水成分を除去する再生処理部と、前記全ての貯留タンクと前記再生処理部とを連通接続し、前記再生処理部に乾燥溶剤を送る再生送り配管と、前記再生処理部と前記全ての貯留タンクとを連通接続し、前記再生処理部から乾燥溶剤を戻す再生戻り配管と、を備えている溶剤再生装置と、前記複数個の貯留タンクのうちいずれか一つを対象貯留タンクとし、前記対象貯留タンクのみから前記処理槽に乾燥溶剤を供給して、前記処理槽にて基板を乾燥処理させ、前記対象貯留タンクの乾燥溶剤が寿命に達した場合には、前記処理槽における基板の処理が終了した後、前記対象貯留タンクとは異なる一つの貯留タンクを新たな対象貯留タンクとし、前記新たな対象貯留タンクのみから前記処理槽に乾燥溶剤を供給して、前記処理槽にて次の基板を処理させるとともに、前記対象貯留タンクから前記溶剤再生装置に乾燥溶剤を供給して再生処理を行わせる制御部と、を備えていることを特徴とするものである。
【００１１】
［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、制御部は、複数個の貯留タンクのうちいずれか一つを対象貯留タンクとし、この対象貯留タンクだけから処理槽に乾燥溶剤を供給して、処理槽にて基板を乾燥処理させる。そして、この対象貯留タンクの乾燥溶剤が寿命に達した場合には、基板の処理が終了した後、対象貯留タンクとは異なる一つの貯留タンクを新たな対象貯留タンクとし、新たな対象貯留タンクだけから処理槽に乾燥溶剤を供給して、処理槽にて次の基板を処理させる。これとともに、制御部は、対象貯留タンクから溶剤再生装置に乾燥溶剤を供給して再生処理を行わせるので、再生処理に伴って基板処理装置における処理を中断する必要がなく、基板処理装置のスループットを向上させることができる。
【００１２】
また、本発明において、前記貯留タンクごとに基板の処理に使用した回数を計数する計数手段をさらに備え、前記制御部は、前記計数手段による計数値に基づき、乾燥溶剤の寿命を判断することが好ましい（請求項２）。基板を処理する際に、基板に付着していた純水が乾燥溶剤に混入するので、ある一定回数の処理を行った時点で再生処理を行うのが好ましい。そこで、計数手段により基板を処理した回数を計数し、この回数に基づき制御部が寿命を判断することで、適切なタイミングで乾燥溶剤の再生処理を行うことができる。
【００１３】
また、本発明において、前記複数個の貯留タンクは、乾燥溶剤を貯留する第１の貯留タンクと、乾燥溶剤を貯留する第２の貯留タンクとの二つの貯留タンクであって、前記供給配管は、前記処理槽への連通元を前記第１の貯留タンクまたは前記第２の貯留に切り換える第１の三方弁を備え、前記回収配管は、前記処理槽からの連通先を前記第１の貯留タンクまたは前記第２の貯留タンクに切り換える第２の三方弁を備え、前記再生送り配管は、前記溶剤再生装置への連通元を前記第１の貯留タンクまたは前記第２の貯留タンクに切り換える第３の三方弁を備え、前記再生戻り配管は、前記溶剤再生装置からの連通先を前記第１の貯留タンクまたは前記第２の貯留タンクに切り換える第４の三方弁を備え、前記制御部は、前記第１の三方弁と、前記第２の三方弁と、前記第３の三方弁と、前記第４の三方弁とを操作することが好ましい（請求項３）。第１の三方弁と、第２の三方弁と、第３の三方弁と、第４の三方弁とを制御部が操作することにより、第１の貯留タンクと第２の貯留タンクとを切り換えて処理槽へ乾燥溶剤を供給させるとともに、これに合わせて第１の貯留タンクと第２の貯留タンクから溶剤再生装置へ乾燥溶剤を供給させることができる。したがって、制御を容易に行うことができる。
【００１４】
また、本発明において、前記乾燥溶剤は、第１の溶剤と第２の溶剤とを混合してなり、前記溶剤再生装置は、前記再生送り配管が連通接続され、乾燥溶剤から純水成分を除去する水分除去タンクと、前記水分除去タンクに連通接続され、純水成分が除去された乾燥溶剤を貯留する再生タンクと、前記再生タンクに第１の溶剤を供給する第１の溶剤供給手段と、前記再生タンクに第２の溶剤を供給する第２の溶剤供給手段と、前記再生タンク内に貯留している乾燥溶剤における第１の溶剤または第２の溶剤の濃度を検出する濃度検出手段と、を備え、前記制御部は、前記再生タンクにおける濃度を前記濃度検出手段により検出し、その検出値に基づいて前記第１の溶剤供給手段または前記第２の溶剤供給手段を操作して、前記再生タンク内の乾燥溶剤の濃度を調整することが好ましい（請求項４）。処理槽で使用するにしたがって、第１の溶剤と第２の溶剤の比率が変動したり、揮発したり等によって液量が減少する。制御部が濃度検出手段の検出結果に基づいて第１の溶剤と第２の溶剤を再生タンクに供給させることにより、乾燥溶剤の成分濃度及び液量を適切に維持させることができ、乾燥処理を好適に行わせることができる。
【００１５】
また、請求項５に記載の発明は、基板処理装置で使用した液体の乾燥溶剤を再生する溶剤再生方法において、複数個の貯留タンクのうちいずれか一つの貯留タンクを対象貯留タンクとし、前記対象貯留タンクから乾燥溶剤を処理槽に供給する過程と、前記対象貯留タンクの乾燥溶剤が寿命に達したか否かを判断する過程と、乾燥溶剤が寿命に達した場合には、前記対象貯留タンクとは異なる一つの溶剤タンクを新たな対象貯留タンクとし、前記新たな対象貯留タンクから乾燥溶剤を処理槽に供給するとともに、前記対象貯留タンクから溶剤再生装置に乾燥溶剤を送る過程と、前記溶剤再生装置にて乾燥溶剤を再生する過程と、前記再生した乾燥溶剤を前記対象貯留タンクに戻す過程と、を備えていることを特徴とするものである。
【００１６】
［作用・効果］請求項５に記載の発明によれば、複数個の貯留タンクのうちのいずれか一つを対象貯留タンクとし、この対象貯留タンクから乾燥溶剤を処理槽に供給し、乾燥溶剤が寿命に達したと判断した場合には、新たな対象溶剤タンクから処理槽に乾燥溶剤を供給して基板に対する処理を行う。これにより乾燥溶剤が寿命となって再生が必要となっても基板への処理を継続することができる。また、対象溶剤タンクから溶剤再生装置に乾燥溶剤を送り、溶剤再生装置で乾燥溶剤を再生し、再生した乾燥溶剤を対象貯留タンクへ戻すので、寿命となった乾燥溶剤の次の使用に備えることができる。したがって、乾燥溶剤の再生処理に伴って基板処理装置における処理を中断する必要がなく、基板処理装置のスループットを向上させることができる。
【００１７】
また、本発明において、前記対象貯留タンクの乾燥溶剤が寿命に達したか否かを判断する過程の前に、前記対象貯留タンクから乾燥溶剤を処理槽に供給する度に使用回数を計数する過程を含むことが好ましい（請求項６）。
【発明の効果】
【００１８】
本発明に係る基板処理装置によれば、制御部は、複数個の貯留タンクのうちいずれか一つを対象貯留タンクとし、この対象貯留タンクだけから処理槽に乾燥溶剤を供給して、処理槽にて基板を乾燥処理させる。そして、この対象貯留タンクの乾燥溶剤が寿命に達した場合には、基板の処理が終了した後、対象貯留タンクとは異なる一つの貯留タンクを新たな対象貯留タンクとし、新たな対象貯留タンクだけから処理槽に乾燥溶剤を供給して、処理槽にて次の基板を処理させる。これとともに、制御部は、対象貯留タンクから溶剤再生装置に乾燥溶剤を供給して再生処理を行わせるので、再生処理に伴って基板処理装置における処理を中断する必要がなく、基板処理装置のスループットを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】実施例に係る基板処理装置を示す概略構成図である。
【図２】三方弁の制御タイミング例を示すタイムチャートである。
【図３】乾燥溶剤の流れを示す模式図であり、（ａ）は第１の貯留タンクの使用時であり、（ｂ）は第２の貯留タンクの使用時である。
【図４】全体動作を示すフローチャートである。
【図５】再生処理を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、図面を参照してこの発明の一実施例について説明する。
図１は、実施例に係る基板処理装置を示す概略構成図である。
【００２１】
本実施例に係る基板処理装置は、乾燥処理装置１と溶剤再生装置３とを備えている。乾燥処理装置１は、他の装置で純水等により洗浄された基板Ｗが搬入され、その基板Ｗに対して、液体の乾燥溶剤により乾燥処理を行う。溶剤再生装置３は、乾燥処理装置１で使用された乾燥溶剤に含まれる純水成分を除去して、乾燥溶剤の再生処理を行う。
【００２２】
乾燥処理装置１は、処理槽５を備えている。この処理槽５は、乾燥溶剤を貯留し、基板Ｗを収容して基板Ｗに対して乾燥処理を行う。乾燥溶剤としては、例えば、ＨＦＥ（ハイドロフルオロエーテル）などが挙げられるが、ここでは、例えば、５％のＩＰＡ（イソプロピルアルコール）と９５％のＨＦＥとを含む乾燥溶剤であるとして説明する。処理槽５に対しては、図示しないリフタにより、処理槽５の内部にあたる処理位置（図１に示す位置）と、処理槽５の外部にあたる待機位置（不図示）とにわたって移動される。また、処理槽５は、側部に注入口７と底部に排出口９とを備えている。
【００２３】
本実施例における乾燥処理装置１は、乾燥溶剤を貯留するタンクとして、二つの貯留タンクを備えている。具体的には、第１の貯留タンク１１と第２の貯留タンク１３とを備えている。
【００２４】
第１の貯留タンク１１は、第１の送り口１５と、第１の戻り口１７と、第２の送り口１９と、第２の戻り口２１とを備えている。第１の送り口１５と注入口７とは、供給配管２３によって連通接続されている。第１の戻り口１７と排出口９とは、回収配管２５によって連通接続されている。供給配管２３には、三方弁Ｖ１と、ポンプ２９と、フィルタ３１と、流量計３３とが上流側から順に取り付けられている。回収配管２５には、三方弁Ｖ２が取り付けられている。
【００２５】
第２の貯留タンク１３は、第１の送り口３５と、第１の戻り口３７と、第２の送り口３９と、第２の戻り口４１とを備えている。第１の送り口３５と三方弁Ｖ１とは、分岐管４３により連通接続されている。第１の戻り口３７と三方弁Ｖ２とは、分岐管４５によって連通接続されている。
【００２６】
乾燥処理装置１は、第１のカウンタ４７と、第２のカウンタ４９と、制御部５１とを備えている。第１のカウンタ４７は、第１の貯留タンク１１の乾燥溶剤で基板Ｗが処理された回数を計数し、第２のカウンタ４９は、第２の貯留タンク１３の乾燥溶剤で基板Ｗが処理された回数を計数する。第１のカウンタ４７及び第２のカウンタ４９の計数値は、制御部５１によって適宜参照される。また、制御部５１は、第１のカウンタ４７及び第２のカウンタ４９のリセットやインクリメント等の計数制御、図示しないリフタの昇降制御、上述した三方弁Ｖ１，Ｖ２及び後述する三方弁（Ｖ３，Ｖ４）の切換制御、上述したポンプ２９及び後述するポンプ（７１，８７）、後述する流量制御弁（９３，９９）の動作制御などを統括的に行う。
【００２７】
なお、三方弁Ｖ１が本発明における「第１の三方弁」に相当し、三方弁Ｖ２が「第２の三方弁」に相当し、三方弁Ｖ３が「第３の三方弁」に相当し、三方弁Ｖ４が「第４の三方弁」に相当する。また、第１のカウンタ４７と第２のカウンタ４９とが本発明における「計数手段」に相当する。
【００２８】
溶剤再生装置３は、水分除去タンク６１と再生タンク６３とを備えている。水分除去タンク６１は、取込口６５と取り出し口６７とを有する。水分除去タンク６１は、取込口６５から乾燥溶剤を取り込み、乾燥溶剤に含まれている純水成分を除去して取り出し口６７から排出する。取込口６５と、第1の貯留タンク１１の第２の送り口１９とは、再生送り配管６９によって連通接続されている。再生送り配管６９には、第１の貯留タンク１１側から順に、三方弁Ｖ３と、ポンプ７１とが取り付けられている。三方弁Ｖ３は、分岐管７３を介して、第２の貯留タンク１３の第２の送り口３９にも連通接続されている。
【００２９】
なお、水分除去タンク６１は、例えば、超極細濾過フィルタを備え、純水と乾燥溶剤との比重の違いに基づき、それらを分離する油水分離フィルタや、モレキュラーシーブ、活性炭、アルミナ等で構成され、乾燥溶剤中に含まれている微量の純水をも吸着する吸着フィルタなどを組み合わせて構成されている。
【００３０】
再生タンク６３は、取込口７５と、取り出し口７７と、二つの注入口７９，８１とを備えている。取込口７５と、水分除去タンク６１の取り出し口６７とは、連結管８３によって連通接続されている。取り出し口７７と、第１の貯留タンク１１の第２の戻り口２１とは、再生戻り配管８５で連通接続されている。この再生戻り配管８５には、取り出し口７７側から順に、ポンプ８７と、三方弁Ｖ４とが取り付けられている。三方弁Ｖ４は、分岐管８７を介して第２の戻り口４１に連通接続されている。
【００３１】
なお、水分除去タンク６１と再生タンク６３とが本発明における「再生処理部」に相当する。
【００３２】
例えば、ＩＰＡを貯留している第１の溶剤供給源８９は、流量調整弁９３が取り付けられた供給管９５を介して注入口７９に連通接続されている。また、例えば、ＨＦＥを貯留している第２の溶剤供給源９７は、流量調整弁９９が取り付けられた供給管１０１を介して注入口８１に連通接続されている。各流量調整弁９３，９９は、制御部５１により制御される。また、再生タンク６３は、内部に貯留している乾燥溶剤における、ＩＰＡまたはＨＦＥの濃度を測定する濃度計１０３を備えている。
【００３３】
なお、第１の溶剤供給源８９が本発明における「第１の溶剤供給手段」に相当し、第２の溶剤供給源９７が本発明における「第２の溶剤供給手段」に相当する。
【００３４】
制御部５１は、濃度計１０３からの検出値に基づき、流量調整弁９３，９９を操作して、再生タンク６３内の乾燥溶剤が所定の濃度となるように調整を行う。
【００３５】
次に、図２〜図５を参照して、上述した基板処理装置の動作について説明する。なお、図２は三方弁の制御タイミング例を示すタイムチャートであり、図３は乾燥溶剤の流れを示す模式図であり、（ａ）は第１の貯留タンクの使用時であり、（ｂ）は第２の貯留タンクの使用時である。また、図４は全体動作を示すフローチャートであり、図５は再生処理を示すフローチャートである。
【００３６】
なお、初期状態は次のような状態であるとする。
第１の貯留タンク１１と第２の貯留タンク１３には、新規の乾燥溶剤が貯留されており、第１の貯留タンク１１から乾燥溶剤を供給して乾燥処理を行う。また、その際、第２の貯留タンク１３の乾燥溶剤が「再生処理」可能な状態になっているが、その処理は行われない。つまり、三方弁Ｖ３，Ｖ４は、第２の貯留タンク１３側に切り換えられているが、ポンプ７１が作動されておらず、乾燥溶剤が溶剤再生装置３には送られていない。
【００３７】
ステップＳ１〜Ｓ３
制御部５１は、三方弁Ｖ１，Ｖ２を第１の貯留タンク１１側に切り換えるとともに、三方弁Ｖ３，Ｖ４を第２の貯留タンク１３側に切り換える（図２のｔ０時点）。そして、ポンプ２９を作動させて第１の貯留タンク１１内の乾燥溶剤を処理槽５に供給して基板Ｗに乾燥処理を行いつつ、処理槽５から乾燥溶剤を回収する（ステップＳ１）。なお、この状態を図３（ａ）に示す。さらに第１のカウンタ４７を操作して、計数値をインクリメントする（ステップＳ２）。そして、第１のカウンタ４７が規定値（例えば、５回）に達したか否かによって処理を分岐する（ステップＳ３）。ここでは、第１のカウンタ４７が規定値に達していない（アップしていない）として説明する。
【００３８】
なお、この時点における第１の貯留タンク１１が本発明における「対象貯留タンク」に相当する。
【００３９】
ステップＳ４
制御部５１は、未処理の基板Ｗがあるか否かにより処理を分岐する。ここでは、未処理の基板Ｗがあるものとする。
【００４０】
ステップＳ１〜Ｓ４
制御部５１は、三方弁Ｖ１〜Ｖ４の状態を維持したまま、第１のカウンタ４７がアップするまで順次に基板Ｗを処理する。
【００４１】
次に、ステップＳ３において第１のカウンタ４７がアップしたとする。
【００４２】
ステップＳ５
制御部５１は、処理済みの基板Ｗを搬出し、次なる基板Ｗを搬入する間に、ポンプ２９を停止させるとともに三方弁Ｖ１，Ｖ２を第２の貯留タンク１３側に切り換え、さらに三方弁Ｖ３，Ｖ４を第１の貯留タンク１１側に切り換える（図２のｔ１時点）。さらに、制御部５１は、ポンプ７１を作動させて、第１の貯留タンク１１内の乾燥溶剤を溶剤再生装置３に送る。溶剤再生装置３における「再生処理」については後述する。
【００４３】
ステップＳ６〜Ｓ８
制御部５１は、処理槽５に次なる基板Ｗが搬入されたことを確認した後、ポンプ２９を作動させて、第２の貯留タンク１３から乾燥溶剤を処理槽５に供給するとともに、処理槽５から乾燥溶剤を回収して、乾燥溶剤を循環させつつ基板Ｗに乾燥処理を行う（ステップＳ６）。なお、この状態を図３（ｂ）に示す。さらに、第２のカウンタ４９を操作して、計数値をインクリメントする（ステップＳ７）。そして、第２のカウンタ４９が規定値（例えば、５回）に達したか否かによって処理を分岐する（ステップＳ８）。
【００４４】
なお、この時点における第２の貯留タンク１３が本発明における「対象貯留タンク」に相当する。
【００４５】
ステップＳ９
制御部５１は、未処理の基板Ｗがあるか否かにより処理を分岐する。ここでは、未処理の基板Ｗがあるものとする。
【００４６】
ステップＳ６〜Ｓ９
制御部５１は、三方弁Ｖ１〜Ｖ４の状態を維持したまま、第２のカウンタ４９がアップするまで順次に基板Ｗを処理してゆく。
【００４７】
上記ステップＳ６〜Ｓ９を繰り返し実行するうちに、ステップＳ８において第２のカウンタ４９がアップしたとする。
【００４８】
ステップＳ１０
制御部５１は、第２のカウンタ４９がアップしたことを受けて、処理済みの基板Ｗを処理槽５から搬出し、次なる基板Ｗを搬入する間に、ポンプ２９を停止させるとともに、三方弁Ｖ１，Ｖ２を第１の貯留タンク１１側に切り換え、さらに三方弁Ｖ３，Ｖ４を第２の貯留タンク１３側に切り換える（図２のｔ２時点）。さらに、制御部５１は、ポンプ７１を作動させて、第２の貯留タンク１３内の乾燥溶剤を溶剤再生装置３に送る。なお、この状態を図３（ａ）に示す。
【００４９】
図５を参照して、上記ステップＳ５における「再生処理」について説明する。
【００５０】
ステップＳ５１
制御部５１は、三方弁Ｖ３，Ｖ４を第１の貯留タンク１１側に切り換える（図２のｔ１時点）とともに、ポンプ７１を作動させて、第１の貯留タンク１１の乾燥溶剤を溶剤再生装置３に送る。
【００５１】
ステップＳ５２
溶剤再生装置３に送られた乾燥溶剤は、水分除去タンク６１にて純水成分が除去され、再生タンク６３に送られる。水分除去タンク６１は、例えば、図示しない油水分離フィルタに対して乾燥溶剤を繰り返し通して純水成分をおおまかに除去した後、図示しない吸着フィルタで僅かに残った純水成分を除去することが好ましい。純水成分が多いままで吸着フィルタに乾燥溶剤を通過させると、吸着フィルタの寿命が早まるからである。
【００５２】
ステップＳ５３
制御部５１は、純水成分が除去されて再生タンク６３に送られた乾燥溶剤の溶剤濃度を濃度計１０３により測定する。そして、必要に応じて、第１の溶剤供給源８９からＩＰＡを補充し、第２の溶剤供給源９７からＨＦＥを補充する。
【００５３】
ステップＳ５４
溶剤を補充して成分調整が終わった後、ポンプ８７を作動させて再生タンク６３内の再生された乾燥溶剤を第１の貯留タンク１１に戻す。
【００５４】
なお、上記ステップＳ１０における「再生処理」は、三方弁Ｖ３，Ｖ４を第２の貯留タンク１３側に切り換えて、第２の貯留タンク１３から乾燥溶剤を回収するとともに、再生済みの乾燥溶剤を第２の貯留タンク１３に戻す点が異なるだけである。
【００５５】
上述したように、本実施例によると、制御部５１は、第１の貯留タンク１１と第２の貯留タンク１３の一方だけから処理槽５に乾燥溶剤を供給して、処理槽５にて基板Ｗを乾燥処理させる。そして、乾燥溶剤を供給した第１の貯留タンク１５の乾燥溶剤が寿命に達した場合には、基板Ｗの処理が終了した後、第１の貯留タンク１５とは異なる第２の貯留タンク１３だけから処理槽５に乾燥溶剤を供給して、処理槽５にて次の基板Ｗを処理させる。これとともに、制御部５１は、第１の貯留タンク１１から溶剤再生装置３に乾燥溶剤を供給して再生処理を行わせるので、再生処理に伴って基板処理装置の乾燥処理装置１における処理を中断する必要がなく、基板処理装置のスループットを向上させることができる。
【００５６】
また、第１のカウンタ４７及び第２のカウンタ４９により基板Ｗを処理した回数を計数し、この回数に基づき制御部５１が寿命を判断することで、適切なタイミングで乾燥溶剤の再生処理を行うことができる。
【００５７】
さらに、制御部５１が三方弁Ｖ１〜Ｖ４を操作することにより、第１の貯留タンク１１と第２の貯留タンク１３とを切り換えて処理槽５へ乾燥溶剤を供給させるとともに、これに合わせて第１の貯留タンク１１と第２の貯留タンク１３から溶剤再生装置３へ乾燥溶剤を供給させることができる。したがって、制御部５１が制御を容易に行うことができる。
【００５８】
また、制御部５１が濃度計１０３の検出結果に基づいてＩＰＡとＨＦＥを再生タンク６３に供給させることにより、乾燥溶剤の成分濃度及び液量を適切に維持させることができ、乾燥処理を好適に行わせることができる。
【００５９】
この発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００６０】
（１）上述した実施例では、計数手段により乾燥溶剤の使用回数を監視しているが、例えば、乾燥溶剤が生成されてからの経過時間を監視するようにしてもよい。これにより、使用しなくても揮発等により寿命となる乾燥溶剤について、その再生要否を好適に管理できる。
【００６１】
（２）上述した実施例では、第１の溶剤としてＩＰＡ、第２の溶剤としてＨＦＥを含む乾燥溶剤を例にとって説明したが、例えば、ＨＦＥだけを含む乾燥溶剤であってもよい。また、乾燥溶剤としては、ＨＦＥに限定されるものではなく、例えば、フッ素系溶剤であるＨＦＣ（ハイドロフルオロカーボン）であってもよい。
【００６２】
（３）上述した実施例では、単一の処理槽５を例示したが、内槽と、内槽から溢れた乾燥溶剤を回収する外槽とを備えた処理槽であってもよい。
【００６３】
（４）上述した実施例では、二つの貯留タンクを例にとって説明したが、例えば、３個以上の貯留タンクを備えるようにしてもよい。
【００６４】
（５）上述した実施例では、三方弁Ｖ１〜Ｖ４を採用しているが、二つの開閉弁を組み合わせて構成するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００６５】
Ｗ … 基板
１ … 乾燥処理装置
３ … 溶剤再生装置
５ … 処理槽
１１ … 第１の貯留タンク
１３ … 第２の貯留タンク
２３ … 供給配管
２５ … 回収配管
Ｖ１〜Ｖ４ … 三方弁
４７ … 第１のカウンタ
４９ … 第２のカウンタ
５１ … 制御部
６１ … 水分除去タンク
６３ … 再生タンク
６９ … 再生送り配管
７１ … 再生戻り配管
８９ … 第１の溶剤供給源
９７ … 第２の溶剤供給源
１０３ … 濃度計
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板（以下、単に基板と称する）等の基板に対して乾燥処理を行う基板処理装置及びその溶剤再生方法に係り、特に、乾燥のために用いられる液体の乾燥溶剤を再生する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の基板処理装置（第１の装置）として、基板を収容する内槽及び内槽から溢れた溶剤を回収する外槽とを備えた処理槽と、外槽と内槽とを連通接続している循環配管と、循環配管に取り付けられた油水分離フィルタと、循環配管に取り付けられ、循環配管中の乾燥溶剤を循環させる循環ポンプとを備えているものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
上記のような構成の装置においては、純水で基板の洗浄を行った後、例えば、ＨＦＥ（ハイドロフルオロエーテル）に少量のＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を混合してなる乾燥溶剤を供給して、処理槽中の純水を乾燥溶剤で置換するとともに、基板に付着している純水を乾燥溶剤で置換する。そして、純水が溶けにくいＨＦＥ中の純水を除去するために、乾燥溶剤を循環配管中で循環させつつ油水分離フィルタでＨＦＥ中の純水を分離させる。そして、ＨＦＥ中の純水がほぼ除去できた時点で、基板を乾燥溶剤中から引き上げ、さらに基板に付着している乾燥溶剤を揮発させることで基板に対して乾燥処理を行っている。
【０００４】
また、基板を乾燥処理する基板処理装置とは別体の溶剤再生装置（第２の装置）として、例えば、基板処理装置から乾燥溶剤を溶剤再生装置が取り込むための取り込み配管と、再生処理を行う再生処理部と、再生された乾燥溶剤を再生処理部から基板処理装置に送る戻し配管とを備えたものがある。この装置では、純水洗浄を終えた基板が乾燥溶剤を貯留している処理槽に搬入され、乾燥溶剤が循環されることにより基板に付着している純水が乾燥溶剤によって除去される。そして、所定時間だけ乾燥溶剤を循環させた後、基板を搬出し、順次に基板を処理する。この場合、基板とともに純水が処理槽に持ち込まれるので、所定回数（例えば、５回程度）の処理を終えた時点で、乾燥溶剤の再生を行うために、乾燥溶剤を溶剤再生装置に送る。そして、再生を終えた乾燥溶剤が基処理燥装置に戻され、次の基板が処理される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−２４４０８６号公報（図１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の第１の装置は、油水分離フィルタで乾燥溶剤中の純水を除去するのに長時間を要するので、次の基板を処理するまでに長時間を要する。したがって、基板処理装置のスループットが低下するという問題がある。
【０００７】
また、従来の第２の装置では、乾燥溶剤を再生するために溶剤再生装置への液送時間と、再生処理部での再生時間と、再生した乾燥溶剤を基板処理装置に戻す液送時間とがかかり、やはり次の基板を処理するまでに長時間を要する。さらに、溶剤を再生するために、５回程度という少ない処理回数であるので、これも次の基板を処理するまでに長時間を要する原因となっている。したがって、基板処理装置のスループットが低下するという同様の問題を抱えている。
【０００８】
なお、溶剤再生装置内における再生処理部の上流側にバッファファンクを備え、再生する乾燥溶剤を一時的にバッファタンクに溜めておくことが考えられる。しかしながら、基板処理装置からバッファタンクへ乾燥溶剤を送る液送時間の間は基板処理装置で基板を処理することができないので、やはり基板処理装置のスループットが低下することを避けられない。
【０００９】
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、乾燥溶剤の再生手順を工夫することにより、スループットを向上させることができる基板処理装置及び溶剤再生方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、基板に対して液体の乾燥溶剤を供給して乾燥処理を行う基板処理装置において、乾燥溶剤を貯留し、基板を収容する処理槽と、乾燥溶剤を貯留する複数個の貯留タンクと、前記全ての貯留タンクと前記処理槽とを連通接続し、前記処理槽に乾燥溶剤を供給する供給配管と、前記処理槽と前記全ての貯留タンクとを連通接続し、前記処理槽から乾燥溶剤を回収する回収配管と、を備えている乾燥処理装置と、乾燥溶剤から純水成分を除去する再生処理部と、前記全ての貯留タンクと前記再生処理部とを連通接続し、前記再生処理部に乾燥溶剤を送る再生送り配管と、前記再生処理部と前記全ての貯留タンクとを連通接続し、前記再生処理部から乾燥溶剤を戻す再生戻り配管と、を備えている溶剤再生装置と、前記複数個の貯留タンクのうちいずれか一つを対象貯留タンクとし、前記対象貯留タンクのみから前記処理槽に乾燥溶剤を供給して、前記処理槽にて基板を乾燥処理させ、前記対象貯留タンクの乾燥溶剤が寿命に達した場合には、前記処理槽における基板の処理が終了した後、前記対象貯留タンクとは異なる一つの貯留タンクを新たな対象貯留タンクとし、前記新たな対象貯留タンクのみから前記処理槽に乾燥溶剤を供給して、前記処理槽にて次の基板を処理させるとともに、前記対象貯留タンクから前記溶剤再生装置に乾燥溶剤を供給して再生処理を行わせる制御部と、を備えていることを特徴とするものである。
【００１１】
［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、制御部は、複数個の貯留タンクのうちいずれか一つを対象貯留タンクとし、この対象貯留タンクだけから処理槽に乾燥溶剤を供給して、処理槽にて基板を乾燥処理させる。そして、この対象貯留タンクの乾燥溶剤が寿命に達した場合には、基板の処理が終了した後、対象貯留タンクとは異なる一つの貯留タンクを新たな対象貯留タンクとし、新たな対象貯留タンクだけから処理槽に乾燥溶剤を供給して、処理槽にて次の基板を処理させる。これとともに、制御部は、対象貯留タンクから溶剤再生装置に乾燥溶剤を供給して再生処理を行わせるので、再生処理に伴って基板処理装置における処理を中断する必要がなく、基板処理装置のスループットを向上させることができる。
【００１２】
また、本発明において、前記貯留タンクごとに基板の処理に使用した回数を計数する計数手段をさらに備え、前記制御部は、前記計数手段による計数値に基づき、乾燥溶剤の寿命を判断することが好ましい（請求項２）。基板を処理する際に、基板に付着していた純水が乾燥溶剤に混入するので、ある一定回数の処理を行った時点で再生処理を行うのが好ましい。そこで、計数手段により基板を処理した回数を計数し、この回数に基づき制御部が寿命を判断することで、適切なタイミングで乾燥溶剤の再生処理を行うことができる。
【００１３】
また、本発明において、前記複数個の貯留タンクは、乾燥溶剤を貯留する第１の貯留タンクと、乾燥溶剤を貯留する第２の貯留タンクとの二つの貯留タンクであって、前記供給配管は、前記処理槽への連通元を前記第１の貯留タンクまたは前記第２の貯留に切り換える第１の三方弁を備え、前記回収配管は、前記処理槽からの連通先を前記第１の貯留タンクまたは前記第２の貯留タンクに切り換える第２の三方弁を備え、前記再生送り配管は、前記溶剤再生装置への連通元を前記第１の貯留タンクまたは前記第２の貯留タンクに切り換える第３の三方弁を備え、前記再生戻り配管は、前記溶剤再生装置からの連通先を前記第１の貯留タンクまたは前記第２の貯留タンクに切り換える第４の三方弁を備え、前記制御部は、前記第１の三方弁と、前記第２の三方弁と、前記第３の三方弁と、前記第４の三方弁とを操作することが好ましい（請求項３）。第１の三方弁と、第２の三方弁と、第３の三方弁と、第４の三方弁とを制御部が操作することにより、第１の貯留タンクと第２の貯留タンクとを切り換えて処理槽へ乾燥溶剤を供給させるとともに、これに合わせて第１の貯留タンクと第２の貯留タンクから溶剤再生装置へ乾燥溶剤を供給させることができる。したがって、制御を容易に行うことができる。
【００１４】
また、本発明において、前記乾燥溶剤は、第１の溶剤と第２の溶剤とを混合してなり、前記溶剤再生装置は、前記再生送り配管が連通接続され、乾燥溶剤から純水成分を除去する水分除去タンクと、前記水分除去タンクに連通接続され、純水成分が除去された乾燥溶剤を貯留する再生タンクと、前記再生タンクに第１の溶剤を供給する第１の溶剤供給手段と、前記再生タンクに第２の溶剤を供給する第２の溶剤供給手段と、前記再生タンク内に貯留している乾燥溶剤における第１の溶剤または第２の溶剤の濃度を検出する濃度検出手段と、を備え、前記制御部は、前記再生タンクにおける濃度を前記濃度検出手段により検出し、その検出値に基づいて前記第１の溶剤供給手段または前記第２の溶剤供給手段を操作して、前記再生タンク内の乾燥溶剤の濃度を調整することが好ましい（請求項４）。処理槽で使用するにしたがって、第１の溶剤と第２の溶剤の比率が変動したり、揮発したり等によって液量が減少する。制御部が濃度検出手段の検出結果に基づいて第１の溶剤と第２の溶剤を再生タンクに供給させることにより、乾燥溶剤の成分濃度及び液量を適切に維持させることができ、乾燥処理を好適に行わせることができる。
【００１５】
また、請求項５に記載の発明は、基板処理装置で使用した液体の乾燥溶剤を再生する溶剤再生方法において、複数個の貯留タンクのうちいずれか一つの貯留タンクを対象貯留タンクとし、前記対象貯留タンクから乾燥溶剤を処理槽に供給する過程と、前記対象貯留タンクの乾燥溶剤が寿命に達したか否かを判断する過程と、乾燥溶剤が寿命に達した場合には、前記対象貯留タンクとは異なる一つの溶剤タンクを新たな対象貯留タンクとし、前記新たな対象貯留タンクから乾燥溶剤を処理槽に供給するとともに、前記対象貯留タンクから溶剤再生装置に乾燥溶剤を送る過程と、前記溶剤再生装置にて乾燥溶剤を再生する過程と、前記再生した乾燥溶剤を前記対象貯留タンクに戻す過程と、を備えていることを特徴とするものである。
【００１６】
［作用・効果］請求項５に記載の発明によれば、複数個の貯留タンクのうちのいずれか一つを対象貯留タンクとし、この対象貯留タンクから乾燥溶剤を処理槽に供給し、乾燥溶剤が寿命に達したと判断した場合には、新たな対象溶剤タンクから処理槽に乾燥溶剤を供給して基板に対する処理を行う。これにより乾燥溶剤が寿命となって再生が必要となっても基板への処理を継続することができる。また、対象溶剤タンクから溶剤再生装置に乾燥溶剤を送り、溶剤再生装置で乾燥溶剤を再生し、再生した乾燥溶剤を対象貯留タンクへ戻すので、寿命となった乾燥溶剤の次の使用に備えることができる。したがって、乾燥溶剤の再生処理に伴って基板処理装置における処理を中断する必要がなく、基板処理装置のスループットを向上させることができる。
【００１７】
また、本発明において、前記対象貯留タンクの乾燥溶剤が寿命に達したか否かを判断する過程の前に、前記対象貯留タンクから乾燥溶剤を処理槽に供給する度に使用回数を計数する過程を含むことが好ましい（請求項６）。
【発明の効果】
【００１８】
本発明に係る基板処理装置によれば、制御部は、複数個の貯留タンクのうちいずれか一つを対象貯留タンクとし、この対象貯留タンクだけから処理槽に乾燥溶剤を供給して、処理槽にて基板を乾燥処理させる。そして、この対象貯留タンクの乾燥溶剤が寿命に達した場合には、基板の処理が終了した後、対象貯留タンクとは異なる一つの貯留タンクを新たな対象貯留タンクとし、新たな対象貯留タンクだけから処理槽に乾燥溶剤を供給して、処理槽にて次の基板を処理させる。これとともに、制御部は、対象貯留タンクから溶剤再生装置に乾燥溶剤を供給して再生処理を行わせるので、再生処理に伴って基板処理装置における処理を中断する必要がなく、基板処理装置のスループットを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】実施例に係る基板処理装置を示す概略構成図である。
【図２】三方弁の制御タイミング例を示すタイムチャートである。
【図３】乾燥溶剤の流れを示す模式図であり、（ａ）は第１の貯留タンクの使用時であり、（ｂ）は第２の貯留タンクの使用時である。
【図４】全体動作を示すフローチャートである。
【図５】再生処理を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、図面を参照してこの発明の一実施例について説明する。
図１は、実施例に係る基板処理装置を示す概略構成図である。
【００２１】
本実施例に係る基板処理装置は、乾燥処理装置１と溶剤再生装置３とを備えている。乾燥処理装置１は、他の装置で純水等により洗浄された基板Ｗが搬入され、その基板Ｗに対して、液体の乾燥溶剤により乾燥処理を行う。溶剤再生装置３は、乾燥処理装置１で使用された乾燥溶剤に含まれる純水成分を除去して、乾燥溶剤の再生処理を行う。
【００２２】
乾燥処理装置１は、処理槽５を備えている。この処理槽５は、乾燥溶剤を貯留し、基板Ｗを収容して基板Ｗに対して乾燥処理を行う。乾燥溶剤としては、例えば、ＨＦＥ（ハイドロフルオロエーテル）などが挙げられるが、ここでは、例えば、５％のＩＰＡ（イソプロピルアルコール）と９５％のＨＦＥとを含む乾燥溶剤であるとして説明する。処理槽５に対しては、図示しないリフタにより、処理槽５の内部にあたる処理位置（図１に示す位置）と、処理槽５の外部にあたる待機位置（不図示）とにわたって移動される。また、処理槽５は、側部に注入口７と底部に排出口９とを備えている。
【００２３】
本実施例における乾燥処理装置１は、乾燥溶剤を貯留するタンクとして、二つの貯留タンクを備えている。具体的には、第１の貯留タンク１１と第２の貯留タンク１３とを備えている。
【００２４】
第１の貯留タンク１１は、第１の送り口１５と、第１の戻り口１７と、第２の送り口１９と、第２の戻り口２１とを備えている。第１の送り口１５と注入口７とは、供給配管２３によって連通接続されている。第１の戻り口１７と排出口９とは、回収配管２５によって連通接続されている。供給配管２３には、三方弁Ｖ１と、ポンプ２９と、フィルタ３１と、流量計３３とが上流側から順に取り付けられている。回収配管２５には、三方弁Ｖ２が取り付けられている。
【００２５】
第２の貯留タンク１３は、第１の送り口３５と、第１の戻り口３７と、第２の送り口３９と、第２の戻り口４１とを備えている。第１の送り口３５と三方弁Ｖ１とは、分岐管４３により連通接続されている。第１の戻り口３７と三方弁Ｖ２とは、分岐管４５によって連通接続されている。
【００２６】
乾燥処理装置１は、第１のカウンタ４７と、第２のカウンタ４９と、制御部５１とを備えている。第１のカウンタ４７は、第１の貯留タンク１１の乾燥溶剤で基板Ｗが処理された回数を計数し、第２のカウンタ４９は、第２の貯留タンク１３の乾燥溶剤で基板Ｗが処理された回数を計数する。第１のカウンタ４７及び第２のカウンタ４９の計数値は、制御部５１によって適宜参照される。また、制御部５１は、第１のカウンタ４７及び第２のカウンタ４９のリセットやインクリメント等の計数制御、図示しないリフタの昇降制御、上述した三方弁Ｖ１，Ｖ２及び後述する三方弁（Ｖ３，Ｖ４）の切換制御、上述したポンプ２９及び後述するポンプ（７１，８７）、後述する流量制御弁（９３，９９）の動作制御などを統括的に行う。
【００２７】
なお、三方弁Ｖ１が本発明における「第１の三方弁」に相当し、三方弁Ｖ２が「第２の三方弁」に相当し、三方弁Ｖ３が「第３の三方弁」に相当し、三方弁Ｖ４が「第４の三方弁」に相当する。また、第１のカウンタ４７と第２のカウンタ４９とが本発明における「計数手段」に相当する。
【００２８】
溶剤再生装置３は、水分除去タンク６１と再生タンク６３とを備えている。水分除去タンク６１は、取込口６５と取り出し口６７とを有する。水分除去タンク６１は、取込口６５から乾燥溶剤を取り込み、乾燥溶剤に含まれている純水成分を除去して取り出し口６７から排出する。取込口６５と、第1の貯留タンク１１の第２の送り口１９とは、再生送り配管６９によって連通接続されている。再生送り配管６９には、第１の貯留タンク１１側から順に、三方弁Ｖ３と、ポンプ７１とが取り付けられている。三方弁Ｖ３は、分岐管７３を介して、第２の貯留タンク１３の第２の送り口３９にも連通接続されている。
【００２９】
なお、水分除去タンク６１は、例えば、超極細濾過フィルタを備え、純水と乾燥溶剤との比重の違いに基づき、それらを分離する油水分離フィルタや、モレキュラーシーブ、活性炭、アルミナ等で構成され、乾燥溶剤中に含まれている微量の純水をも吸着する吸着フィルタなどを組み合わせて構成されている。
【００３０】
再生タンク６３は、取込口７５と、取り出し口７７と、二つの注入口７９，８１とを備えている。取込口７５と、水分除去タンク６１の取り出し口６７とは、連結管８３によって連通接続されている。取り出し口７７と、第１の貯留タンク１１の第２の戻り口２１とは、再生戻り配管８５で連通接続されている。この再生戻り配管８５には、取り出し口７７側から順に、ポンプ８７と、三方弁Ｖ４とが取り付けられている。三方弁Ｖ４は、分岐管８７を介して第２の戻り口４１に連通接続されている。
【００３１】
なお、水分除去タンク６１と再生タンク６３とが本発明における「再生処理部」に相当する。
【００３２】
例えば、ＩＰＡを貯留している第１の溶剤供給源８９は、流量調整弁９３が取り付けられた供給管９５を介して注入口７９に連通接続されている。また、例えば、ＨＦＥを貯留している第２の溶剤供給源９７は、流量調整弁９９が取り付けられた供給管１０１を介して注入口８１に連通接続されている。各流量調整弁９３，９９は、制御部５１により制御される。また、再生タンク６３は、内部に貯留している乾燥溶剤における、ＩＰＡまたはＨＦＥの濃度を測定する濃度計１０３を備えている。
【００３３】
なお、第１の溶剤供給源８９が本発明における「第１の溶剤供給手段」に相当し、第２の溶剤供給源９７が本発明における「第２の溶剤供給手段」に相当する。
【００３４】
制御部５１は、濃度計１０３からの検出値に基づき、流量調整弁９３，９９を操作して、再生タンク６３内の乾燥溶剤が所定の濃度となるように調整を行う。
【００３５】
次に、図２〜図５を参照して、上述した基板処理装置の動作について説明する。なお、図２は三方弁の制御タイミング例を示すタイムチャートであり、図３は乾燥溶剤の流れを示す模式図であり、（ａ）は第１の貯留タンクの使用時であり、（ｂ）は第２の貯留タンクの使用時である。また、図４は全体動作を示すフローチャートであり、図５は再生処理を示すフローチャートである。
【００３６】
なお、初期状態は次のような状態であるとする。
第１の貯留タンク１１と第２の貯留タンク１３には、新規の乾燥溶剤が貯留されており、第１の貯留タンク１１から乾燥溶剤を供給して乾燥処理を行う。また、その際、第２の貯留タンク１３の乾燥溶剤が「再生処理」可能な状態になっているが、その処理は行われない。つまり、三方弁Ｖ３，Ｖ４は、第２の貯留タンク１３側に切り換えられているが、ポンプ７１が作動されておらず、乾燥溶剤が溶剤再生装置３には送られていない。
【００３７】
ステップＳ１〜Ｓ３
制御部５１は、三方弁Ｖ１，Ｖ２を第１の貯留タンク１１側に切り換えるとともに、三方弁Ｖ３，Ｖ４を第２の貯留タンク１３側に切り換える（図２のｔ０時点）。そして、ポンプ２９を作動させて第１の貯留タンク１１内の乾燥溶剤を処理槽５に供給して基板Ｗに乾燥処理を行いつつ、処理槽５から乾燥溶剤を回収する（ステップＳ１）。なお、この状態を図３（ａ）に示す。さらに第１のカウンタ４７を操作して、計数値をインクリメントする（ステップＳ２）。そして、第１のカウンタ４７が規定値（例えば、５回）に達したか否かによって処理を分岐する（ステップＳ３）。ここでは、第１のカウンタ４７が規定値に達していない（アップしていない）として説明する。
【００３８】
なお、この時点における第１の貯留タンク１１が本発明における「対象貯留タンク」に相当する。
【００３９】
ステップＳ４
制御部５１は、未処理の基板Ｗがあるか否かにより処理を分岐する。ここでは、未処理の基板Ｗがあるものとする。
【００４０】
ステップＳ１〜Ｓ４
制御部５１は、三方弁Ｖ１〜Ｖ４の状態を維持したまま、第１のカウンタ４７がアップするまで順次に基板Ｗを処理する。
【００４１】
次に、ステップＳ３において第１のカウンタ４７がアップしたとする。
【００４２】
ステップＳ５
制御部５１は、処理済みの基板Ｗを搬出し、次なる基板Ｗを搬入する間に、ポンプ２９を停止させるとともに三方弁Ｖ１，Ｖ２を第２の貯留タンク１３側に切り換え、さらに三方弁Ｖ３，Ｖ４を第１の貯留タンク１１側に切り換える（図２のｔ１時点）。さらに、制御部５１は、ポンプ７１を作動させて、第１の貯留タンク１１内の乾燥溶剤を溶剤再生装置３に送る。溶剤再生装置３における「再生処理」については後述する。
【００４３】
ステップＳ６〜Ｓ８
制御部５１は、処理槽５に次なる基板Ｗが搬入されたことを確認した後、ポンプ２９を作動させて、第２の貯留タンク１３から乾燥溶剤を処理槽５に供給するとともに、処理槽５から乾燥溶剤を回収して、乾燥溶剤を循環させつつ基板Ｗに乾燥処理を行う（ステップＳ６）。なお、この状態を図３（ｂ）に示す。さらに、第２のカウンタ４９を操作して、計数値をインクリメントする（ステップＳ７）。そして、第２のカウンタ４９が規定値（例えば、５回）に達したか否かによって処理を分岐する（ステップＳ８）。
【００４４】
なお、この時点における第２の貯留タンク１３が本発明における「対象貯留タンク」に相当する。
【００４５】
ステップＳ９
制御部５１は、未処理の基板Ｗがあるか否かにより処理を分岐する。ここでは、未処理の基板Ｗがあるものとする。
【００４６】
ステップＳ６〜Ｓ９
制御部５１は、三方弁Ｖ１〜Ｖ４の状態を維持したまま、第２のカウンタ４９がアップするまで順次に基板Ｗを処理してゆく。
【００４７】
上記ステップＳ６〜Ｓ９を繰り返し実行するうちに、ステップＳ８において第２のカウンタ４９がアップしたとする。
【００４８】
ステップＳ１０
制御部５１は、第２のカウンタ４９がアップしたことを受けて、処理済みの基板Ｗを処理槽５から搬出し、次なる基板Ｗを搬入する間に、ポンプ２９を停止させるとともに、三方弁Ｖ１，Ｖ２を第１の貯留タンク１１側に切り換え、さらに三方弁Ｖ３，Ｖ４を第２の貯留タンク１３側に切り換える（図２のｔ２時点）。さらに、制御部５１は、ポンプ７１を作動させて、第２の貯留タンク１３内の乾燥溶剤を溶剤再生装置３に送る。なお、この状態を図３（ａ）に示す。
【００４９】
図５を参照して、上記ステップＳ５における「再生処理」について説明する。
【００５０】
ステップＳ５１
制御部５１は、三方弁Ｖ３，Ｖ４を第１の貯留タンク１１側に切り換える（図２のｔ１時点）とともに、ポンプ７１を作動させて、第１の貯留タンク１１の乾燥溶剤を溶剤再生装置３に送る。
【００５１】
ステップＳ５２
溶剤再生装置３に送られた乾燥溶剤は、水分除去タンク６１にて純水成分が除去され、再生タンク６３に送られる。水分除去タンク６１は、例えば、図示しない油水分離フィルタに対して乾燥溶剤を繰り返し通して純水成分をおおまかに除去した後、図示しない吸着フィルタで僅かに残った純水成分を除去することが好ましい。純水成分が多いままで吸着フィルタに乾燥溶剤を通過させると、吸着フィルタの寿命が早まるからである。
【００５２】
ステップＳ５３
制御部５１は、純水成分が除去されて再生タンク６３に送られた乾燥溶剤の溶剤濃度を濃度計１０３により測定する。そして、必要に応じて、第１の溶剤供給源８９からＩＰＡを補充し、第２の溶剤供給源９７からＨＦＥを補充する。
【００５３】
ステップＳ５４
溶剤を補充して成分調整が終わった後、ポンプ８７を作動させて再生タンク６３内の再生された乾燥溶剤を第１の貯留タンク１１に戻す。
【００５４】
なお、上記ステップＳ１０における「再生処理」は、三方弁Ｖ３，Ｖ４を第２の貯留タンク１３側に切り換えて、第２の貯留タンク１３から乾燥溶剤を回収するとともに、再生済みの乾燥溶剤を第２の貯留タンク１３に戻す点が異なるだけである。
【００５５】
上述したように、本実施例によると、制御部５１は、第１の貯留タンク１１と第２の貯留タンク１３の一方だけから処理槽５に乾燥溶剤を供給して、処理槽５にて基板Ｗを乾燥処理させる。そして、乾燥溶剤を供給した第１の貯留タンク１５の乾燥溶剤が寿命に達した場合には、基板Ｗの処理が終了した後、第１の貯留タンク１５とは異なる第２の貯留タンク１３だけから処理槽５に乾燥溶剤を供給して、処理槽５にて次の基板Ｗを処理させる。これとともに、制御部５１は、第１の貯留タンク１１から溶剤再生装置３に乾燥溶剤を供給して再生処理を行わせるので、再生処理に伴って基板処理装置の乾燥処理装置１における処理を中断する必要がなく、基板処理装置のスループットを向上させることができる。
【００５６】
また、第１のカウンタ４７及び第２のカウンタ４９により基板Ｗを処理した回数を計数し、この回数に基づき制御部５１が寿命を判断することで、適切なタイミングで乾燥溶剤の再生処理を行うことができる。
【００５７】
さらに、制御部５１が三方弁Ｖ１〜Ｖ４を操作することにより、第１の貯留タンク１１と第２の貯留タンク１３とを切り換えて処理槽５へ乾燥溶剤を供給させるとともに、これに合わせて第１の貯留タンク１１と第２の貯留タンク１３から溶剤再生装置３へ乾燥溶剤を供給させることができる。したがって、制御部５１が制御を容易に行うことができる。
【００５８】
また、制御部５１が濃度計１０３の検出結果に基づいてＩＰＡとＨＦＥを再生タンク６３に供給させることにより、乾燥溶剤の成分濃度及び液量を適切に維持させることができ、乾燥処理を好適に行わせることができる。
【００５９】
この発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００６０】
（１）上述した実施例では、計数手段により乾燥溶剤の使用回数を監視しているが、例えば、乾燥溶剤が生成されてからの経過時間を監視するようにしてもよい。これにより、使用しなくても揮発等により寿命となる乾燥溶剤について、その再生要否を好適に管理できる。
【００６１】
（２）上述した実施例では、第１の溶剤としてＩＰＡ、第２の溶剤としてＨＦＥを含む乾燥溶剤を例にとって説明したが、例えば、ＨＦＥだけを含む乾燥溶剤であってもよい。また、乾燥溶剤としては、ＨＦＥに限定されるものではなく、例えば、フッ素系溶剤であるＨＦＣ（ハイドロフルオロカーボン）であってもよい。
【００６２】
（３）上述した実施例では、単一の処理槽５を例示したが、内槽と、内槽から溢れた乾燥溶剤を回収する外槽とを備えた処理槽であってもよい。
【００６３】
（４）上述した実施例では、二つの貯留タンクを例にとって説明したが、例えば、３個以上の貯留タンクを備えるようにしてもよい。
【００６４】
（５）上述した実施例では、三方弁Ｖ１〜Ｖ４を採用しているが、二つの開閉弁を組み合わせて構成するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００６５】
Ｗ … 基板
１ … 乾燥処理装置
３ … 溶剤再生装置
５ … 処理槽
１１ … 第１の貯留タンク
１３ … 第２の貯留タンク
２３ … 供給配管
２５ … 回収配管
Ｖ１〜Ｖ４ … 三方弁
４７ … 第１のカウンタ
４９ … 第２のカウンタ
５１ … 制御部
６１ … 水分除去タンク
６３ … 再生タンク
６９ … 再生送り配管
７１ … 再生戻り配管
８９ … 第１の溶剤供給源
９７ … 第２の溶剤供給源
１０３ … 濃度計
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対して液体の乾燥溶剤を供給して乾燥処理を行う基板処理装置において、
乾燥溶剤を貯留し、基板を収容する処理槽と、
乾燥溶剤を貯留する複数個の貯留タンクと、
前記全ての貯留タンクと前記処理槽とを連通接続し、前記処理槽に乾燥溶剤を供給する供給配管と、
前記処理槽と前記全ての貯留タンクとを連通接続し、前記処理槽から乾燥溶剤を回収する回収配管と、
を備えている乾燥処理装置と、
乾燥溶剤から純水成分を除去する再生処理部と、
前記全ての貯留タンクと前記再生処理部とを連通接続し、前記再生処理部に乾燥溶剤を送る再生送り配管と、
前記再生処理部と前記全ての貯留タンクとを連通接続し、前記再生処理部から乾燥溶剤を戻す再生戻り配管と、
を備えている溶剤再生装置と、
前記複数個の貯留タンクのうちいずれか一つを対象貯留タンクとし、前記対象貯留タンクのみから前記処理槽に乾燥溶剤を供給して、前記処理槽にて基板を乾燥処理させ、前記対象貯留タンクの乾燥溶剤が寿命に達した場合には、前記処理槽における基板の処理が終了した後、前記対象貯留タンクとは異なる一つの貯留タンクを新たな対象貯留タンクとし、前記新たな対象貯留タンクのみから前記処理槽に乾燥溶剤を供給して、前記処理槽にて次の基板を処理させるとともに、前記対象貯留タンクから前記溶剤再生装置に乾燥溶剤を供給して再生処理を行わせる制御部と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記貯留タンクごとに基板の処理に使用した回数を計数する計数手段をさらに備え、
前記制御部は、前記計数手段による計数値に基づき、乾燥溶剤の寿命を判断することを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の基板処理装置において、
前記複数個の貯留タンクは、乾燥溶剤を貯留する第１の貯留タンクと、乾燥溶剤を貯留する第２の貯留タンクとの二つの貯留タンクであって、
前記供給配管は、前記処理槽への連通元を前記第１の貯留タンクまたは前記第２の貯留に切り換える第１の三方弁を備え、
前記回収配管は、前記処理槽からの連通先を前記第１の貯留タンクまたは前記第２の貯留タンクに切り換える第２の三方弁を備え、
前記再生送り配管は、前記溶剤再生装置への連通元を前記第１の貯留タンクまたは前記第２の貯留タンクに切り換える第３の三方弁を備え、
前記再生戻り配管は、前記溶剤再生装置からの連通先を前記第１の貯留タンクまたは前記第２の貯留タンクに切り換える第４の三方弁を備え、
前記制御部は、前記第１の三方弁と、前記第２の三方弁と、前記第３の三方弁と、前記第４の三方弁とを操作することを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項２または３に記載の基板処理装置において、
前記乾燥溶剤は、第１の溶剤と第２の溶剤とを混合してなり、
前記溶剤再生装置は、
前記再生送り配管が連通接続され、乾燥溶剤から純水成分を除去する水分除去タンクと、
前記水分除去タンクに連通接続され、純水成分が除去された乾燥溶剤を貯留する再生タンクと、
前記再生タンクに第１の溶剤を供給する第１の溶剤供給手段と、
前記再生タンクに第２の溶剤を供給する第２の溶剤供給手段と、
前記再生タンク内に貯留している乾燥溶剤における第１の溶剤または第２の溶剤の濃度を検出する濃度検出手段と、
を備え、
前記制御部は、前記再生タンクにおける濃度を前記濃度検出手段により検出し、その検出値に基づいて前記第１の溶剤供給手段または前記第２の溶剤供給手段を操作して、前記再生タンク内の乾燥溶剤の濃度を調整することを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
基板処理装置で使用した液体の乾燥溶剤を再生する溶剤再生方法において、
複数個の貯留タンクのうちいずれか一つの貯留タンクを対象貯留タンクとし、前記対象貯留タンクから乾燥溶剤を処理槽に供給する過程と、
前記対象貯留タンクの乾燥溶剤が寿命に達したか否かを判断する過程と、
乾燥溶剤が寿命に達した場合には、前記対象貯留タンクとは異なる一つの溶剤タンクを新たな対象貯留タンクとし、前記新たな対象貯留タンクから乾燥溶剤を処理槽に供給するとともに、前記対象貯留タンクから溶剤再生装置に乾燥溶剤を送る過程と、
前記溶剤再生装置にて乾燥溶剤を再生する過程と、
前記再生した乾燥溶剤を前記対象貯留タンクに戻す過程と、
を備えていることを特徴とする溶剤再生方法。
【請求項６】
請求項５に記載の溶剤再生方法において、
前記対象貯留タンクの乾燥溶剤が寿命に達したか否かを判断する過程の前に、前記対象貯留タンクから乾燥溶剤を処理槽に供給する度に使用回数を計数する過程を含むことを特徴とする溶剤再生方法。
【請求項１】
基板に対して液体の乾燥溶剤を供給して乾燥処理を行う基板処理装置において、
乾燥溶剤を貯留し、基板を収容する処理槽と、
乾燥溶剤を貯留する複数個の貯留タンクと、
前記全ての貯留タンクと前記処理槽とを連通接続し、前記処理槽に乾燥溶剤を供給する供給配管と、
前記処理槽と前記全ての貯留タンクとを連通接続し、前記処理槽から乾燥溶剤を回収する回収配管と、
を備えている乾燥処理装置と、
乾燥溶剤から純水成分を除去する再生処理部と、
前記全ての貯留タンクと前記再生処理部とを連通接続し、前記再生処理部に乾燥溶剤を送る再生送り配管と、
前記再生処理部と前記全ての貯留タンクとを連通接続し、前記再生処理部から乾燥溶剤を戻す再生戻り配管と、
を備えている溶剤再生装置と、
前記複数個の貯留タンクのうちいずれか一つを対象貯留タンクとし、前記対象貯留タンクのみから前記処理槽に乾燥溶剤を供給して、前記処理槽にて基板を乾燥処理させ、前記対象貯留タンクの乾燥溶剤が寿命に達した場合には、前記処理槽における基板の処理が終了した後、前記対象貯留タンクとは異なる一つの貯留タンクを新たな対象貯留タンクとし、前記新たな対象貯留タンクのみから前記処理槽に乾燥溶剤を供給して、前記処理槽にて次の基板を処理させるとともに、前記対象貯留タンクから前記溶剤再生装置に乾燥溶剤を供給して再生処理を行わせる制御部と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記貯留タンクごとに基板の処理に使用した回数を計数する計数手段をさらに備え、
前記制御部は、前記計数手段による計数値に基づき、乾燥溶剤の寿命を判断することを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の基板処理装置において、
前記複数個の貯留タンクは、乾燥溶剤を貯留する第１の貯留タンクと、乾燥溶剤を貯留する第２の貯留タンクとの二つの貯留タンクであって、
前記供給配管は、前記処理槽への連通元を前記第１の貯留タンクまたは前記第２の貯留に切り換える第１の三方弁を備え、
前記回収配管は、前記処理槽からの連通先を前記第１の貯留タンクまたは前記第２の貯留タンクに切り換える第２の三方弁を備え、
前記再生送り配管は、前記溶剤再生装置への連通元を前記第１の貯留タンクまたは前記第２の貯留タンクに切り換える第３の三方弁を備え、
前記再生戻り配管は、前記溶剤再生装置からの連通先を前記第１の貯留タンクまたは前記第２の貯留タンクに切り換える第４の三方弁を備え、
前記制御部は、前記第１の三方弁と、前記第２の三方弁と、前記第３の三方弁と、前記第４の三方弁とを操作することを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項２または３に記載の基板処理装置において、
前記乾燥溶剤は、第１の溶剤と第２の溶剤とを混合してなり、
前記溶剤再生装置は、
前記再生送り配管が連通接続され、乾燥溶剤から純水成分を除去する水分除去タンクと、
前記水分除去タンクに連通接続され、純水成分が除去された乾燥溶剤を貯留する再生タンクと、
前記再生タンクに第１の溶剤を供給する第１の溶剤供給手段と、
前記再生タンクに第２の溶剤を供給する第２の溶剤供給手段と、
前記再生タンク内に貯留している乾燥溶剤における第１の溶剤または第２の溶剤の濃度を検出する濃度検出手段と、
を備え、
前記制御部は、前記再生タンクにおける濃度を前記濃度検出手段により検出し、その検出値に基づいて前記第１の溶剤供給手段または前記第２の溶剤供給手段を操作して、前記再生タンク内の乾燥溶剤の濃度を調整することを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
基板処理装置で使用した液体の乾燥溶剤を再生する溶剤再生方法において、
複数個の貯留タンクのうちいずれか一つの貯留タンクを対象貯留タンクとし、前記対象貯留タンクから乾燥溶剤を処理槽に供給する過程と、
前記対象貯留タンクの乾燥溶剤が寿命に達したか否かを判断する過程と、
乾燥溶剤が寿命に達した場合には、前記対象貯留タンクとは異なる一つの溶剤タンクを新たな対象貯留タンクとし、前記新たな対象貯留タンクから乾燥溶剤を処理槽に供給するとともに、前記対象貯留タンクから溶剤再生装置に乾燥溶剤を送る過程と、
前記溶剤再生装置にて乾燥溶剤を再生する過程と、
前記再生した乾燥溶剤を前記対象貯留タンクに戻す過程と、
を備えていることを特徴とする溶剤再生方法。
【請求項６】
請求項５に記載の溶剤再生方法において、
前記対象貯留タンクの乾燥溶剤が寿命に達したか否かを判断する過程の前に、前記対象貯留タンクから乾燥溶剤を処理槽に供給する度に使用回数を計数する過程を含むことを特徴とする溶剤再生方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１０−１９２５６６（Ｐ２０１０−１９２５６６Ａ）
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−３３６８９（Ｐ２００９−３３６８９）
【出願日】平成２１年２月１７日（２００９．２．１７）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月１７日（２００９．２．１７）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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