形状計測装置
【課題】信頼性が高く精度の良い被測定物の形状計測を行う。
【解決手段】保持している光線制御データに基づき、明暗のピッチ幅を順次半減したストライプ状の投影パターンを有する光線を発光して被測定物Mに照射する光線照射手段20と、光線が照射された被測定物Mを撮像して画像情報を出力する撮像手段30と、撮像された画像情報から被測定物Mの形状を算出する画像情報演算手段40とを備え、ストライプ状の投影パターンにおける明暗の変化部分が所定の勾配を有している。
【解決手段】保持している光線制御データに基づき、明暗のピッチ幅を順次半減したストライプ状の投影パターンを有する光線を発光して被測定物Mに照射する光線照射手段20と、光線が照射された被測定物Mを撮像して画像情報を出力する撮像手段30と、撮像された画像情報から被測定物Mの形状を算出する画像情報演算手段40とを備え、ストライプ状の投影パターンにおける明暗の変化部分が所定の勾配を有している。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
この発明は、被測定物の変移や三次元形状を光学的手段を用いて非接触で計測する形状計測装置に関するもので、さらに詳しくは、光線を被測定物に照射し、その光学像を撮像した画像情報を演算して形状を算出する形状計測装置に関するものである。
【背景技術】
【0002】
三次元の形状計測手法として、例えば非特許文献1に記載の空間コード化法が知られている。空間コード化法による三次元計測では、明暗2値のストライプパターンの幅を順次半減して被測定物に投影する。ストライプパターンを投影した空間は明暗の変化の順序によって識別可能な小空間に分割され、各小空間には一意の空間コードが明暗の変化の順序として付与される。
【0003】
図10は従来の形状計測装置における空間コード化法による三次元計測を説明する図であり、ここでは、空間コード0から15の16の小空間に分割する例を示している。光源110からはまず投影パターン3の明暗パターンが投影され、引き続き投影パターン2,1,0の順に投影される。すると、例えば空間コード6が付与される小空間の明暗は、「暗、明、暗、明」と変化する。このように変化する小空間は他にはなく、明暗の変化の順序が決まれば小空間は一意に決定される。
【0004】
明暗の順序によるコードには、グレイコード(交番2進符号)を用いるのが一般的であり、図10には投影パターン3,2,1,0の4ビットのグレイコードを発生する投影パターンを示している。グレイコードを発生する投影パターンで明暗のピッチが最小の投影パターン0では、一つの「明」又は「暗」の投影領域に二つずつ空間コードの小空間が含まれているのが特徴である。
【0005】
カメラ111で被測定物120を撮像し、観測方向112に対応する画素xの明暗の変化の順序を判定すると、被測定物120の観測方向の部分がどの空間コードの小空間にあるかが判明し、図10の例では空間コード6の小空間である。その結果、被測定物120の三次元位置が光源110から投影した空間コード6の小空間の投影方向とカメラ111のレンズ中心から観測方向112の方向に伸ばした直線との交点として決定される。
【0006】
ここで、ストライプパターンである投影パターンを投影したときに、カメラ111で観測している点が「明」のストライプに入っているか、「暗」のストライプに入っているかを判定する際に、被測定物120の反射率に影響されないように、一般的には、明暗を反転させたストライプパターンである相補投影パターンも投影して判定する。すなわち、投影パターンを投影したときの点が、相補投影パターンを投影したときに、「明」から「暗」に変化したときは「明」のストライプに入っていると判定し、「暗」から「明」に変化したときは「暗」のストライプに入っていると判定する。
【0007】
図10からわかるように、明暗パターンの投影によって空間コードが付与される小空間は一定の幅を持つため、例えば空間コード6の小空間の中で幅方向に変化があっても全て空間コード6に量子化されるので、いわゆる量子化誤差を生じる。この量子化誤差は投影する明暗パターンの間隔が狭くなれば小さくなるが、なくすことはできない。
【0008】
この量子化誤差をなくすために、例えば特許文献1に示す形状計測装置は位相シフト法を併用している。
図11は従来の形状計測装置における位相シフト法を説明する図である。この位相シフト法は、空間コード化法における明暗の2値のストライプパターンを正弦波状のパターンに変え、1/4周期ずつ位相をシフトして投影したときの4枚の画像を利用する。図11では、空間コード化法で識別される4つの小空間で位相が1周期変化する正弦波状のパターンを投影している様子を示し、実線で示す基準投影パターン130に対して1/4周期ずつ位相をシフトした投影パターンを線種を変えて示している。基準投影パターン130を投影したときの画素xの画素値をI0とし、i/4周期(i=1,2,3)位相シフトしたパターンを投影したときの同じ画素xの画素値をIiとすると、画素値と位相の間には次の式(1)に示すシンプルな関係があり、位相におけるπが空間コード幅2に対応する関係があるので、画素xに対応する空間コードを小数点以下まで計算することにより量子化誤差をなくすことができる。
【0009】
【数1】
【0010】
図11に示す例では、空間コードが4離れた位置にも同じ位相パターンが現れるが、特許文献1では、空間コード化法と併用しているので、それらの識別は可能である。例えば図11の空間コード2の領域に現れる位相パターンは空間コード6の領域にも現れるが、空間コード化法によってその位置は明確に識別できるので取り違えることはない。
【0011】
このように、特許文献1による形状計測装置は、空間コード化法と位相シフト法を併用しているので、空間コード化法における量子化誤差の問題のない、精度の良い三次元計測を実現できる。
【0012】
【特許文献1】特開平11−148810号公報(段落0019,0090〜0134)
【非特許文献1】井口征士、佐藤宏介著、「三次元画像計測」、昭晃堂、1990年11月20日、p.79〜119
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0013】
従来の形状計測装置は以上のように構成され、例えば上記特許文献1に示す形状計測装置では、明暗2値のストライプパターンを投影する空間コード化法と、正弦波状の照度パターンを1/4周期ずつ位相シフトして4回投影する位相シフト法を併用して精度の良い形状計測ができるが、実際に精度の良い正弦波状の照度パターンを実現するのは非常に難しく、信頼性が高く精度の良い形状計測を行うのが困難であるという課題があった。これは、上記式(1)に示すように、位相の計算には三角関数の関係式を用いており、照度パターンが正弦波状から少しでも歪むと計算結果に大きな影響がでてくるためで、また、正弦波はπ/2と3π/4付近で勾配がゼロないしゼロに近くなっており、この付近ではわずかの計測誤差が位相の値に大きく影響するからである。
【0014】
この発明は上記のような課題を解決するためになされたもので、信頼性が高く精度の良い被測定物の形状計測を行うことができる形状計測装置を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0015】
この発明に係る形状計測装置は、保持している光線制御データに基づき、明暗のピッチ幅を順次半減したストライプ状の投影パターンを有する光線を発光して被測定物に照射する光線照射手段と、該光線照射手段により光線が照射された被測定物を撮像して画像情報を出力する撮像手段と、該撮像手段により撮像された画像情報から上記被測定物の形状を算出する画像情報演算手段とを備えたものにおいて、上記光線照射手段が照射する光線のストライプ状の投影パターンは、明暗のピッチ幅を順次半減した投影パターンのうちの明暗のピッチ幅が最小以外の第1の投影パターンと、該第1の投影パターンの明暗を反転させた第2の投影パターンと、明暗のピッチ幅が最小の第3の投影パターンと、該第3の投影パターンの明暗を反転させた第4の投影パターンと、上記第3の投影パターンの位相を所定周期分シフトさせた第5の投影パターンと、該第5の投影パターンの明暗を反転させた第6の投影パターンであり、上記第1から上記第6の投影パターンにおける明暗の変化部分が所定の勾配を有しているものである。
【発明の効果】
【0016】
この発明により、信頼性が高く精度の良い被測定物の形状計測を行うことができるという効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0017】
実施の形態1.
図1はこの発明の実施の形態1による形状計測装置の構成を示すブロック図である。この形状計測装置100は、基準面Lに載置された被測定物Mにレーザ光線を照射して、被測定物Mの変移や三次元形状を光学的手段を用いて非接触で計測するもので、コントロール手段10、光線照射手段20、撮像手段30、画像情報演算手段40、演算処理手段50及び表示処理手段60を備えている。
【0018】
コントロール手段10は光線照射手段20の制御タイミングと撮像手段30の撮像タイミングを制御する。光線照射手段20は、コントロール手段10からの制御タイミングで、保持している光線制御データに基づき、明暗のピッチ幅を順次半減したストライプ状の投影パターンを有するレーザ光線を発光して基準面Lに載置された被測定物Mに順次照射する。撮像手段30は、コントロール手段10からの撮像タイミングで、光線照射手段20によりレーザ光線が照射された被測定物Mを撮像して画像情報を出力する。
【0019】
画像情報演算手段40は、撮像手段30により撮像された画像情報の明度値から被測定物Mの高さ等の形状を算出する。演算処理手段50は画像情報演算手段40により算出された被測定物Mの形状から非測定物Mの周囲長や断面形状等を算出し、表示処理手段60は演算処理手段50により算出された非測定物Mの外形や断面形状等をディスプレイ(図示せず)により表示するための処理を行う。
【0020】
図1において、コントロール手段10は同期回路11を備えている。光線照射手段20は光線制御手段21、光源22及び光線走査手段23を備え、光線制御手段21は光線制御データメモリ211及びレーザコントローラ212を備え、光源22はレーザ光源221及びレンズ系222を備え、光線走査手段23はポリゴンミラー231を備えている。撮像手段30は例えばCCDカメラであり、画像情報演算手段40は画像情報メモリ41、形状演算回路42及び形状メモリ43を備えている。
【0021】
コントロール手段10の同期回路11は、光線制御手段21のレーザコントローラ212による光源21のレーザ光源221に対する制御タイミングを制御し、光線走査手段23のポリゴンミラー231の回転タイミングと回転数を制御し、CCDカメラである撮像手段30の撮像タイミングを制御する。
【0022】
光線制御手段21の光線制御データメモリ211には、光源22のレーザ光源221から発光するレーザ光線を制御する明暗のピッチ幅を順次半減したグレイコードに従うストライプ状の複数の投影パターンの光線制御データが格納されており、レーザコントローラ212は、コントロール手段10の同期回路11からの制御タイミングで、光線制御データメモリ211に格納されている各投影パターンの光線制御データを読み込み、読み込んだ光線制御データの各投影パターンの明暗のピッチ幅に基づき光源22のレーザ光源221から発光するレーザ光線を点滅させる。
【0023】
光源22のレンズ系222はレーザ光源221から発光されたレーザ光線をスリット状のレーザ光線に整形する。光線走査手段23のポリゴンミラー231は、コントロール手段10の同期回路11からの回転タイミングと回転数で回転し、レンズ系222からのスリット状のレーザ光線を反射し、回転によってスリット状のレーザ光線を偏向走査させ、基準面Lに載置されている被測定物Mに向けて斜め方向からスリット状の点滅しているレーザ光線を照射する。従って、被測定物Mの表面には、各投影パターンに対応して、レーザ光線が照射された部分と照射されない部分とのストライプ状の模様が生じる。
【0024】
CCDカメラである撮像手段30は、レーザ光線が照射された被測定物Mの表面に生じる光学像を撮像する積分型撮像部材であり、コントロール手段10の同期回路11からの撮像タイミングで、光線走査手段23のポリゴンミラー231によりレーザ光線が照射された基準面Lに載置されている被測定物Mの表面に生じる各投影パターンに対応したストライプ状の光学像を撮像し、1フィールド又は1フレームの画像情報を出力する。このとき、同期回路11は、ポリゴンミラー231の回転数を制御することで、撮像手段30が画像情報を出力する期間に、各投影パターンを何回走査させるかの走査回数を制御する。
【0025】
以上の処理は、コントロール手段10の同期回路11からの制御タイミング及び撮像タイミングで、複数フィールド又は複数フレーム分行われ、撮像手段30は複数フィールド又は複数フレームの画像情報を出力する。
【0026】
画像情報演算手段40の画像情報メモリ41はCCDカメラである撮像手段30より出力された複数フィールド又は複数フレームの画像情報を格納する。形状演算回路42は画像情報メモリ41に格納されている複数フィールド又は複数フレームの画像情報の明度値から被測定物Mの高さ等の形状を算出する。形状メモリ43は形状演算回路42により算出された被測定物Mの高さ等の形状を格納する。
【0027】
図2は画像情報演算手段40の画像情報メモリ41に格納される画像情報を示す図である。画像情報メモリ41には、図2に示すように、12画像分の画像メモリが含まれており、後述する投影パターン3,2,1,0の画像情報と、投影パターン0の位相をそれぞれ±1/8周期シフトさせた投影パターン0+、0−の画像情報と、それらの投影パターンの明暗を反転させた相補投影パターンを投影したときの、相補投影パターン3,2,1,0の画像情報と、相補投影パターン0+、0−の画像情報が格納される。これらの画像情報は、撮像手段30により出力された例えば8ビットの階調を持つ各画素毎の明度値である。
【0028】
図3は光線制御データメモリ21に光線制御データとして格納され光線照射手段20により被測定物Mに照射されるレーザ光線による投影パターンを示す図である。図3に示すように、この実施の形態1では、明暗のピッチ幅を順次半減したグレイコードに従う実線で示す投影パターン3,2,1,0と、投影パターン0の位相をそれぞれ±1/8周期シフトさせた実線で示す投影パターン0+,0−と、それらの投影パターンの明暗を反転させた破線で示す相補投影パターン3,2,1,0,0+,0−が使用される。
【0029】
図3では、空間コード化法による空間コードを0から15の16の小空間に分割し、各空間コードにおける位置を示す空間コード座標sも示している。ここでは、グレイコードに従う投影パターン3,2,1,0のうち、投影パターン3,2,1を明暗のピッチが最小以外の第1の投影パターンとし、投影パターン3,2,1の明暗を反転させた相補投影パターン3,2,1を第2の投影パターンとし、明暗のピッチが最小で一つの「明」又は「暗」の領域に二つずつの空間コードの小空間が含まれている投影パターン0を第3の投影パターンとし、投影パターン0の明暗を反転させた相補投影パターン0を第4の投影パターンとし、投影パターン0の位相をそれぞれ±1/8周期シフトさせた投影パターン0+,0−を第5の投影パターンとし、投影パターン0+,0−の明暗を反転させた相補投影パターン0+,0−を第6の投影パターンとする。
【0030】
この実施の形態1で使用される第1から第6の投影パターンは、図3に示すように、明暗の変化部分が所定の勾配を有し、台形状の照度分布を有していることが特徴であり、この所定の勾配を有する変化部分を利用して、後述するように、詳細な空間コード座標sを判定する。図3に示す第1から第6の投影パターンの変化部分の幅は、空間コード化法で識別される空間コードの幅に一致しているが、これに限られるものでなく、もっと緩やかな勾配でも空間コード座標sの計算は可能である。ただし、図3に示す勾配よりも急峻にすると詳細な空間コード座標sの計算が不可能となり、もっと緩やかにすると計算される空間コード座標sの誤差が大きくなるので、図3に示すように、変化部分の幅が空間コードの幅に一致するように勾配を設定するのが望ましい。
【0031】
図3に示す第1から第6の投影パターンは、空間コード化法による16の小空間を有する空間コードを設定する場合を示しているが、16の小空間を有する空間コードに制約されるものではなく、識別する空間コードの小空間の数を増減し、投影パターンの数を増減しても良い。その場合でも、明暗のピッチが最小となる投影パターンの位相を±1/8周期シフトさせる。
【0032】
図4は画像情報演算手段40の形状演算回路42が行う三角測量の原理による被測定物Mの高さの測定の方法を説明する図である。ここでは、基準面L上に載置された被測定物Mの高さZを測定するものとする。レーザ光源221から発射されたレーザ光線は、ポリゴンミラー231の鏡面231aで反射して被測定物Mの上面に照射される。これを撮像手段30の対物レンズ31を通して受光素子32上に結像させて撮像する。ここで、撮像手段30の光軸Uは基準面Lに垂直になるように配置されているものとし、基準面Lから鏡面231aの走査中心までの高さをhm、基準点Aからの偏向角度をα、基準面Lから撮像手段30の対物レンズ31の主点までの高さをhc、対物レンズ31の焦点距離をf、基準面L上の基準点Aから撮像手段30の光軸Uの基準面L上の点Oまでの距離をm、撮像手段30の受光素子32上の受光した画素位置(被測定物Mの上面を見込む画素位置)をxとする。
【0033】
このとき、次の式(2)に示す等式が成立する。
(hm−Z)・tanα+(hc−Z)・x/f=m (2)
従って被測定物Mの上面の高さZは、次の式(3)により求めることができる。
Z={x・hc−f(m−hm・tanα)}/(x+f・tanα) (3)
図4より明らかなように、hc、f、m、hmはいずれも被測定物Mと無関係な固定値である。従って、画素位置xと基準点Aからの偏向角度αが判れば、式(3)より高さZを算出できる。以下、画素位置xの画素を画素xと呼ぶ。
【0034】
上記非特許文献1に示す空間コード化法では、離散値として表されている空間コードを連続量として扱うため、空間コード座標sを投影パターンに関連づけて図3に示すように設定する。基準点Aからの偏向角度αは図3に示す空間コード座標sに1対1で対応しており、投影パターンを切り替えたときの画素xの出力(画素値)の変化から、空間コード座標sのどの位置の投影光が被測定物Mの表面で反射されて画素xに入射したかが判れば、すなわち基準点Aからの偏向角度αが決定され、高さZを計算することができる。
【0035】
なお、上記式(2)、式(3)においては、y方向(図4における紙面に垂直な方向)の座標(位置)が現れないが、撮像手段30の受光素子32のy方向の画素位置から直接導出されるので、3次元計測が可能となる。
【0036】
以下では画素xの出力は投影パターンの照度に比例するものとして、図3の投影パターンを用いた場合に画素xの出力(画素値)の変化から、空間コード座標sのどの位置の投影光が被測定物Mの表面で反射されて画素xに入射したかを、量子化の誤差なく一意に判定できることを説明する。
【0037】
まず、図3に示す台形状のグレイコードに従う投影パターン3,2,1,0と相補投影パターン3,2,1,0を用いて明暗の判定をした場合、従来技術である空間コード化法で用いられている図10に示した明暗2値の投影パターンとその相補投影パターンを用いて明暗を判定した場合と同じ結果が得られる。従って、画像情報演算手段40の形状演算回路42が、図3に示す台形状のグレイコードに従う投影パターン3,2,1,0と相補投影パターン3,2,1,0を用いて明暗の判定をした場合、受光素子32上の画素xにおける明暗の変化の組み合わせから、受光素子32上の画素xに入射された投影光の位置が空間コード0〜15のいずれにあるか判定できることは、図10を用いて説明した従来技術である空間コード化法と同じである。すなわち、画像情報演算手段40の形状演算回路42は、投影パターン3,2,1,0と相補投影パターン3,2,1,0を用いて、受光素子32上の画素xに入射された投影光の位置が空間コード0〜15のうちのいずれの空間コードにあるかを判定する。
【0038】
また、画像情報演算手段40の形状演算回路42は、空間コードで識別される小空間の領域内のさらに詳細な投影光の位置の空間コード座標sを判定する際に、図3に示す投影パターン0+、投影パターン0−、相補投影パターン0+及び相補投影パターン0−を利用する。ここでは、形状演算回路42が、画素xにおける明暗の変化が空間コード6、すなわち空間コード座標sで6.0以上、7.0以下の範囲に対応すると判定した場合を例にとり、位相シフト法における位相計算により、さらに詳細な投影光の位置の空間コード座標sを判定する手順と計算の方法を説明する。
【0039】
図5は画像情報演算手段40の形状演算回路42が投影光の位置の空間コード座標sの計算の際に行う位相シフト法による位相計算を説明する図であり、空間コード5,6,7の小空間を拡大して、投影パターン0+を実線で、相補投影パターン0+を破線で重ねて表示したものである。この図5からわかるように、両投影パターンは空間コード6の領域の中央で明暗が逆転しており、形状演算回路42が、どちらの投影パターンを投影したときに画素xでより大きな出力が観測されたかを判定することにより、画素xに入射された投影光が空間コード座標6.5以上の位置の投影光に対応するものか、6.5以下の位置の投影光に対応するものか判定できる。具体的には、形状演算回路42は、投影パターン0+を投影したときの画素xの出力が相補投影パターン0+を投影したときの画素xの出力より大きければ6.5以下、逆ならば6.5以上と判定する。
【0040】
図3に示すように、投影パターン0+と相補投影パターン0+、又は投影パターン0−と相補投影パターン0−のいずれかの組み合わせが、各空間コードの小空間の中央において明暗が反転するようになっており、どの空間コードの小空間においても上記のように1/2単位の領域判定ができる。すなわち、画像情報演算手段40の形状演算回路42は、投影パターン0+と相補投影パターン0+、又は投影パターン0−と相補投影パターン0−のいずれかの組み合わせを用いて、判定された空間コードにおける受光素子32上の画素xに入射された投影光の位置の空間コード座標sを1/2単位で判定する。
【0041】
次に、形状演算回路42が、画素xに入射された投影光が空間コード座標6.5以下の位置の投影光に対応するものと判定した場合を例にとり、位相シフト法における位相計算により、さらに詳細な投影光の位置の空間コード座標sを判定する手順と計算の方法について説明する。
【0042】
図6は画像情報演算手段40の形状演算回路42が投影光の位置の空間コード座標sの計算の際に行う位相シフト法による位相計算を説明する図であり、空間コード5,6,7の領域部分を拡大して、投影パターン0+を実線で、相補投影パターン1を破線で重ねて表示したものである。この図6からわかるように、両投影パターンは空間コード6の領域の6.25の位置で明暗が逆転しており、形状演算回路42が、どちらの投影パターンを投影したときに画素xでより大きな出力が観測されたかを判定することにより、画素xに入射された投影光が空間コード6.25以上の位置の投影光に対応するものか、6.25以下の位置の投影光に対応するものか判定できる。具体的には、形状演算回路42は、投影パターン0+を投影したときの画素xの出力が相補投影パターン1を投影したときの画素xの出力より大きければ6.25以下、逆ならば6.25以上と判定する。
【0043】
この判定は空間コード0と15を除く他の空間コードの場合も同様であり、画像情報演算手段40の形状演算回路42は、図3に示す投影パターンのいずれかの組み合わせを用いて、判定された空間コードにおける受光素子32上の画素xに入射された投影光の位置の空間コード座標sを1/4単位で判定する。
【0044】
さらに詳細には次のような計算をする。
図7は画像情報演算手段40の形状演算回路42が投影光の位置の空間コード座標sの計算の際に行う位相シフト法による位相計算を説明する図であり、空間コード6の小空間付近を拡大して、投影パターン1、投影パターン0+、相補投影パターン1及び相補投影パターン0+を重ねて表示したものである。投影パターン1を投影したときの画素xの出力をa、相補投影パターン1を投影したときの画素xの出力をb、相補投影パターン0+を投影したときの画素xの出力をc、投影パターン0+を投影したときの画素xの出力をdとする。
【0045】
画素xに入射された投影光が空間コード座標6.25以下の位置の投影光に対応するもの判定された場合、形状演算回路42は、投影光の位置の詳細な空間コード座標sを、図7に示す幾何学的関係からわかるように、次の式(4)で計算する。
s=6.0+0.25・(b−a)/(d−a) (4)
同様に、画素xに入射された投影光が空間コード6.25以上の位置の投影光に対応するもの判定された場合、形状演算回路42は、投影光の位置の詳細な空間コード座標sを次の式(5)で計算する。
s=6.5−0.25・(d−c)/(d−a) (5)
【0046】
最初に投影パターン0+と相補投影パターン0+に対する画素xの出力の比較により、空間コード座標6.5以上の範囲と判定された場合も、形状演算回路42は、投影パターン0、投影パターン0+、相補投影パターン0及び相補投影パターン0+に対する画素xの出力を利用して、同様に投影光の位置の詳細な空間コード座標sを計算することができる。
【0047】
この計算方法は空間コード0と15を除く他の空間コードの場合も同様であり、画像情報演算手段40の形状演算回路42は、図3に示す投影パターンのいずれかの組み合わせを用いて、判定された空間コードにおける画素xに入射された投影光の位置の空間コード座標sを原理的に量子化誤差を含まない形で計算する。
【0048】
以上、従来の空間コード化法によりその出力パターンが空間コード6になると判定された画素xに入射された投影光の位置について、さらに詳細な空間コード座標sを計算する方法について説明したが、他の空間コードに判定された画素xに入射された投影光の位置についても、空間コード0と15を除いて、図3に示すように、各空間コードに対応して上記説明に対応する投影パターンが必ずあり、空間コード座標s=1.0から15.0の範囲では、量子化誤差のない投影光の位置の空間コード座標sを計算できる。
【0049】
上記、投影光の位置の空間コード座標sの計算方法においては、画素xの出力の大小比較と、式(4)、式(5)において画素xの出力の差の比を計算するのみであるので、被測定物Mの色調等による反射率や外乱光等によるバイアス成分の影響を受けない。
【0050】
図8は画像情報演算手段40の形状演算回路42が投影光の位置の空間コード座標sの計算の際に行う位相シフト法による位相計算を説明する図であり、上記に説明した、空間コードが6と判定された画素xに入射された投影光の位置の詳細な空間コード座標sを計算するために、利用された投影パターンの計算に関係する全ての部分を重ねて表示したものである。上記の説明のように、投影光の位置の空間コード座標sが計算できるのは、空間コード領域の中央でクロスしているパターン(図8の場合、投影パターン0+と相補投影パターン0+)、及び空間コードの両側の境界でクロスしているパターン(図8の場合、投影パターン1と相補投影パターン1、及び投影パターン0と相補投影パターン0)に対する画像情報が得られているからである。
【0051】
図3をみると、どの空間コードの領域に対しても、投影パターン0+と相補投影パターン0+か、投影パターン0−と相補投影パターン0−が空間コードの領域の中央でクロスすることがわかる。同様に、どの空間コードの領域に対しても、投影パターン0と相補投影パターン0が左右どちらかの境界においてクロスするパターンとなっていることがわかる。そして、投影パターン0と相補投影パターン0がクロスしていない他方の境界においてクロスするパターンは、投影パターン0、0+、0−以外の投影パターンが対応しているのがわかる。
【0052】
このように、投影光の位置の空間コード座標sを計算する際に、シフトしない投影パターンを利用するので、上記特許文献1における位相シフト法に比べ、位相をシフトする投影パターンが投影パターン0+と投影パターン0−の二つで済むという特徴がある。
【0053】
投影光の位置の空間コード座標sと基準点Aからの偏向角度αの関係は、ポリゴンミラー231の回転角と同期を取ったレーザコントローラ212の出力の関係から決定されるが、図4に示す被測定物Mを取り除いて、基準面Lに投影パターンを投影し、その投影位置から投影光の位置の空間コード座標sと基準点Aからの偏向角度αの関係を校正しても良い。
【0054】
このようにして、画素xに入射された投影光の位置の空間コード座標sが判ると基準点Aからの偏向角度αが判り、上記式(3)により高さZが計算される。以上の計算では、上記特許文献1の位相シフト法で必要であったarctanの計算は不要であり、計算が容易となっている。また、図7から判るように、式(4)及び式(5)で用いられる画素値a,b,c,dは、計算に用いる範囲ではどこでも同じ勾配であり、上記特許文献1の位相シフト法で用いられた正弦波のように、勾配がゼロないしゼロに近い部分はないので、画素値の計測誤差に対する感度はどこでも一定である。
【0055】
このようにして、形状演算回路42により算出された被測定物Mの形状データは、その後、演算処理手段50及び表示処理手段60に送られ、被測定物Mの周囲長や断面形状等を算出したり、ディスプレイ(図示しない)によって被測定物Mの形状を表示したりする後加工が行われる。
【0056】
なお、この実施の形態1においては、光源22からの光線として、レーザ光源221からのレーザ光線を整形して用いた例を示したが、レーザ光源221を用いずに、通常の光源からの光線を整形して用いても良い。また、光線走査手段23として、ポリゴンミラー231を用いた例を示したが、他の偏向装置、例えばガルバノミラー等を用いても良い。また、ポリゴンミラー231の面数についても、回転数、走査範囲、走査回数等を考慮して適宜選択すれば良い。さらに、本例においては基準面L上に被測定物Mを載置してその形状を計測したが、計測において基準面Lが撮像される必要はなく、さらには基準面Lを無くして、仮想基準面からの高さを計測するようにしても良い。
【0057】
以上のように、この実施の形態1によれば、光線照射手段20が照射する光線のストライプ状の投影パターンとして、明暗のピッチ幅を順次半減した投影パターンのうちの明暗のピッチ幅が最小以外の第1の投影パターンと、第1の投影パターンの明暗を反転させた第2の投影パターンと、明暗のピッチ幅が最小の第3の投影パターンと、第3の投影パターンの明暗を反転させた第4の投影パターンと、第3の投影パターンの位相を1/8周期シフトさせた第5の投影パターンと、第5の投影パターンの明暗を反転させた第6の投影パターンを使用し、第1から第6の投影パターンにおける明暗の変化部分が所定の勾配を有していることにより、信頼性が高く精度の良い被測定物Mの形状計測を行うことができるという効果が得られる。
【0058】
また、この実施の形態1によれば、空間コード化法による計測に引き続いて行う位相シフト法による計測を、上記特許文献1に示すarctanの複雑な計算をすることなく容易に行うことができ、しかも、詳細な投影光の位置の空間コード座標sを計算することにより、分解能の高い計算を行うことができるという効果が得られる。
【0059】
さらに、この実施の形態1によれば、投影光の位置の空間コード座標sを計算する際に、シフトしない投影パターンを利用するので、位相をシフトする投影パターンを少なくすることができるという効果が得られる。
【0060】
実施の形態2.
この発明の実施の形態2による形状計測装置100の構成を示すブロック図は上記実施の形態1の図1と同じである。
図9は光線制御データメモリ21に光線制御データとして格納され光線照射手段20により被測定物Mに照射されるレーザ光線による投影パターンを示す図である。図9に示すように、この実施の形態2では、明暗のピッチ幅を順次半減したグレイコードに従う実線で示す投影パターン3,2,1,0と、投影パターン0の位相をそれぞれ±1/8周期シフトさせた実線で示す投影パターン0+,0−と、投影パターン0の位相を+1/4周期シフトさせた実線で示す投影パターン0++と、それらの投影パターンの明暗を反転させた破線で示す相補投影パターン3,2,1,0,0+,0−,0++が使用される。
【0061】
図9では、グレイコードに従う投影パターン3,2,1,0のうち、投影パターン3,2,1を明暗のピッチが最小以外の第1の投影パターンとし、投影パターン3,2,1の明暗を反転させた相補投影パターン3,2,1を第2の投影パターンとし、明暗のピッチが最小で一つの「明」又は「暗」の領域に二つずつの空間コードの小空間が含まれている投影パターン0を第3の投影パターンとし、投影パターン0の明暗を反転させた相補投影パターン0を第4の投影パターンとし、投影パターン0の位相をそれぞれ±1/8周期シフトさせた投影パターン0+,0−を第5の投影パターンとし、投影パターン0+,0−の明暗を反転させた相補投影パターン0+,0−を第6の投影パターンとし、投影パターン0の位相を+1/4周期シフトさせた投影パターン0++を第7の投影パターンとし、投影パターン0++の明暗を反転させた相補投影パターン0++を第8の投影パターンとする。
【0062】
この実施の形態2で使用される第3から第8の投影パターンは、図9に示すように、上記実施の形態1の図3と同様に、明暗の変化部分が所定の勾配を有し、台形状の照度分布を有しているが、第1及び第2の投影パターンは、図9に示すように、図3とは異なり、明暗の変化部分が所定の勾配を有せず、台形状の照度分布とならず、上記非特許文献1に示す明暗2値の投影パターンとなっている。
【0063】
図9に示すように、投影パターン3,2,1の明暗が変化する全ての空間コード座標において、投影パターン0++は変化している。図8の説明において、小空間の中央と小空間の左右の3つのクロスする投影パターンの内、投影パターン0と相補投影パターン0がクロスしていない他方の境界においてクロスする投影パターンは、投影パターン0,0+,0−以外の投影パターンが対応していることを述べたが、この実施の形態2においては、投影パターン0,0+,0−,0++と相補投影パターン0,0+,0−,0++に対応する画像情報に3つのクロスするパターンが含まれている。従って、投影パターン3,2,1と相補投影パターン3,2,1の画像情報は、空間コードの計算に使用するのみで、投影光の位置の空間コード座標sの計算には不要となる。
【0064】
このようにする利点は次の点にある。すなわち、上記実施の形態1の場合は、投影光の位置の空間コード座標sの計算のために、全ての投影パターンに対する画像情報を計算の最後まで画像情報メモリ41に蓄積しておく必要がある。それに対して、この実施の形態2においては、投影光の位置の空間コード座標sの計算は投影パターン0,0+,0−,0++と相補投影パターン0,0+,0−,0++に対応する画像情報によって計算できるので、投影パターン3,2,1と相補投影パターン3,2,1に対する画像情報は空間コードの計算後は消去しても問題なく、同じ画像情報メモリ41上に投影パターン0+,0−,0++と相補投影パターン0,0+,0−,0++に対応する画像情報を書き込むことができる。つまり、この実施の形態2においては、上記実施の形態1よりも画像情報メモリ41のメモリ容量を減らして、投影光の位置の空間コード座標sが計算できるという特徴がある。
その他の処理は上記実施の形態1と同様である。
【0065】
以上のように、この実施の形態2によれば、上記実施の形態1と同様の効果が得られると共に、画像情報メモリ41のメモリ容量を減らすことができるという効果が得られる。
【0066】
以上に、この発明に係る実施の形態を説明したが、この発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく、発明の範囲を逸脱しない限り、適宜変更して適用できることはいうまでもない。
【図面の簡単な説明】
【0067】
【図1】この発明の実施の形態1による形状計測装置の構成を示すブロック図である。
【図2】この発明の実施の形態1による形状計測装置における画像情報演算手段の画像情報メモリに格納される画像情報を示す図である。
【図3】この発明の実施の形態1による形状計測装置における光線制御データメモリに光線制御データとして格納され光線照射手段により被測定物に照射されるレーザ光線による投影パターンを示す図である。
【図4】この発明の実施の形態1による形状計測装置における画像情報演算手段の形状演算回路が行う三角測量の原理による被測定物の高さの測定の方法を説明する図である。
【図5】この発明の実施の形態1による形状計測装置における画像情報演算手段の形状演算回路が投影光の位置の空間コード座標の計算の際に行う位相シフト法による位相計算を説明する図である。
【図6】この発明の実施の形態1による形状計測装置における画像情報演算手段の形状演算回路が投影光の位置の空間コード座標の計算の際に行う位相シフト法による位相計算を説明する図である。
【図7】この発明の実施の形態1による形状計測装置における画像情報演算手段の形状演算回路が投影光の位置の空間コード座標の計算の際に行う位相シフト法による位相計算を説明する図である。
【図8】この発明の実施の形態1による形状計測装置における画像情報演算手段の形状演算回路が投影光の位置の空間コード座標の計算の際に行う位相シフト法による位相計算を説明する図である。
【図9】この発明の実施の形態2による形状計測装置における光線制御データメモリに光線制御データとして格納され光線照射手段により被測定物に照射されるレーザ光線による投影パターンを示す図である。
【図10】従来の形状計測装置における空間コード化法による三次元計測を説明する図である。
【図11】従来の形状計測装置における位相シフト法を説明する図である。
【符号の説明】
【0068】
10 コントロール手段、11 同期回路、20 光線照射手段、21 光線制御手段、22,110 光源、23 光線走査手段、30 撮像手段、40 画像情報演算手段、41 画像情報メモリ、42 形状演算回路、43 形状メモリ、50 演算処理手段、60 表示処理手段、100 形状計測装置、111 カメラ、112 観測方向、120 被測定物、130 基準投影パターン、211 光線制御データメモリ、212 レーザコントローラ、221 レーザ光源、222 レンズ系、231 ポリゴンミラー。
【技術分野】
【0001】
この発明は、被測定物の変移や三次元形状を光学的手段を用いて非接触で計測する形状計測装置に関するもので、さらに詳しくは、光線を被測定物に照射し、その光学像を撮像した画像情報を演算して形状を算出する形状計測装置に関するものである。
【背景技術】
【0002】
三次元の形状計測手法として、例えば非特許文献1に記載の空間コード化法が知られている。空間コード化法による三次元計測では、明暗2値のストライプパターンの幅を順次半減して被測定物に投影する。ストライプパターンを投影した空間は明暗の変化の順序によって識別可能な小空間に分割され、各小空間には一意の空間コードが明暗の変化の順序として付与される。
【0003】
図10は従来の形状計測装置における空間コード化法による三次元計測を説明する図であり、ここでは、空間コード0から15の16の小空間に分割する例を示している。光源110からはまず投影パターン3の明暗パターンが投影され、引き続き投影パターン2,1,0の順に投影される。すると、例えば空間コード6が付与される小空間の明暗は、「暗、明、暗、明」と変化する。このように変化する小空間は他にはなく、明暗の変化の順序が決まれば小空間は一意に決定される。
【0004】
明暗の順序によるコードには、グレイコード(交番2進符号)を用いるのが一般的であり、図10には投影パターン3,2,1,0の4ビットのグレイコードを発生する投影パターンを示している。グレイコードを発生する投影パターンで明暗のピッチが最小の投影パターン0では、一つの「明」又は「暗」の投影領域に二つずつ空間コードの小空間が含まれているのが特徴である。
【0005】
カメラ111で被測定物120を撮像し、観測方向112に対応する画素xの明暗の変化の順序を判定すると、被測定物120の観測方向の部分がどの空間コードの小空間にあるかが判明し、図10の例では空間コード6の小空間である。その結果、被測定物120の三次元位置が光源110から投影した空間コード6の小空間の投影方向とカメラ111のレンズ中心から観測方向112の方向に伸ばした直線との交点として決定される。
【0006】
ここで、ストライプパターンである投影パターンを投影したときに、カメラ111で観測している点が「明」のストライプに入っているか、「暗」のストライプに入っているかを判定する際に、被測定物120の反射率に影響されないように、一般的には、明暗を反転させたストライプパターンである相補投影パターンも投影して判定する。すなわち、投影パターンを投影したときの点が、相補投影パターンを投影したときに、「明」から「暗」に変化したときは「明」のストライプに入っていると判定し、「暗」から「明」に変化したときは「暗」のストライプに入っていると判定する。
【0007】
図10からわかるように、明暗パターンの投影によって空間コードが付与される小空間は一定の幅を持つため、例えば空間コード6の小空間の中で幅方向に変化があっても全て空間コード6に量子化されるので、いわゆる量子化誤差を生じる。この量子化誤差は投影する明暗パターンの間隔が狭くなれば小さくなるが、なくすことはできない。
【0008】
この量子化誤差をなくすために、例えば特許文献1に示す形状計測装置は位相シフト法を併用している。
図11は従来の形状計測装置における位相シフト法を説明する図である。この位相シフト法は、空間コード化法における明暗の2値のストライプパターンを正弦波状のパターンに変え、1/4周期ずつ位相をシフトして投影したときの4枚の画像を利用する。図11では、空間コード化法で識別される4つの小空間で位相が1周期変化する正弦波状のパターンを投影している様子を示し、実線で示す基準投影パターン130に対して1/4周期ずつ位相をシフトした投影パターンを線種を変えて示している。基準投影パターン130を投影したときの画素xの画素値をI0とし、i/4周期(i=1,2,3)位相シフトしたパターンを投影したときの同じ画素xの画素値をIiとすると、画素値と位相の間には次の式(1)に示すシンプルな関係があり、位相におけるπが空間コード幅2に対応する関係があるので、画素xに対応する空間コードを小数点以下まで計算することにより量子化誤差をなくすことができる。
【0009】
【数1】
【0010】
図11に示す例では、空間コードが4離れた位置にも同じ位相パターンが現れるが、特許文献1では、空間コード化法と併用しているので、それらの識別は可能である。例えば図11の空間コード2の領域に現れる位相パターンは空間コード6の領域にも現れるが、空間コード化法によってその位置は明確に識別できるので取り違えることはない。
【0011】
このように、特許文献1による形状計測装置は、空間コード化法と位相シフト法を併用しているので、空間コード化法における量子化誤差の問題のない、精度の良い三次元計測を実現できる。
【0012】
【特許文献1】特開平11−148810号公報(段落0019,0090〜0134)
【非特許文献1】井口征士、佐藤宏介著、「三次元画像計測」、昭晃堂、1990年11月20日、p.79〜119
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0013】
従来の形状計測装置は以上のように構成され、例えば上記特許文献1に示す形状計測装置では、明暗2値のストライプパターンを投影する空間コード化法と、正弦波状の照度パターンを1/4周期ずつ位相シフトして4回投影する位相シフト法を併用して精度の良い形状計測ができるが、実際に精度の良い正弦波状の照度パターンを実現するのは非常に難しく、信頼性が高く精度の良い形状計測を行うのが困難であるという課題があった。これは、上記式(1)に示すように、位相の計算には三角関数の関係式を用いており、照度パターンが正弦波状から少しでも歪むと計算結果に大きな影響がでてくるためで、また、正弦波はπ/2と3π/4付近で勾配がゼロないしゼロに近くなっており、この付近ではわずかの計測誤差が位相の値に大きく影響するからである。
【0014】
この発明は上記のような課題を解決するためになされたもので、信頼性が高く精度の良い被測定物の形状計測を行うことができる形状計測装置を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0015】
この発明に係る形状計測装置は、保持している光線制御データに基づき、明暗のピッチ幅を順次半減したストライプ状の投影パターンを有する光線を発光して被測定物に照射する光線照射手段と、該光線照射手段により光線が照射された被測定物を撮像して画像情報を出力する撮像手段と、該撮像手段により撮像された画像情報から上記被測定物の形状を算出する画像情報演算手段とを備えたものにおいて、上記光線照射手段が照射する光線のストライプ状の投影パターンは、明暗のピッチ幅を順次半減した投影パターンのうちの明暗のピッチ幅が最小以外の第1の投影パターンと、該第1の投影パターンの明暗を反転させた第2の投影パターンと、明暗のピッチ幅が最小の第3の投影パターンと、該第3の投影パターンの明暗を反転させた第4の投影パターンと、上記第3の投影パターンの位相を所定周期分シフトさせた第5の投影パターンと、該第5の投影パターンの明暗を反転させた第6の投影パターンであり、上記第1から上記第6の投影パターンにおける明暗の変化部分が所定の勾配を有しているものである。
【発明の効果】
【0016】
この発明により、信頼性が高く精度の良い被測定物の形状計測を行うことができるという効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0017】
実施の形態1.
図1はこの発明の実施の形態1による形状計測装置の構成を示すブロック図である。この形状計測装置100は、基準面Lに載置された被測定物Mにレーザ光線を照射して、被測定物Mの変移や三次元形状を光学的手段を用いて非接触で計測するもので、コントロール手段10、光線照射手段20、撮像手段30、画像情報演算手段40、演算処理手段50及び表示処理手段60を備えている。
【0018】
コントロール手段10は光線照射手段20の制御タイミングと撮像手段30の撮像タイミングを制御する。光線照射手段20は、コントロール手段10からの制御タイミングで、保持している光線制御データに基づき、明暗のピッチ幅を順次半減したストライプ状の投影パターンを有するレーザ光線を発光して基準面Lに載置された被測定物Mに順次照射する。撮像手段30は、コントロール手段10からの撮像タイミングで、光線照射手段20によりレーザ光線が照射された被測定物Mを撮像して画像情報を出力する。
【0019】
画像情報演算手段40は、撮像手段30により撮像された画像情報の明度値から被測定物Mの高さ等の形状を算出する。演算処理手段50は画像情報演算手段40により算出された被測定物Mの形状から非測定物Mの周囲長や断面形状等を算出し、表示処理手段60は演算処理手段50により算出された非測定物Mの外形や断面形状等をディスプレイ(図示せず)により表示するための処理を行う。
【0020】
図1において、コントロール手段10は同期回路11を備えている。光線照射手段20は光線制御手段21、光源22及び光線走査手段23を備え、光線制御手段21は光線制御データメモリ211及びレーザコントローラ212を備え、光源22はレーザ光源221及びレンズ系222を備え、光線走査手段23はポリゴンミラー231を備えている。撮像手段30は例えばCCDカメラであり、画像情報演算手段40は画像情報メモリ41、形状演算回路42及び形状メモリ43を備えている。
【0021】
コントロール手段10の同期回路11は、光線制御手段21のレーザコントローラ212による光源21のレーザ光源221に対する制御タイミングを制御し、光線走査手段23のポリゴンミラー231の回転タイミングと回転数を制御し、CCDカメラである撮像手段30の撮像タイミングを制御する。
【0022】
光線制御手段21の光線制御データメモリ211には、光源22のレーザ光源221から発光するレーザ光線を制御する明暗のピッチ幅を順次半減したグレイコードに従うストライプ状の複数の投影パターンの光線制御データが格納されており、レーザコントローラ212は、コントロール手段10の同期回路11からの制御タイミングで、光線制御データメモリ211に格納されている各投影パターンの光線制御データを読み込み、読み込んだ光線制御データの各投影パターンの明暗のピッチ幅に基づき光源22のレーザ光源221から発光するレーザ光線を点滅させる。
【0023】
光源22のレンズ系222はレーザ光源221から発光されたレーザ光線をスリット状のレーザ光線に整形する。光線走査手段23のポリゴンミラー231は、コントロール手段10の同期回路11からの回転タイミングと回転数で回転し、レンズ系222からのスリット状のレーザ光線を反射し、回転によってスリット状のレーザ光線を偏向走査させ、基準面Lに載置されている被測定物Mに向けて斜め方向からスリット状の点滅しているレーザ光線を照射する。従って、被測定物Mの表面には、各投影パターンに対応して、レーザ光線が照射された部分と照射されない部分とのストライプ状の模様が生じる。
【0024】
CCDカメラである撮像手段30は、レーザ光線が照射された被測定物Mの表面に生じる光学像を撮像する積分型撮像部材であり、コントロール手段10の同期回路11からの撮像タイミングで、光線走査手段23のポリゴンミラー231によりレーザ光線が照射された基準面Lに載置されている被測定物Mの表面に生じる各投影パターンに対応したストライプ状の光学像を撮像し、1フィールド又は1フレームの画像情報を出力する。このとき、同期回路11は、ポリゴンミラー231の回転数を制御することで、撮像手段30が画像情報を出力する期間に、各投影パターンを何回走査させるかの走査回数を制御する。
【0025】
以上の処理は、コントロール手段10の同期回路11からの制御タイミング及び撮像タイミングで、複数フィールド又は複数フレーム分行われ、撮像手段30は複数フィールド又は複数フレームの画像情報を出力する。
【0026】
画像情報演算手段40の画像情報メモリ41はCCDカメラである撮像手段30より出力された複数フィールド又は複数フレームの画像情報を格納する。形状演算回路42は画像情報メモリ41に格納されている複数フィールド又は複数フレームの画像情報の明度値から被測定物Mの高さ等の形状を算出する。形状メモリ43は形状演算回路42により算出された被測定物Mの高さ等の形状を格納する。
【0027】
図2は画像情報演算手段40の画像情報メモリ41に格納される画像情報を示す図である。画像情報メモリ41には、図2に示すように、12画像分の画像メモリが含まれており、後述する投影パターン3,2,1,0の画像情報と、投影パターン0の位相をそれぞれ±1/8周期シフトさせた投影パターン0+、0−の画像情報と、それらの投影パターンの明暗を反転させた相補投影パターンを投影したときの、相補投影パターン3,2,1,0の画像情報と、相補投影パターン0+、0−の画像情報が格納される。これらの画像情報は、撮像手段30により出力された例えば8ビットの階調を持つ各画素毎の明度値である。
【0028】
図3は光線制御データメモリ21に光線制御データとして格納され光線照射手段20により被測定物Mに照射されるレーザ光線による投影パターンを示す図である。図3に示すように、この実施の形態1では、明暗のピッチ幅を順次半減したグレイコードに従う実線で示す投影パターン3,2,1,0と、投影パターン0の位相をそれぞれ±1/8周期シフトさせた実線で示す投影パターン0+,0−と、それらの投影パターンの明暗を反転させた破線で示す相補投影パターン3,2,1,0,0+,0−が使用される。
【0029】
図3では、空間コード化法による空間コードを0から15の16の小空間に分割し、各空間コードにおける位置を示す空間コード座標sも示している。ここでは、グレイコードに従う投影パターン3,2,1,0のうち、投影パターン3,2,1を明暗のピッチが最小以外の第1の投影パターンとし、投影パターン3,2,1の明暗を反転させた相補投影パターン3,2,1を第2の投影パターンとし、明暗のピッチが最小で一つの「明」又は「暗」の領域に二つずつの空間コードの小空間が含まれている投影パターン0を第3の投影パターンとし、投影パターン0の明暗を反転させた相補投影パターン0を第4の投影パターンとし、投影パターン0の位相をそれぞれ±1/8周期シフトさせた投影パターン0+,0−を第5の投影パターンとし、投影パターン0+,0−の明暗を反転させた相補投影パターン0+,0−を第6の投影パターンとする。
【0030】
この実施の形態1で使用される第1から第6の投影パターンは、図3に示すように、明暗の変化部分が所定の勾配を有し、台形状の照度分布を有していることが特徴であり、この所定の勾配を有する変化部分を利用して、後述するように、詳細な空間コード座標sを判定する。図3に示す第1から第6の投影パターンの変化部分の幅は、空間コード化法で識別される空間コードの幅に一致しているが、これに限られるものでなく、もっと緩やかな勾配でも空間コード座標sの計算は可能である。ただし、図3に示す勾配よりも急峻にすると詳細な空間コード座標sの計算が不可能となり、もっと緩やかにすると計算される空間コード座標sの誤差が大きくなるので、図3に示すように、変化部分の幅が空間コードの幅に一致するように勾配を設定するのが望ましい。
【0031】
図3に示す第1から第6の投影パターンは、空間コード化法による16の小空間を有する空間コードを設定する場合を示しているが、16の小空間を有する空間コードに制約されるものではなく、識別する空間コードの小空間の数を増減し、投影パターンの数を増減しても良い。その場合でも、明暗のピッチが最小となる投影パターンの位相を±1/8周期シフトさせる。
【0032】
図4は画像情報演算手段40の形状演算回路42が行う三角測量の原理による被測定物Mの高さの測定の方法を説明する図である。ここでは、基準面L上に載置された被測定物Mの高さZを測定するものとする。レーザ光源221から発射されたレーザ光線は、ポリゴンミラー231の鏡面231aで反射して被測定物Mの上面に照射される。これを撮像手段30の対物レンズ31を通して受光素子32上に結像させて撮像する。ここで、撮像手段30の光軸Uは基準面Lに垂直になるように配置されているものとし、基準面Lから鏡面231aの走査中心までの高さをhm、基準点Aからの偏向角度をα、基準面Lから撮像手段30の対物レンズ31の主点までの高さをhc、対物レンズ31の焦点距離をf、基準面L上の基準点Aから撮像手段30の光軸Uの基準面L上の点Oまでの距離をm、撮像手段30の受光素子32上の受光した画素位置(被測定物Mの上面を見込む画素位置)をxとする。
【0033】
このとき、次の式(2)に示す等式が成立する。
(hm−Z)・tanα+(hc−Z)・x/f=m (2)
従って被測定物Mの上面の高さZは、次の式(3)により求めることができる。
Z={x・hc−f(m−hm・tanα)}/(x+f・tanα) (3)
図4より明らかなように、hc、f、m、hmはいずれも被測定物Mと無関係な固定値である。従って、画素位置xと基準点Aからの偏向角度αが判れば、式(3)より高さZを算出できる。以下、画素位置xの画素を画素xと呼ぶ。
【0034】
上記非特許文献1に示す空間コード化法では、離散値として表されている空間コードを連続量として扱うため、空間コード座標sを投影パターンに関連づけて図3に示すように設定する。基準点Aからの偏向角度αは図3に示す空間コード座標sに1対1で対応しており、投影パターンを切り替えたときの画素xの出力(画素値)の変化から、空間コード座標sのどの位置の投影光が被測定物Mの表面で反射されて画素xに入射したかが判れば、すなわち基準点Aからの偏向角度αが決定され、高さZを計算することができる。
【0035】
なお、上記式(2)、式(3)においては、y方向(図4における紙面に垂直な方向)の座標(位置)が現れないが、撮像手段30の受光素子32のy方向の画素位置から直接導出されるので、3次元計測が可能となる。
【0036】
以下では画素xの出力は投影パターンの照度に比例するものとして、図3の投影パターンを用いた場合に画素xの出力(画素値)の変化から、空間コード座標sのどの位置の投影光が被測定物Mの表面で反射されて画素xに入射したかを、量子化の誤差なく一意に判定できることを説明する。
【0037】
まず、図3に示す台形状のグレイコードに従う投影パターン3,2,1,0と相補投影パターン3,2,1,0を用いて明暗の判定をした場合、従来技術である空間コード化法で用いられている図10に示した明暗2値の投影パターンとその相補投影パターンを用いて明暗を判定した場合と同じ結果が得られる。従って、画像情報演算手段40の形状演算回路42が、図3に示す台形状のグレイコードに従う投影パターン3,2,1,0と相補投影パターン3,2,1,0を用いて明暗の判定をした場合、受光素子32上の画素xにおける明暗の変化の組み合わせから、受光素子32上の画素xに入射された投影光の位置が空間コード0〜15のいずれにあるか判定できることは、図10を用いて説明した従来技術である空間コード化法と同じである。すなわち、画像情報演算手段40の形状演算回路42は、投影パターン3,2,1,0と相補投影パターン3,2,1,0を用いて、受光素子32上の画素xに入射された投影光の位置が空間コード0〜15のうちのいずれの空間コードにあるかを判定する。
【0038】
また、画像情報演算手段40の形状演算回路42は、空間コードで識別される小空間の領域内のさらに詳細な投影光の位置の空間コード座標sを判定する際に、図3に示す投影パターン0+、投影パターン0−、相補投影パターン0+及び相補投影パターン0−を利用する。ここでは、形状演算回路42が、画素xにおける明暗の変化が空間コード6、すなわち空間コード座標sで6.0以上、7.0以下の範囲に対応すると判定した場合を例にとり、位相シフト法における位相計算により、さらに詳細な投影光の位置の空間コード座標sを判定する手順と計算の方法を説明する。
【0039】
図5は画像情報演算手段40の形状演算回路42が投影光の位置の空間コード座標sの計算の際に行う位相シフト法による位相計算を説明する図であり、空間コード5,6,7の小空間を拡大して、投影パターン0+を実線で、相補投影パターン0+を破線で重ねて表示したものである。この図5からわかるように、両投影パターンは空間コード6の領域の中央で明暗が逆転しており、形状演算回路42が、どちらの投影パターンを投影したときに画素xでより大きな出力が観測されたかを判定することにより、画素xに入射された投影光が空間コード座標6.5以上の位置の投影光に対応するものか、6.5以下の位置の投影光に対応するものか判定できる。具体的には、形状演算回路42は、投影パターン0+を投影したときの画素xの出力が相補投影パターン0+を投影したときの画素xの出力より大きければ6.5以下、逆ならば6.5以上と判定する。
【0040】
図3に示すように、投影パターン0+と相補投影パターン0+、又は投影パターン0−と相補投影パターン0−のいずれかの組み合わせが、各空間コードの小空間の中央において明暗が反転するようになっており、どの空間コードの小空間においても上記のように1/2単位の領域判定ができる。すなわち、画像情報演算手段40の形状演算回路42は、投影パターン0+と相補投影パターン0+、又は投影パターン0−と相補投影パターン0−のいずれかの組み合わせを用いて、判定された空間コードにおける受光素子32上の画素xに入射された投影光の位置の空間コード座標sを1/2単位で判定する。
【0041】
次に、形状演算回路42が、画素xに入射された投影光が空間コード座標6.5以下の位置の投影光に対応するものと判定した場合を例にとり、位相シフト法における位相計算により、さらに詳細な投影光の位置の空間コード座標sを判定する手順と計算の方法について説明する。
【0042】
図6は画像情報演算手段40の形状演算回路42が投影光の位置の空間コード座標sの計算の際に行う位相シフト法による位相計算を説明する図であり、空間コード5,6,7の領域部分を拡大して、投影パターン0+を実線で、相補投影パターン1を破線で重ねて表示したものである。この図6からわかるように、両投影パターンは空間コード6の領域の6.25の位置で明暗が逆転しており、形状演算回路42が、どちらの投影パターンを投影したときに画素xでより大きな出力が観測されたかを判定することにより、画素xに入射された投影光が空間コード6.25以上の位置の投影光に対応するものか、6.25以下の位置の投影光に対応するものか判定できる。具体的には、形状演算回路42は、投影パターン0+を投影したときの画素xの出力が相補投影パターン1を投影したときの画素xの出力より大きければ6.25以下、逆ならば6.25以上と判定する。
【0043】
この判定は空間コード0と15を除く他の空間コードの場合も同様であり、画像情報演算手段40の形状演算回路42は、図3に示す投影パターンのいずれかの組み合わせを用いて、判定された空間コードにおける受光素子32上の画素xに入射された投影光の位置の空間コード座標sを1/4単位で判定する。
【0044】
さらに詳細には次のような計算をする。
図7は画像情報演算手段40の形状演算回路42が投影光の位置の空間コード座標sの計算の際に行う位相シフト法による位相計算を説明する図であり、空間コード6の小空間付近を拡大して、投影パターン1、投影パターン0+、相補投影パターン1及び相補投影パターン0+を重ねて表示したものである。投影パターン1を投影したときの画素xの出力をa、相補投影パターン1を投影したときの画素xの出力をb、相補投影パターン0+を投影したときの画素xの出力をc、投影パターン0+を投影したときの画素xの出力をdとする。
【0045】
画素xに入射された投影光が空間コード座標6.25以下の位置の投影光に対応するもの判定された場合、形状演算回路42は、投影光の位置の詳細な空間コード座標sを、図7に示す幾何学的関係からわかるように、次の式(4)で計算する。
s=6.0+0.25・(b−a)/(d−a) (4)
同様に、画素xに入射された投影光が空間コード6.25以上の位置の投影光に対応するもの判定された場合、形状演算回路42は、投影光の位置の詳細な空間コード座標sを次の式(5)で計算する。
s=6.5−0.25・(d−c)/(d−a) (5)
【0046】
最初に投影パターン0+と相補投影パターン0+に対する画素xの出力の比較により、空間コード座標6.5以上の範囲と判定された場合も、形状演算回路42は、投影パターン0、投影パターン0+、相補投影パターン0及び相補投影パターン0+に対する画素xの出力を利用して、同様に投影光の位置の詳細な空間コード座標sを計算することができる。
【0047】
この計算方法は空間コード0と15を除く他の空間コードの場合も同様であり、画像情報演算手段40の形状演算回路42は、図3に示す投影パターンのいずれかの組み合わせを用いて、判定された空間コードにおける画素xに入射された投影光の位置の空間コード座標sを原理的に量子化誤差を含まない形で計算する。
【0048】
以上、従来の空間コード化法によりその出力パターンが空間コード6になると判定された画素xに入射された投影光の位置について、さらに詳細な空間コード座標sを計算する方法について説明したが、他の空間コードに判定された画素xに入射された投影光の位置についても、空間コード0と15を除いて、図3に示すように、各空間コードに対応して上記説明に対応する投影パターンが必ずあり、空間コード座標s=1.0から15.0の範囲では、量子化誤差のない投影光の位置の空間コード座標sを計算できる。
【0049】
上記、投影光の位置の空間コード座標sの計算方法においては、画素xの出力の大小比較と、式(4)、式(5)において画素xの出力の差の比を計算するのみであるので、被測定物Mの色調等による反射率や外乱光等によるバイアス成分の影響を受けない。
【0050】
図8は画像情報演算手段40の形状演算回路42が投影光の位置の空間コード座標sの計算の際に行う位相シフト法による位相計算を説明する図であり、上記に説明した、空間コードが6と判定された画素xに入射された投影光の位置の詳細な空間コード座標sを計算するために、利用された投影パターンの計算に関係する全ての部分を重ねて表示したものである。上記の説明のように、投影光の位置の空間コード座標sが計算できるのは、空間コード領域の中央でクロスしているパターン(図8の場合、投影パターン0+と相補投影パターン0+)、及び空間コードの両側の境界でクロスしているパターン(図8の場合、投影パターン1と相補投影パターン1、及び投影パターン0と相補投影パターン0)に対する画像情報が得られているからである。
【0051】
図3をみると、どの空間コードの領域に対しても、投影パターン0+と相補投影パターン0+か、投影パターン0−と相補投影パターン0−が空間コードの領域の中央でクロスすることがわかる。同様に、どの空間コードの領域に対しても、投影パターン0と相補投影パターン0が左右どちらかの境界においてクロスするパターンとなっていることがわかる。そして、投影パターン0と相補投影パターン0がクロスしていない他方の境界においてクロスするパターンは、投影パターン0、0+、0−以外の投影パターンが対応しているのがわかる。
【0052】
このように、投影光の位置の空間コード座標sを計算する際に、シフトしない投影パターンを利用するので、上記特許文献1における位相シフト法に比べ、位相をシフトする投影パターンが投影パターン0+と投影パターン0−の二つで済むという特徴がある。
【0053】
投影光の位置の空間コード座標sと基準点Aからの偏向角度αの関係は、ポリゴンミラー231の回転角と同期を取ったレーザコントローラ212の出力の関係から決定されるが、図4に示す被測定物Mを取り除いて、基準面Lに投影パターンを投影し、その投影位置から投影光の位置の空間コード座標sと基準点Aからの偏向角度αの関係を校正しても良い。
【0054】
このようにして、画素xに入射された投影光の位置の空間コード座標sが判ると基準点Aからの偏向角度αが判り、上記式(3)により高さZが計算される。以上の計算では、上記特許文献1の位相シフト法で必要であったarctanの計算は不要であり、計算が容易となっている。また、図7から判るように、式(4)及び式(5)で用いられる画素値a,b,c,dは、計算に用いる範囲ではどこでも同じ勾配であり、上記特許文献1の位相シフト法で用いられた正弦波のように、勾配がゼロないしゼロに近い部分はないので、画素値の計測誤差に対する感度はどこでも一定である。
【0055】
このようにして、形状演算回路42により算出された被測定物Mの形状データは、その後、演算処理手段50及び表示処理手段60に送られ、被測定物Mの周囲長や断面形状等を算出したり、ディスプレイ(図示しない)によって被測定物Mの形状を表示したりする後加工が行われる。
【0056】
なお、この実施の形態1においては、光源22からの光線として、レーザ光源221からのレーザ光線を整形して用いた例を示したが、レーザ光源221を用いずに、通常の光源からの光線を整形して用いても良い。また、光線走査手段23として、ポリゴンミラー231を用いた例を示したが、他の偏向装置、例えばガルバノミラー等を用いても良い。また、ポリゴンミラー231の面数についても、回転数、走査範囲、走査回数等を考慮して適宜選択すれば良い。さらに、本例においては基準面L上に被測定物Mを載置してその形状を計測したが、計測において基準面Lが撮像される必要はなく、さらには基準面Lを無くして、仮想基準面からの高さを計測するようにしても良い。
【0057】
以上のように、この実施の形態1によれば、光線照射手段20が照射する光線のストライプ状の投影パターンとして、明暗のピッチ幅を順次半減した投影パターンのうちの明暗のピッチ幅が最小以外の第1の投影パターンと、第1の投影パターンの明暗を反転させた第2の投影パターンと、明暗のピッチ幅が最小の第3の投影パターンと、第3の投影パターンの明暗を反転させた第4の投影パターンと、第3の投影パターンの位相を1/8周期シフトさせた第5の投影パターンと、第5の投影パターンの明暗を反転させた第6の投影パターンを使用し、第1から第6の投影パターンにおける明暗の変化部分が所定の勾配を有していることにより、信頼性が高く精度の良い被測定物Mの形状計測を行うことができるという効果が得られる。
【0058】
また、この実施の形態1によれば、空間コード化法による計測に引き続いて行う位相シフト法による計測を、上記特許文献1に示すarctanの複雑な計算をすることなく容易に行うことができ、しかも、詳細な投影光の位置の空間コード座標sを計算することにより、分解能の高い計算を行うことができるという効果が得られる。
【0059】
さらに、この実施の形態1によれば、投影光の位置の空間コード座標sを計算する際に、シフトしない投影パターンを利用するので、位相をシフトする投影パターンを少なくすることができるという効果が得られる。
【0060】
実施の形態2.
この発明の実施の形態2による形状計測装置100の構成を示すブロック図は上記実施の形態1の図1と同じである。
図9は光線制御データメモリ21に光線制御データとして格納され光線照射手段20により被測定物Mに照射されるレーザ光線による投影パターンを示す図である。図9に示すように、この実施の形態2では、明暗のピッチ幅を順次半減したグレイコードに従う実線で示す投影パターン3,2,1,0と、投影パターン0の位相をそれぞれ±1/8周期シフトさせた実線で示す投影パターン0+,0−と、投影パターン0の位相を+1/4周期シフトさせた実線で示す投影パターン0++と、それらの投影パターンの明暗を反転させた破線で示す相補投影パターン3,2,1,0,0+,0−,0++が使用される。
【0061】
図9では、グレイコードに従う投影パターン3,2,1,0のうち、投影パターン3,2,1を明暗のピッチが最小以外の第1の投影パターンとし、投影パターン3,2,1の明暗を反転させた相補投影パターン3,2,1を第2の投影パターンとし、明暗のピッチが最小で一つの「明」又は「暗」の領域に二つずつの空間コードの小空間が含まれている投影パターン0を第3の投影パターンとし、投影パターン0の明暗を反転させた相補投影パターン0を第4の投影パターンとし、投影パターン0の位相をそれぞれ±1/8周期シフトさせた投影パターン0+,0−を第5の投影パターンとし、投影パターン0+,0−の明暗を反転させた相補投影パターン0+,0−を第6の投影パターンとし、投影パターン0の位相を+1/4周期シフトさせた投影パターン0++を第7の投影パターンとし、投影パターン0++の明暗を反転させた相補投影パターン0++を第8の投影パターンとする。
【0062】
この実施の形態2で使用される第3から第8の投影パターンは、図9に示すように、上記実施の形態1の図3と同様に、明暗の変化部分が所定の勾配を有し、台形状の照度分布を有しているが、第1及び第2の投影パターンは、図9に示すように、図3とは異なり、明暗の変化部分が所定の勾配を有せず、台形状の照度分布とならず、上記非特許文献1に示す明暗2値の投影パターンとなっている。
【0063】
図9に示すように、投影パターン3,2,1の明暗が変化する全ての空間コード座標において、投影パターン0++は変化している。図8の説明において、小空間の中央と小空間の左右の3つのクロスする投影パターンの内、投影パターン0と相補投影パターン0がクロスしていない他方の境界においてクロスする投影パターンは、投影パターン0,0+,0−以外の投影パターンが対応していることを述べたが、この実施の形態2においては、投影パターン0,0+,0−,0++と相補投影パターン0,0+,0−,0++に対応する画像情報に3つのクロスするパターンが含まれている。従って、投影パターン3,2,1と相補投影パターン3,2,1の画像情報は、空間コードの計算に使用するのみで、投影光の位置の空間コード座標sの計算には不要となる。
【0064】
このようにする利点は次の点にある。すなわち、上記実施の形態1の場合は、投影光の位置の空間コード座標sの計算のために、全ての投影パターンに対する画像情報を計算の最後まで画像情報メモリ41に蓄積しておく必要がある。それに対して、この実施の形態2においては、投影光の位置の空間コード座標sの計算は投影パターン0,0+,0−,0++と相補投影パターン0,0+,0−,0++に対応する画像情報によって計算できるので、投影パターン3,2,1と相補投影パターン3,2,1に対する画像情報は空間コードの計算後は消去しても問題なく、同じ画像情報メモリ41上に投影パターン0+,0−,0++と相補投影パターン0,0+,0−,0++に対応する画像情報を書き込むことができる。つまり、この実施の形態2においては、上記実施の形態1よりも画像情報メモリ41のメモリ容量を減らして、投影光の位置の空間コード座標sが計算できるという特徴がある。
その他の処理は上記実施の形態1と同様である。
【0065】
以上のように、この実施の形態2によれば、上記実施の形態1と同様の効果が得られると共に、画像情報メモリ41のメモリ容量を減らすことができるという効果が得られる。
【0066】
以上に、この発明に係る実施の形態を説明したが、この発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく、発明の範囲を逸脱しない限り、適宜変更して適用できることはいうまでもない。
【図面の簡単な説明】
【0067】
【図1】この発明の実施の形態1による形状計測装置の構成を示すブロック図である。
【図2】この発明の実施の形態1による形状計測装置における画像情報演算手段の画像情報メモリに格納される画像情報を示す図である。
【図3】この発明の実施の形態1による形状計測装置における光線制御データメモリに光線制御データとして格納され光線照射手段により被測定物に照射されるレーザ光線による投影パターンを示す図である。
【図4】この発明の実施の形態1による形状計測装置における画像情報演算手段の形状演算回路が行う三角測量の原理による被測定物の高さの測定の方法を説明する図である。
【図5】この発明の実施の形態1による形状計測装置における画像情報演算手段の形状演算回路が投影光の位置の空間コード座標の計算の際に行う位相シフト法による位相計算を説明する図である。
【図6】この発明の実施の形態1による形状計測装置における画像情報演算手段の形状演算回路が投影光の位置の空間コード座標の計算の際に行う位相シフト法による位相計算を説明する図である。
【図7】この発明の実施の形態1による形状計測装置における画像情報演算手段の形状演算回路が投影光の位置の空間コード座標の計算の際に行う位相シフト法による位相計算を説明する図である。
【図8】この発明の実施の形態1による形状計測装置における画像情報演算手段の形状演算回路が投影光の位置の空間コード座標の計算の際に行う位相シフト法による位相計算を説明する図である。
【図9】この発明の実施の形態2による形状計測装置における光線制御データメモリに光線制御データとして格納され光線照射手段により被測定物に照射されるレーザ光線による投影パターンを示す図である。
【図10】従来の形状計測装置における空間コード化法による三次元計測を説明する図である。
【図11】従来の形状計測装置における位相シフト法を説明する図である。
【符号の説明】
【0068】
10 コントロール手段、11 同期回路、20 光線照射手段、21 光線制御手段、22,110 光源、23 光線走査手段、30 撮像手段、40 画像情報演算手段、41 画像情報メモリ、42 形状演算回路、43 形状メモリ、50 演算処理手段、60 表示処理手段、100 形状計測装置、111 カメラ、112 観測方向、120 被測定物、130 基準投影パターン、211 光線制御データメモリ、212 レーザコントローラ、221 レーザ光源、222 レンズ系、231 ポリゴンミラー。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
保持している光線制御データに基づき、明暗のピッチ幅を順次半減したストライプ状の投影パターンを有する光線を発光して被測定物に照射する光線照射手段と、該光線照射手段により光線が照射された被測定物を撮像して画像情報を出力する撮像手段と、該撮像手段により撮像された画像情報から上記被測定物の形状を算出する画像情報演算手段とを備えた形状計測装置において、
上記光線照射手段が照射する光線のストライプ状の投影パターンは、明暗のピッチ幅を順次半減した投影パターンのうちの明暗のピッチ幅が最小以外の第1の投影パターンと、該第1の投影パターンの明暗を反転させた第2の投影パターンと、明暗のピッチ幅が最小の第3の投影パターンと、該第3の投影パターンの明暗を反転させた第4の投影パターンと、上記第3の投影パターンの位相を所定周期分シフトさせた第5の投影パターンと、該第5の投影パターンの明暗を反転させた第6の投影パターンであり、上記第1から上記第6の投影パターンにおける明暗の変化部分が所定の勾配を有していることを特徴とする形状計測装置。
【請求項2】
第5の投影パターンは第3の投影パターンの位相を1/8周期シフトさせたものであることを特徴とする請求項1記載の形状計測装置。
【請求項3】
光線照射手段が被測定物に照射する光線の第1から第6の投影パターンにおける明暗の変化部分の幅は、被測定物の小空間に付与された空間コードの幅に一致していることを特徴とする請求項1記載の形状計測装置。
【請求項4】
保持している光線制御データに基づき、明暗のピッチ幅を順次半減したストライプ状の投影パターンを有する光線を発光して被測定物に照射する光線照射手段と、該光線照射手段により光線が照射された被測定物を撮像して画像情報を出力する撮像手段と、該撮像手段により撮像された画像情報から上記被測定物の形状を算出する画像情報演算手段とを備えた形状計測装置において、
上記光線照射手段が照射する光線のストライプ状の投影パターンは、明暗のピッチ幅を順次半減した投影パターンのうちの明暗のピッチ幅が最小以外の第1の投影パターンと、該第1の投影パターンの明暗を反転させた第2の投影パターンと、明暗のピッチ幅が最小の第3の投影パターンと、該第3の投影パターンの明暗を反転させた第4の投影パターンと、上記第3の投影パターンの位相を所定周期分シフトさせた第5の投影パターンと、該第5の投影パターンの明暗を反転させた第6の投影パターンと、上記第3の投影パターンの位相を所定周期分複数回シフトさせた第7の投影パターンと、該第7の投影パターンの明暗を反転させた第8の投影パターンであり、上記第3から上記第8の投影パターンにおける明暗の変化部分が所定の勾配を有していることを特徴とする形状計測装置。
【請求項5】
第5の投影パターンは第3の投影パターンの位相を1/8周期シフトさせたもので、第7の投影パターンは上記第3の投影パターンの位相を1/4周期シフトさせたものであることを特徴とする請求項4記載の形状計測装置。
【請求項6】
光線照射手段が被測定物に照射する光線の第3から第8の投影パターンにおける明暗の変化部分の幅は、被測定物の小空間に付与された空間コードの幅に一致していることを特徴とする請求項4記載の形状計測装置。
【請求項7】
画像情報演算手段は、第1から第4の投影パターンを有する光線により撮像された画像情報から、撮像手段の受光素子に受光された投影光の位置が被測定物の小空間に付与されたいずれの空間コードにあるかを判定し、上記第1から第6の投影パターンを有する光線により撮像された画像情報から、判定された空間コードにおける上記投影光の位置の空間コード座標を判定して、上記被測定物の形状を算出することを特徴とする請求項1または請求項4記載の形状計測装置。
【請求項1】
保持している光線制御データに基づき、明暗のピッチ幅を順次半減したストライプ状の投影パターンを有する光線を発光して被測定物に照射する光線照射手段と、該光線照射手段により光線が照射された被測定物を撮像して画像情報を出力する撮像手段と、該撮像手段により撮像された画像情報から上記被測定物の形状を算出する画像情報演算手段とを備えた形状計測装置において、
上記光線照射手段が照射する光線のストライプ状の投影パターンは、明暗のピッチ幅を順次半減した投影パターンのうちの明暗のピッチ幅が最小以外の第1の投影パターンと、該第1の投影パターンの明暗を反転させた第2の投影パターンと、明暗のピッチ幅が最小の第3の投影パターンと、該第3の投影パターンの明暗を反転させた第4の投影パターンと、上記第3の投影パターンの位相を所定周期分シフトさせた第5の投影パターンと、該第5の投影パターンの明暗を反転させた第6の投影パターンであり、上記第1から上記第6の投影パターンにおける明暗の変化部分が所定の勾配を有していることを特徴とする形状計測装置。
【請求項2】
第5の投影パターンは第3の投影パターンの位相を1/8周期シフトさせたものであることを特徴とする請求項1記載の形状計測装置。
【請求項3】
光線照射手段が被測定物に照射する光線の第1から第6の投影パターンにおける明暗の変化部分の幅は、被測定物の小空間に付与された空間コードの幅に一致していることを特徴とする請求項1記載の形状計測装置。
【請求項4】
保持している光線制御データに基づき、明暗のピッチ幅を順次半減したストライプ状の投影パターンを有する光線を発光して被測定物に照射する光線照射手段と、該光線照射手段により光線が照射された被測定物を撮像して画像情報を出力する撮像手段と、該撮像手段により撮像された画像情報から上記被測定物の形状を算出する画像情報演算手段とを備えた形状計測装置において、
上記光線照射手段が照射する光線のストライプ状の投影パターンは、明暗のピッチ幅を順次半減した投影パターンのうちの明暗のピッチ幅が最小以外の第1の投影パターンと、該第1の投影パターンの明暗を反転させた第2の投影パターンと、明暗のピッチ幅が最小の第3の投影パターンと、該第3の投影パターンの明暗を反転させた第4の投影パターンと、上記第3の投影パターンの位相を所定周期分シフトさせた第5の投影パターンと、該第5の投影パターンの明暗を反転させた第6の投影パターンと、上記第3の投影パターンの位相を所定周期分複数回シフトさせた第7の投影パターンと、該第7の投影パターンの明暗を反転させた第8の投影パターンであり、上記第3から上記第8の投影パターンにおける明暗の変化部分が所定の勾配を有していることを特徴とする形状計測装置。
【請求項5】
第5の投影パターンは第3の投影パターンの位相を1/8周期シフトさせたもので、第7の投影パターンは上記第3の投影パターンの位相を1/4周期シフトさせたものであることを特徴とする請求項4記載の形状計測装置。
【請求項6】
光線照射手段が被測定物に照射する光線の第3から第8の投影パターンにおける明暗の変化部分の幅は、被測定物の小空間に付与された空間コードの幅に一致していることを特徴とする請求項4記載の形状計測装置。
【請求項7】
画像情報演算手段は、第1から第4の投影パターンを有する光線により撮像された画像情報から、撮像手段の受光素子に受光された投影光の位置が被測定物の小空間に付与されたいずれの空間コードにあるかを判定し、上記第1から第6の投影パターンを有する光線により撮像された画像情報から、判定された空間コードにおける上記投影光の位置の空間コード座標を判定して、上記被測定物の形状を算出することを特徴とする請求項1または請求項4記載の形状計測装置。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【公開番号】特開2008−145139(P2008−145139A)
【公開日】平成20年6月26日(2008.6.26)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2006−329759(P2006−329759)
【出願日】平成18年12月6日(2006.12.6)
【出願人】(000006013)三菱電機株式会社 (33,312)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成20年6月26日(2008.6.26)
【国際特許分類】
【出願日】平成18年12月6日(2006.12.6)
【出願人】(000006013)三菱電機株式会社 (33,312)
【Fターム(参考)】
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