感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、パターン形成方法、及びプラズマディスプレイ

【課題】光重合開始系として、新規な組み合わせ系を感光性組成物中に含有することにより、青紫色レーザに対して高解像度で高感度を実現でき、かつ青紫色レーザ露光によるパターン形成において、黄色安全灯下では感光せず、プラズマディスプレイの製造に好適な感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、パターン形成方法、及びプラズマディスプレイを提供する。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始系化合物、及び無機粒子を含み、前記光重合開始系化合物が、一般式（Ｉａ）及び一般式（Ｉｂ）で表されるオキシム誘導体の少なくともいずれか、並びに一般式（IIａ）で表されるアクリドン誘導体及び一般式（IIｂ）で表されるチオキサントン誘導体の少なくともいずれかを含む感光性組成物、支持体と、該支持体上に前記感光性組成物からなる感光層を少なくとも有するパターン形成材料、などである。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
バインダー、重合性化合物、光重合開始系化合物、及び無機粒子を含み、前記光重合開始系化合物が、下記一般式（Ｉａ）及び一般式（Ｉｂ）で表されるオキシム誘導体の少なくともいずれか、並びに下記一般式（IIａ）で表されるアクリドン誘導体及び下記一般式(IIｂ)で表されるチオキサントン誘導体の少なくともいずれかを含むことを特徴とする感光性組成物。
【化１】

ただし、前記一般式（Ｉａ）及び前記一般式（Ｉｂ）中、Ａｒは、芳香族基及び複素環基のいずれかを表し、Ｙ^１は、水素原子及び一価の置換基のいずれかを表し、Ｙ^２は、脂肪族基、芳香族基、複素環基、−ＣＯ−Ｙ^３、−ＣＯ_２Ｙ^３、及び−ＣＯＮＹ^４Ｙ^５のいずれかを表し、ｍは１以上の整数を表す。前記Ｙ^３、Ｙ^４、及びＹ^５は、脂肪族基、芳香族基、及び複素環基のいずれかを表す。
【化２】

ただし、前記一般式（IIａ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は、それぞれ独立して、水素原子及び一価の置換基のいずれかを表し、Ｒ^９は、置換基を有してもよいアルキル基を表す。
【化３】

ただし、前記一般式（IIｂ）中、Ｒ^１〜Ｒ^４は独立して、水素原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数７〜１１のアラルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数７〜１３のアラルキルオキシ基、及びハロゲン原子のいずれかを表す。
【請求項２】
バインダーが、下記一般式（III）で表される共重合体を含む樹脂である請求項１に記載の感光性組成物。
【化４】

ただし、前記一般式（III）中、Ｒ^１は水素原子及びメチル基のいずれかを表し、Ｒ^２は水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１〜４のアルキル基、及び炭素数１〜４のアルコキシ基のいずれかを表し、ｍは１〜５の整数を表す。Ｒ^３は水素原子及び炭素数１〜４のアルキル基のいずれかを表し、Ｒ^４は水素原子及び炭素数１〜４のアルキル基のいずれかを表し、Ｒ^５は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１１のビシクロアルキル、炭素数６〜１１のトリシクロアルキル基、炭素数７〜１１のアラルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、及び（メタ）アクリロイルオキシアルキル基のいずれかを表す。ｘ及びｙは各繰り返し単位のモル含有率を表し、ｘ＋ｙ＝１００でｘ：ｙ＝１０〜９０：１０〜９０である。
【請求項３】
樹脂が、下記一般式（IV）で表され、一般式（III）で表される共重合体と、エポキシ及び不飽和基を有する化合物との反応生成物である請求項１から２のいずれかに記載の感光性組成物。
【化５】

ただし、前記一般式（IV）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５は前記一般式（III）と同じ意を表し、Ｒ^６は前記一般式（III）で表される共重合体と、前記エポキシ基及び不飽和基を有する化合物との反応後の残基を表し、ｍは１〜５の整数を表す。ｘ、ｙ、及びｚは各繰り返し単位のモル含有率を表し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００でｘ：ｙ：ｚ＝１０〜８０：１０〜８０：１０〜８０である。
【請求項４】
バインダーが、下記一般式（Ｖ）で表される樹脂である請求項１に記載の感光性組成物。
【化６】

ただし、前記一般式（Ｖ）中、Ｒ^１は独立して、水素原子、及びメチル基のいずれかを表す。Ｒ^５はアルキル基、アリール基、アルキルエステル、及びアリールエステル基のいずれかを表す。ａ、ｂ、ｃ、及びｄは各繰り返し単位のモル含有率を表し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１００でａ：ｂ：ｃ：ｄ＝５〜４８：２〜４５：１０〜５０：０〜３０である。
【請求項５】
無機粒子が、ガラス粉末及び導電性金属粉末の少なくともいずれかである請求項１から４のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項６】
支持体と、該支持体上に請求項１から５のいずれかに記載の感光性組成物からなる感光層とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成材料。
【請求項７】
基材上に、請求項１から５のいずれかに記載の感光性組成物からなる感光層を有することを特徴とする感光性積層体。
【請求項８】
請求項７に記載の感光性積層体における感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項９】
露光が、４００〜４１０ｎｍの波長のレーザ光を用いて行われる請求項８に記載のパターン形成方法。
【請求項１０】
請求項８から９のいずれかに記載のパターン形成方法により形成されたパターンを含むことを特徴とするプラズマディスプレイ。

【図２５】