説明

自動分析装置

【課題】本発明は、簡易な構成で反応容器内の反応液を所定温度範囲内に保持し、精度の高い分析結果を得ること。
【解決手段】回転テーブル21が保持する反応容器20に検体と試薬とを分注し、この反応液Lの吸光度を測定することによって前記検体を分析する自動分析装置であって、流路22内の恒温液LTの温度を目標温度範囲に調整する温度制御部31と、自動分析装置1の内部を冷却する冷却ファン28と、温度制御部31による温度調整下における自動分析装置1の内部温度変化に対する反応容器20内の反応液温上昇率の増大に応じて冷却ファン28の回転数を増大させる制御を行うファン制御部32と、を備えたことを特徴とする自動分析装置。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、恒温槽によって保温された反応容器内で検体と試薬とを反応させ、この反応液の吸光度を測定することによって前記検体を分析する自動分析装置に関するものである。
【背景技術】
【0002】
従来から、検体と試薬とを反応させ、この反応液の吸光度を測定することによって検体を分析する自動分析装置が知られている。この自動分析装置は、複数の反応容器を保持する回転テーブルを備え、この反応容器に検体と試薬とを分注するため、所定の方向に回転テーブルを回転させる。この回転テーブルは、恒温槽によって反応容器内の反応液を所定温度範囲内に保持されている。
【0003】
【特許文献1】特開平11−201975号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、恒温槽は、反応容器に検体などが分注されるため、反応容器全体を覆うことが難しく、たとえば、反応容器の口元付近などの覆われていない反応容器の部分に外気が触れるため、この反応容器の部分は、恒温槽外部の環境温度の影響を受ける。さらに、回転テーブルは、恒温槽の温度を反応容器内の反応液に伝熱させるため、伝熱性の良い材質で形成されている。このため、反応容器内の反応液が恒温槽によって所定温度範囲内に保持されていても、恒温槽から離れた反応容器の部分が恒温槽外部の環境温度に影響を受ける。この結果、恒温槽外部の環境温度が上昇することで、反応容器内の反応液温も上昇するため、反応容器内の反応液を所定温度範囲内に保持することが難しく、精度の高い分析結果を得ることができない場合がある。
【0005】
なお、上述した問題を解決する自動分析装置があるが、反応容器に分注する洗浄水を加熱する装置を設けなければならないうえ、分析に必要がない分注動作を行うため、装置全体としての分析処理に時間がかかる(特許文献1参照)。
【0006】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、簡易な構成で反応容器内の反応液を所定温度範囲内に保持し、精度の高い分析結果を得ることができる自動分析装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明にかかる自動分析装置は、恒温槽によって保温された反応容器内で検体と試薬とを反応させ、この反応液の吸光度を測定することによって前記検体を分析する自動分析装置であって、前記恒温槽の温度を目標温度範囲に調整する温度調整手段と、当該自動分析装置の内部を冷却する冷却ファンと、前記温度調整手段による温度調整下における当該自動分析装置の内部温度変化に対する前記反応容器内の反応液温上昇率の増大に応じて前記冷却ファンの回転数を増大させる制御を行うファン制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【0008】
また、本発明にかかる自動分析装置は、上記の発明において、前記ファン制御手段は、前記反応液温上昇率が所定値を超える内部温度以上である場合に、前記冷却ファンの回転数を大きくすることを特徴とする。
【0009】
また、本発明にかかる自動分析装置は、上記の発明において、前記ファン制御手段は、反応液温上昇率の増大に応じて前記冷却ファンの回転数を増大させる制御を段階的に行うことを特徴とする。
【発明の効果】
【0010】
本発明にかかる自動分析装置は、温度調整手段による温度調整下における当該自動分析装置の内部温度変化に対する反応容器内の反応液温上昇率の増大に応じて冷却ファンの回転数を増大させることで、反応容器内の反応液を所定温度範囲内に保持することができ、簡易な構成で精度の高い分析結果を得ることができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【0011】
以下、図面を参照して、本発明の自動分析装置にかかる好適な実施の形態について説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。また、図面の記載において、同一の部分には同一の符号を付している。
【0012】
(実施の形態1)
図1は、実施の形態1にかかる自動分析装置の概要構成を示す斜視図である。図1に示すように、自動分析装置1は、分析対象である検体を供給する検体移送機構2と、反応容器20に検体と試薬とを分注し、反応容器20内で反応させ、この反応液の吸光度を測定する測定機構3とを備える。自動分析装置1は、これらの2つの機構が連携することによって自動的に複数の検体を分析する。
【0013】
検体移送機構2は、分析対象である検体を収容した複数の検体容器を保持し、検体吸引位置に順次移送する。移送された検体容器内の検体は、検体分注機構12によって、反応槽13内に配列してある反応容器20に分注される。
【0014】
測定機構3は、検体容器から検体を吸引して反応容器20に検体を吐出して分注を行う検体分注機構12と、反応容器20への検体や試薬の分注、攪拌、測光および洗浄を行うために反応容器20を所定の位置まで移送する反応槽13と、反応容器20内に分注される試薬が収容された試薬容器を複数収容する試薬庫14と、試薬庫14内の試薬容器から試薬を吸引して反応容器20に試薬を吐出して分注を行う試薬分注機構15と、反応容器20に分注された液体を攪拌する攪拌機構16と、反応容器20に分注された液体の吸光度を測定する測光機構17と、測光機構17による測定が終了した反応容器20を洗浄する洗浄機構18と、測定機構3上を覆うことで外気の侵入および内部の空気が外部に流れ出ることを防止した蓋19とを備える。
【0015】
自動分析装置1は、反応槽13の回転によって順次検体分注位置まで搬送される複数の反応容器20に対して、検体分注機構12が検体吸引位置の検体容器から検体を分注する。その後、試薬分注機構15は、試薬庫14の試薬容器から試薬を吸引し、反応槽13の試薬分注位置に分注する。さらに、測光機構17は、検体および試薬を反応させた反応容器20内の反応液の吸光度を測定する。自動分析装置1は、この測定結果をもとに、検体の成分分析等を自動的に行うことになる。その後、洗浄機構18は、吸光度の測定を終了した反応容器20を洗浄し、反応容器20を再利用する。この反応容器20の再利用を行いつつ、上述した一連の分析動作を繰り返し行う。
【0016】
ここで、図1に示した自動分析装置内部の概要構成について説明する。図2は、蓋19が閉じた状態の自動分析装置1のA−A線断面図である。図2に示すように、自動分析装置1は、装置内上部に反応槽13が設けられ、下部に制御部30、ヒータ電源33、冷却ファン電源34などの重量物および熱源が配置される。また、自動分析装置1の側面であって、反応槽13近傍に冷却ファン28が設けられ、装置内部の空気を外部に送出する。
【0017】
反応槽13は、複数の収容室が周方向に沿って等間隔に形成され、各収容室に反応容器20が着脱自在に載置される回転テーブル21を有する。また、回転テーブル21は、恒温液LTが封入状態で周方向に流れる流路22を備え、恒温液LTの熱を伝熱させて反応容器20内の反応液Lを恒温化する恒温槽として機能する。なお、回転テーブル21は、流路22内の恒温液LTの熱を伝熱させるため、伝熱性の良い素材、たとえば、アルミニウムや銅合金等によって形成されている。この恒温液LTは、水または水に近い熱容量を有する液体、たとえば、エチレングリコール溶液等が用いられる。
【0018】
温度センサ23は、流路22内の内壁に設けられ、サーミスタ等によって実現される。また、温度センサ23は、恒温液LTの温度を検出し、図示しないスリップリングを介して温度制御部31に出力する。
【0019】
ヒータ24は、流路22の下部の底壁に設けられ、温度制御部31の制御のもと、ヒータ電源33が供給する電流によって恒温液LTを加熱する。なお、ヒータ24は、流路22に沿って周方向に等間隔で設けるが、全周に亘って設けてもよい。
【0020】
駆動機構25は、制御部30の制御のもと、反応槽13の中心を通る鉛直線を回転軸として回転テーブル21を回転させ、所定位置まで反応容器20を移送する。
【0021】
カバー26は、回転テーブル21の内周側、外周側および下部側を一体に覆うように設けられる。蓋27は、開閉自在であり、回転テーブル21の上部に設けられ、反応容器20内の反応液Lの蒸発や変性を防止する。また、蓋27は、プローブが挿脱できるように、分注孔27aを備える。
【0022】
冷却ファン28は、ファン制御部32の制御のもと、ファンを回転させることで、自動分析装置1内の空気を排気して冷却する。なお、温度センサ29は、自動分析装置1の内部に設けられ、自動分析装置1の内部温度を検出し、ファン制御部32に出力する。
【0023】
制御部30は、CPU等によって実現され、自動分析装置1の各部の処理および動作を制御する。また、制御部30は、温度制御部31およびファン制御部32を有する。温度制御部31は、温度センサ23が検出した温度をもとに、ヒータ24に供給するヒータ電源33の電流を調整し、流路22内の恒温液LTの温度を目標温度範囲内になるように制御する加熱処理を行う。ファン制御部32は、温度制御部31による温度調整下における自動分析装置1の内部温度変化に対する反応容器20内の反応液温上昇率の増大に応じて冷却ファン28の回転数を増大させる制御を行う。特に、ファン制御部32は、反応液温上昇率が所定値を超える内部温度以上である場合に、冷却ファン28の回転数を大きくする制御を行う。
【0024】
ここで、図3を参照して、ファン制御部32によるファン制御の概要について説明する。図3は、温度制御部31による温度調整下における内部温度に対する反応容器20内の反応液温の関係と該内部温度に対する冷却ファン回転率との関係を示している。図3に示すように反応液温は、曲線L1に示すように、内部温度が上昇するにつれて反応液温も上昇するが、この反応液温の上昇では、さらに内部温度変化に対する反応液温上昇率も増大している。特に内部温度25℃以上では、内部温度25℃以下に比べて反応液温上昇率が大きく反応液温が急激に増大している。このような反応液温上昇率の急激な上昇が生じると、比較的冷却能力が低い冷却ファンでは、温度制御が追随できない場合が想定され、反応液温が暴走して上昇する可能性がある。
【0025】
この場合、温度制御部31は、温度制御部31による流路22内の恒温液LTの温度を目標温度範囲内に調整して、反応容器20内の反応液Lが所定温度範囲内になるように制御しているが、反応容器20口元付近には外気が触れ、熱伝導率の良い反応容器20であることから、反応容器20の反応液温は、内部温度に影響を受けることになる。
【0026】
そこで、ファン制御部32は、内部温度が25℃以上となった場合に、冷却ファン回転率を高めるようにしている。たとえば、冷却ファン回転率が0%だったものを100%に上昇するようにし、反応液上昇率の傾斜が所定値を超えないように制御する。具体的に、図3において示される内部温度15℃、20℃では、反応液上昇率の傾斜がほぼ同じであるが、内部温度25℃の場合の反応液上昇率の傾斜が15℃、20℃に比して大きくなり、内部温度25℃を境に反応液上昇率の傾斜が所定値を超える。このため、ファン制御部32は、内部温度が25℃以上となった場合に、冷却ファン回転率を100%にして、反応液上昇率の傾斜が所定値を超えないように制御を行っている。
【0027】
図4に示すフローチャートを参照して、ファン制御部32によるファン制御処理手順について説明する。図4において、ファン制御部32は、まず、温度センサ29によって内部温度を検出する(ステップS101)。その後、この検出した内部温度が、内部温度変化に対する反応容器20内の反応液温上昇率が所定値を超える閾値内部温度以上、たとえば、25℃以上であるか否かを判定する(ステップS102)。検出した内部温度が閾値内部温度以上でない場合(ステップS102:No)、冷却ファン28の回転数を停止させ(ステップS103)、ステップS101に移行する。一方、検出した内部温度が、閾値内部温度以上である場合(ステップS102:Yes)、冷却ファン回転率を100%にし(ステップS104)、ステップS101に移行する。これによって、上述した処理を繰り返すことになる。
【0028】
この実施の形態1では、温度制御部31による温度調整下における自動分析装置1の内部温度変化に対する反応容器20内の反応液温上昇率の増大に応じて、ファン制御部32が冷却ファン28の回転数を増大させる制御を行うようにしている。具体的にはファン制御部32が、反応液温上昇率が所定値を超える内部温度以上である場合に冷却ファン28の回転数を大きくする制御を行うようにしている。この結果、反応容器20の口元付近が外気に触れていても、反応容器20内の反応液Lを所定温度範囲内に保持することができ、簡易な構成で精度の高い分析結果を得ることができる。
【0029】
(実施の形態2)
つぎに、本発明の実施の形態2について説明する。上述した実施の形態1では、ファン制御部32が、反応容器20内の反応液温上昇率が所定値を超える内部温度以上である場合に、冷却ファンの回転数を増大するようにしていた。すなわち、ファン制御部32が、反応容器20内の反応液温上昇率が所定値を超える内部温度以上である場合に、冷却ファンの回転数を大きくするようにしていたが、本発明の実施の形態2では、ファン制御部32が、反応容器20内の反応液温上昇率に応じて冷却ファン回転率の増加率を対応させて冷却ファン回転率を段階的に大きくする処理を行うようにしている。
【0030】
図5は、温度制御部31による温度調整下における内部温度に対する反応液温の関係と該内部温度に対する冷却ファン回転率との関係を示す図である。図5に示した反応液温の内部温度依存性を示す曲線L3は、図3に示した曲線L1に比して傾斜が緩やかになっている。このため、この実施の形態2では、曲線L3が示す反応液温上昇率に応じて冷却ファン回転率の増加率を対応させて該冷却ファン回転率を段階的に大きくしている。たとえば、内部温度15℃、20℃、25℃では、反応液温上昇率がほぼ同じであり、冷却ファン回転率を20%増大させる制御を行っているが、内部温度30℃の場合の反応液温上昇率が内部温度15℃、20℃、25℃に比して大きいため、冷却ファン回転率を40%増大させる制御を行っている。
【0031】
ここで、図6に示すフローチャートを参照して、ファン制御部32によるファン制御処理手順について説明する。図6において、ファン制御部32は、温度センサ29による内部温度を検出する(ステップS201)。その後、温度制御部31による温度調整下における自動分析装置1の内部温度変化に対する反応容器20内の反応液温上昇率に応じて冷却ファン回転率の増加率を対応させて該冷却ファン回転率を段階的に大きくする(ステップS202)。その後、ファン制御部32は、ステップS201に戻り、上述した処理を繰り返す。
【0032】
この実施の形態2では、温度制御部31による温度調整下、上述した段階的な制御を行うことによって、反応液温が制御対象外となることを簡易な構成で未然に防止することができる。
【0033】
なお、上述した実施の形態では、回転テーブル21内に流れる流路22内の恒温液LTを目標温度範囲内にすることで、回転テーブル21が恒温槽としての機能を有していたが、これに限らず、回転テーブル21と分離した恒温槽を回転テーブル13の周囲に設けて、反応容器20内の反応液Lを所定温度範囲内に保持する自動分析装置であってもよい。
【0034】
さらに、上述した実施の形態では、恒温槽としての機能がヒータ24の加熱機能のみを有していたが、これに限らず、加熱機能および冷却機能を有する恒温槽であってもよい。
【0035】
また、上述した実施の形態では、流路22内の恒温液LTが封入状態であったが、これに限らず、恒温液供給装置を設けて、外部から恒温液LTを供給し、恒温液LTが循環する恒温槽であってもよい。
【0036】
なお、上述した実施の形態では、反応槽13の近傍に冷却ファン28を設けていたが、これに限らず、冷却ファン28の能力に合わせて、適宜設置場所を変更するようにしてもよい。
【0037】
さらに、上述した実施の形態では、冷却ファン28を1箇所のみにしか設けていなかったが、これに限らず、冷却ファン28の能力または自動分析装置の熱容量に合わせて冷却ファンを複数台設置してもよい。
【図面の簡単な説明】
【0038】
【図1】本発明の実施の形態にかかる自動分析装置の概要構成を示す斜視図である。
【図2】図1に示した自動分析装置のA―A線に沿った断面図である。
【図3】実施の形態1の温度センサが検出した内部温度変化に対する反応容器内の反応液温の関係と該内部温度に対する冷却ファン回転率との関係を示す図である。
【図4】実施の形態1のファン制御部によるファン制御処理手順を示すフローチャートである。
【図5】実施の形態2の温度制御部による温度調整下における内部温度に対する反応液温の関係と該内部温度に対する冷却ファン回転率との関係を示す図である。
【図6】実施の形態2のファン制御部によるファン制御処理手順をフローチャートである。
【符号の説明】
【0039】
1 自動分析装置
2 検体移送機構
3 測定機構
12 検体分注機構
13 反応槽
14 試薬庫
15 試薬分注機構
16 攪拌機構
17 測光機構
18 洗浄機構
19,27 蓋
20 反応容器
21 回転テーブル
22 流路
23,29 温度センサ
24 ヒータ
25 駆動機構
26 カバー
27a 分注孔
28 冷却ファン
30 制御部
31 温度制御部
32 ファン制御部
33 ヒータ電源
34 冷却ファン電源
L 反応液
LT 恒温液

【特許請求の範囲】
【請求項1】
恒温槽によって保温された反応容器内で検体と試薬とを反応させ、この反応液の吸光度を測定することによって前記検体を分析する自動分析装置であって、
前記恒温槽の温度を目標温度範囲に調整する温度調整手段と、
当該自動分析装置の内部を冷却する冷却ファンと、
前記温度調整手段による温度調整下における当該自動分析装置の内部温度変化に対する前記反応容器内の反応液温上昇率の増大に応じて前記冷却ファンの回転数を増大させる制御を行うファン制御手段と、
を備えたことを特徴とする自動分析装置。
【請求項2】
前記ファン制御手段は、前記反応液温上昇率が所定値を超える内部温度以上である場合に、前記冷却ファンの回転数を大きくすることを特徴とする請求項1に記載の自動分析装置。
【請求項3】
前記ファン制御手段は、反応液温上昇率の増大に応じて前記冷却ファンの回転数を増大させる制御を段階的に行うことを特徴とする請求項1に記載の自動分析装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【公開番号】特開2009−300286(P2009−300286A)
【公開日】平成21年12月24日(2009.12.24)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−155996(P2008−155996)
【出願日】平成20年6月13日(2008.6.13)
【出願人】(000000376)オリンパス株式会社 (11,466)
【Fターム(参考)】