【課題】サーチ動作又はボンディング前のボンディング点の高さ測定を行うことなしに、高速でボンディングが可能なボンディング装置を提供すること。
【解決手段】上下方向に揺動可能なボンディングアームに搭載されて、被ボンディング部品の表面に位置するボンディング点の合焦点の検出を行う共焦点光学系と、前記ボンディングアームと一体に可動してボンディングを行うボンディングツールと、前記ボンディングツールの位置を検出する位置検出手段と、を有し、ボンディングツールのボンディング点への下降中に、共焦点光学系による合焦点検出により位置検出手段で検出したボンディングツールの位置から、前もって設定したボンディング点までの所定の距離（合焦点基準下降量）をボンディングツールが下降して、ボンディング点上で停止するように制御する。 （もっと読む）

【課題】チャックテーブルに保持された被加工物の高さ位置を正確に検出することができる高さ位置検出装置および高さ位置検出装置を装備したレーザー加工機を提供する。
【解決手段】発光源８１と、強度分布を整形するNDフィルター８３と、集光して被加工物Ｗに照射する集光器７と、第１の経路と第２の経路に導く第1のビームスプリッター８４と、第３の経路と第４の経路に分光する第２のビームスプリッター８６と、第３の経路に分光された反射光を受光する第1のホトデテクター８８ａと、第４の経路の反射光を帯状に通過させるスリット８９１を備えたマスク８９と、マスクを通過した反射光を受光する第２のホトデテクター８８ｂと、第1のホトデテクターによって受光した光量と第２のホトデテクターによって受光した光量との比率を求め、比率に基づいてチャックテーブル３６に保持された被加工物の高さ位置を求める制御手段とを具備している。 （もっと読む）

【課題】基板検査装置及び検査方法を提供すること。
【解決手段】検査方法は、測定対象物を撮影して測定対象物のピクセル別にイメージデータを取得し、測定対象物のピクセル別に高さデータを取得し、測定対象物のピクセル別にビジビリティデータを取得し、取得されたイメージデータと、ピクセル別の高さデータ、及びビジビリティデータのうちの少なくとも１つとを乗算して結果値を算出し、算出された結果値を利用してターミナル領域を設定すること、を含む。よって、より正確にターミナル領域を判別することができる。 （もっと読む）

【課題】複数の視野に分割された対象を高精度に測定することができるマシンビジョン検査システムおよびその位置測定結果の決定方法を提供する。
【解決手段】マシンビジョン検査システムは、第１動作状態においてスケールベースの測定により第１対象ＦＥ１の位置を測定する。第２動作状態では、第１対象から第２対象に至る途中で重複画像ＣＩＡ〜ＣＩＣを撮影し、画像相関を利用して重複画像ＣＩＡ〜ＣＩＣの相互の画像変位を測定し、第１対象の位置と画像変位のセットとを合わせて第２対象ＦＥ２の位置を測定する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ヘッド部を大型化することなく、コントローラ部に対してヘッド部を交換することが可能なように互換性を持たせることができる光学計測装置を提供する。
【解決手段】本発明に従った光学計測装置では、計測対象物２００に対して光を用いて計測を行ない、ヘッド部１０と、コントローラ部２０と、光ファイバ１１と、記憶部４０とを備えている。本発明に従った光学計測装置では、ヘッド部１０とコントローラ部２０とを光ファイバ１１で接続する。記憶部４０は、製造されるヘッド部１０のそれぞれの個体に対して関係付けられ、コントローラ部２０で行なう演算に必要な情報をヘッド部１０の個体情報として記憶する。コントローラ部２０は、コントローラ部２０に対して物理的に独立して存在する記憶部４０から個体情報を読出し、読出した個体情報を用いて演算を行なう。 （もっと読む）

【課題】 光干渉法を用いて、１波長の単色光を測定対象面に照射し、測定対象面までの距離を変更して、少なくとも３枚以上の画像を撮像して、各画素の輝度値から位相計算をおこない、隣接画素の位相値を用いて三次元形状を測定する位相シフト法が用いられて来たが、隣接画素間の段差に波長による制約があった。
【解決手段】広帯域な波長特性を有する照射光から波長の異なる複数の単色光を抽出し、それらを混在させて、分岐手段を介して測定対象面と参照面に同時に照射し、測定対象面と参照面とから反射して同一光路を戻る反射光によって生じる干渉縞の画像を測定対象面と参照面とからの反射光路長の差を変化させて、取得した前記複数枚の画像を単色光ごとに分解し、単色光ごとに求めた各画素の位相から、複数個の表面高さの候補群を求め、各候補群から共通する高さを実高さとして求める。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、深度に関して解像度の良い、広い、三次元撮像方法の実現。
【解決手段】位相感知分光的符号化撮像を使用する、三次元表面測定値を得るための方法および装置が記述される。横方向および深度の両者についての情報は、単一モード光ファイバを介して送信され、本手法を小型プローブへの組み込むことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ＣＣＤやＣＭＯＳセンサなどの撮像素子を用いた薄型の撮像装置が多く用いられており、位置計測対象を複数の撮像装置で撮像して所定の画像処理を施すことにより、位置計測対象の位置を計測している。この時、視野を広くしても、分解能の低下を抑制できる撮像装置、位置計測装置及び撮像方法並びに位置計測方法を提供する。
【解決手段】視野Ｖ１〜Ｖ３の像を撮像する撮像素子２を備える。複数の視野の像を重ねて撮像素子に撮像可能とする像重ね部３を備える。前記像重ね部は、入射した光の少なくとも一部を前記撮像素子に入射させるビームスプリッターを有する。 （もっと読む）

【課題】耐久性が高く、且つ、使用環境に関わらず入力操作の検出が可能な操作装置を提供する。
【解決手段】操作装置１に、入力操作の種別を示す操作パネル３０と、操作パネル３０の操作面３１側に操作面３１に沿って光を照射可能な発光部と、一次元配列された受光素子を有するラインセンサと、を備え、操作パネル３０への入力操作が行われた場合には、入力操作を行う指で反射した発光部からの光の反射光をラインセンサで受光し、ラインセンサ上での受光位置と受光した光の強度とに基づいて指の位置を２次元的に推定する。 （もっと読む）

【課題】複数のＺヘッドを切り換えながら、移動体の高さと傾斜を継続的に計測することにより、移動体を高精度で駆動する。
【解決手段】制御装置は、テーブルＷＴＢの±Ｘ端部に設置された反射面３９Ｙ₁，３９Ｙ₂上に位置する２つのＺヘッドＺｓＲ，ＺｓＬを用いて、テーブルＷＴＢの高さと傾斜を計測する。テーブルＷＴＢのＸＹ位置に従って、使用するＺヘッドをＺｓＲ，ＺｓＬからＺｓＲ’，ＺｓＬ（あるいはＺｓＲ，ＺｓＬ’）に切り換える。制御装置は、切り換えの際、座標つなぎ法を適用して、新たに使用するＺヘッドＺｓＲ’（あるいはＺｓＬ’）の初期値を設定する。これにより、テーブルのＸＹ位置に応じて使用するＺヘッドが逐次切り換えられるにもかかわらず、切り換えの前後でテーブルの高さと傾斜の計測結果が保存され、テーブルを高精度で駆動することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】ノイズの少ない方法で、容易には測定できない位相特性を測定し、また、振幅特性を強調された方法で
測定する。
【解決手段】振幅及び位相を有する分析対象波面に対して、フーリエ変換処理を行い、該分析対象波面に対応する複数の異なる位相変化された変換波面を取得し、該複数の位相変化された変換波面の複数の強度マップを取得し、該複数の強度マップを用いて該分析対象の三次元画像形成波面の振幅及び位相を表示する出力を取得する。 （もっと読む）

【課題】 エンコーダで位置を計測しつつ、移動体を所望の方向へ精度良く駆動する。
【解決手段】 駆動装置により、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の位置情報を計測するエンコーダ６２Ａの計測値とそのエンコーダによって計測されるスケール３９Ｙ₁の平面度に関する情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴがＹ軸方向に駆動される。この場合、駆動装置は、そのエンコーダの計測値に含まれるスケールの平面度に起因する計測誤差をスケールの平面度に関する情報に基づいて補正した補正後の計測値に基づいて、ウエハステージを所定方向に駆動することが可能である。従って、スケールの凹凸に影響を受けることなく、エンコーダを用いてウエハステージを精度良く所定方向に駆動することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】パターンのムラ欠陥の生じない描画条件を導出し、製品の歩留まりを向上する。
【解決手段】基板上に描画するパターンのムラ欠陥が発生しない描画条件を導出する方法であって、基板上に形成するパターンを生成するパターン情報生成工程Ｓ１と、パターンに対して、複数の描画項目の組み合わせによる、２通り以上の描画条件を設定する描画条件設定工程Ｓ２と、前記生成されたパターンを抜き取り、補助基板上に、前記各描画条件のもとに、矩形領域をなす補助パターンを形成する補助パターン描画工程Ｓ３と、補助基板に対して照明光を入射し、補助パターンから生じる回折光を光電変換素子にて画像として取得し、ムラ欠陥に関するムラ評価値とムラ発生周期とを求めことにより、複数の描画条件の中からムラ欠陥が生じない描画条件を導出する描画条件判定工程Ｓ４とを含むパターンの描画条件導出方法である。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で参照面と被検面との間の絶対距離を高精度かつ高速に計測可能な計測装置を提供すること
【解決手段】波長走査干渉計は、複数の光源ＩＬ１〜ＩＬ３と、複数の光束を合成するビームスプリッタ１０３ｂと、ビームスプリッタ１０３ｂからの光を参照光束と被検光束に分割し、干渉計ユニット３００によって検出された干渉信号に基づいて参照面と被検面との間の絶対距離を決定する処理部１０７と、を有する。干渉計ユニットは、複数の種類の光束に対応する複数の種類の干渉縞のそれぞれを、合成された干渉信号Ｓ１００として検出する単一の光検出部１０６を有し、処理部は、合成された干渉信号に対してＦＦＴを行って複数の種類の光束のそれぞれについて絶対距離Ｌ_１〜Ｌ_３を取得し、取得した複数の絶対距離を演算して一つの絶対距離Ｌ_４を出力する。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高精度に被検面の形状を計測することが可能な計測装置を提供すること
【解決手段】計測装置は、光コム光源１０１から射出された光束を、被検光束と参照光束に分割するＰＢＳ１５と、前記参照光束と前記被検光束の光路長差を変化させる遅延素子９と、前記被検光束と前記参照光束が干渉して形成する干渉縞を撮像する撮像素子２４と、遅延素子が光路長差を変化させて撮像された干渉縞の信号に基づいて被検面２３の位置を算出する解析器２５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】対象物が太陽光で照らされた屋外のように、多様性や変化に富んだ環境下において、画像中の対象物を１０画素以下の少ない画素から、誤認することなく検出することができるマーカ、マーカ検出方法および装置を提供する。
【解決手段】対象物１の表面に取り付けたマーカ１０であって、乱反射材からなる内層１２と、内層の外側に取り付けられた偏光フィルムからなる外層１４とを有し、外光２を乱反射し、地表に対し水平、垂直、又は斜めの偏光３に変換して放射する。 （もっと読む）

【課題】ステージを正確に２次元駆動する。
【解決手段】 ＸエンコーダとＹエンコーダとを少なくとも各１つ含む３つのエンコーダを用いて、ステージＷＳＴの移動面内の位置情報を計測する。ステージＷＳＴの位置計測値に基づいて、位置計測に用いるエンコーダを、エンコーダＥｎｃ１，Ｅｎｃ２及びＥｎｃ３から、エンコーダＥｎｃ４，Ｅｎｃ２及びＥｎｃ３に切り換える。切り換えの際、座標つなぎ法又は位相つなぎ法を適宜切り換えて適用して、新たに使用するエンコーダＥｎｃ４の初期値を設定する。それにより、ステージＷＳＴの位置計測に用いるエンコーダが逐次切り換えられるにもかかわらず、切り換えの前後でステージの位置計測値が保存され、ステージを正確に２次元駆動することができる。 （もっと読む）

【課題】改良されたレベルセンサアレンジメント及びその動作を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置内の基板上の少なくとも１つの実質的な反射層表面の位置を測定するための方法、並びに、関連付けられたレベルセンサ及びリソグラフィ装置が開示される。該方法は、広帯域光源を使用して少なくとも２つの干渉計測定を実行することを含む。各測定間で、広帯域ソースビームの成分波長及び／又は成分波長全体にわたる強度レベルが変化し、強度レベルのみが変化する場合、強度変化はビームの成分波長の少なくとも一部について異なる。あるいは、成分波長及び／又は成分波長全体にわたる強度レベルが異なる測定データを取得するための単一の測定及び後続の測定の処理を、位置を取得するためにも同様に適用することができる。 （もっと読む）

【課題】物体表面の反射特性に鏡面反射成分を含むことを必要とせず、物体表面までの距離の計測も必要とせずに面法線を計測する。
【解決手段】面法線計測システム１は、ガイドレールＲｘ，Ｒｙに沿って、互いに直行する平面内を移動して物体ＯＢＪに対する照明方向を変化させる照明装置３０と、物体ＯＢＪを撮影する撮影装置４０と、撮影装置４０によって撮影された画像に基づいて物体ＯＢＪの表面の面法線を計測する面法線計測装置１０とを備える。面法線計測装置１０は、物体ＯＢＪの画像を２値化し、画素ごとに、照明方向と明暗とが対応付けられた陰影ベクトルを作成し、予め形状が既知の参照物体について作成した参照陰影ベクトルと面法線とが対応付けられたデータベースを参照して、物体ＯＢＪの陰影ベクトルと最も類似する参照陰影ベクトルに対応付けられた面法線を、その画素における面法線と推定する。 （もっと読む）

【課題】貼合わせウェハ全体について厚さを測定できる装置の提供。
【解決手段】貼合わせウェハ１の厚さ測定光学系及び観察光学系と、測定光学系から出力される信号を用いて貼合わせウェハ１の厚さを算出する信号処理装置とを具え、測定光学系は、第１の波長域の測定用光源３０と、この測定光を投射して光スポットを形成する対物レンズ１７と、その反射光の光検出手段４０とを有し、観察光学系は、前記第１の波長域とは異なる第２の波長域の観察用照明光を放出する照明光源４１と、照明光を投射する対物レンズ１７と、その反射光を受光して２次元画像を撮像する撮像装置４８とを有する。これらで共通の対物レンズ１７と測定光源及び観察光源との間の光路中には、前記測定光学系と観察光学系とを光学的に結合する波長選択性を有するカップリング素子３４を配置する。撮像装置４８は、前記測定光により形成された光スポットの像が重畳された像を撮像する。 （もっと読む）