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Fターム[2G001CA01]の内容

Fターム[2G001CA01]に分類される特許

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【課題】 溝のアスペクト比の高い回折格子を容易かつ高精度で製造することができるX線タルボ干渉計用回折格子及びその製造方法、並びにX線タルボ干渉計を提供する。
【解決手段】基板22上に金属膜20bxを切削して形成したX線吸収部20bが、一方向に沿って所定間隔で畝状に複数形成されているX線タルボ干渉計用回折格子20である。 (もっと読む)


【課題】断層撮影の精度(分解能)を低下させることなく、1回の断層撮影に要する時間を大幅に短縮(1秒程度以下に)することができ、電子部品の実装状態の検査を高速かつ高精度に行うことができ、しかも安価に構成できるX線検査装置を提供すること。
【解決手段】X線発生器12を、X線放射面12aを試料の載置面と平行に維持したまま、かつX線放射面12a上のある2点を結ぶ直線の向きを一定方向に保たせたまま、軸L1を中心に長さrを径として円形移動させる円形移動機構25と、X線検出器11を、X線受光面Iを載置面と平行に維持したまま、かつX線受光面I上のある2点を結ぶ直線の向きを一定方向に保たせたまま、軸L1を中心にして円形移動させる円形移動機構24とが、モータM11からの動力を伝達する動力伝達機構26を介して機械的に連結され、動力伝達機構26の駆動により、X線検出器11とX線発生器12との円形移動を同期させる。 (もっと読む)


【課題】回折環の形状を短時間で精度良く検出できる、安価なX線回折装置を提供する。
【解決手段】測定対象物OBにX線を照射するX線出射器13、測定対象物OBにて回折したX線を受光して回折環を記録するイメージングプレート28を固定するテーブル27及びレーザ光をイメージングプレート28に照射して、回折環の形状を読み取るレーザ検出装置PUHを設ける。テーブル27の中心に、X線を通過させる貫通孔を設ける。回折環を撮像した後、スピンドルモータ24及びフィードモータ18によって、テーブル27を回転させるとともにイメージングプレート28の受光面に平行に移動させた状態で、レーザ検出装置PUHによって、イメージングプレート28にレーザ光を照射して、イメージングプレート28が発する光の強度が極大となるときのレーザ照射位置を取得する。 (もっと読む)


【課題】 検出感度が高く、アフターグローの低減された、X線検査装置を提供する。
【解決手段】 増感紙を具備するX線検出器において、透過型増感紙10、または反射型増感紙11の少なく共いずれか一方に、増感紙用蛍光体としてGdS:、Pr、CeまたはGdS:Prの少なく共一種を使用する。本発明のX線検出器では、3msec後のアフターグローの光出力は0.2%以下となり、残像等の問題の無い、明瞭な画像が得ることができる。 (もっと読む)


【課題】移送機構用長尺部材のスチールコード、例えば、乗客コンベアのハンドレールに内蔵されるスチールコードの状態からハンドレールの品質を自動的に評価する。
【解決手段】乗客コンベアのハンドレールをX線で撮影するX線撮影部と、前記X線撮影部で撮影された画像を処理して、前記ハンドレールに内蔵されたスチールコードの撚りが素線化したスチールコードを検出し、前記ハンドレールの長手方向における前記スチールコードの素線発生箇所が所定の長さ以上継続する場合には、前記ハンドレールの品質を劣化と判定する画像処理部とを有する。 (もっと読む)


【課題】順投影処理を含む手順により断層像を構築する断層像再構成方法において、計算誤差を可及的に少なくしながら、計算速度を高速化する。
【解決手段】順投影処理において断層像を構成するピクセルPを検出器の受光面Fに投影して検出器の各画素濃度を決定する際に、ピクセルPの受光面Fへの投影領域Apの全域で検出確率が一定であると近似して演算処理を行うことで、計算誤差を少なくしながらも、計算の条件分岐をなくし、その高速化を実現する。 (もっと読む)


【課題】中性子線の遮蔽に用いられるホウ素添加材料に含まれる、ホウ素ならびに無機系材料の組成を、迅速、正確に定量評価する。
【解決手段】有機材料に炭化ホウ素を添加してなる遮蔽材の組成評価方法であって、この組成評価方法は、第一の工程と第二の工程とを有し、第一の工程は、遮蔽材の炭化ホウ素を含む試料を採取して溶液化して、この溶液状態における試料のホウ素をICPプラズマ発光分析法により定量化して、組成を評価するものであり、第二の工程は、遮蔽材の炭化ホウ素を含む試料を採取して、無機系不純物元素の組成を蛍光X線分析法によって評価するものである。有機材料としては、シリコーンゴムが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 X線のエネルギーに依らず、微小領域における高効率・高感度分析が可能な荷電粒子線分析装置を提供する。
【解決手段】 真空容器(5、6)内で荷電粒子線17を試料14に照射し、試料14から発生するX線3をX線検出器28で検出して試料14を分析する荷電粒子線分析装置4において、構成の異なるX線レンズ1(1a、1b)を真空容器(5、6)内に2個以上備える。X線レンズ交換に伴う真空容器の大気開放や真空引きが不要になり、高効率・高感度分析が可能となる。 (もっと読む)


【課題】探傷開始位置の特定が容易であって且つ探傷不能領域が低減された乗客コンベアハンドレールの検査方法を提供すること。
【解決手段】ハンドレール2の内部に設けられたスチールコード20の損傷をX線撮影により検査する検査方法であって、X線撮影において透過不能な材料で構成された帯状のスタートマーカー9を、帯の長手方向がハンドレール2の搬送方向に対して傾いた状態でハンドレール2に取り付け、X線撮影によって生成された画像においてスタートマーカー9によって遮蔽された範囲を検知することにより基準位置を認識し、スチールコード20の損傷を検査する。 (もっと読む)


【課題】触媒濃度の極めて低い条件化においてXRF分析を実施するに際し、高精度のXRF分析結果を得ることのできる触媒特定方法を提供する。
【解決手段】マトリックス担体に金属触媒が担持されてなる触媒コート層1において、X線照射によって励起される金属触媒に固有のX線エネルギとX線強度を検出する蛍光X線分析(XRF)を使用して、金属触媒の濃度もしくは分布を特定する触媒特定方法であって、X線照射方向に100μm以下の厚みを有する触媒コート層1を準備する第1のステップと、触媒コート層1にX線を照射して金属触媒の濃度もしくは分布を特定する第2のステップからなる。 (もっと読む)


【課題】微小試料の測定室への落下による装置の不具合と故障を、未然に防止することができる蛍光X線分析装置を提供する。
【解決手段】測定部に備えられた撮像装置7によって、試料3下部の透明な落下防止板11を通して試料3の被測定部位を、例えば0.5秒に一回撮影する。この画像を画像記憶装置16によって記憶し、画像比較装置15直近の2つの画像を比較する画像に差がある場合は、表示装置17に警報を表示するとともに、制御装置14を介して落下防止板11の動作を停止する。 (もっと読む)


【課題】 反射電子像と光学像とを同時に取得することができる電子線分析装置の提供。
【解決手段】 試料表面上の分析位置に所定方向から電子線を照射する電子線源20と、試料表面上の分析位置で反射した反射電子による信号を検出する反射電子検出器40と、試料表面上の分析位置を含む領域に前記所定方向から可視光を照射する落射光用光源部60と、試料表面上の分析位置を含む領域から前記所定方向と逆方向に反射した可視光が入射して、試料表面上の分析位置を含む領域の光学像を取得する画像取得部51b、71と、試料表面上の一次元又は二次元範囲内で分析位置を走査させることにより、反射電子検出器40で信号を収集し、信号の強度に基づいて試料表面上の一次元又は二次元範囲の反射電子像を取得する制御部51とを備える電子線分析装置1であって、落射光用光源部60は、赤色領域の光を出射しないものとする。 (もっと読む)


【課題】 正確で明るい偏光像を取得できる電子線分析装置の提供。
【解決手段】 電子線源20と、落射光用光源部60と、透過光用光源部80と、可視光又は偏光光が検出面に入射して、試料表面上の分析位置を含む領域の光学像又は偏光像を取得する画像取得部51b、71と、落射光用光源部60からの可視光を所定方向に反射するとともに、所定方向と逆方向からの光を透過して画像取得部71の検出面に導くハーフミラー92とを備える電子線分析装置1であって、ハーフミラー92は、落射光用光源部60から可視光が出射された際には、落射光用光源部60からの可視光を所定方向に反射するとともに、所定方向と逆方向からの光を透過して画像取得部71の検出面に導く第一位置に配置され、一方、透過光用光源部80から偏光光が出射された際には、所定方向と逆方向からの光が通過しない第二位置に配置されるように移動可能とする。 (もっと読む)


【課題】遮蔽格子を湾曲させることなく信号強度の向上を図ることが可能となるX線撮像装置を提供すること。
【解決手段】被検体を撮像するX線撮像装置は、X線源からのX線を回折することにより干渉パターンを形成する回折格子と、干渉パターンを形成するX線の一部を遮る遮蔽格子と、遮蔽格子からのX線の強度分布を検出するX線検出器を備える。
X線源から遮蔽格子へ引いた垂線と遮蔽格子との交点を遮蔽格子の中心とする。
また、遮蔽格子の中心との距離が所定の距離よりも小さい領域を遮蔽格子の中心部、遮蔽格子の中心との距離が所定の距離以上の領域を遮蔽格子の周辺部とする。このとき、遮蔽格子の中心部よりも遮蔽格子の周辺部の方が、X線が垂直に入射したときのX線透過率が高い。 (もっと読む)


【課題】被検査物を効率的に連続搬送可能な極めて実用性に秀れたX線検査装置の提供。
【解決手段】X線照射部2とX線検知部3とこれらを覆う本体カバー部4とを備え、本体カバー部4の開口部8から内部に搬入される被検査物1を検査するX線検査装置であって、本体カバー部4内の中央搬送機構5の搬送上流側に供給側搬送機構6を設け、搬送下流側に排出側搬送機構7を設け、供給側搬送機構6及び排出側搬送機構7に開口部8を有する供給側カバー部10及び排出側カバー部11を夫々設け、各カバー部の各開口部8に開閉自在にX線遮蔽体9を設け、X線検知部3で検知したX線に基づいて作成される画像を表示する画像表示手段を備え、X線照射後の被検査物1を排出する排出作動信号が入力された際、排出側搬送機構7により当該被検査物1を搬送排出すると共に、当該被検査物1の画像を画像表示手段に表示する連動制御機構を備える。 (もっと読む)


【課題】異物検出の閾値を高感度な状態に保ち、異物の誤検出を防ぎつつ高精度に検出することができるX線異物検出装置を提供すること。
【解決手段】被検査物WにX線を照射して検出したX線透過量を表すX線画像に対して、複数の画像処理フィルタを組み合わせてなる複数の異物強調処理を用いてそれぞれ並列に画像処理を行う画像処理部50と、複数の異物強調処理を施した結果の濃淡画像から、それぞれ所定の閾値を用いて異物候補を検出する複数の異物候補検出部61〜64と、X線画像上の同じ箇所で複数の異物候補検出部61〜64によって異物候補が検出され、かつ、それらの異物候補が予め設定された異物の有無を判定するための複数の異物強調処理に対する異物候補の組合せであるときに、被検査物W中に異物が有ると判定する異物判定部44と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】小さい分析領域への高い強度のX線の照射を図ること。
【解決手段】電子ビーム2の衝突によりX線5を放出するアノードターゲット4と、アノードターゲット4に対向する位置に配置され、電子ビーム2を放出する複数のカソード電極1と、電子ビーム2の照射方向を制御する電子光学系と、アノードターゲット4とカソード電極1と電子光学系とを収容する外囲器と、を有するX線管を提供する。 (もっと読む)


【課題】シリコンウェーハの表面におけるCuの濃度を測定するTXRF法を用いるにもかかわらず、シリコンウェーハ中に固溶しているCuの全量、ひいてはバルク領域中のCu濃度を評価する方法を提供する。
【解決手段】シリコンウェーハ中のCu濃度の評価方法であって、熱処理が施されたシリコンウェーハの表面でのCu濃度をTXRF法により測定し、前記熱処理においてシリコンウェーハを熱処理炉から取り出すときの温度又は熱処理炉から取り出して冷却するときの冷却速度と、前記測定された表面でのCu濃度の測定値とから、バルク領域中のCu濃度を評価するシリコンウェーハ中のCu濃度評価方法。 (もっと読む)


【課題】 装置の特性変動を好適に低減可能で且つ動作制御が簡便な軽量薄型の撮像装置又はそれを用いた撮像システムを提供する。
【解決手段】 撮像装置は、半導体層を含む変換素子201を有する画素を複数備えた検出部101と、検出部101を駆動する駆動回路102と、を含み、電気信号を出力する撮像動作を行う検出器104と、変換素子201に電圧を供給する電源部107と、電源部107からの電圧の供給が開始されてから撮像動作が開始されるまでの間の少なくとも一部の期間に半導体層に与えられる電圧が、撮像動作において半導体層に与えられる電圧よりも高くなるように、電源部107を制御する制御部106と、を有する。 (もっと読む)


【課題】 金属部材の化成処理膜中に含まれる六価クロムを重量濃度で定量する分析方法を提供する。
【解決手段】
分析対象となる検体を研磨シート上に採取した分析試料に励起X線を照射し、弾性散乱X線強度を測定する手順と、散乱X線強度に基づいて分析試料の重量を算出する手順と、研磨シートの接着剤層を有機溶媒中で溶解した溶液をろ過し、ろ過残渣として分析試料を分離する手順と、ろ過した残渣をアルカリ分解液に溶解させた溶液中の六価クロム量を測定する手順と、分析試料の重量に対する六価クロム量の比を六価クロムの重量濃度として算出する手順とを有することを特徴とする六価クロムの分析方法に関する。 (もっと読む)


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