【課題】本発明は、光学ガラスの洗浄時に生じるダメージを定量的に評価し、硝材に対して好適な洗浄条件の調査に有用な光学ガラスの潜傷評価方法及び潜傷評価装置を提供する。
【解決手段】評価対象の光学ガラスの表面に潜傷を付与する潜傷付与手段２と、潜傷付与手段２により付与された潜傷の形状を測定する第１の形状測定手段３と、第１の形状測定手段３により潜傷の形状を測定された光学ガラスの表面に洗浄液を接触させ、潜傷を拡大させる洗浄手段４と、洗浄手段４による洗浄後に、潜傷の形状を測定する第２の形状測定手段５と、第１の形状測定手段３及び第２の形状測定手段５で得られた結果から光学ガラスの洗浄前後の潜傷の状態を対比する対比手段６と、を有する光学ガラスの潜傷評価装置１。 （もっと読む）

【課題】高圧水の吐出圧の調整可能範囲の下限をより低く設定できるようにする。
【解決手段】この高圧洗浄機１０は、駆動源３２でポンプ４１を駆動し、供給される水をポンプ４１で加圧して高圧水を発生させる洗浄機本体１１と、洗浄機本体１１とホースを介して接続され、洗浄機本体１１から送られてくる高圧水を吐出する吐出装置２１と、駆動源３２の回転数を設定する設定部１５と、設定部１５によって設定された回転数となるように駆動源３２の駆動制御を行う制御部３５，３６と、を備えている。そして、制御部３５，３６は、駆動源３２の回転数を検出する回転数検出部３５と、回転数検出部３５で検出された駆動源３２の回転数を取得するとともに、設定部１５で設定された回転数を駆動源３２が維持するように駆動源３２に対して駆動制御信号を発信する制御回路３６と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】洗浄処理において、基板への不必要なダメージや回路パターン倒れを防ぎつつ、特定箇所の異物を除去できる洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】洗浄処理に用いるための処理流体を基板５に噴出する処理流体ノズル７と、基板５から処理流体を回収する回収装置８とを具備している。基板５を処理流体ノズル７からの処理流体により局所的に洗浄処理することができるため、基板５に対して不必要なダメージ、回路パターン倒れを防ぎつつ、特定箇所の異物を除去できる。 （もっと読む）

【課題】洗浄水の使用量を削減及び調整する。
【解決手段】基板洗浄装置Ａは、プリント基板Ｐを収容する洗浄槽１と、圧縮空気を吐出するコンプレッサ１０と、洗浄槽１内に設けら、コンプレッサ１０から吐出された圧縮空気を噴射する予備洗浄ノズル６と、洗浄水を貯留する洗浄水タンクと洗浄槽１内に設けられた噴霧管とを有し、噴霧管の一方の先端が予備洗浄ノズル６の先端に近接するとともに、他方の先端が洗浄水に浸かっている霧発生機構７とを具備し、洗浄水が噴霧管の一方の先端からプリント基板Ｐに噴霧され、予備洗浄ノズル６の先端と、噴霧管の一方の先端との距離及び角度が可変であり、予備洗浄ノズル６から圧縮空気が噴射されると、噴霧管の他方の先端から洗浄水が吸い上げられ、噴霧管の一方の先端から洗浄水がプリント基板Ｐに噴霧される。 （もっと読む）

【課題】散気孔における付着物による通気抵抗上昇の解消を短時間で確実に達成する。
【解決手段】有機性排水と生物汚泥とを含む被処理水中に空気を散気する散気システム１において、空気を供給する送風手段２２と被処理水中に微細気泡を噴出させる散気孔を有する散気装置１１とを備え、散気孔の給気側から被処理水側に空気を噴出させて、被処理水中に微細気泡を発生させる散気手段と、流路を介して送風手段と連結され、薬液を配管に滞留しないミスト状にして送風手段からの空気と同伴して搬送させる薬液噴霧洗浄手段３１とを備え、散気孔への付着物に伴う通気抵抗の上昇時に、ミスト状の薬液を送風手段からの空気に同伴させて、散気装置の給気側より噴出させて散気孔の付着物を洗浄し、通気抵抗の上昇を解消する。 （もっと読む）

【課題】加圧作動水によって洗浄することができる水圧システム。
【解決手段】
加圧作動水を水圧アクチュエータ（３３、４３）に導く作動水供給回路（６０、７０）と、加圧作動水を作動水供給回路（６０、７０）を経由して水圧アクチュエータ（３３、４３）に供給する水圧ユニット（１０）、とを備える水圧システムにおいて、作動水供給回路（６０、７０）から分岐して設けられる開閉弁（３１、４１）と、開閉弁（３１、４１）が開放されたときに、加圧作動水を水圧アクチュエータ（３３、４３）付近に噴射するノズル（３２、４２）と、開閉弁（３１、４１）の開閉を制御する制御装置（１００）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】光学部品の洗浄装置において、超音波洗浄による光学部品の洗浄ムラの発生を抑制することができるようにする。
【解決手段】洗浄装置１を、被洗浄物Ｗを洗浄する洗浄液３が貯留された洗浄槽２と、超音波振動子４ａおよび超音波振動子４ａによる超音波振動を伝達してホーン先端面４ｃから放射するホーン４ｂを有し、洗浄液３に挿入されたホーン先端面４ｃの前方に超音波振動によるキャビテーションを生成するキャビテーション生成部４と、を備え、キャビテーション生成部４によって生成されたキャビテーションを被洗浄物Ｗに当てて洗浄を行う構成とする。 （もっと読む）

【課題】過硫酸を含む硫酸溶液を洗浄液として、循環利用して電子材料を洗浄する際に、洗浄排液の廃棄と循環とを効果的に選り分けることを可能にする。
【解決手段】過硫酸を含む硫酸溶液を洗浄液として電子材料に供給することにより該電子材料に前記洗浄液を接触させて該電子材料を枚葉式で洗浄し、洗浄排液を系内に循環させ過硫酸を再生して前記洗浄液として再利用する洗浄方法において、前記電子材料ごとの洗浄開始から洗浄終了までの間に、前記洗浄開始から、第１のタイミングまでは、前記洗浄排液を系内に循環させ、前記第１のタイミング後、第２のタイミングまでは、前記洗浄排液を系外に廃棄し、前記第２タイミング後、洗浄終了まで、前記洗浄排液を系内に循環させることで、レジスト濃度の高い時間帯の洗浄排液は系外に廃棄し、それ以外の時間帯の洗浄排液は系内に循環し再利用することが可能になり、効果的な選り分けが可能になる。 （もっと読む）

【課題】洗浄水による洗浄と熱水洗浄とを同一の簡易な設備で施すことができる医療器具等の洗浄殺菌装置を提供する。
【解決手段】洗浄対象の器具が浸漬、且つ加熱するヒータ１４が設けられたポット部１２を具備する貯留タンク１０と、給排出手段と蓋部１８の天井面に向けてポット部１２で加熱された洗浄水を噴射し、天井面に噴射された熱水が流下するようにして水蒸気発生面積を可及的に広くして水蒸気を充満させる噴射ノズル２０，２０と、超音波洗浄を施す超音波発信装置１６と、前記超音波洗浄を施した器具の一部が露出するように貯留タンク１０に貯留された洗浄水をポット部１２で加熱して噴射ノズル２０，２０に送液するポンプとを備え、且つ貯留タンク１０内に各洗浄に用いる所定量の洗浄水を貯留するように前記給排手段を制御する制御手段を具備する。 （もっと読む）

【課題】金属に付着した金属ルテニウム、酸化ルテニウムまたは有機ルテニウム化合物を、容易に除去することができ、金属を腐食することなく、かつ特殊な設備を必要としない洗浄方法を提供する。
【解決手段】金属ルテニウム、酸化ルテニウムまたは有機ルテニウム化合物が付着したステンレス製容器と、０．０１重量％〜２０重量％の硝酸水溶液とを接触させ、超音波を０．１〜４８０分間かけることにより、付着物を除去し容器を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】コンデンサやトランスといったＰＣＢ含有絶縁油を含む機器の無害化に利用されている蒸留塔を効率よく無害化すること。
【解決手段】ＰＣＢ含有絶縁油を含む機器が洗浄油で洗浄されることによって生じたＰＣＢ含有洗浄油を蒸留して前記ＰＣＢ含有洗浄油よりもＰＣＢ濃度の高い缶出液とＰＣＢ濃度の低い留出液とに分離するための蒸留塔に前記ＰＣＢ含有洗浄油に代えて清浄な洗浄油を導入させて前記蒸留塔を運転させることにより、前記清浄な洗浄油で蒸留塔内部を洗浄するとともに該洗浄によって生じたＰＣＢ含有洗浄油を該ＰＣＢ含有洗浄油よりもＰＣＢ濃度の高い缶出液とＰＣＢ濃度の低い留出液とに分離し、該分離によって得られた缶出液を蒸留塔外に排出させるとともに留出液を蒸留塔内の前記洗浄に利用することを特徴とする蒸留塔の無害化方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で、周囲の空気との干渉による水流の微粒化を抑制でき、高いデスケーリング又は洗浄能力を発現できる噴射ノズル装置を提供する。
【解決手段】フラットパターンの主水流５０を噴射可能な主吐出口１５と、主水流の厚み方向の両側から、それぞれ第１の被覆気流５１及び第２の被覆気流５２を噴射可能であり、主水流を第１及び第２の被覆気流のサンドイッチ状に被覆して噴射するための第１の補助吐出口及び第２の補助吐出口とを備えた噴射ノズルを用いて鋼板表面のスケールを除去する。前記主水流の噴射圧力は、被覆気流の噴射圧力の７０倍以上に調整する。補助吐出口の噴射出口は、主吐出口の噴射出口よりも５〜１００ｍｍ上流側に位置させてもよい。主水流の噴射方向に向かって５〜３５°の角度で被覆気流を噴射してもよい。 （もっと読む）

【課題】圧力制御された複数の区画でナノ材料の秤量・包装および容器の洗浄を分担して行うことにより、作業者のナノ材料からの暴露危険性を低減するナノ材料秤量包装装置を提供する。
【解決手段】ナノ材料を秤量して包装容器に充填する区画Ａと、前記区画Ａから移送された包装容器の外側を洗浄する区画Ｂと、前記区画Ｂから移送された包装容器を保管する区画Ａと、前記各室間を仕切る仕切壁と、前記各室と調整弁を介してダクトで接続され各室を陰圧に保つ吸引ファンと、各室の圧力を区画Ａ＜区画Ｂ＜区画Ａに保つように前記ダクトの調整弁を制御する制御装置を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物に超音波を照射することにより除去された異物が被洗浄物へ再付着することを防止することができる超音波洗浄装置の提供。
【解決手段】超音波洗浄装置であって、少なくとも、超音波を超音波振動子から洗浄液に伝える振動部材と洗浄液の噴出口と吸引口と、を備えており、
前記振動部材は平板状の剛体であり、平板状の超音波振動子に接合されており、
前記洗浄液の噴出口と吸引口は、前期振動部材の表面または前記振動部材が、被洗浄物が載置された平面に形成する垂直投影の内側に配置されていること、を特徴とする超音波洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】 希少金属層が設けられている基板から希少金属を剥離処理して、当該希少金属を高い効率で回収できる金属回収機構を有する基板処理装置の提供。
【解決手段】 基板を載置するステージ部Ｆと、
水蒸気及び水を含む混相流体を前記基板に噴射して前記基板上の希少金属を剥離する、混相流体噴射部Ｅと、
槽壁１７１、前記混相廃物を排出する排出管１７２、を有するチャンバ部Ｉと、
前記排出管から送られる混相廃物を液相と気相とに分離する気液分離機構１８１、該気液分離機構により分離された液相から希少金属を回収する固液分離手段１８２を有する、混相廃物中の液相に存在する希少金属を回収する第一処理部Ｇと、
前記第一処理部の気液分離機構から送られる気相に含まれる希少金属を回収するサイクロン式分離機構１９１を有する、混相廃物中の気相に存在する希少金属を回収する第二処理部Ｈと、
を具備する基板処理装置１００。 （もっと読む）

【課題】滞留水を効率よく排出することができると共に、高品質の処理水を実用的な採水量の範囲で得ることができるイオン交換装置を提供する。
【解決手段】イオン交換樹脂床２１１を収容し、圧力タンク２と、圧力タンク２に洗浄液Ｗ１を導入して系外に排出することにより圧力タンク２の内部を洗浄する洗浄手段３と、圧力タンク２の内部に位置する液体の滞留時間Ｔを算出する滞留時間算出手段５１と、滞留時間Ｔが所定の設定時間Ｔ３に達したか否かを判定する滞留時間判定手段５２と、滞留時間判定手段５２による判定結果に基づいて圧力タンク２の内部を洗浄するように洗浄手段３を制御する洗浄手段制御手段５３と、を備える。洗浄手段制御手段５３は、イオン交換樹脂床２１１での洗浄液Ｗ１の線速度を５〜６０ｍ／ｈの範囲に設定すると共に、イオン交換樹脂床２１１に対する洗浄液Ｗ１の量を設定時間Ｔ３に応じて設定する。 （もっと読む）

【課題】基板に形成されたレジストを除去する際のレジストの残渣の発生を抑える一方で、基板を洗浄する際の洗浄能力の低下を図る。
【解決手段】被噴射体噴射装置は、回転軸４１を有し、回転軸４１の回転によって基板を回転させるスピンナー４０と、基板に相対する位置であってスピンナー４０の回転軸４１からずれて配置され、被噴射体を噴射するノズル２４及びノズル２５と、を備え、スピンナー４０の回転軸４１の方向に見て、ノズル２４の噴射口２４Ａがスピンナー４０の回転軸４１が回転する向きと向き合っており、ノズル２５の噴射口２５Ａが第一ノズル２４の噴射口２４Ａの向きとは逆向きである。 （もっと読む）

【課題】より安定してラジカルを生成することのできるプラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器を得る。
【解決手段】プラズマ発生装置１は、水を含む液体を収容する液体収容部４と、気体を収容する気体収容部５と、気体収容部５中の気体を液体収容部４へ導く気体通路３ａが形成され、液体収容部４と気体収容部５とを隔てる隔壁部３と、気体収容部５に配設された第１電極１２と、少なくとも第１電極１２と対になる側の部分が液体収容部４中の液体１７と接触するように配設した第２電極１３と、を備えている。そして、気体通路３ａに微細化手段を設け、気泡を微細化するようにした。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の表面に付着した塵埃などの汚染物質を効率良く除去すると共に、洗浄後に汚染物質が被洗浄物の表面に再付着することを防止した湿式洗浄装置及び湿式洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗの洗浄を湿式で行うための洗浄槽２と、洗浄槽２の下方側から槽内へと洗浄液Ｌを供給する供給口９ａと、洗浄槽２の上方側から槽外へと洗浄液Ｌを排出する排出口１３ａ，１３ｂ，１３ｃと、基板Ｗを洗浄槽２内で搬送させる搬送機構１４とを備え、洗浄槽２内の下方から上方へと向かう洗浄液Ｌの流れと共に、基板Ｗの搬送方向Ｘとは逆向きの洗浄液Ｌの流れを発生させるように、供給口９ａと排出口１３ａ，１３ｂ，１３ｃとの何れかによって供給及び／又は排出される洗浄液Ｌの流れを調整する。 （もっと読む）

【課題】ラジカルを均一に拡散させることのできるプラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器を得る。
【解決手段】プラズマ発生装置１は、気体収容部５に配設された第１電極１２と、少なくとも第１電極１２と対向する側の部分が液体収容部４中の液体１７と接触するように配設した第２電極１３と、を備えている。そして、第１電極１２と第２電極１３との間に放電を発生させることで、液体収容部４中の液体１７内における気体の領域においてプラズマを生成し、液体１７に含まれる水および気体に含まれる酸素からヒドロキシラジカルを生成する。気体拡散部７０は、気体通路３ａから圧送された気体を液体１７内において拡散させる。 （もっと読む）