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Fターム[3B201CD43]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 補助処理 (2,748) | 検知、制御 (1,212) | 制御対象 (717)

Fターム[3B201CD43]に分類される特許

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【課題】処理槽内の処理液に含まれるごく微細な異物を低コストで効率良く除去できる処理槽における異物除去システムを提供する。
【解決手段】異物除去システムは、比重の小さい異物を含む処理液を回収する上中層用回収部と、上中層用回収部からの処理液を濾過液と異物とに分離する第2サイクロン装置23と、第2サイクロン装置23からの濾過液をさらに濾過して処理槽に還流する処理液濾過装置50と、を備える。処理液濾過装置50は、直線管からなる供給配管54を介して第2サイクロン装置23の濾過液排出口23bに連通するハウジング52と、ハウジング52の上面に取り付けられる蓋部材64と、蓋部材64に供給配管54と同軸に着脱自在に取り付けられるブラシ66と、を備える。 (もっと読む)


【課題】超音波エネルギが調整可能な超音波洗浄ユニットを有する洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置は、被洗浄基板を回動させる保持台と、前記被洗浄基板表面に洗浄液を供給し、前記洗浄液の膜を形成する洗浄液ノズルと、前記洗浄液の膜中に超音波を照射する超音波照射ユニットと、を含み、前記超音波照射ユニットは、超音波発生源と、前記超音波発生源で発生された超音波エネルギを伝達する媒体と、前記洗浄液の膜中に挿入され、前記洗浄液の膜中に、前記媒体を伝達された超音波エネルギを放射する放射部材と、を含み、前記媒体は、前記超音波エネルギの伝搬経路に配置された一または複数の振動伝達ブロックよりなる超音波伝達部を含み、前記一または複数の振動伝達ブロックは、前記超音波エネルギの伝搬経路上に、保持手段により保持されて配置され、前記保持手段は、前記一又は複数の振動伝達ブロックの各々を、個別に着脱自在に保持し、前記超音波発生源と前記放射部材との間の距離が可変である。 (もっと読む)


【課題】液中に微細バブルを効率的に生成し、その微細バブルを含有する液体を被洗浄物の表面に良好な洗浄が期待できるように吹付けることのできる流体噴出ノズルを提供することである。
【解決手段】気体導入口164aと、気体噴出口164bの形成された気体噴出面163とを有するユニット本体160と、ユニット本体160に設けられ、液体が通る液体通路161aの形成された液体導入部161とを有し、ユニット本体160には、気体通路164と、液体導入部161の液体通路161aが結合するキャビティ162とが形成され、ユニット本体160の気体噴出面163は、気体噴出口164bの形成される面を底面部分163aとしたすり鉢状に形成され、ユニット本体160には、気体噴出面163のすり鉢状の周面部分163bで開口し、キャビティ162から続く複数のノズル孔165が形成された構成となる。 (もっと読む)


【課題】 パンチング加工後の板金のような薄板を洗浄し、乾燥する小形で簡易な薄板洗浄乾燥装置及び方法を提供する。
【解決手段】 アルカリイオン水製造装置2と、製造されたアルカリイオン水を加温する加温装置4と、洗浄する薄板10を搬送する搬送装置5と、加温されたアルカリイオン水を搬送装置5で搬送されている薄板10の両面に吹き付ける噴射装置6と、搬送装置5の一部を構成し、加温されたアルカリイオン水が付着した薄板の両面を拭き取りながら薄板10を搬送する第1吸水ローラ71、72と第2吸水ローラ73,74を配置した吸水・乾燥装置7とを備える構成とする。 (もっと読む)


【課題】 傾斜面に沿って斜めに載置される可撓性対象を効率よく洗浄でき、しかもコンパクトな洗浄装置を提供する。
【解決手段】 傾斜面と直交するように配置される平行な第1、第2縦レール4、5と、第1、第2縦レール4、5に沿って走行可能な第1、第2フレーム6、7と、第1、第2フレームを連結する横レール9と、横レール9に沿って傾斜面に沿って横行するノズルフレーム11とを備え、横レールは、傾斜面に平行で間隔を開けて位置する水平上片及び水平下片と、これらを連結する起立片とを有し、ノズルフレーム11の上部には、水平下片の上面に接する上部ローラ16と水平下片の下面に接する下部ローラ17とが設けられ、ノズルフレーム11は、上部ローラ16と下部ローラ17が横レール9を挟持することにより支持される。 (もっと読む)


【課題】基板洗浄工程中に電析の発生を防止しつつ基板の状態を観察することが可能な基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】発電層が形成された基板12を洗浄する洗浄部と、それらの上流側に設けられて、基板12を基板搬入口から洗浄部に搬入する搬入部と、洗浄された基板12の発電層を乾燥させる乾燥部と、乾燥部の下流側に設けられて乾燥した基板12を基板搬出口へ搬出する搬出部と、基板搬入口を除く搬入部、洗浄部、乾燥部、基板搬出口を除く搬出部内に入射する光を遮断する光遮断手段9と、それに設けられる観察窓10と、観察窓10から入射する光のうち発電層の発電に寄与する波長の少なくとも一部を遮断し、発電層の発電電圧を波長の少なくとも一部を遮光しない場合の発電電圧の1/10以下にする光透過手段と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】めっきや化成処理などの被洗浄物品1となる表面処理部品に付着した薬液を除去する物品のすすぎ洗浄において、大量の洗浄液を使用せず、簡易な機構で洗浄と乾燥を同じ工程で行える洗浄乾燥方法及び洗浄乾燥装置を得る。
【解決手段】被洗浄物品1をなす表面処理部品に付着した汚れまたは薬液を除去する表面処理部品の洗浄において、洗浄液を大気圧下では沸点以上の状態となる加圧過加熱液の状態として、被洗浄物品1に噴射する。被洗浄物品1の表面に保液層8sが形成される隙間G1を介して保液部材7を配置している。噴射された洗浄液の蒸気が凝縮した凝縮液8を被洗浄物品1と保液部材7との間の隙間G1に保持しながら、噴射を継続する。隙間G1内の保液層8sでの凝縮熱により、洗浄液の噴射終了後に、凝縮液8を被洗浄物品1の表面において乾燥させることができる。 (もっと読む)


【課題】水道水等を貯留する貯水槽の広大な面積の垂直なコンクリート壁面に対して、ウォータージェットによる研掃を効率良く行えるようにする表面研掃処理装置を提供する。
【解決手段】表面研掃処理装置10は、ベースマシン14と、縦方向スライドガイド部16と、横方向スライドガイド部19と、ウォータージェット噴射ノズル11を備えるウォータージェット治具13とを含んで構成される。ベースマシン14は、基台部23と走行部22とからなる。縦方向スライドガイド部16は、基台部23上の支持架台21に固定される縦方向固定ガイド部17と、縦方向固定ガイド部17に沿って昇降可能な昇降ガイド部18とからなる。横方向スライドガイド部19は、ウォータージェット治具13の横巾の略3倍の長さを有し、昇降ガイド部18に沿って昇降可能である。ウォータージェット治具13は、横方向スライドガイド部19に沿って横方向に移動可能である。 (もっと読む)


【課題】 洗浄効率の高いベアリング洗浄装置を提供する。
【解決手段】
2本の回転駆動軸30、30の間にベアリング50を乗せ、回転しつつ支持し、ベアリング50の内部には、軸線55に沿ってノズル中空軸1がされる。ノズル中空軸1には、複数のノズル孔10が形成され、またノズル中空軸1には洗浄液供給装置16から洗浄液が供給され、該ノズル孔10から洗浄液を径方向に噴射する。ノズル孔10は、ノズル中空軸1の周側面上にらせん状に配置され、また駆動装置15によりベアリング50の回転方向とは逆方向回転し、ベアリング50の内周を洗浄する。 また、ノズル中空軸1は駆動装置15により軸線方向に往復動可能に構成されており、ベアリング50の軸線55に沿って往復動しつつ、又回転しつつ、ノズル孔10から洗浄液を噴射して、ベアリング50の内周を洗浄する。 (もっと読む)


【課題】比重の軽い異物が大量に流入した場合であってもエレメントに付着した異物を除去することができる海水中異物除去装置を提供することができる。
【解決手段】海水中異物除去装置において、ポンプ11から送水される海水又は洗浄水を導入する入口管4と、透過水を導出する出口管5と、異物を排出するブロー管6と、内部の海水又は洗浄水を排水するドレン管7とを備える円筒形状のストレーナ容器1と、ストレーナ容器1の上部の空間と下部の空間とを仕切る中央部に開口部2aが形成された隔壁2と、ストレーナ容器1の内部の上部の空間には、複数の孔が形成された円筒形状のエレメント3と、出口管5及びドレン管7に接続された逆洗用のポンプ20と、ポンプ11,12の停止及び稼動や、入口弁10、出口弁12、ブロー弁13、ドレン弁14及びガス抜き弁15の開度を制御する制御装置9とを備えた。 (もっと読む)


【課題】 洗浄ノズルの本数が少なくても十分な洗浄効果が得られ、しかも液中洗浄と気中洗浄とが行える洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄装置1は、被洗浄物10を保持し、回転駆動装置により水平面内で回転可能な基台3と、当該基台3と当該被洗浄物10とを上方から囲む大きさを有し、昇降駆動装置により昇降可能なカップ4と、当該カップ4の側面に固定された洗浄ノズル5とを備え、基台3の回転速度とカップ4の昇降速度のうち少なくともいずれか一方が調整可能である。 (もっと読む)


【課題】基板表面に形成されたパターンへのダメージを抑制しながら基板表面を良好に洗浄処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板保持手段11に保持され、洗浄液としてのDIWの液膜が形成された基板Wの表面Wfに対し、媒介液供給機構55から媒介液としてのトルエンを供給し、DIWの液膜の上にトルエンの液膜を更に形成する。その後、超音波付与機構51によりトルエンを介してDIWに超音波を付与しながら、凝固手段31から基板表面Wfに凍結用の窒素ガスを吐出し、DIWを凝固させる。これにより、結晶サイズの小さいDIWの凝固体を形成し、その後のリンス工程で短時間に解凍することを可能とし、リンス液中に遊離するDIWの結晶を減少し、パターンへのダメージを防止する。 (もっと読む)


【課題】基板に付着するリンス液に起因する基板の処理不良を防止することができる基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板Wが回転するとともに、気液供給ノズル453の液体ノズル453aが回転する基板Wの中心部WCの上方の位置まで移動する。この状態で、液体ノズル453aから回転する基板Wにリンス液が吐出される。気液供給ノズル453が基板Wの外方位置に向かって移動する。ガスノズル453bが回転する基板Wの中心部WCの上方位置に到達することにより、気液供給ノズル453が一時的に停止する。気液供給ノズル453が停止した状態で、回転する基板W上の中心部WCに一定時間不活性ガスが吐出される。その後、気液供給ノズル453が再び基板Wの外方位置に向かって移動する。 (もっと読む)


【課題】 洗浄液の使用量を低減させることによって付加価値を高めるように、洗浄技術を改良した開口容器の洗浄装置を提供する。
【解決手段】 開口容器Bの内面に付着している被洗浄物を洗浄し、その洗浄を後続の個々の開口容器Bに順次繰り返す洗浄装置であって、1次洗浄の初期洗浄液を噴射する初期洗浄液噴射装置と、初期洗浄廃液を排出する初期洗浄廃液排出装置と、洗剤入り洗浄液を噴射する洗剤入り洗浄液噴射装置と、2次洗浄廃液を再使用洗浄廃液として保存する再使用洗浄廃液保存装置と、再使用洗浄廃液保存装置の2次洗浄廃液を再使用洗浄廃液として噴射する再使用洗浄廃液噴射装置と、2次洗浄廃液が前記再使用洗浄廃液保存装置に循環するように回収・保存され、その循環して回収・保存された2次洗浄廃液が後続の個々の開口容器Bの2次洗浄に循環して使用される一方、初期洗浄廃液は再使用されることなく非循環で排出されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 高密度で柱状部品を整列配列しても洗浄力が高く、一つの柱状部品で洗浄目的が部分的に異なる場合でも各々の目的に合致した洗浄を同時に行う。
【解決手段】 打錠機の臼や杵と呼ばれるような柱状部品B1,B2を多数個収納する装置本体3と、装置本体3に上方から蓋をする蓋体2を備え、前記蓋体2に回転可能に取り付けられた管7に多数個のノズルN1が取り付けられ、洗浄水供給手段から供給する洗浄水Wを管7を介して回転しながらノズルN1から噴射する。 (もっと読む)


【課題】水分濃度が低い有機溶媒を処理部又は被処理体に供給して処理を行うことにより、被処理体や処理部の腐食を抑えること。
【解決手段】イソプロピルアルコール(IPA)の供給源30からIPAを貯留タンク3に供給し、貯留タンク3内のIPAを、水分除去フィルタ4及び濃度測定部5を備えた循環路32を介して循環供給する。IPAは、循環路32内を循環させることにより、水分除去フィルタ4により徐々に水分が除去される。そして、濃度測定部5により測定された水分濃度が0.01重量%以下であるときには、中間タンク6にIPAを送液する。中間タンク6からは、処理チャンバ11に水分濃度が0.01重量%以下のIPAが供給され、処理チャンバ11では、当該IPAを高温、高圧状態として、ウエハWの処理が行われる。 (もっと読む)


【課題】ダウンフローを発生させるための機構を簡素化した処理装置を提供すること。
【解決手段】ダウンフローを発生させる気流発生手段150と、循環経路部材200内に配設され、ダウンフローを発生させる気体に含まれるミストを気体から分離させるミスト分離手段240と、循環経路部材200内に配設され、ミスト分離手段240によって分離されて液化したミストを回収する廃液口213と、を有し、ダウンフローを発生させる気体を処理チャンバー100と循環経路部材200との間で、循環させるようにした。 (もっと読む)


【課題】貫通孔内に所望の処理を施すことができる処理方法および処理装置を提供すること。
【解決手段】処理装置1は、内部に液体Lが供給されるとともに、供給された前記液体Lに基板2を浸積させる槽11を備える。処理装置1は、第一供給口111Aから第一排出口111Bに向かって液体Lを流すとともに、第二供給口112Aから第二排出口112Bに向かって液体Lを流すと、液体Lが、鉛直方向上方側から下方側に向かって前記基板2の一方の基板面および他方の基板面に沿って流れるように構成され、基板2の一方の面における液体Lの平均流速と、他方の面における液体Lの平均流速とを異ならせる調整手段を有する。 (もっと読む)


【課題】高い清浄度でウェブを洗浄する。
【解決手段】表面に洗浄液が供給される洗浄ローラ5に、当該洗浄ローラ5上に形成される洗浄液の液膜を介してウェブ2を巻装させた状態で、当該ウェブ2が搬送させられ、洗浄ローラ5の周速度とウェブ2の搬送速度とが異なる速度に制御される。これにより、洗浄ローラ5とウェブ2との間に、大きな速度勾配を持った液流を有する薄い液膜が容易に形成され得る。かかる液流により、ウェブ2へのダメージを抑えて、効果的に異物がウェブ2から除去される。 (もっと読む)


【課題】被洗浄物を超音波洗浄した後の洗浄ムラの発生を抑制できる超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様は、洗浄液23が入れられる洗浄槽21と、前記洗浄槽内の洗浄液に浸漬された被洗浄物22に超音波振動を与える第1及び第2の超音波振動子34a,34bと、前記第1の超音波振動子に高周波出力を印加する第1の超音波発振器36と、前記第2の超音波振動子に高周波出力を印加する第2の超音波発振器37と、前記第1及び第2の超音波発振器の少なくとも一方の出力を変動させて制御するコントローラ38と、を具備し、前記第1の超音波振動子から発振された第1の超音波を、前記第2の超音波振動子から発振された第2の超音波に干渉させることを特徴とする超音波洗浄装置である。 (もっと読む)


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