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Fターム[4F042BA25]の内容

塗布装置−一般、その他 (33,298) | 制御 (5,159) | 制御変量 (5,140) | 塗膜厚さ (704)

Fターム[4F042BA25]に分類される特許

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【課題】 例えばフィンガー配線のような塗布パターンを基板の主面に形成する際に、塗布パターンを厚膜(高アスペクト比)に形成することができるパターン形成装置を提供する。
【解決手段】 第1ノズル41の第1吐出口47から吐出され、第1ノズル41の対向面45と、ステージにほぼ水平に支持されて第1ノズル41に対して移動する基板9の主面との間に界面張力により存在する、光硬化性を有するペースト7に対して、その側方から光を照射することにより、ペースト7を硬化させる。 (もっと読む)


【課題】 塗布液による閉図形に対して太りや断線を生ずることなく、閉図形を正確に形成することが可能な塗布方法および塗布装置を提供する。
【解決手段】 ダム剤吐出ノズル14の高さ位置を通常より低い位置に配置した状態で、ダム剤吐出ノズル14からダム剤の吐出を開始するとともに、ダム剤吐出ノズル14の移動を開始する吐出開始工程と、ダム剤吐出ノズル14から吐出されたダム剤が基板100の表面に着床した後にダム剤吐出ノズル14の高さ位置を上昇させる上昇工程と、ダム剤吐出ノズル14を矩形に対応させて移動させる塗布工程と、ダム剤吐出ノズル14からのダム剤の吐出を停止するとともに、ダム剤吐出ノズル14の高さ位置をさらに上方に上昇させる液切り工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】移動するノズルから吐出される処理液の流量の変動を抑えられる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置20は、基板200を略水平に保持する基板保持部30と、基板200に対して略平行な主走査方向に沿って延びる主走査機構ガイド部42と、主走査機構ガイド部42により主走査方向に沿って移動可能に支持されたスライダ44と、を有する主走査機構40と、スライダ44により主走査方向に沿って移動可能に支持され、基板200に塗布液を吐出する吐出部50と、吐出部50に接続されるとともに吐出部50に塗布液を導く可撓性の塗布液配管80bと、塗布液配管80bの途中の部分を支持するとともに、主走査の繰返しによるスライダ44の周期的な動きに追随してその向きが周期的に変化する可動配管支持部100と、を備える。 (もっと読む)


【課題】塗工域の塗工始端部又は塗工終端部に生じる盛り上がり部の盛り上がり高さ寸法を小さくする。
【解決手段】基材走行路Rの途中に設けられた間欠塗工装置2で、基材走行路Rを走行する基材Wの表面に基材走行方向に沿って塗工域Cと非塗工域Dを交互に形成するときに、塗工域Cの塗工始端部Ca又は塗工終端部Cbに形成される盛り上がり部Qが生じる場合に、盛り上がり部Qが通過する基材走行路Rの所定箇所Raに向かってガスをGを噴出させるガス噴出用スリット13を備えたガス噴出装置7と、ガス噴出用スリット13から噴出させるガスGをガス噴出装置7へ設定時間だけ供給するガス供給装置8を備えたこと。 (もっと読む)


【課題】カップ部を昇降する昇降ユニットの高さを低減することを図る。
【解決手段】昇降ユニット50は、第1シャフト541、ボールねじナット542およびスプラインナット543を有するボールねじスプライン54を備え、第1シャフトはカップ部に固定される。サーボモータ56の第2シャフト561は、第1シャフトに略平行であり、第1シャフトに垂直な方向において少なくとも一部が第1シャフトに対向する。これにより、昇降ユニットの高さが低減される。ボールねじナットおよび第2シャフトには互いに係合する第1および第2平歯車571,572がそれぞれ固定され、第1シャフトを昇降する際に、第2シャフトの回転がボールねじナットに減速して伝達される。これにより、昇降ユニットでは、カップ部の位置を保持する際にサーボモータにおいて必要となる回転トルクが小さくなり、消費電力の削減が図られる。 (もっと読む)


【課題】LED素子の発光波長がばらつく場合にあってもLEDパッケージの発光特性を均一にして、生産歩留まりを向上させることができる樹脂塗布装置および樹脂塗布方法を提供する。
【解決手段】蛍光体を含む樹脂によってLED素子を覆って成るLEDパッケージの製造に用いられる樹脂塗布装置であって、LED素子の上に注入するに使用する蛍光体を含んで樹脂8を、試し塗布材43の、開口部から底部に向かって底部の側が小さくなるように内周壁56が傾斜したエンボス部に試し打ちして、この樹脂の光学特性を測定し、これに基づいてLED素子の上に注入する樹脂8の注入量を制御するので、迅速にLEDパッケージの色度を基準色度に十分に近付けることができる。 (もっと読む)


【課題】 往復移動するノズルに対して可撓性の塗布液供給管により塗布液貯留部から塗布液を送液した場合においても、塗布液の流量を一定に維持して塗布液を均一に塗布することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】 圧力変動吸収機構70は、圧力吸収部71と流量抵抗部72とを備える。圧力吸収部71は、塗布液供給管64から送液される塗布液の圧力変動に伴って弾性変形することにより塗布液の収容部の体積を変化させるものであり、肉薄の樹脂製の軟質チューブ73から構成される。また、流量抵抗部72は、塗布液供給管64や軟質チューブ73よりも内径が小さい、すなわち、より小さなオリフィスを有する肉厚の樹脂製の硬質チューブ74から構成される。 (もっと読む)


【課題】短時間で塗布液流量を調整して、塗布液の塗布量を正確に制御することが可能な塗布液塗布装置および塗布液塗布方法を提供する。
【解決手段】塗布液の塗布を行う前に、予め、塗布軌跡の幅と各ノズルから吐出される塗布液の流量との関係を示す関係式を作成して記憶する準備工程を実行する。そして、塗布を実行する毎、あるいは、一定期間毎に、テスト塗布領域に対して塗布液を連続して吐出することにより形成された塗布軌跡の幅を測定する塗布軌跡測定工程を実行する。ガラス基板への塗布液の塗布時には、各支管流量計75が計測した塗布液の流量値と、塗布軌跡測定工程で測定した塗布液の幅と、予め記憶した関係式とを利用して各流量制御バルブ74の開度を調整することにより、塗布液の塗布量を適正なものとする。 (もっと読む)


【課題】 余分な被覆処理液を完全に除去することができる被覆膜形成装置の提供を目的
【解決手段】 被覆膜形成装置100は、部材を保持する部材保持カゴを有する被覆膜調整部101を矢印a11方向、矢印a13方向へ水平回転させるとともに、矢印a15方向、矢印a17方向へ垂直回転させる。これにより、被覆処理液を付着させた部材を水平方向及び垂直方向に回転させることができるので、部材に付着させた被覆処理液のうち不要な被覆処理液を均一に除去し、部材に均一な被覆膜を形成することができる。 (もっと読む)


【課題】描画対象物に均一な厚みの材料層を描画する描画装置および描画方法を提供する。
【解決手段】描画対象物50に描画すべきパターンの液状材料を付着させるべき領域を、主走査方向に直交する仮想直線上に垂直投影した像の連続する部分の長さ、つまり配線領域の長さLwに基づいて、ノズルヘッド23の1回の主走査で描画されるパス領域の幅Lpを、ノズルヘッドに設けられるノズルの配列長さLaよりも短く設定する。 (もっと読む)


【課題】液滴の着弾地点を正確に制御できる技術を提供する。
【解決手段】吐出回路22に吐出信号が入力されてから吐出された液滴が吐出対象物に着弾するまでの吐出必要時間よりも長い処理割当時間を設定し、吐出口16が着弾地点の真上に到達する真上時刻よりも処理割当時間前の信号出力時刻に制御部10が吐出部13に吐出信号を出力する。遅延部24には、処理割当時間と吐出必要時間の差である遅延時間が設定されており、遅延部24は、入力された吐出信号を遅延時間遅らせて吐出回路22に入力させ、吐出された液滴を真上時刻において吐出地点に着弾させる。同じ真上時刻において複数の吐出地点にそれぞれ吐出口16が到達する場合は、各吐出口16に対し、同じ信号処理時刻において吐出信号を出力すればいよい。 (もっと読む)


【課題】 塗布液の消費を極力抑制しつつ吐出孔からの塗布液の吐出状態の良否を判定し、良好な塗布状態を維持可能な塗布液の塗布装置を提供する。
【解決手段】 塗布ヘッド7の吐出面7aに一列に配列されて設けられた複数の吐出孔7bから、それぞれの吐出孔7bに対応して設けられた圧電素子7eの駆動によって各吐出孔7bから塗布液の液滴を吐出させ基板W等の塗布対象物上に塗布液を塗布する塗布液の塗布装置において、所定周波数の振動を発生させる発振装置としての超音波発振装置8と、この超音波発振装置8の発振に伴って圧電素子7eから出力される出力信号に基づいて吐出孔7bからの塗布液の液滴の吐出状態の良否を判定する制御装置13とを備える。 (もっと読む)


【課題】高精度で均一な塗布が可能な薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】塗布対象物100を吸着保持する吸着テーブル9と、吸着テーブル9に吸着保持された塗布対象物100の表面にインクジェット式ノズルから塗布材を吐出しながら薄膜形成を行う複数の塗布ヘッド4と、塗布ヘッド4を塗布対象物100の上方位置で移動させるガントリ3と、を備える薄膜形成装置1であって、ガントリ3に、塗布対象物100の表面を加熱する熱源装置31を更に備える。 (もっと読む)


【課題】光学フィルム製造用のロール金型の表面に、保護皮膜剤の溶媒を過剰に拡散させることなく、均一な膜厚の剥離容易な保護皮膜を形成することが可能な塗工装置を提供する。
【解決手段】本発明の塗工装置は、光学フィルム製造用のロール金型に保護皮膜剤を塗工する塗工装置であって、中心軸が水平となるように配置されたロール金型3に対して、ロール金型3の中心軸を含む水平面より上方に配置され、中心軸の方向に延在する塗工ブレード2と、塗工ブレード上に設けられ、塗工ブレード上の保護皮膜剤である塗工液の流動領域を規定する一対のプレート7a,7bからなる液止めと、塗工ブレードがロール金型の表面から一定の距離を保つように設けられ、塗工ブレードよりロール金型の近くに位置するストッパー8と、所定の回転速度でロール金型を回転させる回転手段と、を備える。 (もっと読む)


【課題】塗布膜の性質にバラつきが生じるのを防ぐこと。
【解決手段】易酸化性の金属及び溶媒を含む液状体を基板に吐出するノズルを有する塗布部と、前記塗布部に前記液状体を供給する供給系と、前記供給系及び前記塗布部のうち少なくとも一方から前記液状体を回収し、回収した前記液状体を前記供給系及び前記塗布部のうち少なくとも一方に供給する循環系とを備える。 (もっと読む)


【課題】被処理基板上にレジストを精度良く形成することができるレジスト塗布装置を得る。
【解決手段】チャック1は、ウェハ2を保持して回転する。ノズル3は、ウェハ2上にレジスト液を供給する。チャック1をコーターカップ4が覆っている。チャック1の上方においてコーターカップ4に吸気孔5が設けられている。コーターカップ4に排気孔6が設けられている。吸気孔5に筒状治具13が取り付けられている。筒状治具13の空洞内に風速計14が配置されている。筒状治具13の中心軸は、チャック1の回転中心と一致する。 (もっと読む)


【課題】塗布対象物に溶液を均一に塗布することができる塗布装置、ならびに塗布対象物への溶液の塗布によって均一な薄膜を形成することができる薄膜製造方法を実現する。
【解決手段】吐出部から吐出されている溶液が塗布対象物の上に塗布されて、塗布対象物の上に皮膜が形成される。この皮膜が形成される工程において、吐出部から吐出されている溶液が塗布対象物に塗布される前または吐出部から吐出されている溶液が塗布対象物に塗布され始める際に帯電によって吐出部に蓄積されている電気量が低減される。 (もっと読む)


【課題】粘度変化が生じる液体材料を高精度に塗布すること。
【解決手段】液体材料を吐出するノズル6と、液体材料をノズル6から吐出するためのポンプと、液体材料が通過する経路における液体材料の粘度を算出するための熱式流量センサ9と、算出した粘度に基づいて液体材料をノズル6から吐出させるための吐出圧力を設定し、設定された吐出圧力に基づいてポンプを制御するメインコントローラ8と、を備えた塗布装置であって、液体材料の粘度変化に合わせ、吐出圧力を調整することにより、高精度な塗布が実現可能となる。 (もっと読む)


【課題】塗布液をスピン塗布法により塗布して膜を形成する際に、基板面内の任意の位置の膜厚を制御できるとともに、基板面内の膜厚ばらつきを低減することができる塗布処理装置を提供する。
【解決手段】回転する基板の表面に塗布液を供給し、供給した塗布液を基板の外周側に拡散させることによって、基板の表面に塗布液を塗布する塗布処理装置23において、基板を保持する基板保持部31と、基板保持部31に保持された基板を回転させる回転部32と、基板保持部31に保持された基板の表面に塗布液を供給する供給部43と、基板保持部31に保持された基板の上方の所定位置に設けられており、回転部32により回転する基板の上方の気流を任意の位置で局所的に変化させる気流制御板63とを有する。 (もっと読む)


【課題】粉体の特性に限定されず被散布体に応じた多種類の粉体を均一かつ精密に散布することができる粉体散布装置を提供することを目的としている。
【解決手段】本発明の粉体散布装置10は、粉体貯留槽20の下部に配設した散布ローラ22を回転させ、当該散布ローラ22のローラ面に付着した粉体12を、前記散布ローラ22の下方を通過する前記被散布体11に散布する粉体散布装置10であって、前記散布ローラ22の表面に形成され、ローラ軸方向と周方向に沿って複数配列されてローラ全面に分散収容して粉体貯溜槽から粉体を排出する凹部23と、前記散布ローラ22の両側から前記ローラ面に接触する一対のブラシローラ30と、前記ブラシローラ30のブラシと接触し、前記被散布体11との間に散布閉鎖空間36を形成する一対の空間仕切りローラ40と、を備えたことを特徴としている。 (もっと読む)


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