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Fターム[4F202AH33]の内容

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【課題】光学部品など、ナノレベルでの精度を必要とする金型成形において、従来のような形状の改良や離型剤をスプレー塗布するような方法では、離型剤膜厚にばらつきが生じるため、精度が悪くなる。さらに、成型品に離型剤が付着すると不都合な場合もある。しかしながら、離型剤を使用しない金型は、未だ実用化されていない。
【課題を解決するための手段】
本発明の金型は、ナノレベルで膜厚が均一で、且つ表面エネルギーを制御した撥水撥油性のフッ化炭素系化学吸着膜を、離型膜として金型表面に形成したものである。このことにより、ナノメートルレベルの超微細形状を有していても、成型物の流動性や入り込み性に優れ、高精度の成形を行えるようになる。さらに離型剤塗布が不要となり、離型剤が成型品に付着するのを防止できる。 (もっと読む)


【課題】マイクロレンズアレイ成形型の作製コストを削減することができると共に、マイクロレンズアレイ成形型によって成形されるマイクロレンズアレイの精度を向上させる。
【解決手段】複数のレンズ部16を有するマイクロレンズアレイ15を成形するマイクロレンズアレイ成形型14の作製方法であって、マイクロレンズアレイ成形型14を構成する型基板11の平坦面11aに溝部12を形成する溝形成工程と、溝部12により区画形成される区画平面11bにレンズ部16を成形するための凹状のレンズ型部13を形成するレンズ型部形成工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】反射体付基板を製造する際に環境に与える負荷を抑制して、反射体付基板を安価に製造する。
【解決手段】上型46の下面に基板本体2を固定し、キャビティ50を流動性樹脂51によって満たされた状態にし、上型46と下型47とを型締めして基板本体2の所定の面を流動性樹脂51に浸漬し、流動性樹脂51を硬化させて硬化樹脂53を形成し、上型46と下型47とを型開きし、成形済基板52を上型46から取り外す。下型47には基板本体2の領域4にそれぞれ対応する領域が設けられ、キャビティ50には複数の凹部48と複数の凹部48同士を連通する空間49とが設けられる。複数の凹部48において硬化樹脂53からなる反射体54を形成するとともに空間49において硬化樹脂53からなる薄肉部55を形成し、成形済基板52から薄肉部55を除去する。 (もっと読む)


【課題】 光硬化性ナノインプリント用組成物を用いて、金型パターンよりも微細なパターンを基板上に形成するパターンの製造方法を提供する。
【解決手段】 アルコキシシラン類の加水分解物を含有する光硬化性ナノインプリント用組成物を基板上に塗布し塗膜を形成し、金型と前記塗膜とを接触させ、金型のパターンを転写し、光照射して塗膜を硬化させた後に、120℃〜250℃で熱処理をすることで金型のパターンよりも微細なパターンを基板上に形成する。 (もっと読む)


【課題】ナノインプリント用モールドの製造において、ナノインプリント装置内でも簡便に離型処理を行うことを可能にしかつ凹凸パターン表面全体の離型性を向上させる。
【解決手段】モールド1の離型処理方法において、離型剤6が塗布された離型処理用基板5を用意し、凹凸パターン13の凸部の上部のみが離型剤6に接触した接触状態となるように、吸着水2が表面に付着したモールド本体12および離型処理用基板5を互いに近づけ、吸着水2中を離型剤6が拡散することに起因して、凹凸パターン13の凸部の上面St側から凹凸パターン13の凹部の底面Sb側に向かって凹凸パターン13の側面Ssにおける離型層14の厚さが薄くなるような厚さ分布を有する離型層14が形成されるまで、上記接触状態を維持し、上記凸部の上部が離型処理用基板5上の離型剤6から分離するようにモールド本体12および離型処理用基板5を離す。 (もっと読む)


【課題】芯体に塗布された樹脂溶液を加熱することで発生する収縮によるしわと、当該溶液を加熱することで発生するガスによる膨れと、を抑制する。
【解決手段】外周面に塗布された樹脂溶液が加熱により硬化されて管状体が製造される円筒状又は円柱状の芯体本体と、前記芯体本体の軸方向中央部を含む前記外周面に形成された離型層と、前記芯体本体の軸方向一端部及び他端部のそれぞれにおいて前記外周面の周方向に沿って断続的に複数形成され、当該一端部及び他端部のそれぞれにおける前記芯体本体の周方向の全周において当該芯体本体の軸方向のいずれかの箇所に存在し、前記離型層よりも離型性が低下した低下部分と、を備える。 (もっと読む)


【課題】半導体装置等の製造に用いられるインプリント方法において、製造するデバイス
特性の悪化又は微細パターンの加工不良を防止することができるテンプレート及びパター
ン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
凹部及び凸部を有するパターンが形成された透光性基板と、凹部の底面及び凸部の上面に
形成された金属を含有する遮光膜と、遮光膜上に形成された金属拡散防止保護膜と、を備
えたことを特徴とするテンプレートを用いて、パターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】被転写体の透光性や被転写体の形状を問わず、光を用いたインプリントを行う際、所定のパターンを被転写体に忠実且つ容易に転写するローラーモールド、ローラーモールド用基材及びパターン転写方法を提供する。
【解決手段】回転軸方向に沿う外周部の主表面に所定のパターンが形成されているインプリント用のローラーモールドであって、前記ローラーモールドの内部又は外部から照射される光を前記外周部に対して透過させることにより、前記ローラーモールドの内部から前記所定のパターンの主表面へと前記光を照射自在とする。 (もっと読む)


【課題】インプリント装置における重ね合わせ精度の改善に有利な技術を提供する。
【解決手段】基板の上の樹脂とモールドとを接触させた状態で当該樹脂を硬化させて前記基板にパターンを転写するインプリント装置に用いられるモールドであって、前記基板に転写すべきパターンが形成された矩形形状のパターン部と、前記パターン部が配置される表面の前記パターン部の周囲に形成され、第1開口をそれぞれ含む複数の第1開口部と、前記表面とは反対側の裏面に形成され、第2開口をそれぞれ含む複数の第2開口部と、前記複数の第1開口部のそれぞれと前記複数の第2開口部のそれぞれとを接続する複数の配管と、を含む基部と、を有し、前記表面において前記パターン部の各辺を延長した線を境界線として規定される複数の領域のうち、前記パターン部の頂点のみで前記パターン部と接する領域を面とする前記基部の部分に前記複数の配管の総体積の8割以上が存在するように、前記複数の配管が配置されていることを特徴とするモールドを提供する。 (もっと読む)


【課題】半導体装置のパッケージを成形するにあたり、成形金型のキャビティ内からエアーを外部に確実に送り出し、樹脂の充填不足による成形不良の発生を防止して歩留まりを向上させる。
【解決手段】端子リード13を有するリードフレーム1を成形金型に設置して樹脂成形を行うことにより樹脂成形体が一体となったパッケージ2を成形するにあたり、リードフレーム1に樹脂成形体の周辺部に連結して支持する複数の吊りリード14、14を設け、この吊りリード14、14の表面に複数のベント溝14aを形成し、キャビティ内のエアーをベント溝14aから外部へと送り出す。 (もっと読む)


【課題】微小な高アスペクト比の凹凸部を有する成形品の成形方法であって、成形品を金型から変形なく簡単に安全に取り出すための成形方法を提供する。
【解決手段】アスペクト比が0.5以上20.0以下、長さ(L)が50μm以上1000μm以下である微小な凹凸部を有する成形品の成形方法であって、(i)樹脂を200℃以上350℃以下の温度範囲まで加熱し溶融する工程、(ii)溶融樹脂を、100℃以上250℃以下に保たれた下金型の上に塗布する工程、(iii)塗布した溶融樹脂を上金型と下金型との間に挟持し、0.1MPa以上30MPa以下で加圧し、5秒〜200秒間保持して成形する工程、および(iv)40℃以上200℃以下の温度範囲まで降温して金型より成形品を取り出す工程、を含み、上金型と下金型のどちらか一方に任意の形状を成形するための金型、もう一方に金型より取り出す時に成形品を保持する加工がされた金型を用いる。 (もっと読む)


【課題】基板上の樹脂に生成されるパターンの欠陥の発生を抑えるのに有利な型を提供する。
【解決手段】この型7は、被処理体9に対して成形すべきパターンが形成されたパターン部7aを有する。型7は、被処理体9に向かう側とは反対の側に位置し、被処理体9に向かう面の中央部にて突出したパターン部7aを有する第1平板20と、被処理体9に向かう側に位置し、第1平板20に形成されたパターン部7aが被処理体9と対向するように貫通する開口部7cを有する第2平板22とを含む。ここで、第1平板20と第2平板22とは、内部空間である第1空間21を介して重なり合い、第1平板20は、パターン部7aを被処理体9に押し付ける方向に変形可能である。 (もっと読む)


【課題】インプリント用テンプレートに設ける洗浄耐性に優れたハイコントラストの位置合わせマーク、該マークを備えたテンプレート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】光透過性基材の一主面に凹凸パターンを形成したテンプレート10を、被加工基板上の光硬化性材料に押し付けると共に、テンプレート10を介して光硬化性材料を感光させる光を照射することによって、光硬化性材料を光硬化させて凹凸パターンを転写するインプリント方法に用いるテンプレートの位置合わせマーク13であって、前記位置合わせマーク13が、光透過性基材を掘り込んで形成した凹凸パターン部と、凹凸パターン部の光透過性基材上に形成された遮光膜パターン部16からなり、前記遮光膜パターン部16が遮光膜14と該遮光膜上に設けた耐洗浄性保護膜15との2層膜で構成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】機構部品を支持する支持部を備えた構造体を発泡樹脂で成形するに当たり、該構造体の支持部における剛性低下を抑制することが可能となる樹脂成形品および樹脂成形品を用いたユニットを提供する。
【解決手段】機構部品を支持する支持部を備えた構造体を発泡樹脂で成形した発泡樹脂成形品であって、
前記構造体における前記機構部品を支持する支持部以外が、内部に気泡セルが複数分布する発泡部によって成形されると共に、
前記機構部品を支持する支持部が、前記気泡セルが内部に存在しない非発泡部によって、前記支持部以外の発泡部と一体成形された構成とする。 (もっと読む)


【課題】インサート物が例え柔軟な部分を含んでいても高品位の製品を安価に得ることができるインサート成形方法を提供する。
【解決手段】半製品(50)の製作に使用された製作治具(55)を利用して半製品(50)の外周面を樹脂層(J1、J2)で被覆する。製作治具(55)に保持されている半製品(50)の上半分と固定側金型(1)の凹部(5L、5R)とにより構成されるキャビティ(C1)に射出して1次成形する(J1)。1次成形され固定側金型(1)に残っている半製品(50)の下半分と可動側金型(20)の凹部(30L、30R)とにより構成されるキャビティ(C2)に射出して2次成形する(J2)。1、2次成形を実質的に同時に実施する。 (もっと読む)


【課題】バルブゲート式金型装置による射出成形によって車両用灯具を構成するカバーレンズを成形するにあたり、成形品の意匠面に残るバルブピンの先端部による押圧跡の形成を抑制して光学的な悪影響を与えることが少ない意匠面を可能にするバルブゲート式金型装置を提供することにある。
【解決手段】カバーレンズの意匠面の部分を成形する成形金型のキャビティ55の意匠面形成領域56を、金型の型開き方向の垂直面方向に対して所定の角度で傾斜した状態に形成し、この意匠面形成領域56にバルブゲート60を配設すると共にバルブゲート60のゲート部61の筒内65に挿脱して溶融樹脂の流路を閉開するバルブピン65の挿脱方向を成形金型の型開き方向と同一方向とした。バルブピン65は先端部69の形状を凸球状又は凸円錐状とすると共に先端面70を複数の凹部と凸部で構成する凹凸面とした。 (もっと読む)


【課題】形品の成形品質を向上することのできる技術を提供する。
【解決手段】モールド金型2は、対向して設けられ、ワークWを挟み込んでクランプする上型3および下型4と、上型3に設けられた超音波振動部21、22と、上型33および下型4がワークWをクランプして形成される内部空間Cに設けられ、かつ、超音波振動部21、22と接続され、内部空間C内の溶融樹脂19aへ超音波振動部21、22の振動を伝搬する伝搬部としてフィルム23とを備えている。このフィルム23は、上型3のクランプ面3aに張設されている。 (もっと読む)


【課題】液晶配向用の基板として好適に利用できる表面微細凹凸体の製造方法を提供する。
【解決手段】熱収縮フィルム基材上に少なくとも一層以上の硬質層を備え、該硬質層の表面に形成された凹凸パターンの最頻ピッチが0.05μmを超え1μm以下で、凹凸パターンの深さが最頻ピッチを100%とした際の5%以上で、かつ配向度が0.25以下でピッチが略均等である液晶配向用のナノバックリング形状を有する表面微細凹凸体。 (もっと読む)


【課題】複数の発泡成形部材を異なる発泡倍率で同時に成形することのできる射出成形方法を提供する。
【解決手段】各キャビティ46,48を形成する金型56と、各キャビティ46,48に樹脂を誘導するホットランナー58と、ホットランナー58の各ゲート58b,58cをそれぞれ開閉する各ゲートバルブ60,61と、第1キャビティ46における樹脂の射出圧力を検出する樹脂圧センサ67と、両ゲートバルブ60,61の開閉を制御する制御装置70とを備える射出成形装置50を用いる。樹脂の射出充填時において、制御装置70は、樹脂圧センサ67が検出する第1キャビティ46の樹脂の射出圧力が規定圧力に達したときに、第1ゲートバルブ60を閉じて第1キャビティ46の樹脂に対する保圧の印加を制限する。 (もっと読む)


【課題】容易且つ安価に多層構造(多段形状)の凸部の表面を平滑化することができるインプリントモールドの製造方法を提供する。
【解決手段】基板1上に、第1の凹部を有する第1の樹脂層3を形成する工程と、第1の樹脂層3上に第1の凹部を埋めるように第2の樹脂層4を形成する工程と、第2の樹脂層4の第1の樹脂層3上の一部を選択的に除去して第2の凹部4a〜4eを形成するとともに、第1の凹部を埋めた第2の樹脂層4の少なくとも一部を選択的に除去して第2の凹部4a,4d,4eに連通し、基板1の表面を露出しないように第3の凹部4f〜4hを形成する工程と、第2の凹部4a〜4e及び第3の凹部4f〜4hに金属材料を充填する工程と、第1の樹脂層3、第2の樹脂層4及び基板1を除去する工程とを含む。 (もっと読む)


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